CN1814361A - 运用激光激化气体的清洗方法及装置 - Google Patents
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Abstract
本发明一种运用激光激化气体的清洗方法及装置，该清洗装置先进行提供一待清洗基板步骤，将表面分布有表面污染物的基板夹持固定于该夹持治具，再进行喷雾气体于基板表面步骤，利用气体产生装置产生固态气体分子雪花，并喷发于该基板表面，当该基板表面的雪花挥发升华为气体时，再进行激光照射待清洗基板表面步骤，利用该激光产生装置所产生的激光束，照射于基板表面及其表面的雪花，该基板表面受到激光照射后加速雪花升华及膨胀***，进而驱使该附着于待清洗基板上的表面污染物脱离该待清洗基板，最后，为完成基板表面清洗步骤，该基板表面得到洗净。
Description
技术领域
本发明涉及一种运用激光激化气体的清洗方法及装置，尤其是一种应用于清洗基板表面的方法及装置。
背景技术
有关公知应用于清洗基板的技术，以及移除基板表面污染物的装置，是运用一产生悬浮物质的装置，再配合一可高速旋转的基板夹持装置，通过将悬浮物喷涂于基板表面，并将待清洗基板夹持装置夹持待清洗基板进行转动，当基板的转速提高至高速旋转时，利用掠过待清洗基板表面的高速旋转气流及高速旋转的离心力，进行去除基板表面的污染物，达到清洗待清洗基板的效果，另外，公知清洗装置会再多增设一加热灯，以对于基板进行辐射加热，用以提供清洗基板时的温度补偿，以避免产生凝结水。
然而，上述的公知清洗基板技术及应用于清洗基板的装置，主要是运用夹持基板装置来达到将基板高速旋转的方式，也因此公知清洗基板的装置需要增加旋转装置的购建及维修成本，再者，运用高速旋转达到清洗基板的公知技术，不适用于大型基板，因基板表面的清洁效果与距离夹持基板装置的旋转中心的远近成正比，即基板表面的清洗效果不均匀，另外，该清洗基板的加热装置，公知使用加热灯，经由加热灯的产生辐射热的方式加热基板表面，殊不知公知技术利用加热灯的加热功率与效果为较差，无法达到清洗基板的有效加热的要求。
发明内容
本发明的目的在于提供一种运用激光激化气体的清洗方法及装置，用以解决公知清洗方法及装置运用于清洗基板时，效果不佳及基板表面不均匀的缺陷，以及改善公知清洗基板装置的成本太高的缺点，并克服公知清洗基板装置无法适用于清洗大型基板的缺陷。
为了达到上述的目的，本发明提供了一种运用激光激化气体的清洗方法及装置，该清洗装置先进行提供一待清洗基板步骤，提供一表面分布有表面污染物的待清洗基板，且将该待清洗基板夹持并完成固定于该夹持治具上，再进行喷雾气体于待清洗基板表面步骤，利用气体产生装置产生固态气体分子雪花，并喷发于该待清洗基板表面，当该待清洗基板表面的雪花挥发升华为气体时，再进行激光照射待清洗基板表面步骤，利用该激光产生装置产生的激光束，将激光束照射于待清洗基板表面，及待清洗基板表面的雪花，当该待清洗基板表面受到激光照射后能加速雪花升华及膨胀***，进而驱使该附着于基板上的表面污染物脱离该基板，最后，为完成待清洗基板表面清洗步骤，该待清洗基板表面得到洗净表面污染物，另外，为避免该基板表面上的雪花升华之时，吸收基板周围的热量，使得基板表面温度下降产生凝结水，本发明经由激光束照射于基板表面后，能进一步提供基板表面光能及热能的温度补偿，进而避免产生凝结水。
也就是说，本发明提供了一种激光激化气体的清洗方法，用以进行清洗基板，其中包含：提供一待清洗基板，该待清洗基板表面分布有表面污染物；进行喷雾气体于待清洗基板表面，将固态气体分子雪花喷发于待清洗基板表面；以及进行激光照射待清洗基板表面，将激光束照射于该待清洗基板表面及表面的固态气体分子雪花，加速该待清洗基板表面的固态气体分子雪花升华及膨胀***，驱使该表面污染物脱离该待清洗基板。
根据本发明的构思，该进行喷雾气体于待清洗基板表面步骤与该进行激光照射待清洗基板表面步骤也能同时进行。
根据本发明的构思，该待清洗基板包含半导体，液晶平面显示器，印刷电路板，光学玻璃，光罩，镜片或芯片。
根据本发明的构思，该气体为二氧化碳，氮气或氩气。
根据本发明的构思，该进行激光照射待清洗基板表面，是进一步提供待清洗基板表面光能及热能的温度补偿，进而避免产生凝结水。
根据本发明的另一发明提供了一种激光激化气体的清洗装置，用以进行清洗基板，其中包含：一夹持治具，用以夹持固定该待清洗基板于其上；一气体产生装置，该气体产生装置产生固态气体分子雪花，该气体产生装置设置于该待清洗基板被清洗面之上并与待清洗基板呈一夹角；以及一激光产生装置，设置于该待清洗基板之上，该激光产生装置产生激光束。
