CN1908777A - 液晶装置、电子光学装置、投影仪及微型器件 - Google Patents

Abstract

一种液晶装置，具有：第一基板；与所述第一基板对向的第二基板；设于所述第一基板及第二基板之间的液晶层；密封材，其在所述第一基板及第二基板之间密封所述液晶层；模塑材，其覆盖所述密封材的外周侧，设于所述第一基板及所述第二基板之间；第一凹凸部，其在所述第一基板及所述第二基板的至少一方的基板上的配置有所述模塑材的区域的全域上形成，在所述第一凹凸部上，设有所述模塑材。

Description

液晶装置、电子光学装置、投影仪及微型器件

技术区域

本发明涉及液晶装置、电子光学装置、投影仪以及微型器件。

背景技术

以往，作为液晶投影仪等投射型显示装置的光调制机构，使用有液晶装置。

液晶装置在一对基板之间的基板的周缘部设有密封材，在其中央部密封有液晶层而构成。

在一对基板的内侧形成有向液晶层施加电压的电极，在此电极内侧形成有施加非选择电压时控制液晶分子的取向的取向膜。

而且，根据施加非选择电压时和选择电压时的液晶分子的取向变化，光源发出的光被调制而生成图像光。

如特开2001-221998号公报所公开的那样，公知有覆盖密封材的周围，形成例如环氧树脂构成的粘接层(模塑材)，通过粘接层提高一对基板之间的接合性，改进机械强度的液晶装置。

然而，一般情况下，当液晶装置内部混入水分时其显示特性下降，使作为液晶装置的可靠性降低。

所以，对接合一对基板之间的上述密封材以及接合层被期望具有高防水性和防湿性能。

但是，因为上述粘接层(模塑材)是使上述那样的液晶装置的机械强度提高的构件，不具备能够良好地防止来自基板外部的水分浸入的程度的防湿性能。

因此，混入到一对基板之间的水分，例如从密封层和基板的界面混入到液晶层，使显示特性低下，有导致液晶装置的可靠性受损的危险。

发明内容

本发明是鉴于所述情况而进行的，其目的在于，提供一种通过提高防湿性能而具有稳定的显示特性的液晶装置，以及将所述液晶装置作为光调制机构的投影仪。

另外目的还在于，提供通过提高防湿性能而具有高可靠性的电子光学装置及微型器件。

本发明的液晶装置，具有：第一基板；与所述第一基板相对的第二基板；设于所述第一基板及第二基板之间的液晶层；在所述第一基板及第二基板之间密封所述液晶层的密封材；模塑材，其覆盖所述密封材的外周侧，设于所述第一基板及所述第二基板之间；第一凹凸部，其形成于所述第一基板及所述第二基板的任何一方的基板上的配置有上述模塑材的区域的全域上，在所述第一凹凸部上，设有所述模塑材。

根据本发明的液晶装置，因为在形成于所述第一基板及所述第二基板的任何一方的基板上的第一凹凸部之上设有模塑材，所以模塑材和基板的界面距离，与基板表面为平坦面的情况相比，仅有沿着所述第一凹凸部的表面形状的部分延伸。

因此，由于模塑材和基板的界面距离边变长，例如在水分由液晶装置的外部浸入到第一基板及第二基板之间时，可以降低水分到达液晶层的可能性。

即、能够提高液晶装置的防湿性能。

根据如此的构成，能够减轻因为水分混入液晶层而导致的显示特性的低下，能够实现一种具有稳定的显示特性，可靠性高的液晶装置。

在本发明的液晶装置中，在所述第一基板及所述第二基板的至少一方的基板上形成有第二凹凸部，在所述第二凹凸部上，优选设有所述的密封材。

如此，在第二凹凸部的作用下密封材和基板之间的界面距离延伸。

所以，例如在水分由液晶装置的外部浸入到第一基板及第二基板之间的情况下，通过所述密封材和基板的界面，可以降低水分到达液晶层的可能性。

即、可以提高液晶装置的防湿性能。

本发明的液晶装置，具有：第一基板；与所述第一基板相对的第二基板；设于所述第一基板及第二基板之间的液晶层；在所述第一基板及第二基板之间密封液晶层的密封材；模塑材，其覆盖所述密封材的外周侧，设于所述第一基板及所述第二基板之间，配置有所述模塑材的所述第一基板和所述第二基板之间的间隙，比设有所述液晶层的所述第一基板和所述第二基板之间的间隙要窄。

根据本发明的液晶装置，在第一基板及第二基板之间配置模塑材的间隙，比在第一基板及第二基板之间配置液晶层的间隙要窄。

所以，第一基板及第二基板的间隙的体积减少，介于间隙中的模塑材的量变少。

在此，例如当水分由液晶装置的外部浸入到第一基板及第二基板之间的情况下，由于介于第一基板及第二基板之间的模塑材的量少，因此可以限制间隙中透过模塑材自身的水量。

所以，能够减少水分混到液晶层内。

即，能够提高液晶装置的防湿性能。

根据如此的构成，能够减轻因为水分混入液晶层而导致的显示特性的低下，能够实现一种具有稳定的显示特性，可靠性高的液晶装置。

在本发明的液晶装置中，具有：在所述第一基板上保持所述模塑材的第一保持面；在所述第二基板上保持所述模塑材的第二保持面，所述第一保持面和所述第二保持面，优选与配设有所述液晶层的所述第一基板和所述第二基板的基板面相对而倾斜。

如此构成，与第一保持面及第二保持面不倾斜的情况相比，能够在不使从液晶装置的垂直方向看时的第一保持面及第二保持面的大小发生变化的情况下，放大第一保持面及第二保持面的表面积。

所以，延向第一基板及第二基板外部的间隙变大，从外部浸入液晶装置的水分的路径变长，能够提高液晶装置的防湿性能。

本发明的电子光学装置，具有：第一基板；与所述第一基板相对的第二基板；设于所述第一基板及第二基板之间的电子光学层；模塑材，其在所述第一基板和所述第二基板之间以包围所述电子光学层的方式设置；凹凸部，其形成于在所述第一基板及所述第二基板的任何一方的基板上的配置有上述模塑材的区域的全域上，在所述凹凸部之上，设有所述模塑材。

根据本发明的电子光学装置，因为在形成于所述第一基板及所述第二基板的至少一方的基板上的凹凸部之上设有模塑材，与第一基板及第二基板的表面为平坦面的情况相比，模塑材和基板的界面距离仅沿着凹凸部的表面形状的部分延伸。

所以，例如在水分由电子光学装置的外部浸入到第一基板及第二基板之间的情况下，由于模塑材和基板的界面距离变长，因此能够降低水分到达电子光学装置的可能性。

即、能够提高电子光学装置的防湿性能。

根据如此的构成，能够减轻因为水分混入电子光学层而导致的显示特性的低下，能够实现一种具有稳定的显示特性，可靠性高的电子光学装置。

本发明的投影仪，包括：光源；调制所述光源的光的光调制机构；以及通过所述的光调制机构投射被调制的光的投射机构，所述光调制机构具有如下构件的液晶装置，即，具有：第一基板；与所述第一基板相对的第二基板；设于所述第一基板及第二基板之间的液晶层；在所述第一基板及第二基板之间密封液晶层的密封材；模塑材，其覆盖所述密封材的外周侧，设于所述第一基板及所述第二基板之间；凹凸部，其形成于在所述第一基板及所述第二基板的至少一方的基板上的配置所述模塑材的区域的全域上，在所述凹凸部上设有所述的模塑材。

