CN1535559A - X光产生装置 - Google Patents

Abstract

本发明之X光产生装置具有：一阴极电极15、一用以控制该阴极电极15所生电子束e之栅极电极17、一用以集束该电子束e之聚焦电极18、以及一藉由电子束e之撞击而放出X光之阳极靶材14。在阴极电极15和栅极电极17之间，受施加有一来自偏压电压产生部20之偏压电压Vb。阳极靶材14受施加一来自管电压产生部19之管电压Vt。分压部31对管电压Vt进行分压，而产生聚焦电压Vf。藉由将如此而得之聚焦电压Vf施加至聚焦电极18上，将可以抑制电压变动对于电子束之焦点形成所造成的影响。

Description

X光产生装置

(1)技术领域

本发明系有关于一种具有X光管等之X光产生装置。

(2)背景技术

X光产生装置系一种设有用以放出X光之X光管的装置，大多数利用于医疗或工业用诊断装置等。就X光管而言，亦因应于X光产生装置之用途，而有各种变化。例如，当要以X光来检查受检查物之细微结构等时，系使用一种叫作微聚焦的X光管，其在X光产生区域所在之阳极靶材上的电子束焦点尺寸为数μm至数十μm(例如参考特开2001-273860号公报)。

上述微聚焦X光管具有一用以将供放出X光之阳极靶材或阴极等配置于各个真空容器内之构造。阴极由用以在加热器之加热下产生电子束的阴极电极、控制管电流的栅极电极、以及用以控制阳极靶材上之电子束焦点尺寸的聚焦电极等所构成。

在具有此类构造之X光管中，一般系例如将阴极电极、阳极靶材、或栅极电极设定至接地电位，并施加一特定之(X光)管电压至阳极靶材上。X光管之动作状态系藉由例如控制一施加至聚焦电极或栅极电极之电压而受到调整。若系控制一施加至聚焦电极之电压的情形，系利用一与用以产生管电压之阳极靶材用电源分开而设之聚焦电极用电源，来产生一用以施加至聚焦电极之聚焦电压。

然而，在控制聚焦电压之方式中，若用以施加至阳极靶材之管电压，与施加至聚焦电极之聚焦电压，有脉动等上之变动，将影响到电子束之焦点形状，而难以形成微小的焦点。亦即，若要将电子束之焦点形状作到最小，则例如维持图7之符号P所示之管电压与聚焦电压间之比例关系将相当重要。若管电压与聚焦电压有变动的话，图7所示之比例关系将无法保持，而难以形成微小焦点。根据本发明者之实验，已确认管电压与聚焦电压间之比率若变动0.15％以上，将对于焦点直径有很大的影响。

相对于上述情形，在例如日本特开平7-29532号公报中，则记载有一X光产生装置，其将聚焦电压设定于接地电位，并随着该施加至阳极靶材之电压变化，而以一定之比率，使该施加至阴极电极之电压产生变化。藉由此类习知X光产生装置，由于聚焦电极保持于接地电位而没有变动，即使该施加至阳极靶材之电压有脉动产生，亦能保持微小焦点之稳定。

然而，上述公报中所记载之X光产生装置由于必须将聚焦电极设定于接地电位，因而在装置构造上之限制相当大。例如，在习知X光产生装置中，一般虽然系将阳极靶材或栅极电极设定于接地电位，但在此类X光产生装置上，则无法应用上述公报中所记载之微小焦点形成方法。因此之故，于将阳极靶材或栅极电极设定于接地电位时，将有需要一种可以控制电压变动所对于电子束微小焦点形成之影响的技术。

又，在微聚焦X光管中，系在阴极电极与栅极电极之间，施加一偏压电压，而以该偏压电压来控制一使X光产生之电子束电流(管电流)。当应用此类管电流之控制方式时，一般会独立设置一用以产生该偏压电压之电源。

然而，在上述管电流控制方式中，当偏压电压用电源发生故障时，X光管内将产生过大的管电流。这样的过大管电流会导致阳极靶材之熔化等，而招致X光管之特性劣化，甚至破坏等。因此，当以该施加至阴极电极之偏压电压，来控制管电流时，将希望能提高其可靠度与安全性等。

