CN117626201A - 一种dlc溅射等离子涂层工艺及涂层装置 - Google Patents
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Abstract
本发明属于等离子涂层技术领域,具体的说是一种DLC溅射等离子涂层工艺及涂层装置,包括真空室,所述真空室顶端安装有固定架,所述固定架的底端固接有喷射组件,所述喷射组件包括喷射源、靶材,所述真空室的内部且位于喷射组件的下方转动连接有转动架,所述转动架通过外部伺服电机驱动,所述转动架的外部均匀开设有多个安装槽,所述安装槽外部设置有弹性限位框架,所述转动架的内部插接有连接架,所述连接架的内部固接有多个偏压电极,多个所述偏压电极与安装槽一一对应;通过供电组件的设计,使得转动架内部的其他的偏压电极不需要时刻供电,实现了仅对待加工的工件进行通电镀覆的效果,达到了节省能源的目的。
Description
技术领域
本发明属于等离子涂层技术领域,具体的说是一种DLC溅射等离子涂层工艺及涂层装置。
背景技术
DLC是Diamond-LikeCarbon的缩写,翻译成中文是“类金刚石碳”,DLC涂层是PVD电镀处理过程中使用的多种涂层材料之一,DLC真空镀膜具有高硬度、高电阻率、良好光学性能等优点,从而得到了广泛的应用。
PVD是一种现代化的电镀技术,而磁控溅射是PVD技术的一种,具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,磁控溅射技术是指通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
目前现有技术中,通过磁控溅射技术进行DLC镀膜时,往往是采用滚筒式,即将基片安装在一个滚筒上,利用滚筒旋转使基片跟随滚筒旋转循环经过靶材从而给基片镀膜,这就需要一直利用直流电源给滚筒内部供电形成偏压***,即需要一直给不处于镀膜工作区间内的工件进行供电,这对于企业能源而言是一种较大的损耗。
为此,本发明提供一种DLC溅射等离子涂层工艺及涂层装置。
发明内容
为了弥补现有技术的不足,解决背景技术中所提出的至少一个技术问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:本发明所述的一种DLC溅射等离子涂层装置,包括真空室,所述真空室顶端安装有固定架,所述固定架的底端固接有喷射组件,所述喷射组件包括喷射源、靶材,所述真空室的内部且位于喷射组件的下方转动连接有转动架,所述转动架通过外部伺服电机驱动,所述转动架的外部均匀开设有多个安装槽,所述安装槽外部设置有弹性限位框架,所述转动架的内部插接有连接架,所述连接架的内部固接有多个偏压电极,多个所述偏压电极与安装槽一一对应,所述喷射组件与偏压电极相对时可以产生负偏压进而能够在待镀工件表面镀上一层致密的膜层,所述转动架内部设置有供电组件,所述供电组件用以向只正对于喷射组件的安装槽所对应的偏压电极供电。
优选的,所述供电组件包括限位杆,所述限位杆插接在连接架的内部并与连接架转动连接,所述限位杆的内部且位于喷射组件的正下方滑动连接有导动杆,所述导动杆顶端固接有导电板,所述限位杆的内部插接有供电芯,所述供电芯远离转动架的一端安装有插电座,所述限位杆的内部且位于真空室与供电芯之间开设有安装槽,所述导动杆外部且位于安装槽内部固接有复位弹簧,所述导动杆与供电芯之间固接有导线,所述导线与导电板连通,所述导线的长度为过盈设置,所述连接架的内部开设有多个与偏压电极一一对应的卡槽,所述卡槽与导电板相适配,所述卡槽内部安装有与偏压电极连通的导电块,所述导电板与卡槽的两侧均开设有倒角。
优选的,所述连接架的内壁且位于多个所述卡槽之间安装有清洁棉,所述清洁棉的长度与导电板的长度相适配。