根据本发明的投影仪，在凹凸部之上设置有模塑材，由于具备将减轻水分混入到液晶层导致的显示特性的低下的液晶装置作为光调制机构，因此能够实现具有高可靠性的显示特性的投影仪。

本发明的微型器件，具有：第一基板；与所述第一基板相对的第二基板；设于所述第一基板及第二基板之间的器件部；模塑材，其在所述第一基板和所述第二基板之间以包围所述器件部的方式设置；凹凸部，其形成于在所述第一基板及所述第二基板的至少一方的基板上的配置上述器件部的区域的全域上，在所述凹凸部之上，设有所述模塑材。

根据本发明的微型器件，由于在形成于第一基板及第二基板的至少一方的基板上的凹凸部上设有模塑材，因此与第一基板及第二基板的表面为平坦面的情况相比，模塑材和基板的界面距离仅沿着凹凸部的表面形状的部分延伸。

因此，例如在水分由微型器件的外部浸入到第一基板及第二基板之间的情况下，由于模塑材和基板的界面距离变长，可以降低水分到达微型器件的可能性。

即、微型器件的防湿性能提高，能够实现可靠性的提高。

附图说明

图1A为第一实施方式的液晶装置的俯视图，图1B为第一实施方式的液晶装置的侧视剖面图。

图2为第一实施方式的液晶装置的等效电路图。

图3为第一实施方式的液晶装置的平面构造的说明图。

图4为图3中的C-C线向的液晶装置的剖面图。

图5为形成有无机取向膜的对向基板的侧剖面的示意图。

图6为铸件构造的放大说明图。

图7A及图7B为第一实施方式中的液晶装置的第一变形例的示意图。

图8A为第一实施方式中的液晶装置的第二变形例的示意图，图8B为第一实施方式中的液晶装置的第三变形例的示意图。

图9为第二实施方式中的液晶装置的示意图。

图10为第二实施方式中的液晶装置的变形例的示意图。

图11为电泳装置的实施方式示意图。

图12为有机EL装置的实施方式示意图。

图13为投影仪的一个实施方式的示意图。

图14为微型器件的一个实施方式的示意图。

图15为图14所示的光调制装置的概略剖面构造示意图。

具体实施方式

(第一实施方式)

首先用图1A～图7B对本发明的第一实施方式的液晶装置进行说明。

但是，在本实施方式中，以采用作为开关元件的薄膜晶体管(Thin FilmTransistor以下称为TFT)元件的有源矩阵方式的透过型液晶装置为例进行说明。

(液晶装置)

图1A为本发明的一个实施方式的有源矩阵方式的液晶装置的平面构成图，图1B为图1A中A-A线俯视的侧视剖面构成图，图1A及图1B中的符号60为液晶装置。

如图1A及图1B所示，液晶装置60具备：TFT阵列基板(第一基板)10；与TFT阵列基板相对配置的对向基板(第二基板)20；被夹持在TFT阵列基板10及对向基板20之间的液晶层50；在TFT阵列基板10及对向基板20之间密封液晶层50的密封材14。

在此，液晶层50沿着TFT阵列基板10及对向基板20的周缘部的内侧面而设置，从垂直方向看液晶装置60被略呈镜框状的密封材14所密封。

对向基板20的尺寸比TFT阵列基板10略小。

作为对向基板20，采用与设置在TFT阵列基板10上的密封材14的轮廓大致相同的基板。

TFT阵列基板10及对向基板20被密封材14粘合。

作为镜框的遮光膜沿着密封材14的内侧被设置在密封材14内侧的位置。

被遮光膜包围的区域为生成液晶装置60的图像的显示区域。

如图A1所示，在TFT阵列基板10上形成有多个连接端子19。

连接于连接端子19的金属布线，与形成于显示区域的像素电极连接。

也可以在对向基板20的密封材14的外侧的区域，设置为了控制像素电极的驱动的驱动电路。这种情况下，此驱动电路和像素电极被电气连接，连接端子19和驱动电路相连接。

另外，在密封材14的外周侧上，形成有被覆密封材14的模塑材30。

作为模塑材30的材料，使用聚丙烯或环氧树脂等。

模塑材30与TFT阵列基板10和对向基板20粘接。

由于模塑材30液晶装置的机械强度提高。

在图1B所示的侧视剖面中，模塑材30被形成为从外侧覆盖TFT阵列基板10的上面10a、密封材14的外周面、以及对向基板20的侧端面25a的一部分。

如此，设于TFT阵列基板10和对向基板20之间。

且、在TFT阵列基板10及对向基板20的内面一侧(对向面一侧)上，形成有各个无机取向膜。

如图6所示，在对向基板20的侧端面25a上，形成有呈大致锯齿状的凹凸部40。

另外，在与对向基板20相对的TFT阵列基板10的一部分上，形成有呈大致锯齿状的凹凸部41。

通过在凹凸部40、41上设置模塑材30，模塑材30和TFT阵列基板10的界面距离、以及模塑材30和对向基板20的界面距离变长。

(等效电路)

图2为液晶装置的等效电路的示意图。

为了构成透过型的液晶装置60的显示区域，在矩阵状(阵列状)配置的多个各个点上形成有像素电极9。

在像素电极9的侧方上，形成有为了进行向像素电极9的通电控制的作为开关元件的TFT元件27。

在TFT元件27的源极上连接有数据线6a。

由数据线驱动元件向各数据线6a供给图像信号S1、S2、…、Sn。

在TFT元件27的栅极上连接有扫描线3a。

由扫描线驱动元件向扫描线3a按规定的时机脉冲地供给扫描信号G1、G2、…、Gm。

另一方面，在TFT元件27的漏极上连接有像素电极9。

在这样的TFT元件27中，由于从扫描线3a供给的扫描信号G1、G2、…、Gm，当仅在一定期间使TFT元件27处于开的状态，从数据线6a供给的图像信号S1、S2、…、Sn，通过像素电极9在规定的时刻输入到各点的液晶里。

输入到液晶里的规定水平的图像信号S1、S2、…、Sn，被形成于像素电极9和共通电极(后述)之间的液晶容量保留一定期间。

但是，为了防止被液晶容量保留的图像信号S1、S2、…、Sn泄漏，在像素电极9和容量线3b之间形成有蓄积容量17。

蓄积容量17与液晶容量并列配置。

如此，当向液晶施加电压信号时，根据施加的电压水平液晶分子的取向状态发生变化。

因此，射入液晶的光源光被调制后生成图像光。

(平面构造)

图3为液晶装置的平面构造的说明图。

在本实施方式的液晶装置中，在TFT阵列基板10之上，矩阵状地配列由铟锡氧化物(Indium Tin Oxide，以下成为ITO)等透明导电材料构成的矩形的像素电极9而形成。

图3的虚线9a表示像素电极9的轮廓。

沿着像素电极9的竖向及横向的边界，设置有数据线6a、扫描线3a及容量线3b。

在本实施方式的液晶装置60中，形成有各像素电极9的矩形区域为像素点，可以以每个矩阵状配置的像素点进行显示。

TFT器件27以多晶硅膜等构成的半导体层1a为中心形成。

在半导体层1a的源区域(后述)中，通过接触孔5连接有数据线6a。

在半导体层1a的漏区域(后述)中，通过接触孔8连接有像素电极9。

另一方面，在半导体层1a上与扫描线3a的相对部分上，形成有通道区域1a`。

(液晶装置的剖面构造)