本发明之目的在于提供一种即使将阳极靶材或栅极电极设定于接地电位时，亦能抑制电压变动对于形成电子束焦点之影响的X光产生装置。本发明之其它目的则在于提供一种当以一施加至阴极电极之偏压电压来控制管电流时，能防止过大管电流产生，而藉以提高可靠性或安全性的X光产生装置。

(3)发明内容

本发明所揭第一X光产生装置包含：一阴极电极，用以产生电子束；一栅极电极，用以控制该阴极电极所发生之该电子束流；一聚焦电极，用以使该电子束集束；一阳极靶材，用以藉由该聚焦电极所集束得之该电子束之撞击，而放出X光；一偏压电压产生部，用以产生一供施加至该阴极电极与该栅极电极间之偏压电压；一管电压产生部，用以产生一供施加至该阳极靶材之管电压；以及一分压部，用以对该管电压进行分压而产生聚焦电压，再将该聚焦电压施加至该聚焦电极。

在本发明之X光产生装置中，由于系对管电压进行分压而产生聚焦电压，因而即使管电压中有脉动等变动产生，亦能维持管电压与聚焦电压间之比例关系。因此，管电压之变动所对于电子束焦点尺寸之影响即受到抑制，结果，将可以在有比较好之再现性下形成电子束微小焦点。

第一X光产生装置还具特征在于：在分压部中对聚焦电压进行分压而产生阴极电压，再将该阴极电压，与该偏压电压产生部所产生之偏压电压加以合成。在此场合下，分压部所产生之阴极电压之大小系被设定成即使有相同大小之电压被施加在阴极电极与栅极电极间，亦不会有管电压产生。藉此，将可以提高X光产生装置之安全性。

本发明所揭第二X光产生装置包含：一阴极电极，用以产生电子束；一栅极电极，用以控制该阴极电极所发生之该电子束流；一聚焦电极，用以使该电子束集束；一阳极靶材，用以藉由该聚焦电极所集束得之该电子束之撞击，而放出X光；一管电压产生部，用以产生一供施加至该阳极靶材之管电压；一聚焦电压产生部，用以产生一供施加至该聚焦电极之聚焦电压；一偏压电压产生部，用以产生一供施加至该阴极电极与该栅极电极间之偏压电压；以及一分压部，用以对该聚焦电压进行分压而产生阴极电压，再将该阴极电压与该偏压电压合成后，施加至该阴极电极。

(4)附图说明

图1显示本发明之第一实施例所成X光产生装置之概略构造与电路结构。

图2显示本发明之第二实施例所成X光产生装置之概略构造与电路结构。

图3为一显示本发明之实施例中之X光产生装置之管电压与聚焦电压间之关系的特性图。

图4为一显示本发明之第二实施例中之X光产生装置之偏压电压产生部之输出电压和管电流间之关系的特性图。

图5显示本发明之第三实施例所成之X光产生装置之概略构造与电路结构。

图6显示本发明之第四实施例所成之X光产生装置之概略构造与电路结构。

图7为一显示X光产生装置中之管电压与聚焦电压间之关系的特性图。

图式代表符号说明

10                      X光管

11                      真空容器

12                      阴极

13                      阳极

14                      阳极靶材

15                        阴极电极

16                        加热器

17                        栅极电极

18                        聚焦电极

19                        管电压产生部

20                        偏压电压产生部

21                        加热器电压产生部

23                        聚焦电压产生部

31，41                    分压部

32                        管电压检测部

33                        管电压比较部

34                        管电压控制部

35                        管电流控制部

36                        管电流比较部

37                        偏压电压控制部

38                        加热器电压控制部

(5)具体实施方式

以下，就用以实施本发明之型态作一说明。

图1为一显示本发明之第一实施例所成X光产生装置之构造的图式。该图所示之X光产生装置具有一微聚焦X光管10。微聚焦X光管10整体系由真空容器11所构成，在真空容器11内之其中一侧配置有阴极12，而在另一侧则配置有阳极13，阳极13具有一阳极靶材14。