优选的,所述真空室的内部且位于转动架的下方安装有翻板机构,所述翻板机构用以将镀覆好一面涂层的产品进行翻面,实现双面镀覆。
优选的,所述翻板机构包括接板机构与旋转机构,所述接板结构用以将镀覆好一面涂层的产品送至旋转机构上,所述旋转机构包括限位架,所述限位架两侧与真空室的内壁之间均通过连杆转动连接,所述转动架远离插电座的一侧外部固接有主动轮,所述主动轮底部啮合有从动轮,所述从动轮与连杆固定连接,所述限位架两侧均开设有通槽,所述限位架四角处均安装有限位组件,所述限位组件用以在旋转机构进行翻板作业时防止工件掉落,所述真空室的内部且位于限位架的正下方固接有顶推架,所述顶推架包括气缸与安装在气缸上的托盘。
优选的,所述接板机构包括一对弧形支撑杆,所述弧形支撑杆顶面固接有吸盘,所述弧形支撑杆底端滑动连接有弧形液压座,所述接板机构还包括安装在转动架内部的多个电动顶推杆,多个所述电动顶推杆与安装槽一一对应,一对所述弧形支撑杆外部均设置有平移组件,所述平移组件用以将工件推送至旋转机构内部。
优选的,所述平移组件包括安装座,所述安装座靠近限位架的一侧固接有电导轨,所述电导轨内部滑动连接有电滑块,所述电滑块顶部固接有平移推板,所述电导轨两侧均设置有导向轨,所述导向轨内部转动连接有多个导向轮,所述导向轨一端与安装座固接。
优选的,所述导向轨远离电导轨的一侧设置有导向架,所述导向架与真空室内壁底面之间固接有支撑杆。
优选的,所述限位组件包括控制盒,所述控制盒与限位架之间固接有水平电推板与竖直电推板。
一种DLC溅射等离子涂层工艺,该等离子涂层工艺采用上述任意一项所述的一种DLC溅射等离子涂层装置进行涂层作业,该工艺包括以下步骤:
S1、将待加工的工件依次放置在安装槽内部,并通过弹性限位框架对其进行限位;
S2、转动架转动,将工件送到喷射组件的正下方;
S3、供电组件运行,向位于喷射组件正下方的偏压电极供电,此时喷射组件与偏压电极相对;
S4、喷射组件与偏压电极之间产生负偏压,在待镀工件表面镀上一层致密的膜层,完成涂层镀覆;
S5、转动架再次转动重复上述步骤,直至所有工件完成镀覆。
本发明的有益效果如下:
1.本发明所述的一种DLC溅射等离子涂层工艺及涂层装置,通过供电组件的设计,使得转动架内部的其他的偏压电极不需要时刻供电,实现了仅对待加工的工件进行通电镀覆的效果,达到了节省能源的目的。
2.本发明所述的一种DLC溅射等离子涂层工艺及涂层装置,通过连接架与限位杆转动连接的方式,使得连接架在转动的过程中限位杆并不会随之转动,并且通过在喷射组件设置导电板,从而实现了对于加工件的专项供电效果。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步说明。
图1是本发明的立体图;
图2是本发明中真空室结构剖视图;
图3是本发明中转动架结构示意图;
图4是本发明中转动架结剖视图;
图5是本发明图4中A处局部放大图;
图6是本发明中转动架结构又一视角示意图;
图7是本发明中弧形支撑杆结构示意图;
图8是本发明中限位架结构示意图;
图9是本发明工艺流程图。
图中:1、真空室;2、固定架;3、喷射组件;4、转动架;5、连接架;6、限位杆;7、插电座;8、供电芯;9、导电板;10、偏压电极;11、导动杆;12、复位弹簧;13、导线;14、清洁棉;15、弹性限位框架;16、主动轮;17、从动轮;18、限位架;19、控制盒;20、水平电推板;21、竖直电推板;22、顶推架;23、吸盘;24、弧形支撑杆;25、弧形液压座;26、安装座;27、电导轨;28、平移推板;29、连杆;30、导向轨;31、导向轮;32、导向架;33、电动顶推杆。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。