图4为液晶装置60的剖面结构的说明图，和图3中C-C线向的侧视剖面对应。

如图4所示，本实施方式的液晶装置60，以TFT阵列基板10、和与TFT阵列基板10相对配置的对向基板20、和被夹持在TFT阵列基板10和对向基板20之间的液晶层50为主体而构成。

在此，TFT阵列基板10以由玻璃或石英等的透光材料构成的基板主体10A、形成于基板主体10A的内侧的TFT元件27、像素电极9、无机取向膜16等为主体构成。

另一方面，对向基板20以由玻璃或石英等的透光材料构成的基板主体20A、形成于基板主体20A的内侧的共通电极21、无机取向膜22等为主体构成。

在TFT阵列基板10的表面上，形成有后述的第一遮光膜11a以及第一层间绝缘膜12。

在第一层间绝缘膜12的表面，形成有半导体层1a，形成有以半导体层1a为中心的TFT元件27。

在半导体层1a中，在与扫描线3a相对的部分形成有通道区域1a`，在通道区域1a`的两侧形成源极区及漏极区。

此TFT器件27采用LDD(Lightly Doped Drain)构造。

在每个源极区及漏极区，形成有杂质浓度相对较高的高浓度区域和相对较低的低浓度区域(LDD区域)。

即、在源极区形成有低浓度源极区1b和高浓度源极区1d，在漏极区形成有低浓度漏极区1c和高浓度漏极区1e。

在半导体层1a的表面上，形成有栅绝缘膜2。

而且，在栅绝缘膜2的表面上形成有扫描线3a，与通道区域1a`相对的部分构成栅电极。

另外，在栅绝缘膜2及扫描线3a的表面上，形成有第二层间绝缘膜4。

还有，在第二层间绝缘膜4的表面上，形成有数据线6a。

数据线6a通过形成在第二层间绝缘膜4之上的接触孔5，与高浓度源极区1d相连接。

再者，在第二层间绝缘膜4及数据线6a的表面上，形成有第三层间绝缘膜7。

而且，在第三层间绝缘膜7的表面上形成有像素电极9，像素电极9通过形成在第二层间绝缘膜4及第三层间绝缘膜7上的接触孔8，被连接到高浓度漏极区1e上。

再者，无机取向膜16被形成为覆盖像素电极9。

无机取向膜16限制施加非选择电压时的液晶分子的取向。

而且，本实施方式中，延伸设置半导体层1a形成有第一蓄积容量电极1f。

另、延伸设置栅绝缘膜2而形成有诱电体膜。

在诱电体膜的表面上配置容量线3b形成第二蓄积容量电极。

通过第一蓄积容量电极1f、诱电体膜、以及第二蓄积容量电极构成蓄积容量17。

另外，在与TFT器件27的形成区域对应的基板主体10A的表面上，形成第一遮光膜11a。

第一遮光膜11a防止射入液晶装置的光照射到半导体层1a的通道区域1a`、低浓度源极区1b以及低浓度漏极区1c上。

另一方面，在对向基板20的基板主体20A的表面上，形成第二遮光膜23。

第二遮光膜23防止射入液晶装置的光照射到半导体层1a的通道区域1a`或低浓度源极区1b、低浓度漏极区1c上。

从垂直方向看液晶装置60，第二遮光膜23被设置在与半导体层1a重合的区域上。

在对向基板20的表面上，在大致整面上形成由ITO等导电体构成的共通电极21。

再者，在共通电极21的表面上形成无机取向膜22。

无机取向膜22限制施加非选择电压时的液晶分子的取向。

在TFT阵列基板10和对向基板20之间，夹着由向列(nematic)液晶等构成的液晶层50。

向列液晶分子具有正的介电常数各向异性，施加非选择电压时沿着基板水平取向，施加选择电压时沿着电场方向垂直取向。

向列液晶分子具有正的折射率各向异性，其双折射和液晶层厚度的积(延迟)Δnd，例如为0.40μm(60℃)。

另外，TFT阵列基板10的无机取向膜16引起的取向控制方向、和对向基板20的无机取向膜21引起的取向控制方向，被设定为大约90℃的扭曲状态。

因此，本实施方式的液晶装置60在扭曲(twisted)向列模式下动作。

另外，在TFT阵列基板10及对向基板20的外侧，配置有由向聚乙烯醇(PVA)中掺加了碘的材料等构成的偏光板18、28。

而且，各偏光板18、28优选安装在由蓝宝石玻璃或水晶等高热传导率材料构成的支撑基板上，并与液晶装置60相离配置。

各偏光板18、28吸收吸收轴方向的直线偏光，具有使透过轴方向的直线偏光透过的功能。

TFT阵列基板10一侧的偏光板18，其透过轴被配置为与无机取向膜16的取向限制方向大致相同。

对向基板20一侧的偏光板28，其透过轴被配置为与无机取向膜22的取向限制方向大致相同。

液晶装置60可以配置为将对向基板20朝向光源一侧。

光源光中只有与偏光板28的透过轴一致的直线偏光透过偏光板28射入液晶装置60。

在施加非选择电压时的液晶装置60中，与基板相对水平取向的液晶分子，被向液晶层50的厚度方向呈大约90℃扭曲螺旋状层积配置。

因此，射入到液晶装置60的直线偏光，被大约90℃旋光后从液晶装置60射出。

此直线偏光为了和偏光板18的透过轴一致，透过偏光板18。

所以，施加非选择电压时的液晶装置60中进行常白显示(NormallyWhite Mode)。

另一方面，在施加选择电压时的液晶装置60中，液晶分子相对基板垂直取向。

因此，射入到液晶装置60的直线偏光，不被旋光从液晶装置60射出。

此直线偏光和偏光板18的透过轴垂直交叉，不透过偏光板18。

所以，施加选择电压时的液晶装置60进行常黑显示。

(无机取向膜)

如上所述，在TFT阵列基板10及对向基板20的内侧，形成有无机取向膜16、22。

以下，以设置在对向基板20一侧的无机取向膜22为例进行说明，但TFT阵列基板10一侧设置的无机取向膜16也采用同样的构成。

无机取向膜16、22由SiO₂和SiO等的氧化硅，或Al₂O₃、ZnO、MgO和ITO等的金属氧化物等形成，厚度为0.02～0.3μm(优选为0.02～0.08μm)左右。

制造无机取向膜16、22，可以利用离子束溅射法或磁控管溅射法等的溅射法、气相沉积法、溶胶-凝胶法、自组织化法等。

在此，例如使用离子束溅射装置形成所述无机取向膜16、22的场合，在离子源照射的离子束的作用下，从靶放射出成为无机取向膜的形成材料的溅射粒子，通过使溅射粒子堆积在基板上，能够在基板上形成无机取向膜。