阴极12例如包含有：用以产生电子束e之阴极电极15、用以加热阴极电极15之加热器16、用以控制电子束e之流量(例如管电流)的栅极电极17、以及用以集束电子束e而来控制阳极靶材14上所形成之电子束之焦点形状的聚焦电极。

在本实施例之X光产生装置中，栅极电极17系成接地电位G；在阳极靶材14与接地电位G间，连接有一可改变输出之管电压产生部19；在阳极靶材14上受施加有一相对于栅极电极17为正的管电压Vt，管电压Vt被控制在特定值。

又，在阴极电极15与接地电位G之间，连接有一输出可变之偏压电压产生部20，阴极电极15受施加有一相对于栅极电极17为正之偏压电压Vb。藉由该阴极电极15与栅极电极17间的偏压电压Vb，X光管10之管电流将受到控制。加热器16受供应一来自加热器电压产生部21之DC或AC特定电力。

在管电压产生部19之两端，并列连接有一分压部31。分压部31系由二个电阻R₁、R₂所构成，这两个电阻R₁、R₂串列连接，且自例如管电压产生部19之电位较高侧依序取得第一电阻R₁和第二电阻R₂。第一电阻R₁和第二电阻R₂间之连接点a被连接至聚焦电极18，且第二电阻R₂之两端形成聚焦电压Vf。

亦即，分压部31系根据第一电阻R₁和第二电阻R₂而对管电压Vt进行分压，而在第二电阻R₂两端产生聚焦电压Vf。而且，在聚焦电极18与接地电极G之间，施加有一藉由分压部31而对管电压Vt加以分压而成之聚焦电压Vf。在聚焦电极18上则被施加一相对于栅极电极17为正之聚焦电压Vf。

在具有上述构造之X光产生装置中，以阴极电极15所产生之电子束e系藉由栅极电极17而使管电流受到控制，再以聚焦电极18来使其集束，最后撞击阳极靶材14。藉由电子束e之撞击阳极靶材14，由阳极靶材14上将向箭头Y方向放出X光。此时，被施加至聚焦电极18之聚焦电压Vf，与管电压Vt间之关系如下式：

Vf＝Vt×R₂/(R₁+R₂).................(1)

如同由(1)式所明白者，聚焦电压Vf与管电压Vt间，具有一如图7所示之比例关系。该聚焦电压Vf与管电压Vt间之比例关系，由于基本上即使管电压Vt有脉动等变动，亦被维持不变，因而管电压Vt之变动对于电子束之焦点直径的影响将可以非常小。结果，阳极靶材14上即可以再现性良好地形成电子束之微小焦点。

像这样，根据第一实施例之X光产生装置，电压变动对于电子束之焦点形成的影响可以相当少，藉此将可以再现性良好地在阳极靶材14上形成电子束之微小焦点。又，由于系以分压部31来对管电压Vt进行分压，而产生聚焦电压Vf，将没有必要如习知X光产生装置般，在管电压产生部19之外，另外设一聚焦电压产生部，而可以简化X光产生装置之装置构造。又，在本实施例中，虽将栅极电极17设定成接地电位G，但仍可以与例如将阳极靶材14设定成接地电位时之情形同样地动作。

其次，就本发明之第二实施例而成之X光产生装置，参照图2作说明。图2显示一根据本发明之第二实施例而成之X光产生装置之构造。又，在图2中，和图1相对应之部分赋予相同符号，并部分省略重复之说明。

在图2所示之X光产生装置中，和上述第一实施例相同地，在管电压产生部19之两端，并联连接有分压部31。惟，此分压部31系由三个电阻R₁、R₂₁、R₂₂所构成，这三个电阻R₁、R₂₁、R₂₂串接在一起，且例如由管电压产生部19之电位较高侧，依序取得第一电阻R₁、第二电阻R₂₁、以及第三电阻R₂₂。