如图1至图3所示,本发明实施例所述的一种DLC溅射等离子涂层工艺及涂层装置,包括真空室1,所述真空室1顶端安装有固定架2,所述固定架2的底端固接有喷射组件3,所述喷射组件3包括喷射源、靶材,所述真空室1的内部且位于喷射组件3的下方转动连接有转动架4,所述转动架4通过外部伺服电机驱动,所述转动架4的外部均匀开设有多个安装槽,所述安装槽外部设置有弹性限位框架15,所述转动架4的内部插接有连接架5,所述连接架5的内部固接有多个偏压电极10,多个所述偏压电极10与安装槽一一对应,所述喷射组件3与偏压电极10相对时可以产生负偏压进而能够在待镀工件表面镀上一层致密的膜层,所述转动架4内部设置有供电组件,所述供电组件用以向只正对于喷射组件3的安装槽所对应的偏压电极10供电;工作时,需要说明的是,真空室1的内部连通有外部的真空泵,用以对真空室1的内部抽真空处理,在具体使用时,先将真空室1待加工的工件依次放置在安装槽内部,并通过弹性限位框架15对其进行限位,需要说明的是,弹性限位框架15为橡胶材质,其尺寸需要略小于待加工工件的大小,其具体在设计时需要保证工件在随着转动架4转动的过程中所提供的摩擦力,足以支撑工件不掉落即可,而后转动架4便开始转动,依次将工件送到喷射组件3的正下方,此时转动架4内部的供电组件开始运行,从而向位于喷射组件3正下方的偏压电极10供电,进而使得喷射组件3与偏压电极10之间产生负偏压,从而实现涂层镀覆,通过供电组件的设计,使得转动架4内部的其他的偏压电极10不需要时刻供电,实现了仅对待加工的工件进行通电镀覆的效果,达到了节省能源的目的。
如图2至图5所示,所述供电组件包括限位杆6,所述限位杆6插接在连接架5的内部并与连接架5转动连接,所述限位杆6的内部且位于喷射组件3的正下方滑动连接有导动杆11,所述导动杆11顶端固接有导电板9,所述限位杆6的内部插接有供电芯8,所述供电芯8远离转动架4的一端安装有插电座7,所述限位杆6的内部且位于真空室1与供电芯8之间开设有安装槽,所述导动杆11外部且位于安装槽内部固接有复位弹簧12,所述导动杆11与供电芯8之间固接有导线13,所述导线13与导电板9连通,所述导线13的长度为过盈设置,所述连接架5的内部开设有多个与偏压电极10一一对应的卡槽,所述卡槽与导电板9相适配,所述卡槽内部安装有与偏压电极10连通的导电块,所述导电板9与卡槽的两侧均开设有倒角;
工作时,旋转式的镀覆装置,其采用对旋转机构整体供电的原因主要是为了便于电路的走线,若是单独对每个镀覆区域供电,则供电线路极易因旋转发生缠绕,而本发明实施例,采用连接架5与限位杆6转动连接的方式,使得连接架5在转动的过程中限位杆6并不会随之转动,并且连接架5在转动的过程中会其内部的卡槽转动,当待加工的偏压电极10转动至喷射组件3的正下方时,此时的卡槽恰好位于导动杆11的正上方,通过提前设置复位弹簧12的弹性势能,使其初始状态下处于蓄能状态,这时的复位弹簧12便会复位从而将导动杆11顶出限位杆6,进而带动导电板9与卡槽内部导电块相接触,从而使得位于喷射组件3正下方的偏压电极10通电,而其他部位的偏压电极10由于没有设置导电板9,从而无法通电,以此实现了对于单个偏压电极10通电的效果,并且通过在限位杆6的内部设置供电芯8,通过供电芯8端部的插电座7连接外部电源进行供电,使得电力的供应更加稳定,在供电的过程中也不需要导电板9发生转动,同时通过导电板9与卡槽两侧倒角的设置,使得在加工完成后,连接架5带动卡槽转动时导电板9与卡槽可以更加的容易分离,从便于供电对象的转换,同时导线13的长度过盈设置,可以有效的防止导动杆11在上下往复运动的过程中过度牵扯导线13,将导线13损坏使得供电出现问题,提高了设备的稳定性。