图5为形成有无机取向膜22的对向基板20的侧视剖面图。

通过使用上述的离子束溅射装置，在大致一定的射入角度下，使溅射粒子连续地射入构成对向基板20的基板主体20A中。

于是，溅射粒子堆积成斜柱状，在基板主体20A上形成由无机材料组成的柱状结构体22a。

通过在基板主体20A的表面上形成无数个此柱状结构体22a，构成无机取向膜22。

而且，通过调整离子束溅射装置上靶和基板主体20A之间的角度，按规定的角度对基板主体20A射入溅射粒子，如图5所示能够向柱状结构体22a付与一定的倾斜角度。

还有，由于在液晶装置60中液晶分子沿着柱状结构体22a取向，在此无机取向膜22的作用下，能够将施加非选择电压时的液晶分子按规定方向进行取向限制。

另外，可以向液晶分子付与预倾(Pretilt)。

而且，设于TFT阵列基板10上的无机取向膜16，和无机取向膜22同样构成，可以通过上述相同的方法形成，具有同样的功能。

而且，作为形成无机取向膜的其它方法，也可以采用例如事先在无机取向膜的基础膜表面上形成多个倾斜面，用上述的溅射法在该倾斜面的表面上形成无机取向膜，使所述多个倾斜面的形状传递到无机取向膜的表面的方法。

另外，也可以在用上述溅射法形成无机取向膜之后，进行规定角度下使离子束射入的离子铣削(ion milling)，在无机取向膜的表面上形成具有规定的方向性的凹部。

另外，也可以事先对无机取向膜的基础膜表面进行离子铣削，然后用上述溅射法形成无机取向膜，再对其表面进行二次离子铣削，在无机取向膜的表面上形成凹部。

任何一种情况下，都可以提供能够确实地向液晶分子付与期望的预倾角度的无机取向膜。

如上所述，液晶层50被密封在TFT阵列基板10和对向基板20之间。

设置有密封液晶层50、且贴合TFT阵列基板10及对向基板20之间的密封材14(参照图1)。

在密封材14中例如含有间隙材。

通过间隙材能够实现液晶装置60中规定的液晶层厚(Cell Gap)。

再者，覆盖密封材14的外周侧配设有由聚丙烯或环氧树脂等构成的模塑材30。

在本实施方式的液晶装置60中，采用由液晶装置60中的密封材14，和覆盖密封材14的外周侧设置在TFT阵列基板10和对向基板20之间模塑材30构成的模塑构造。

参照图6对此模塑构造进行详细说明。

另外，图6为图1的B-B`线中的液晶装置60的侧视剖面示意图，尤其是模塑构造部分的放大图。

(模塑构造)

如图6所示，模塑材30被设置在对向基板20的侧端面25a、和密封材14的外周面、和TFT阵列基板10的上面的一部分上。

模塑材30覆盖密封液晶层50的密封材14的外周侧而配置。

在此，在配设模塑材30的各个TFT阵列基板10及对向基板20上，形成凹凸部(第一凹凸部)40、41。

凹凸部40、41在模塑区域的全周连续形成，如图6所示形成为大致锯齿状。。

从与凹凸部40、41的连续方向垂直的剖面看，凹凸部40、41形成为大致锯齿状。

具体的说，如图6所示，在对向基板20的基板主体20A的模塑区域即侧端面25a上形成有凹凸部40。

TFT阵列基板10的模塑区域上形成有凹凸部40。

在各个TFT阵列基板10及对向基板20上形成的凹凸部40、41，与不设置凹凸部将基板表面作为平坦面的现有的构成相比，模塑材30和TFT阵列基板10的界面距离只有沿着凹凸部41的表面形状的部分变长，模塑材30和对向基板20的界面距离只有沿着凹凸部40的表面形状的部分变长。

其次，对形成凹凸部40、41的方法进行说明。

首先，例如在基板表面形成保护层。

其次，通过灰度掩模进行光蚀刻，形成保护层所期望的槽形状。

然后，通过将形成有槽状的保护层作为掩膜对基板进行蚀刻，能够形成剖面呈大致锯齿状的凹凸部。

而且，凹凸部的形成方法不限定于使用光蚀刻，例如，也可以采用将转印模押在基板主体10A、20A上付与凹凸形状的方法等。

另外，在TFT阵列基板10及对向基板20相互对向的面上各自设置有无机取向膜16、22。

所以，TFT阵列基板10的基板主体10A的表面上形成的凹凸部41上，模仿其表面，配设大致一定的厚度的无机取向膜16。

因此，在无机取向膜16的表面上形成有与凹凸部41的表面形状对应的深数μm的凹部。

即、在液晶装置60中，TFT阵列基板10的凹凸部41以及对向基板20的凹凸部40上设置有模塑材30，在模塑材30的作用下，TFT阵列基板10和对向基板20被保持。

但是，当液晶装置60的被TFT阵列基板10及对向基板20夹持的液晶层50中浸入水分或杂质等时，液晶装置60的各种功能被妨碍，尤其是具有分极构造的液晶中浸入分极性分子的水时，液晶发生取向不良，存在显示特性降低的可能。

因此，为了获得具有稳定的显示特性和高可靠性的液晶装置60，优选实现针对从液晶装置60的外部浸入的水分的高防湿性能。

对此，在本实施方式的模塑构造中，在上述的TFT阵列基板10及对向基板20的模塑区域中形成凹凸部40、41，在凹凸部40、41上配设模塑材30。

根据此构成，由于在形成于TFT阵列基板10及对向基板20的凹凸部40、41上设置有模塑材30，与不能设置凹凸部的基板表面为平坦面的情况相比，模塑材30和TFT阵列基板10的界面距离仅延伸与凹凸部40、41的表面形状接触的面积的程度，与对向基板20的界面距离延伸。

所以，假如水分从液晶装置60的外部浸入TFT阵列基板10及对向基板20之间的情况下，因为模塑材30和TFT阵列基板10的界面距离，以及模塑材30和对向基板20的界面距离各自变长，可以减低水分到达液晶层50的可能性。

在此，在本实施方式的液晶装置60中，在设有模塑材30的TFT阵列基板10的表面上形成有无机取向膜16。

无机取向膜16，如图5所示由柱状结构体构成的多孔质构成。

所以，在模塑材30和对向基板20之间特别存在产生间隙的危险。

另外，在模塑材30和无机取向膜16的界面上有形成大的间隙的危险。

所以，通过这些间隙，水分或杂质等从液晶装置的外部浸入液晶层50，存在发生上述的不良情况的危险。

但是，根据上述的本实施方式的模塑构造，由于向设置在TFT阵列基板10上的无机取向膜16付与凹凸形状，能够将无机取向膜16和模塑材30的界面距离拉长，可以很好地防止水分从外部的浸入。

如此，根据本实施方式的液晶装置60，能够减轻因为水分混入液晶层50导致的显示特性的低下，可以实现具有稳定的显示特性、高可靠性的液晶装置60。

而且，形成于TFT阵列基板10及对向基板20的表面上的凹凸部40、41的高度越高，越能将模塑材30和无机取向膜16、22的界面距离变长。

另外，如后所述，因为将此液晶装置作为光调制机构而采用，能够提供高可靠性的液晶投影仪。

而且，在上述的第一实施方式中，在TFT阵列基板10及对向基板20的双方上形成了凹凸部，但在TFT阵列基板10及对向基板20的任何一方上设置凹凸部，能够延伸模塑材30和基板的界面距离，提高液晶装置60的防湿性能。