此外，第一电阻R₁和第二电阻R₂₁间之连接点a，和第一实施例一样，被连接至聚焦电极18，且二个电阻R₂₁、R₂₂之两端的电压即为聚焦电压Vf，且被施加于聚焦电极18与接地电位G之间。聚焦电压Vf为一相对于栅极电极17为正的电压。

在第二实施例之X光产生装置中，分压部31中有关于聚焦电压Vf之产生的动作，与第一实施例相同，聚焦电压Vf相对于管电压Vt有一比例关系，亦即聚焦电压Vf和管电压Vt之关系如下式：

Vf＝Vt×(R₂₁+R₂₂)/(R₁+R₂₁+R₂₂)...............(2)

像这样，聚焦电压Vf和管电压Vt间，具有一如图7所示之比例关系，管电压Vt之变动对于电子束之焦点直径的影响将非常小。

在本第二实施例之X光产生装置中，分压部31中之第二电阻R₂₁和第三电阻R₂₂间之连接点b，还透过偏压电压产生部20，而连接至阴极电极15。亦即，分压部31会根据第二电阻R₂₁和第三电阻R₂₂，而对聚焦电压Vf加以分压，而在第三电阻R₂₂两端，产生一相对于栅极电极17为正电压之阴极电压Vc(图中未示)。生成于该第三电阻R₂₂两端之阴极电压Vc，与偏压电压产生部20之输出电压会相合成。

其中，图2中之偏压电压产生部20被连接成使阴极电极15相对于栅极电极17呈负电压，且将负的输出电压Vb’施加至阴极电极15上。而且，由于第二电阻R₂₁和第三电阻R₂₂之连接点b，系被连接至偏压电压产生部20之正端子，在阴极电极15上，将被施加一由第三电阻R₂₂两端的电压(阴极电压)Vc和偏压电压产生部20之输出电压Vb’两者间所得之差压。

然而，在微聚焦X光管中，如前所述，管电流系受阴极电极15和栅极电极17间之偏压电压Vb所控制，而且，在偏压电压Vb和聚焦电压Vf之间，有一如图3之符号Q所示之关系；图3之横轴表示聚焦电压(V)、纵轴为偏压电压(V)、直线Q为管电流遮断偏压电压。

如图3所示，以管电流遮断偏压电压Q为界，在其上方之部分为管电流没有流通之区域，而在下方部分则为管电流有流通之区域。换言之，相对于某一聚焦电压Vf，偏压电压Vb若为一比管电流遮断偏压电压Q还小之电压，则不会有管电流。又，符号Q1表管电流为40μA之场合。

又，如同由图7之关系所明了者，管电压Vt之动作范围例如为0～80kV时，聚焦电压Vf之调整范围为0～2000V。在此场合，由图3之关系可知，会有管电流之偏压电压Vb之调整范围为例如0～150V。在图1所示之第一实施例中，系直接由连接成会使阴极电极相对于栅极电极17为正电压的偏压电压产生部之输出电压，来调整这样范围(例如0～150V)的偏压电压Vb。

另一方面，在图2所示之第二实施例之分压部31中，在第三电阻R₂₂两端所产生之电压(阴极电压)Vc，系比例于聚焦电压Vf。亦即，可知在第二电阻R₂₁与第三电阻R₂₂之连接点b上之电压(第三电阻R₂₂两端之电压Vc)为：

Vc＝Vf×R₂₁/(R₂₁+R₂₂)..............(3)

且其比例于聚焦电压Vf。又，由于聚焦电压Vf比例于管电压Vt，阴极电压Vc和管电压Vt将呈比例关系。

因此，在第二实施例之X光产生装置中，系将第三电阻R₂₂两端所产生之阴极电压Vc，设定成一即使将一和其一样大小之电压加在阴极电极15与栅极电极17间下亦不会有管电流之大小，亦即图3所示管电流遮断偏压电压Q，再将该管电流遮断阴极电压Vc和偏压电压产生部20所产生之电压Vb’加以合成，而加至阴极电极15上。在此场合，管电流遮断阴极电压Vc系例如沿着管电流遮断偏压电压Q(图3)之直线而变化。