根据本发明的构思，该待清洗基板包含半导体，液晶平面显示器，印刷电路板，光学玻璃，光罩，镜片或芯片。
该气体产生装置的喷嘴，喷发固态气体分子雪花于基板表面时，通过结合喷发出固态气体分子雪花的高速气流，所产生的空气动力牵引力，及喷发固态气体分子雪花时撞击于待清洗基板表面的动能转换，克服待清洗基板表面的表面污染物的黏着力，以完成基板的清洗洁净。
有关本发明较详细的内容及具体可行的实施方式，将参照附图说明如下：
附图说明
图1是本发明激光激化气体的清洗方法流程图；
图2是本发明激光激化气体的清洗装置示意图。
其中，附图标记说明如下：
S1-激光激化气体的清洗方法；步骤S10-提供一待清洗基板；
步骤S20-进行喷雾气体于待清洗基板表面；
步骤S30-进行激光照射待清洗基板表面；
步骤S40-完成基板表面清洗；1-激光激化气体的清洗装置；
10-夹持治具；20-待清洗基板；21-表面污染物；
30-气体产生装置；31-二氧化碳雪花；
40-激光产生装置；41-激光束。
具体实施方式
以下为本发明较佳实施例的组装方式及实施步骤，兹配合附图进行详细说明。
首先，请参阅图1，本发明一种运用激光激化气体的清洗方法S1，是应用于进行清洗基板的方法，该激光激化气体的清洗方法S1包含，提供一待清洗基板步骤S10，进行喷雾气体于待清洗基板表面步骤S20，进行激光照射待清洗基板表面步骤S30，完成基板表面清洗步骤S40。
再者，请参阅图2，本发明一种运用激光激化气体的清洗装置1，是应用于进行清洗基板的装置，该激光激化气体的清洗装置1，包含一夹持治具10，一待清洗基板20，一气体产生装置30，一激光产生装置40，其中，该基板20的表面分布表面污染物21，该气体产生装置30再包含一喷嘴(图中未示)，该气体产生装置30的喷嘴，设置于该待清洗基板20被清洗面上方的适当位置，并与该待清洗基板20呈一喷发角度，该气体产生装置30用以喷发出固态气体分子雪花31，同样，该激光产生装置40也设置于待清洗基板表面上方的适当位置，用以产生激光束41。
本发明一种运用激光激化气体的清洗装置，用以进行清洗基板，将该激光激化气体的清洗装置的较佳实施例的实施特点及实施方式进行说明。
首先，请再参阅图1及图2，本发明一种运用激光激化气体的清洗方法S1及装置1，先进行提供一待清洗基板步骤S10，提供一待清洗基板20，该待清洗基板20表面分布有表面污染物21，并将该待清洗基板20通过一夹持治具10，夹持并完成固定于该夹持治具10之上，再进行喷雾气体于待清洗基板表面步骤S20，利用该气体产生装置30产生固态气体分子雪花，在本实施例中，该气体为二氧化碳，该固态气体分子雪花为二氧化碳雪花31，并通过喷嘴喷发出二氧化碳雪花31于该待清洗基板20表面，当该二氧化碳雪花31喷发于该待清洗基板20表面后，该二氧化碳雪花31挥发升华为气体，此时，再进行激光照射待清洗基板表面步骤S30，利用该激光产生装置40所产生的激光束41，照射于待清洗基板20表面，及待清洗基板20表面的二氧化碳雪花31时，当该待清洗基板20表面因受到激光41照射后能加速二氧化碳雪花31升华及膨胀***，进而驱使该附着于基板20上的表面污染物21脱离该待清洗基板20，最后，是完成基板表面清洗步骤S40，该待清洗基板表面得到洗净，另外，当该基板20表面上的二氧化碳雪花31升华之时，亦吸收基板20周围的热量，使得基板20表面温度下降，此时基板20表面会产生凝结水，但本发明经由激光束41照射于基板20表面后，能进一步提供基板20表面光能及热能的温度补偿，进而避免产生凝结水。
本发明是一种运用激光激化气体的清洗方法，上述方法揭示了该进行喷雾气体于待清洗基板表面步骤与该进行激光照射待清洗基板表面步骤为先后进行，但并用以限制本发明，该进行喷雾气体于待清洗基板表面步骤与该进行激光照射待清洗基板表面步骤也能同时进行。
本发明一种运用激光激化气体的清洗方法及装置，上述该待清洗物基板包含，半导体，液晶平面显示器，印刷电路板，光学玻璃，光罩，镜片或芯六。
本发明一种运用激光激化气体的清洗方法及装置，上述该气体包含，二氧化碳，氮气或氩气。
本发明一种运用激光激化气体的清洗方法及装置，上述该污染物包含，油污，助焊剂，粉尘或微粒。
虽然本发明以较佳实施例揭示于上，然其并非用以限定本发明，任何熟悉此项技术的人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可做些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围当以权利要求书所界定的为准。