另外，在TFT阵列基板10及对向基板20上设置的凹凸部40、41的形状不限于上述本实施方式。

例如，在本实施方式中，TFT阵列基板10上形成的凹凸部41，是基板主体10A的面(平坦面)上呈凹状形成的凹凸部，但也可以是在基板主体10A的平坦面上呈凸状形成的凹凸部。

另外，基板主体10A依旧为平坦面，凹凸部41也可以为在无机取向膜16上形成突起或槽的凹凸部。

还有，也可以通过在基板主体10A及无机取向膜16双方上形成突起或槽，使两者组合后形成凹凸部。

另外，在本实施方式的液晶装置60中，在TFT阵列基板10及对向基板20相互对向的各自的对向面的整面上形成无机取向膜16、22，但也可以只在夹持液晶层50的区域上形成无机取向膜16、22。

这种情况下，由于在模塑区域上没有形成无机取向膜16、22，所以能够防止在无机取向膜和模塑材30之间形成间隙。

具体地说，在采用由有机材料构成的取向膜的情况，或仅在成为模塑区域的基板上选择性地不形成无机取向膜的情况下，模塑材30和TFT阵列基板10的界面，或模塑材30和对向基板20的界面上形成大间隙的可能性变低。

因此，能够防止形成水分从液晶装置60的外部浸入的间隙。

在此构成中，通过再在模塑区域的表面上形成凹凸部，在凹凸部的表面上涂布模塑材30，也可以将模塑材30和TFT阵列基板10的界面距离，或模塑材30和对向基板20的界面距离延长。

因此，可以使水分等通过模塑材30和TFT阵列基板10的界面的间隙或模塑材30和对向基板20的界面的间隙浸入液晶层50的可能性降到极小，可以提高液晶装置60的可靠性。

(第一实施方式的第一变形例)

其次，对第一实施方式中的液晶装置的第一变形例进行说明。

图7A及图7B为第一实施方式的第一变形例的说明图。

图7A所示为第一变形例的液晶装置60`的俯视图，图7B为图7A中的E-E线向的侧剖面图。

如图7A及图7B所示，在液晶装置60`中，在对向基板20的基板主体20A的表面上形成有槽91，通过槽91构成设有模塑材30的模塑区域的一部分。

在此，在液晶装置60`中，与图6所示的液晶装置60不同，相互对向配置的TFT阵列基板10及对向基板20的大小，从垂直方向看液晶装置60`大致相同。

如图7A所示，槽91围绕模塑区域的全周连续形成。

如图7B所示槽91的剖面为矩形。

模仿槽91的表面，无机取向膜22按大致一定的厚度被配设。

因此，在无机取向膜22的表面上形成深数μm的凹部(第一凹凸部)92。

如图7A所示，凹部92围绕模塑区域的全周连续形成。

如图7B所示凹部92的剖面为矩形。

另外，在基板主体20A上设有多个贯通孔93。

而且，在基板主体20A中，在设置贯通孔93的部分上，没有设置无机取向膜22。

贯通孔93与模塑区域连通。

另外，在液晶装置60`中，TFT阵列基板10的基板主体10A的表面上形成有槽81，通过槽81构成设置模塑材30的模塑区域的一部分。

槽81与上述槽91的构成相同，模仿槽81的表面按大致一定的厚度配置无机取向膜16。

因此，在无机取向膜16的表面上，在模塑区域的全周连续形成凹部(第一凹凸部)82。

如图7B所示凹部82的剖面为矩形。

TFT阵列基板10的凹部82和对向基板20的凹部92在位置对齐的状态下，通过贴合TFT阵列基板10和对向基板20，由凹部82、92形成模塑区域。

另外，在模塑区域的内侧，与第一实施方式同样设置有密封材14。

由于密封材14，液晶层50被密封在TFT阵列基板10和对向基板20之间。

作为在模塑区域配设模塑材30的方法，例如可以采用从贯通孔93注入模塑材料的方法。

此时，包含在模塑材料里的空气等的气泡通过贯通孔93被放出到外部。

因此，能够在TFT阵列基板10和对向基板20之间良好地设置模塑材30。

另外，像这样通过设置在TFT阵列基板10上的凹部82，和设置在对向基板20上的凹部92构成的模塑区域上，因为设置有很多的模塑材30，可以更加可靠地贴合保持TFT阵列基板10和对向基板20。

即、能够提高液晶装置60`的机械强度。

然而，如图5所示，因为无机取向膜16、22为由柱状结构体构成的多孔质，像上述那样尤其存在在模塑材30和无机取向膜16的界面、或模塑材30和无机取向膜22的界面上形成大的间隙的危险。

因此，存在水分或杂质等通过间隙从液晶装置60`的外部浸入液晶层，使液晶装置的显示特性降低的危险。

对此，如图7A及图7B所示的第一变形例的液晶装置60`中，采用如下构成：在无机取向膜16的表面上形成凹部82，在无机取向膜22的表面上形成凹部92，在凹部82、92的表面上配设模塑材30。

根据此构成，与没有形成凹凸部的情况相比，由于模塑材30和无机取向膜16的界面距离、或模塑材30和无机取向膜22的界面距离延长，水分等的浸入路径变长，可以减低水分等浸入液晶层50的可能性。

所以，能够实现具有稳定的显示特性的、可靠性高的液晶装置60。

(第一实施方式的第二变形例)

其次，参照图8A对第一实施方式中的液晶装置的第二变形例进行说明。

在第二变形例中，如图8A所示，在设有密封材14的位置上形成凹凸部40`、41`(第二凹凸部)。

即、在TFT阵列基板10和对向基板20之间，在设有密封材14的位置上形成凹凸部40`、41`。

根据此构成，与夹持密封材14的基板的表面平坦的情况相比，在形成凹凸部40`、41`的区域中，可以延长密封材14和TFT阵列基板10，以及密封材14和对向基板20的界面距离。

因此，例如水分从液晶装置的外部浸入TFT阵列基板10和对向基板20之间的情况，通过密封材14和TFT阵列基板10，以及密封材14和对向基板20的界面，使水分到达液晶层50的可能性降低，可以进一步提高液晶装置的防湿性能能。

(第一实施方式的第三变形例)

其次，参照图8B对第一实施方式中的液晶装置的第三变形例进行说明。

在第三变形例中，如图8B所示，代替图7所示的凹部82，在TFT阵列基板10上设置作为凹凸部的凸部82`。

在此构成中，对向基板20上形成的凹部92的宽度优选比凸部82`的宽度要宽。

此时，如图8B所示，TFT阵列基板10的凸部82`与对向基板20的凹部92通过模塑材30嵌合。

如此，在使凸部82`和凹部92嵌合的状态下，例如，通过使凸部82`的侧面和凹部92的侧面抵接，能够确保TFT阵列基板10和对向基板20的水平方向成直线。

此时，因为形成有凹部92和凸部82`，能够延伸模塑材30和TFT阵列基板10的界面距离、或模塑材30和对向基板20的界面距离。

因此，与上述第一实施方式、第一变形例以及第二变形例相同，能够获得提高液晶装置的防湿性能的效果。

而且，也可以将由凸部82`和凹部92构成的嵌合构造形成在例如密封材14被配置的TFT阵列基板10及对向基板20之间。

(第二实施方式)