如图5所示,所述连接架5的内壁且位于多个所述卡槽之间安装有清洁棉14,所述清洁棉14的长度与导电板9的长度相适配;工作时,在连接架5转动的过程中,其内部的清洁棉14也会随之转动,清洁棉14在转动的过程中会对导电板9的表面进行清洁,从而减少导电板9与导电柱之间出现接触不良的情况,提高设备运行的稳定性。
如图1至图8所示,所述真空室1的内部且位于转动架4的下方安装有翻板机构,所述翻板机构用以将镀覆好一面涂层的产品进行翻面,实现双面镀覆;工作时,工件往往都需要双面镀覆,传统的镀覆设备在镀覆一面后,需要停机将工件取出翻面后再次镀覆,此行为费时费力的同时,还需要对真空室1的内部进行二次抽真空,对能源损耗较大,本发明实施例通过采用翻板机构的设置,可以实现不需停机即可在真空室1的内部对工件进行翻面处理,达到一次开机双面镀覆的效果。
如图6至图7所示,所述翻板机构包括接板机构与旋转机构,所述接板结构用以将镀覆好一面涂层的产品送至旋转机构上,所述旋转机构包括限位架18,所述限位架18两侧与真空室1的内壁之间均通过连杆29转动连接,所述转动架4远离插电座7的一侧外部固接有主动轮16,所述主动轮16底部啮合有从动轮17,所述从动轮17与连杆29固定连接,所述限位架18两侧均开设有通槽,所述限位架18四角处均安装有限位组件,所述限位组件用以在旋转机构进行翻板作业时防止工件掉落,所述真空室1的内部且位于限位架18的正下方固接有顶推架22,所述顶推架22包括气缸与安装在气缸上的托盘;
工作时,需要说明的是,本发明实施例中的安装槽可以根据需求开设多个,实施例中以六个为例,在具体镀覆时,伺服电机控制转动架4每次转动六分之一圈,实现对于工件的切换,当第一块工件镀覆完成后并转动了三分之一圈时,此时翻板机构运行,首先,接板结构将该工件送至限位架18的内部,而后限位组件对限位架18进行限位,以上过程与工件的镀覆过程同步进行,并在工件镀覆结束前完成,在新的工件镀覆完成后,此时伺服电机会控制转动架4再次转动六分之一圈,在此过程中主动轮16会同时带动从动轮17进行转动,通过设置主动轮16与从动轮17的大小,使得主动轮16在转动六分之一圈时从动轮17恰好会转动一圈,故此时的从动轮17会带动连杆29转动,连杆29转动进而带动限位架18转动,即此时的限位架18带动工件转动一圈,从而将镀覆好的一面向上,此时,空的安装槽也恰好处于限位架18的正上方,这时限位组件不再对工件限位,同时顶推架22运动,气缸推动托盘带动工件运动,并将其推入安装槽内部并由弹性限位框架15限位,这样未镀覆的一面便会朝向远离转动架4的一侧,在此过程中,接板机构同步运行,如此循环,便可完成对于工件的翻面,重复以上步骤,直至所有工件完成双面镀覆,如此便达到了一次开机所有工件双面镀覆的效果,需要说明的是,可以根据实际安装槽的数量来调整各个结构件之间的参数达到上述效果。
如图6至图7所示,所述接板机构包括一对弧形支撑杆24,所述弧形支撑杆24顶面固接有吸盘23,所述弧形支撑杆24底端滑动连接有弧形液压座25,所述接板机构还包括安装在转动架4内部的多个电动顶推杆33,多个所述电动顶推杆33与安装槽一一对应,一对所述弧形支撑杆24外部均设置有平移组件,所述平移组件用以将工件推送至旋转机构内部;
工作时,在需要将镀覆一面的工件自转动架4上脱离时,首先电动顶推杆33运行,从而将工件自转动架4的内部推出,需要说明的是,电动顶推杆33的设置位置需要视吸盘23的倾斜角度而定,即电动顶推杆33不应设置在安装槽的中心位置处,这样电动顶推杆33在推出工件时,工件会受到一个倾斜的力,而工件的底部会在弹性限位框架15的限位下无法脱离,故此时工件会以一个倾斜的姿态自转动架4的内部脱离,应该确保的是,调整电动顶推杆33的位置使得这个倾斜的姿态与吸盘23的倾角相适配,从而使得吸盘23可以稳稳的与工件接触,并将工件吸附,而后在工件自重的作用下,吸盘23会带动弧形支撑杆24对弧形液压座25进行挤压,从而弧形支撑杆24会缩入弧形液压座25的内部并,在此过程中吸盘23会带动工件落到平移组件上,工件最终会由平移组件推送至旋转机构内部,而通过上述设置,可以达到自动将镀覆一面的工件自转动架4的内部剥离的效果。