进一步，如同由图3所示关系可明了者，在有管电流之情形下，只要在一降低管电流遮断阴极电压Vc之方向上，控制偏压电压产生部20所发生之电压Vb’即可。亦即，将身为正电压之管电流遮断阴极电压Vc，和身为负电压之偏压电压产生部20所产生之电压Vb’加以合成，再将其间之差，加至阴极电极15作为偏压电压Vb(＝Vc-Vb’)，而来控制管电流。

因此，可以将控制管电流所需要之偏压电压产生部20之发生电压Vb’设定成例如0～30V之范围。藉由如此狭窄范围之发生电压Vb’，将可以充分地控制管电流。是以，可以简单化偏压电压产生部20之构造与控制。进一步，即使偏压电压产生部20发生故障，由于在阴极电极15上受施加有来自分压部31之管电流遮断阴极电压Vc，因而将可以防止因过大管电流产生而使阳极靶材14熔化之事故发生。

在此，就改变聚焦电压Vf下之管电流，以及偏压电压产生部20之发生电压Vb’间之关系，参照图4作说明。图4之纵轴为管电流[μA]，横轴为偏压电压产生部20之发生电压Vb’[V]，符号V1表聚焦电压Vf为400V下之情形，符号V2表聚焦电压为1000V之情形。像这样，即使偏压电压产生部20之发生电压Vb’之范围在例如0～30V之狭窄范围，亦可以将管电流控制至必要范围。

根据上述第二实施例之X光产生装置，由于系以分压部31来对管电压Vt进行分压，而产生聚焦电压Vf，因而将可以使电压变动对于电子束之焦点形成所造成之影响减到最少。又，由于系以分压部31所产生之管电流遮断阴极电压Vc，和偏压电压产生部20之发生电压Vb’间之差，来作为偏压电压Vb而施加至阴极电极15，因而可以简化偏压电压产生部20之构造与控制。

此外，即使偏压电压产生部20发生故障，由于在阴极电极15上受施加有一来自分压部31之管电流遮断阴极电压Vc，因而可以防止因过大管电流所致X光管10之特性劣化或破坏。亦即，将可以大幅提高X光产生装置之可靠度或安全性。又，在本实施例中，虽系就栅极电极17设定成接地电位G之情形作说明，但若将阳极靶材14设定成接地电位，亦可以相同地动作。

其次，就本发明之第三实施例所成之X光产生装置，参照图5作说明。图5显示一根据本发明之第三实施例而成之X光产生装置之构造。又，在图5中，和图1与图2相对应之部分赋予相同符号，并部分省略重复之说明。

第三实施例之X光产生装置中之阳极靶材14，亦即阳极12系接地G的。而且，设有一用以产生一供应给微聚焦X光管10之电源电压的高电压产生部22，以及一用以控制该高电压产生部22之控制部30等，且高电压产生部22系被容纳于一例如绝缘物中。分压部31之动作和前述第二实施例一样。

在本第三实施例中，管电压产生部19所产生之负电压被施加至栅极电极17上。且管电压产生部19之输出电压由管电压检测部32所检测出。管电压检测部32所检测出之管电压值V1，和所设定之管电压设定值V0，会在管电压比较部33中被比较。所比较得之资料被送至管电压控制部34，再由管电压控制部34来控制管电压产生部19，使管电压值V1和管电压设定值V0相等。

又，阴极电极15和阳极靶材14间所流之管电流I1会为管电流检测部35所检测出。由管电流检测部35所检测出之管电流值I1会和所设定之管电流设定值I0在管电流比较部36中被比较。比较得之资料被送至偏压电压控制部37，再由偏压电压控制部37来控制偏压电压产生部20，而使管电流值I1和管电流设定值I0相等。加热器电压产生部21为加热器电压控制部38所控制。