其次，参照图9对本发明的液晶装置的第二实施方式进行说明。

图9所示为第二实施方式涉及的液晶装置160的侧视剖面图。

在本实施方式的液晶装置中，对于和第一实施方式相同的构成，附上相同的符号进行说明，对于和第一实施方式相同的构成部分，简化其说明。

另外，在本实施方式中，相互对向配置的TFT阵列基板10及对向基板20的大小，从垂直方向看液晶装置为大致相同。

在第一实施方式中，通过在TFT阵列基板10及对向基板20的模塑区域上形成凹凸部，延长模塑材30和TFT阵列基板10的界面距离、或模塑材30和对向基板20的界面距离，提高了液晶装置60的防湿性能。

与此相对，在本实施方式的液晶装置160中，采用使配置模塑材30的TFT阵列基板10及对向基板20之间的间隙比夹持液晶层50的TFT阵列基板10及对向基板20之间的间隙(以下成为液晶层厚(Cell Gap))狭窄的构造。

本实施方式的液晶装置160，具备：相互相对配置的TFT阵列基板10及对向基板20；在TFT阵列基板10及对向基板20之间被密封材14密封的液晶层50；模塑材30，其覆盖密封材14的外周侧设于TFT阵列基板10及对向基板20之间。

如图9所示，在液晶装置160中，在TFT阵列基板10的无机取向膜16的表面上形成有凸部192，在对向基板20的无机取向膜22的表面上形成有凸部182。

凸部192、182在模塑区域的全周连续形成，在凸部192、182上设置模塑材30。

TFT阵列基板10的凸部192的内侧，以及对向基板20的凸部182的内侧上，与液晶装置60相同，充填有密封材14，液晶层50被密封。

而且，未图示的垫片介于密封材14之间，能够确保期望的液晶层厚(Cell Gap)d。

另外，模塑区域中TFT阵列基板10及对向基板20的间隙D，由于形成凸部192、182而比液晶层厚d要窄。

所以，与设有模塑材30的TFT阵列基板10及对向基板20的间隙和液晶层厚相等的情况(d＝D的情况)相比，构成间隙D的体积减少，因此介于间隙D中的模塑材30的量减少。

在此，水分从液晶装置60的外部浸入TFT阵列基板10及对向基板20之间的情况，由于介于间隙D之间的模塑材30少，透过间隙D的模塑材30中的水分本身变少。

因此，能够减低水分混到液晶层50内的可能性，可以提高液晶装置160的防湿性能。

根据此构成，能够减轻因为水分混入液晶层50导致的液晶装置的显示特性的低下，可以实现具有稳定的显示特性、高可靠性的液晶装置160。

(第二实施方式的变形例)

其次，参照图10对第二实施方式中的液晶装置160的变形例进行说明。

如图10所示，作为液晶装置160的变形例的液晶装置160`，形成间隙D的各个基板面，相对于液晶层50被配置的基板面呈倾斜状态。

在此，所谓配置液晶层50的基板面是指在本变形例中图10所示的，夹持密封材14及液晶层50的TFT阵列基板10与对向基板20的内面一侧。

形成间隙D的基板面是指在TFT阵列基板10上配置有模塑材30的第一保持面10B、和在对向基板20上配置有模塑材30的第二保持面20B。

而且，通过第一保持面10B和第二保持面20B构成模塑区域。

而且，第一保持面10B及第二保持面20B，相对于夹持、设置液晶层50的TFT阵列基板10的基板面以及对向基板20的基板面倾斜。

换言之，如图10所示，TFT阵列基板10中的基板主体10A，与构成夹持液晶层50及密封材14的基板面的液晶保留部10R，相对于液晶保留部10R的基板面倾斜，且与具有设置有模塑材30的基板面(第一保持面10B)的模塑保持部10M组合构成。

另外，对向基板20的基板主体20A，相对于液晶保持部20R和液晶保持部20R的基板面倾斜，且与具有设置有模塑材30的基板面(第二保持面20B)的模塑保持部20M组合构成。

所以，各个模塑保持部10M、20M，以及液晶保持部10R、20R，各自相互对向设置。

通过此构成，形成上述间隙D的第一保持面10B及第二保持面20B的各面，相对于配置有液晶层50的基板的面倾斜。

在此，构成液晶保持部10R、20R的TFT阵列基板及对向基板20的间隙的大小，设定为液晶层50的膜厚即液晶层厚(Cell Gap)d。

另外，第一保持面10B及第二保持面20B的间隙D的大小，如图10所示，相对于液晶层厚d要薄。

而且，在第一保持面10B及第二保持面20B上，设置有接合TFT阵列基板10及对向基板20的模塑材30。

在本变形例的液晶装置160`中，由于设置有模塑材30的各TFT阵列基板10及对向基板20(第一保持面10B及第二保持面20B)之间的间隙D比液晶层厚d狭窄，所以和上述第一实施方式的液晶装置60相同，可以减少介于间隙D中的模塑材30的量。

所以，水分从外部浸入TFT阵列基板10及对向基板20之间的情况，由于介于所述间隙D之间的模塑材30的量少，可以限制透过所述间隙D的模塑材30中的水分的量。

另外，从液晶装置160`的垂直方向看到的模塑区域的表象的界面距离，可以用图10所示的距离X1表示。

如上所述在本变形例中，由于配设模塑材30的模塑保持部10M的第一保持面10B和模塑保持部20M的第二保持面20B，相对于液晶保留部10R、20R的基板面倾斜，模塑材30和TFT阵列基板10之间的界面距离，或模塑材30和对向基板20之间的界面距离可以用X2表示。

所以，模塑区域中的形成间隙D的界面距离，可以比表象的界面距离X1长。

如此使形成有模塑材30的模塑区域的界面距离变长，可以延长水分从液晶装置160`的外部浸入的路径，能够进一步提高液晶装置160`的防湿性能。

根据此构成，能够使水分混入液晶层50内的可能性降低，可以提高液晶装置160`的防湿性能。

因此，能够减轻水分混入液晶层50导致的显示特性的低下，即、可以实现高可靠性的液晶装置160`。

以上，对液晶装置的实施方式进行了说明，本发明也可以适用于液晶装置以外的电子光学装置，例如有机EL装置、电泳装置等。

首先，对适用本发明的电泳装置100的实施方式进行说明。

本实施方式的电泳装置100，如图11所示，由在对向配置的第一基板101和第二基板108之间备置电泳层(电子光学层)111而构成。

而且，第一基板101和第二基板108，被密封构件127贴合，通过垫片(未图示)被保持为具有一定间隔的状态。

密封构件127被形成为包围显示区域周围的框状。

在密封构件127的外侧，模塑材30被配置为包围电泳层111。

本实施方式的电泳装置100，和用图6进行说明了的液晶装置的实施方式相同，在第一基板101的侧端面上形成有剖面视呈大致锯齿状的凹凸部140，在第二基板108的一部分上也形成有剖面视呈大致锯齿状的凹凸部141。