如图6至图7所示,所述平移组件包括安装座26,所述安装座26靠近限位架18的一侧固接有电导轨27,所述电导轨27内部滑动连接有电滑块,所述电滑块顶部固接有平移推板28,所述电导轨27两侧均设置有导向轨30,所述导向轨30内部转动连接有多个导向轮31,所述导向轨30一端与安装座26固接;
工作时,当工件落到平移组件上时,会被电导轨27、导向轨30所支撑,此时启动电滑块,使其运行带动平移推板28沿着电导轨27运动,平移推板28运动从而会与工件接触,并推动工件与吸盘23分离后滑动,直至吸盘23自限位架18侧部的通槽滑动入限位架18的内部,从而进行下一步的翻板作业,而导向轮31的设计,可以便于工件的滑动,需要说明的是,安装座26、导向轨30的设计不应与限位架18接触,应与限位架18之间留有足够限位架18翻转的间隙,同时安装座26、导向轨30的顶面应当与限位架18通槽的底面相适配,以确保工件可以滑入到限位架18的内部。
如图6至图7所示,所述导向轨30远离电导轨27的一侧设置有导向架32,所述导向架32与真空室1内壁底面之间固接有支撑杆;工作时,通过在导向轨30两侧设置导向架32,可以对工件的滑动起到导向的作用,通过调整导向架32的形状,使其末端的形状与限位架18通槽的形状相适配,从而达到了便于工件滑入限位架18内部的效果。
如图8所示,所述限位组件包括控制盒19,所述控制盒19与限位架18之间固接有水平电推板20与竖直电推板21;工作时,通过设置水平电推板20与竖直电推板21,在工件进入到限位架18内部的过程中,位于底部的水平电推板20、远离平移组件一侧的竖直电推板21同步伸出,对工件进行支撑与限位,当工件完全进入限位架18内部后,位于顶面的水平电推板20、靠***移组件一侧的竖直电推板21同步伸出,从而将工件锁死,在翻转完成后,位于顶面的水平电推板20先缩回,在顶推架22将工件顶出限位架18内部后,靠***移组件一侧的竖直电推板21缩回,从而便于下一块工件进入限位架18内部,如此便达到了对于工件的限位效果,为工件的翻转提供基础。
如图9所示,一种DLC溅射等离子涂层工艺,该等离子涂层工艺采用上述任意一项所述的一种DLC溅射等离子涂层装置进行涂层作业,该工艺包括以下步骤:
S1、将待加工的工件依次放置在安装槽内部,并通过弹性限位框架15对其进行限位;
S2、转动架4转动,将工件送到喷射组件3的正下方;
S3、供电组件运行,向位于喷射组件3正下方的偏压电极10供电,此时喷射组件3与偏压电极10相对;
S4、喷射组件3与偏压电极10之间产生负偏压,在待镀工件表面镀上一层致密的膜层,完成涂层镀覆;
S5、转动架4再次转动重复上述步骤,直至所有工件完成镀覆。
工作原理:需要说明的是,真空室1的内部连通有外部的真空泵,用以对真空室1的内部抽真空处理,在具体使用时,先将真空室1待加工的工件依次放置在安装槽内部,并通过弹性限位框架15对其进行限位,需要说明的是,弹性限位框架15为橡胶材质,其尺寸需要略小于待加工工件的大小,其具体在设计时需要保证工件在随着转动架4转动的过程中所提供的摩擦力,足以支撑工件不掉落即可,而后转动架4便开始转动,依次将工件送到喷射组件3的正下方,此时转动架4内部的供电组件开始运行,从而向位于喷射组件3正下方的偏压电极10供电,进而使得喷射组件3与偏压电极10之间产生负偏压,从而实现涂层镀覆,通过供电组件的设计,使得转动架4内部的其他的偏压电极10不需要时刻供电,实现了仅对待加工的工件进行通电镀覆的效果,达到了节省能源的目的;
