CN1235798C - 三元混合阳离子、非离子和阴离子表面活性剂为模板剂制备mcm-48中孔分子筛方法 - Google Patents

三元混合阳离子、非离子和阴离子表面活性剂为模板剂制备mcm-48中孔分子筛方法 Download PDF

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Abstract

本发明以十六烷基三甲基溴化胺(CTAB,阳离子表面活性剂)、聚乙二醇辛基苯基醚(OP-10,非离子表面活性剂)和十二烷基羧酸钠(SL,阴离子表面活性剂)的三元混合水溶液为模板剂,以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,在极低的CTAB/SiO2摩尔比和极低的总表面活性剂浓度下制备高规整度、高比表面和高质量的硅基MCM-48中孔分子筛。现有技术存在反应要求高、操作繁琐、污染环境、成本高等诸多不足。本发明以三元混合阳离子、非离子和阴离子表面活性剂为模板剂制备MCM-48中孔分子筛,在三元混合物中加入碱源、硅源,晶化后烘干、焙烧即可。本方法成本低,操作简便且环境友好,非常有利于大规模生产和满足实际应用的需要。

Description

三元混合阳离子、非离子和阴离子表面活性剂为模板剂制备MCM-48 中孔分子筛方法
技术领域
本发明利用十六烷基三甲基溴化胺(CTAB,阳离子表面活性剂)、聚乙二醇辛基苯基醚(OP-10,非离子表面活性剂)和十二烷基羧酸钠(SL,阴离子表面活性剂)的三元混合水溶液为模板剂,以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,制备硅基MCM-48中孔分子筛。
背景技术
MCM-48是九十年代初出现的一类新型无机多孔材料M41S系列中的一员,它的Ia3d结构比六方相、一维孔道***的MCM-41的p6m结构具有更高的结构对称性。同时MCM-48拥有两条相互独立的三维孔道***,能减少堵孔,大大减少扩散限制,从而更利于物料的传输,因而在大分子吸附、分离和催化应用上以及在功能高分子复合物的组装、微器件、化学传感、非线性光学材料和纳米材料的制备等众多领域具有广阔的应用前景。因此,MCM-48引起了人们越来越多的关注。但是,在通常情况下,使用单一的季铵盐型阳离子表面活性剂合成MCM-48的条件比较苛刻、相区比较窄且模板剂用量较大(CTAB/SiO2=0.65),不利于大规模生产和应用,所以人们尝试利用其它路线来合成MCM-48。
Stucky等以两种二价阳离子表面活性剂C16-12-16和C16-3-1为混合模板剂成功合成了MCM-48。但以上两种二价阳离子表面活性剂远未投入商业化。随后,陈逢喜等利用阳离子表面活性剂CTAB和阴离子表面活性剂十二烷基羧酸钠(SL)为混合模板在较低表面活性剂/SiO2(0.168∶1)条件下也合成了MCM-48。以此方法合成出的MCM-48平均孔径较大,骨架壁较薄。颜学武等以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,在中性胺十二胺(DDA)与CTAB混合体系中合成了水热稳定性较高的MCM-48。但是该合成路线中中性胺对环境有污染。Ryoo等利用混合阳离子表面活性剂CTAB和非离子表面活性剂C12(EO)3合成了水热稳定性较好的MCM-48,但其合成过程需多次调整pH或加入盐类,操作比较繁琐,且硅源要自己制备。赵伟等以水玻璃为硅源,用可生物降解的非离子表面活性剂OP-10与CTAB混合体系合成了高热和水热稳定性的MCM-48,降低CTAB/SiO2的摩尔比至0.12,总表面活性剂浓度减至4.0wt%。但配料范围比较窄。以上这些工作极大地改进了MCM-48的合成问题。但是进一步降低CTAB/SiO2比,寻求成本更低廉、环境更友好的合成方法仍然是大规模生产和实际应用之所需。
发明内容
本发明的目的是寻求一种成本低、操作简便且环境友好的方法来制备MCM-48中孔分子筛,以满足大规模生产和应用的需要。
该方法的合成步骤如下:将一定量聚乙二醇辛基苯基醚、十六烷基三甲基溴化铵和十二烷基羧酸钠分别溶于适量去离子水中,混合搅拌,然后加入一定量的NaOH溶液,在20~40℃下搅拌均匀后,滴加硅源正硅酸乙酯,将该混合物继续搅拌1~1.5h形成具有一定摩尔组成的混合物,然后移入带有聚四氟乙烯内衬的不锈钢反应釜中于80~130℃晶化3~6天。产物取出后冷却,经抽滤、洗涤,烘干,烘干一般在80℃,即得到合成型原粉。将该合成型原粉在氮气流下升温至400~800℃焙烧0.5~3小时,然后在空气中于400~800℃下再焙烧3~8h,得到焙烧型样品。
上述合成中的物料比为:
(1)反应物料摩尔比为:
1.0SiO2∶xCTAB∶yOP-10∶zSL∶0.28Na2O∶58H2O,其中0.03<x<0.12,0.003<y<0.024,0<z<0.01;
(2)CTAB的浓度为1.0~3.0wt%;
(3)总表面活性剂(CTAB+OP-10+SL)的浓度为1.6~4.0wt%;
(4)氢氧化钠溶液的浓度为0.4~1.6mol/L;