而且，在凹凸部140、141上设有模塑材130。

即、凹凸部140、141在配置有模塑材30的区域的全域形成。

第一基板101，例如由透明玻璃或透明薄膜等具有透光性的基板构成。

在第一基板101的内面一侧(电泳层111一侧)上，形成有ITO(氧化铟锡)等透明的导电材料构成的共通电极102。

第一基板101的外面是电泳装置的显示面。

另一方面，第二基板108没有必要必须透明，例如玻璃基板或树脂薄膜基板等之外，可以使用在不锈钢板等的金属板表面上形成有绝缘层的基板等。

在第二基板108上，像素区域呈矩阵状(阵列状)划分形成，设置有与各像素区域对应的像素电极107。

虽不图示，但在像素电极107上形成有为了进行通电控制的TFT元件(开关元件)。

而且，在本实施方式的电泳装置100中，在由第一基板101和第二基板108以及密封构件形成的闭合空间中，配置有作为电泳层111的电泳分散液105以及电泳粒子106被胶囊状的树脂皮膜被覆的微型胶囊161。

况且，作为电泳层111的构造，不限定于上述的微型胶囊，也可以通过在第一基板101及第二基板108之间封入具有分散媒、电泳粒子等的电泳分散液，构成电泳层。

通过向电极102、107之间施加电压，微型胶囊161内的电泳粒子106在库伦力的作用下向共通电极两侧迅速泳动，附着于电极表面而进行图像显示。

根据上述的构成，因为在第一基板101和第二基板108上形成的凹凸部140、141上设置有模塑材130，与不设置凹凸部的基板表面为平坦面的情况相比，模塑材130和第一基板101的界面距离，或模塑材130和第二基板108的界面距离仅延长与凹凸部140、141的表面形状接触的面积的程度。

所以，假如水分从电泳装置100的外部浸入第一基板101和第二基板108之间的情况，因为模塑材130和第一基板101的界面距离，或模塑材130和第二基板108的界面距离各自延长，可以降低水分到达电泳层111的可能性。

而且，对本发明的电泳装置也可以采用适用于液晶装置的图7A～图10的方式。

其次，参照图12对将本发明适用于有机EL装置200的实施方式进行说明。

如图12所示，在本实施方式的有机EL装置200中，在基板(第一基板)211上形成有包含为了驱动像素电极231的驱动用TFT的电路部(未图示)。

在电路部上，在被隔层241划分的多个的各个区域上，设置有作为电子发光层的发光元件(有机EL元件)244。

此发光元件244以如下顺序形成如下构件而形成，即，作为阳极作用的像素电极231、从像素电极231的注入/输送正孔的正孔输送层252、具备电子光学物质之一的有机EL物质的发光层251、阴极261。

在具有此构成的发光器件中，通过从正孔输送层注入的正孔和阴极261的电子的结合，使发光层251发光。

密封基板(第二基板)210被设置为覆盖基板211。

由于有机EL装置200为在所谓的底部发射型的情况下取出发射光的构成，作为基板211采用透明或半透明的基板。

另外，在有机EL装置200为所谓的顶部发射型的情况下，作为密封基板210采用透明或半透明的基板。

模塑材230通过防止水分进入有机EL装置200的内部，起到保护对水分较弱的有机EL器件244的作用。

在本实施方式的有机EL装置200中，与用图6说明了的液晶装置的实施方式相同，在密封基板210的侧端面上形成有剖面视呈大致锯齿状的凹凸部240，在基板211的一部分上也形成有剖面视呈大致锯齿状的凹凸部242。

而且，在凹凸部240、242上设置有模塑材230。

即、凹凸部240、242在配置有模塑材230的区域的全域形成。

根据上述的构成，因为对基板211上形成的凹凸部242、和密封基板210上形成的凹凸部240设置有模塑材230，与不设置凹凸部的基板表面为平坦面的情况相比，模塑材230和基板211的界面距离、或模塑材230和密封基板210的界面距离仅延长与凹凸部240、242的表面形状接触的面积的程度。

所以，假如水分从有机EL装置200的外部浸入密封基板210和基板211之间的情况，因为模塑材230和密封基板210的界面距离、或模塑材230和基板211的界面距离各自延长，可以降低水分到达包含发光层251的有机EL元件的可能性。

而且，对本发明的有机EL装置200也可以采用适用于液晶装置的图7A～图10的形态。

(投影仪)

其次，用图13对本发明的投影仪进行说明。

图13所示为投影仪800的主要部分的概略构成图。

投影仪800作为光调制机构具备上述的各实施方式的液晶装置。

在图13中，符号810表示光源，符号813及符号814表示分色镜，符号815、符号816以及符号817表示反射镜，符号818表示射入透镜，符号819表示中继镜，符号820表示射出透镜，符号822、符号823以及符号824表示有本发明的液晶装置构成的光调制机构，符号825表示交叉分色棱镜，符号826表示投射透镜(投射机构)。

光源810由金属卤化物等的电灯811和反射电灯811的光的反射器812构成。

分色镜813使包含在光源810射出的白色光中的红色光透过，反射蓝色光和绿色光。

透过分色镜813的红色光，被反射镜817反射，射入红色光用的光调制机构822中。

被分色镜813反射的绿色光，被分色镜814反射后射入绿色光用光调制机构823中。

被分色镜813反射的蓝色光，透过分色镜814。

蓝色光的光程比红色光和绿色光长。

因此，为了防止蓝色光的光损失，投影仪800具备包含射入透镜818、中继镜819以及射出透镜820的中继镜系构成的导光机构821。

蓝色光通过导光机构821射入蓝色光用光调制机构824中。

被各个光调制机构822、823、824调制的3色光，射入到交叉分色棱镜825中。

交叉分色棱镜825为使4个直角棱镜贴合而成，在其界面上X状地形成反射红光的诱电体多层膜和反射蓝光的诱电体多层膜。

在这些诱电体多层膜的作用下3色光被合成，形成显示彩色图像的光。

合成后的光，通过投射光学系的投射透镜826投射到屏幕827上，图像被放大显示。

上述的投影仪800具备上述的各实施方式或者各变形例的液晶装置60、60`、160、160`的任何一个作为光调制机构。

在上述的各实施方式或各变形例的液晶装置中，水分等从液晶装置的外部浸入液晶层的可能性被减低，可以实现高防湿性能能、稳定的显示特性以及高可靠性。

所以，在本发明的投影仪800中，由于具备上述液晶装置作为光调制机构，能够维持液晶装置中的液晶分子的取向控制功能，可以实现高可靠性和优良的显示特性。

而且，本发明的技术范围，不限定于上述的实施方式，在不超出本发明的宗旨的范围内，包含对上述实施方式施加的各种变更。

例如，在上述的实施方式中，作为开关元件以具备TFT的液晶装置为例进行了说明，但作为开关元件也可以将本发明适用于具备薄膜二极管(Thin Film Diode)等的两端子型器件的液晶装置。

另外，在上述的实施方式中以透过型液晶装置为例进行了说明，但本发明也可以适用于反射型液晶装置。

另外，在上述的实施方式中以TN(Twisted Nematic)模式下作用的液晶装置为例进行了说明，但本发明也可以适用于VA(Vertical Alignment)模式下作用的液晶装置。

还有，在上述的实施方式中以3板式的投影仪(投射型显示装置)为例进行了说明，但本发明也可以适用于单板式的投射型显示装置或直视型显示装置。

另外，也可以将本发明的液晶装置应用于投影仪以外的电子设备。

作为其具体的例子，可以举出移动电话。

移动电话的显示部具备上述的各实施方式或其变形例的液晶装置。

另外，作为其他的电子设备，可以举出例如IC卡、摄影机、个人电脑、头盔显示器、以及附带显示功能的传真装置、数码照相机的取景器、携带型TV、DSP装置、PDA、电子记事本、电光布告板、宣传公告用显示器等。