在具有上述构造之X光产生装置中，藉由加热器16之加热，阴极电极15将会放出电子e，而使管电流产生。由阴极电极15所放出之电子束e会因栅极电极17，而使管电流受到控制，并为聚焦电极18所集束，而撞击于阳极靶材14上，再由阳极靶材14向箭号Y方向放出X光。

根据上述第三实施例所揭X光产生装置，即使阳极靶材14之电压因脉动而变化，仍可以将最佳之聚焦电压施加至聚焦电极18上。藉此，将可以在阳极靶材14上，再现性良好地形成电子束之微小焦点。又，和前述第二实施例一样，可以缩小偏压电压之控制范围，并能以简单之控制电路，来稳定地控制高解析度之管电流。

其次，就本发明之第四实施例所成之X光产生装置，参照图6作说明。图6显示一根据本发明之第四实施例而成之X光产生装置之构造。又，在图6中，和图1与图2相对应之部分赋予相同符号，并部分省略重复之说明。

本第四实施例之X光产生装置之栅极电极17系设成接地电位G。阳极靶材14和接地电位G之间连接有可变更输出之管电压产生部19。阳极靶材14被施加一相对于栅极电极17为正的管电压Vt。在聚焦电极18与接地电位G之间，连接有可变更输出之聚焦电压产生部23，聚焦电极18并被施加一相对于栅极电极17为正的聚焦电压Vf。偏压电压产生部20被连接于阴极电极15和接地电位G之间，俾施加一负电压(输出电压Vb’(图中未示))至阴极电极15上。

聚焦电压产生部23之两端并联连接有一分压部41。该分压部41系由二个电阻R₂₁、R₂₂所构成。此两电阻R₂₁、R₂₂串联连接，且例如由聚焦电压Vf23之高电位侧，依序成为第一电阻R₂₁和第二电阻R₂₂。而且，分压部41中之第一电阻R₂₁与第二电阻R₂₂间之连接点b，透过偏压电压产生部20，而被连接至阴极电极15。

亦即，分压部41系根据第一电阻R₂₁和第二电阻R₂₂，而对聚焦电压Vf进行分压，并在第二电阻R₂₂两端，产生一相对于栅极电极17使阴极电极15成为正电压的阴极电压Vc(图中未示)。生成于该第二电阻R₂₂两端之阴极电压Vc会与偏压电压产生部20之输出电压Vb’相合成。由于第一电阻R₂₁和第二电阻R₂₂之连接点b被连接至偏压电压产生部20之正端子，因而阴极电极15上所被供应的，应是第二电阻两端电压(阴极电压)Vc和偏压电压产生部20之输出电压Vb’间之差压。

在本第四实施例之X光产生装置中，和前述第二实施例一样，系将生成于第二电阻R₂₂两端之阴极电压Vc，设定成当和其相同大小之电压被施加于阴极电极15与栅极电极17间时不会有管电流产生之大小。在阴极电极15上，被施加一作为偏压电压Vb之由管电流遮断阴极电压(正电压)Vc和偏压电压产生部20之发生电压(负电压)Vb’间所产生之差压(Vc-Vb’)，而由该偏压电压Vb(＝Vc-Vb’)来控制管电流。

像这样，根据第四实施例之X光产生装置，和第二实施例一样，可以缩小该控制管电流所需之偏压电压产生部20之调整范围。藉此，并可以简化偏压电压产生部20之构造与控制。进一步，即使偏压电压产生部20发生故障，在阴极电极15上，由于受施加有一来自分压部31之管电流遮断阴极电压Vc，将可以防止一因过大管电流所致之X光管的特性劣化或破坏。亦即，可以大幅地提高X光产生装置之可靠度与安全性。

又，在本实施例中虽系就一将栅极电极17设定成接地电位G之情形作说明，但即使例如将阳极靶材14设定成接地电位，亦有相同之动作。

[产业上之可利用性]

根据本发明之X光产生装置，将可以抑制电压变动所对于电子束之焦点形成所造成之影响。是以，可以再现性良好地在阳极靶材上，形成电子束之微小焦点。进一步，可以提高X光产生装置之可靠度与安全性。像本发明这样的X光产生装置可以有效地被利用于医疗用或工业用诊断装置等。