本发明的合成条件在下述范围内更好:
(1)CTAB与以SiO2计的硅源的摩尔比0.04~0.1;
(2)CTAB的浓度为1.4~2.4wt%;
(3)氢氧化钠溶液的浓度为0.7~1.2mol/L;
(4)晶化温度是90~120℃,晶化时间是3~5天;
(5)氮气流下升温至500~600℃焙烧1~2h,然后在空气中于500~600℃下焙烧4-6h。
本发明制备的产品可在特别低的(CTAB+OP-10+SL)/SiO2摩尔比(如≈0.05∶1)和特别低的总表面活性剂浓度下(如≈1.74wt%)合成,显著降低CTAB/SiO2的摩尔比,也显著减小CTAB的浓度。由于使用可生物降解的非离子表面活性剂OP-10和污染小的阴离子表面活性剂,大大降低了制备过程中对环境的污染。本方法成本低、操作简便且环境友好,非常有利于大量生产。同时,所合成的MCM-48中孔分子筛具有典型的Ia3d立方结构,表征结果表明用该方法合成的样品具有很高的规整度、孔径分布均一。合成的MCM-48的中孔孔径为2.4nm,孔容为0.9cm3/g,BET表面积为1016m2/g。
附图说明:
本发明所制备的MCM-48具有典型的图1-6的表征结果。
图1是在(CTAB+OP-10+SL)/SiO2=0.07条件下合成的MCM-48中孔分子筛的X光衍射图(XRD),为典型的MCM-48样品的特征XRD图,在(211)、(220)处显示出较强的立方中孔相特征衍射峰,而且(321)、(400)、(420)、(322)、(421)、(431)等强度较弱的代表立方中孔相精细结构的特征衍射峰也清晰可见,显示出样品具有很高的规整度和很高的质量。
图2是焙烧后的MCM-48中孔分子筛样品的XRD图谱,图中显示出典型的立方中孔相的几个特征衍射峰,即(211)、(220)、(321)、(400)、(420)和(322)。
图3是焙烧后的MCM-48样品的特征N2吸附-脱附曲线,插图为相应的孔径分布曲线图。
图4是样品的沿[111]面的特征高分辨透射电镜图(HRTEM)图。
图5是样品的沿[311]面的特征高分辨透射电镜图(HRTEM)图。
图6是MCM-48样品的蚕茧状的扫描电镜图(SEM)。
图7是MCM-48样品的空壳状的扫描电镜图(SEM)。
图8是MCM-48样品的球状的扫描电镜图(SEM)。
具体实施方式
下面通过实例进一步描述本发明的特征,本发明并不局限于下述实例。
实例1和2:
恒定搅拌速度下,将0.03mol十六烷基三甲基溴化铵、0.014mol聚乙二醇辛基苯基醚和0.008mol十二烷基羧酸钠分别溶于适量去离子水中,混合搅拌,然后加入一定量的NaOH溶液,搅拌均匀后,滴加相当于1molSiO2的硅源正硅酸乙酯,将该混合物继续搅拌1小时,然后移入带有聚四氟乙烯内衬的不锈钢反应釜中于100℃或110℃晶化4-4.5天。产物经抽滤、洗涤,80℃下烘干,即得到合成型原粉。将该合成型原粉在氮气流下升温至550℃焙烧一小时,然后在空气中于550℃下再焙烧5h,得到焙烧型样品。典型的XRD图、SEM和TEM照片、N2吸附-脱附等温曲线图见图1~图6。
实例3:
恒定搅拌速度下,将0.024mol聚乙二醇辛基苯基醚、0.03mol十六烷基三甲基溴化铵和0.003mol十二烷基羧酸钠分别溶于适量去离子水中,混合搅拌,然后加入一定量的NaOH溶液,搅拌均匀后,滴加相当于1molSiO2的硅源正硅酸乙酯,将该混合物继续搅拌1~1.5小时,然后移入带有聚四氟乙烯内衬的不锈钢反应釜中于110℃晶化4天。产物经抽滤、洗涤,80℃下烘干,即得到合成型原粉。
实例4:
恒定搅拌速度下,将0.004mol聚乙二醇辛基苯基醚、0.06mol十六烷基三甲基溴化铵和0.006mol十二烷基羧酸钠分别溶于适量去离子水中,混合搅拌,然后加入一定量的NaOH溶液,搅拌均匀后,滴加相当于1molSiO2的硅源正硅酸乙酯,将该混合物继续搅拌1~1.5小时,然后移入带有聚四氟乙烯内衬的不锈钢反应釜中于100℃晶化4天。产物经抽滤、洗涤,80℃下烘干,即得到合成型原粉。
实例5:
将0.003mol聚乙二醇辛基苯基醚、0.04mol十六烷基三甲基溴化铵和0.01mol十二烷基羧酸钠分别溶于适量去离子水中,恒定速度下混合搅拌,然后加入一定量的NaOH溶液,搅拌均匀后,滴加相当于1molSiO2的硅源正硅酸乙酯,将该混合物继续搅拌1~1.5小时,然后将混合物移入带有聚四氟乙烯内衬的不锈钢反应釜中于100℃晶化4.5天。产物经抽滤、洗涤,80℃下烘干,即得到合成型原粉。
实例6:
将0.12mol十六烷基三甲基溴化铵、0.003mol聚乙二醇辛基苯基醚和0.001mol十二烷基羧酸钠按一定摩尔比分别溶于适量去离子水中,恒定速度下混合搅拌,然后加入一定量的NaOH溶液,搅拌均匀后,滴加相当于1molSiO2的硅源正硅酸乙酯,继续搅拌1~1.5小时,然后将混合物移入不锈钢反应釜中,110℃晶化4天,产物经洗涤,过滤后80℃下烘干,即得到合成型MCM-48。此样品先在氮气流中于550℃下焙烧1小时,再在空气中于550℃下再焙烧5h,可得到焙烧型样品MCM-48中孔分子筛。