其次，作为微型器件的一个实施方式，参照图纸对适用于DMD(DigitalMicromirror Device)的例子进行说明。

DMD可以作为例如上述的投影仪中的反射型的光调制装置使用。

图14所示为光调制装置500的主要构成要素的组装分解立体图。

在图14中，光调制装置500大致上由反射镜基板(第一基板)400以及防护玻璃罩基板(第二基板)300构成。

在反射镜基板400和防护玻璃罩基板300之间，设置有多个微小反射镜(器件部)302。

具体地讲，在反射镜基板400上形成凹部402，在凹部402上设置有矩阵状(阵列状)配列的多个微小反射镜(器件部)302。

在这些复数的微小反射镜302之中，沿着一个方向例如图14的X轴方向排列的微小反射镜302被扭矩(torsion)杆304所连接。

在微小反射镜302的表面上形成有反射层302a。

而且，通过倾斜驱动微小反射镜302，对微小反射镜302射入的光的反射方向发生变化。

而且，通过控制向规定的反射方向反射光的时间，对光进行调制。

而且，在凹部402内，在X方向上相邻的2个微小反射镜302之间的扭矩杆304相对的位置上，设置有多个从凹部402突起形成的支柱部410。

通过阳极接合扭矩杆304和支柱部410，微小反射镜302被配置在凹部202内。

再者，在凹部402上形成有布线图案部412。

布线图案部412在夹着扭矩杆104的两侧的微小反射镜302的背面相对的位置上，分别具有第一地址电极414和第二地址电极416。

沿Y方向排列的多个的各个第一地址电极414，被连接到第一共通布线418上。

同样，沿Y方向排列的多个的各个第二地址电极416，被连接到第二共通布线420上。

当微小反射镜302进行ON倾斜驱动时，通过扭矩杆304对沿着图14的X方向排列的多个微小反射镜302同时通电。

另外，在向微小反射镜302通电的同时，使第一地址电极414及第二地址电极416按点顺次或线顺次驱动。

向着图14的Y方向，顺次选择扭矩杆304进行通电，可以使矩阵状排列的微小反射镜302的ON倾斜驱动按规定的周期进行。

另一方面，进行微小反射镜302的OFF倾斜驱动时，将施加给第一地址电极414以及第二地址电极416的电压的极性，设为与ON倾斜驱动时相反即可。

因此，微小反射镜302与ON倾斜驱动时向相反的方向倾斜驱动。

像这样通过使微小反射镜302的倾斜发生变化，光调制装置进行驱动。

在反射镜基板400的框状的上面404上像包围设有微小反射镜302的区域(图14所示的凹部402)那样配置模塑材。

如图15所示，经由模塑材反射镜基板400和防护玻璃罩基板300被接合。

图15所示为光调制装置500的概略侧视剖面构造图。

如图15所示，反射镜基板400和防护玻璃罩基板300通过模塑材430被贴合。

模塑材430防止水分进入到光调制装置500的内部，保护微小反射镜302和布线图案部412等。

在本实施方式的光调制装置500中，与用图6说明了的液晶装置的实施方式相同，在防护玻璃罩基板300的下面一侧上形成有剖面视呈大致锯齿状的凹凸部340，在与凹凸部340相对配置的反射镜基板400的上面404上也形成有剖面视呈大致锯齿状的凹凸部440。

而且，在凹凸部340、440上设置有模塑材430。

即、凹凸部340、440在配置有模塑材430的区域(凹部402)的全域形成。

在上述的光调制装置500中，因为对凹凸部340、440上配置有模塑材430，与不设置凹凸部的基板表面为平坦面的情况相比，模塑材430和防护玻璃罩基板300的界面距离、或模塑材430和反射镜基板400的界面距离仅延长与凹凸部340、440的表面形状接触的面积的程度。

所以，假如水分从光调制装置500的外部到内部的情况下，因为模塑材430和防护玻璃罩基板300的界面距离、或模塑材430和反射镜基板400的界面距离各自延长，可以降低水分到达微小反射镜302及布线图案部412的可能性。

而且，对本发明的光调制装置500也可以采用适用于液晶装置的图7A～图10的方式。

Claims (7)

1.一种液晶装置，其中，具有：

第一基板；

与所述第一基板相对的第二基板；

液晶层，其设置于所述第一基板及第二基板之间；

密封材，其在所述第一基板及第二基板之间密封所述液晶层；

模塑材，其覆盖所述密封材的外周侧，设于所述第一基板及所述第二基板之间；

第一凹凸部，其在所述第一基板及所述第二基板中的至少一个基板上的配置有所述模塑材的区域的整个区域上形成，

并且，在所述第一凹凸部上，设有所述模塑材。

2.根据权利要求1所述的液晶装置，其中，在所述第一基板及所述第二基板中的至少一个基板上形成有第二凹凸部，

并且，在所述第二凹凸部上，设有所述密封材。

3.一种液晶装置，其中，具有：

第一基板；

与所述第一基板相对的第二基板；

液晶层，其配置于所述第一基板及第二基板之间；

密封材，其在所述第一基板及所述第二基板之间密封所述液晶层；

模塑材，其覆盖所述密封材的外周侧，设于所述第一基板及所述第二基板之间，

并且，配置有所述模塑材的所述第一基板和所述第二基板的间隙，比配置有所述液晶层的所述第一基板和所述第二基板的间隙窄。

4.根据权利要求3所述的液晶装置，其中，具有：

第一保持面，其在所述第一基板上保持所述模塑材；

第二保持面，其在所述第二基板上保持所述模塑材，

并且，所述第一保持面及所述第二保持面，相对于配置有所述液晶层的所述第一基板以及所述第二基板的基板面倾斜。

5.一种电子光学装置，其中，具有：

第一基板；

与所述第一基板相对的第二基板；

电子光学层，其设置于所述第一基板及第二基板之间；

模塑材，其在所述第一基板及第二基板之间包围所述电子光学层而设置；

凹凸部，其在所述第一基板及所述第二基板中的至少一个基板上的配置有所述模塑材的区域的整个区域上形成，

并且，在所述凹凸部上，设有所述模塑材。

6.一种投影仪，其中，包括：

光源；

光调制机构，其对所述光源的光进行调制；

投射机构，其对由所述光调制机构调制的光进行投射，

并且，所述光调制机构是具有如下构件的液晶装置，即：第一基板；与所述第一基板对向的第二基板；液晶层，其设置于所述第一基板及第二基板之间；密封材，其在所述第一基板及第二基板之间密封所述液晶层；模塑材，其覆盖所述密封材的外周侧，设于所述第一基板及第二基板之间；凹凸部，其在所述第一基板及第二基板中的至少一个基板上，在配置有所述模塑材的区域的全域上形成，并且在所述凹凸部上设有所述模塑材。

7.一种微型器件，其中，具有：

第一基板；

与所述第一基板对向的第二基板；

器件部，其设置于所述第一基板及第二基板之间；

模塑材，其在所述第一基板及第二基板之间包围所述器件部而设置；

凹凸部，其在所述第一基板及所述第二基板中的至少一个基板上的配置有所述模塑材的区域的整个区域上形成，

并且，在所述凹凸部上，设有所述模塑材。

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