Claims (10)

1.一种X光产生装置，其特征在于，具有：

一阴极电极，用以产生电子束；

一栅极电极，用以控制该阴极电极所发生之该电子束流；

一聚焦电极，用以使该电子束集束；

一阳极靶材，用以藉由该聚焦电极所集束得之该电子束之撞击，而放出X光；

一偏压电压产生部，用以产生一供施加至该阴极电极与该栅极电极间之偏压电压；

一管电压产生部，用以产生一供施加至该阳极靶材之管电压；以及

一分压部，用以对该管电压进行分压而产生聚焦电压，再将该聚焦电压施加至该聚焦电极。

2.如权利要求1所述的X光产生装置，其特征在于，以该分压部对该聚焦电压进行分压而产生阴极电压，且将该阴极电压，与该由该偏压电压产生部所产生之偏压电压相合成。

3.如权利要求2所述的X光产生装置，其特征在于，由该分压部所产生之该阴极电压之大小，被设定成当和其相同大小之电压被施加至该阴极电极与该栅极电极之间时，不会有管电流产生。

4.如权利要求1所述的X光产生装置，其特征在于，该分压部系相对于该管电压产生部呈并联连接。

5.如权利要求2所述的X光产生装置，其特征在于，该分压部系由第一电阻、第二电阻、以及第三电阻，由该管电压产生部之高电位侧，依序串接而成，且该第一电阻与该第二电阻间之连接点被连接至聚焦电极，而该第二电阻与该第三电阻间之连接点则被连接至偏压电压产生部。

6.一种X光产生装置，其特征在于，具有：

一X光管，其具有：

一阴极电极，用以产生电子束；

一栅极电极，用以控制该阴极电极所发生之该电子束流；

一聚焦电极，用以使该电子束集束；及

一阳极靶材，用以藉由该聚焦电极所集束得之该电子束之撞击，而放出X光；

一偏压电压产生部，用以产生一供施加至该阴极电极与该栅极电极间之偏压电压；

一偏压电压控制部，用以检测出该X光管中所流之管电流，再将检测出之该管电流与一基准值相比较，以控制一由该偏压电压产生部所生成之偏压电压；

一管电压产生部，用以产生一供施加至该阳极靶材之管电压；

一管电压控制部，用以检测出该管电压产生部所产生之管电压，再将检测出之该管电压与一基准值相比较，以控制该管电压；以及

一分压部，用以对该管电压进行分压而产生聚焦电压，并将该聚焦电压施加至该聚焦电极。

7.如权利要求6所述的X光产生装置，其特征在于，以该分压部对该聚焦电压进行分压而产生阴极电压，且将该阴极电压，与该由该偏压电压产生部所产生之偏压电压相合成。

8.如权利要求7所述的X光产生装置，其特征在于，由该分压部所产生之该阴极电压之大小，被设定成当和其相同大小之电压被施加至该阴极电极与该栅极电极之间时，不会有管电流产生。

9.一种X光产生装置，其特征在于，包含：

一阴极电极，用以产生电子束；

一栅极电极，用以控制该阴极电极所发生之该电子束流；

一聚焦电极，用以使该电子束集束；

一阳极靶材，用以藉由该聚焦电极所集束得之该电子束之撞击，而放出X光；

一管电压产生部，用以产生一供施加至该阳极靶材之管电压；

一聚焦电压产生部，用以产生一供施加至该聚焦电极之聚焦电压；

一偏压电压产生部，用以产生一供施加至该阴极电极与该栅极电极间之偏压电压；以及

一分压部，用以对该聚焦电压进行分压而产生阴极电压，再将该阴极电压与该偏压电压合成后，施加至该阴极电极。

10.如权利要求9所述的X光产生装置，其特征在于，由该分压部所产生之该阴极电压之大小，被设定成当和其相同大小之电压被施加至该阴极电极与该栅极电极之间时，不会有管电流产生。

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