Claims (6)

1、一种三元混合阳离子、非离子和阴离子表面活性剂为模板剂制备MCM-48中孔分子筛的方法,其特征在于十六烷基三甲基溴化胺CTAB是阳离子表面活性剂,聚乙二醇辛基苯基醚OP-10是非离子表面活性剂,十二烷基羧酸钠SL是阴离子表面活性剂,以三者的混合溶液为模板剂,正硅酸乙酯TEOS为硅源,氢氧化钠溶液作为碱源,制备得MCM-48中孔分子筛;将CTAB、OP-10和SL分别溶于去离子水中搅拌混合,加入氢氧化钠溶液,在20-40℃下搅拌均匀后滴加TEOS,将该混合物继续搅拌1-1.5小时成均匀混合物,将此混合物移入反应釜中,在80~130℃温度下晶化3~6天,取出冷却后抽滤,洗涤,烘干,即得到合成型原粉,将该合成型原粉在氮气流下升温至400~800℃焙烧0.5~3小时,然后在空气中于400~800℃下再焙烧3~8小时,得到焙烧型样品;
各种物料比如下:
(1)反应物料摩尔比为:
1.0SiO2∶xCTAB∶yOP-10∶zSL∶0.28Na2O∶58H2O,其中0.03<x<0.12,
0.003<y<0.024,0<z<0.01;
(2)CTAB的浓度为1.0~3.0wt%;
(3)总表面活性剂CTAB+OP-10+SL的浓度为1.6~4.0wt%;
(4)氢氧化钠溶液的浓度为0.4~1.6mol/L。
2.根据权利要求1所述的三元混合阳离子、非离子和阴离子表面活性剂为模板剂制备MCM-48中孔分子筛的方法,其特征在于CTAB和以SiO2计的硅源的摩尔比为0.04~0.1。
3、根据权利要求1所述的三元混合阳离子、非离子和阴离子表面活性剂为模板剂制备MCM-48中孔分子筛的方法,其特征在于CTAB的浓度为1.4~2.4wt%。
4、根据权利要求1所述的三元混合阳离子、非离子和阴离子表面活性剂为模板剂制备MCM-48中孔分子筛的方法,其特征在于氢氧化钠溶液的浓度在0.7~1.2mol/L之间。
5.根据权利要求1所述的三元混合阳离子、非离子和阴离子表面活性剂为模板剂制备MCM-48中孔分子筛的方法,其特征在于晶化温度是90~120℃,晶化时间是3~5天。
6.根据权利要求1所述的三元混合阳离子、非离子和阴离子表面活性剂为模板剂制备MCM-48中孔分子筛的方法,其特征在于合成型原粉在氮气流下升温至500~600℃焙烧1~2小时,然后在空气中于500~600℃下再焙烧4~6小时进行后处理。
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