旋转式的镀覆装置,其采用对旋转机构整体供电的原因主要是为了便于电路的走线,若是单独对每个镀覆区域供电,则供电线路极易因旋转发生缠绕,而本发明实施例,采用连接架5与限位杆6转动连接的方式,使得连接架5在转动的过程中限位杆6并不会随之转动,并且连接架5在转动的过程中会其内部的卡槽转动,当待加工的偏压电极10转动至喷射组件3的正下方时,此时的卡槽恰好位于导动杆11的正上方,通过提前设置复位弹簧12的弹性势能,使其初始状态下处于蓄能状态,这时的复位弹簧12便会复位从而将导动杆11顶出限位杆6,进而带动导电板9与卡槽内部导电块相接触,从而使得位于喷射组件3正下方的偏压电极10通电,而其他部位的偏压电极10由于没有设置导电板9,从而无法通电,以此实现了对于单个偏压电极10通电的效果,并且通过在限位杆6的内部设置供电芯8,通过供电芯8端部的插电座7连接外部电源进行供电,使得电力的供应更加稳定,在供电的过程中也不需要导电板9发生转动,同时通过导电板9与卡槽两侧倒角的设置,使得在加工完成后,连接架5带动卡槽转动时导电板9与卡槽可以更加的容易分离,从便于供电对象的转换,同时导线13的长度过盈设置,可以有效的防止导动杆11在上下往复运动的过程中过度牵扯导线13,将导线13损坏使得供电出现问题,提高了设备的稳定性;
在连接架5转动的过程中,其内部的清洁棉14也会随之转动,清洁棉14在转动的过程中会对导电板9的表面进行清洁,从而减少导电板9与导电柱之间出现接触不良的情况,提高设备运行的稳定性;
工件往往都需要双面镀覆,传统的镀覆设备在镀覆一面后,需要停机将工件取出翻面后再次镀覆,此行为费时费力的同时,还需要对真空室1的内部进行二次抽真空,对能源损耗较大,本发明实施例通过采用翻板机构的设置,可以实现不需停机即可在真空室1的内部对工件进行翻面处理,达到一次开机双面镀覆的效果;
需要说明的是,本发明实施例中的安装槽可以根据需求开设多个,实施例中以六个为例,在具体镀覆时,伺服电机控制转动架4每次转动六分之一圈,实现对于工件的切换,当第一块工件镀覆完成后并转动了三分之一圈时,此时翻板机构运行,首先,接板结构将该工件送至限位架18的内部,而后限位组件对限位架18进行限位,以上过程与工件的镀覆过程同步进行,并在工件镀覆结束前完成,在新的工件镀覆完成后,此时伺服电机会控制转动架4再次转动六分之一圈,在此过程中主动轮16会同时带动从动轮17进行转动,通过设置主动轮16与从动轮17的大小,使得主动轮16在转动六分之一圈时从动轮17恰好会转动一圈,故此时的从动轮17会带动连杆29转动,连杆29转动进而带动限位架18转动,即此时的限位架18带动工件转动一圈,从而将镀覆好的一面向上,此时,空的安装槽也恰好处于限位架18的正上方,这时限位组件不再对工件限位,同时顶推架22运动,气缸推动托盘带动工件运动,并将其推入安装槽内部并由弹性限位框架15限位,这样未镀覆的一面便会朝向远离转动架4的一侧,在此过程中,接板机构同步运行,如此循环,便可完成对于工件的翻面,重复以上步骤,直至所有工件完成双面镀覆,如此便达到了一次开机所有工件双面镀覆的效果,需要说明的是,可以根据实际安装槽的数量来调整各个结构件之间的参数达到上述效果;