Claims (7)
1.一种激光激化气体的清洗方法，用以进行清洗基板，其中包含：
提供一待清洗基板，该待清洗基板表面分布有表面污染物；
进行喷雾气体于待清洗基板表面，将固态气体分子雪花喷发于待清洗基板表面；以及
进行激光照射待清洗基板表面，将激光束照射于该待清洗基板表面及表面的固态气体分子雪花，加速该待清洗基板表面的固态气体分子雪花升华及膨胀***，驱使该表面污染物脱离该待清洗基板。
2.如权利要求1所述的方法，其特征是，该进行喷雾气体于待清洗基板表面步骤与该进行激光照射待清洗基板表面步骤也能同时进行。
3.如权利要求1所述的方法，其特征是，该待清洗基板包含半导体，液晶平面显示器，印刷电路板，光学玻璃，光罩，镜片或芯片。
4.如权利要求1所述的方法，其特征是，该气体为二氧化碳，氮气或氩气。
5.如权利要求1所述的方法，其特征是，该进行激光照射待清洗基板表面，是进一步提供待清洗基板表面光能及热能的温度补偿，进而避免产生凝结水。
6.一种激光激化气体的清洗装置，用以进行清洗基板，其中包含：
一夹持治具，用以夹持固定该待清洗基板于其上；
一气体产生装置，该气体产生装置产生固态气体分子雪花，该气体产生装置设置于该待清洗基板被清洗面之上并与待清洗基板呈一夹角；以及
一激光产生装置，设置于该待清洗基板之上，该激光产生装置产生激光束。
7.如权利要求6所述的装置，其特征是，该待清洗基板包含半导体，液晶平面显示器，印刷电路板，光学玻璃，光罩，镜片或芯片。
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| CN 200510006256 CN1814361A (zh) | 2005-02-01 | 2005-02-01 | 运用激光激化气体的清洗方法及装置 |
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Cited By (4)
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|---|---|---|---|---|
| CN102441546A (zh) * | 2010-10-14 | 2012-05-09 | 刘忠炯 | 电子器材塑胶外壳表面清洗方法 |
| CN103170481A (zh) * | 2011-12-26 | 2013-06-26 | 财团法人金属工业研究发展中心 | 放电加工模具表面清洁方法 |
| CN104853854A (zh) * | 2012-12-18 | 2015-08-19 | 浦项工科大学校产学协力团 | 利用高速粒子束的液膜去除方法 |
| CN106269719A (zh) * | 2016-09-30 | 2017-01-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种清洁设备 |
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2005
- 2005-02-01 CN CN 200510006256 patent/CN1814361A/zh active Pending
Cited By (5)
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|---|---|---|---|---|
| CN102441546A (zh) * | 2010-10-14 | 2012-05-09 | 刘忠炯 | 电子器材塑胶外壳表面清洗方法 |
| CN103170481A (zh) * | 2011-12-26 | 2013-06-26 | 财团法人金属工业研究发展中心 | 放电加工模具表面清洁方法 |
| CN104853854A (zh) * | 2012-12-18 | 2015-08-19 | 浦项工科大学校产学协力团 | 利用高速粒子束的液膜去除方法 |
| CN104853854B (zh) * | 2012-12-18 | 2016-08-17 | 浦项工科大学校产学协力团 | 利用高速粒子束的液膜去除方法 |
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