在需要将镀覆一面的工件自转动架4上脱离时,首先电动顶推杆33运行,从而将工件自转动架4的内部推出,需要说明的是,电动顶推杆33的设置位置需要视吸盘23的倾斜角度而定,即电动顶推杆33不应设置在安装槽的中心位置处,这样电动顶推杆33在推出工件时,工件会受到一个倾斜的力,而工件的底部会在弹性限位框架15的限位下无法脱离,故此时工件会以一个倾斜的姿态自转动架4的内部脱离,应该确保的是,调整电动顶推杆33的位置使得这个倾斜的姿态与吸盘23的倾角相适配,从而使得吸盘23可以稳稳的与工件接触,并将工件吸附,而后在工件自重的作用下,吸盘23会带动弧形支撑杆24对弧形液压座25进行挤压,从而弧形支撑杆24会缩入弧形液压座25的内部并,在此过程中吸盘23会带动工件落到平移组件上,工件最终会由平移组件推送至旋转机构内部,而通过上述设置,可以达到自动将镀覆一面的工件自转动架4的内部剥离的效果;
当工件落到平移组件上时,会被电导轨27、导向轨30所支撑,此时启动电滑块,使其运行带动平移推板28沿着电导轨27运动,平移推板28运动从而会与工件接触,并推动工件与吸盘23分离后滑动,直至吸盘23自限位架18侧部的通槽滑动入限位架18的内部,从而进行下一步的翻板作业,而导向轮31的设计,可以便于工件的滑动,需要说明的是,安装座26、导向轨30的设计不应与限位架18接触,应与限位架18之间留有足够限位架18翻转的间隙,同时安装座26、导向轨30的顶面应当与限位架18通槽的底面相适配,以确保工件可以滑入到限位架18的内部;
通过在导向轨30两侧设置导向架32,可以对工件的滑动起到导向的作用,通过调整导向架32的形状,使其末端的形状与限位架18通槽的形状相适配,从而达到了便于工件滑入限位架18内部的效果;
通过设置水平电推板20与竖直电推板21,在工件进入到限位架18内部的过程中,位于底部的水平电推板20、远离平移组件一侧的竖直电推板21同步伸出,对工件进行支撑与限位,当工件完全进入限位架18内部后,位于顶面的水平电推板20、靠***移组件一侧的竖直电推板21同步伸出,从而将工件锁死,在翻转完成后,位于顶面的水平电推板20先缩回,在顶推架22将工件顶出限位架18内部后,靠***移组件一侧的竖直电推板21缩回,从而便于下一块工件进入限位架18内部,如此便达到了对于工件的限位效果,为工件的翻转提供基础;
需要说明的是,本发明实施例中涉及较多的电控器件,如:水平电推板20、竖直电推板21、电动顶推杆33、电滑块等,以上电控器件均由微电脑进行控制其动作进行,避免相互动作之间发生干扰。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (10)
1.一种DLC溅射等离子涂层装置,其特征在于:包括真空室(1),所述真空室(1)顶端安装有固定架(2),所述固定架(2)的底端固接有喷射组件(3),所述喷射组件(3)包括喷射源、靶材,所述真空室(1)的内部且位于喷射组件(3)的下方转动连接有转动架(4),所述转动架(4)通过外部伺服电机驱动,所述转动架(4)的外部均匀开设有多个安装槽,所述安装槽外部设置有弹性限位框架(15),所述转动架(4)的内部插接有连接架(5),所述连接架(5)的内部固接有多个偏压电极(10),多个所述偏压电极(10)与安装槽一一对应,所述喷射组件(3)与偏压电极(10)相对时可以产生负偏压进而能够在待镀工件表面镀上一层致密的膜层,所述转动架(4)内部设置有供电组件,所述供电组件用以向只正对于喷射组件(3)的安装槽所对应的偏压电极(10)供电。
2.根据权利要求1所述的一种DLC溅射等离子涂层装置,其特征在于:所述供电组件包括限位杆(6),所述限位杆(6)插接在连接架(5)的内部并与连接架(5)转动连接,所述限位杆(6)的内部且位于喷射组件(3)的正下方滑动连接有导动杆(11),所述导动杆(11)顶端固接有导电板(9),所述限位杆(6)的内部插接有供电芯(8),所述供电芯(8)远离转动架(4)的一端安装有插电座(7),所述限位杆(6)的内部且位于真空室(1)与供电芯(8)之间开设有安装槽,所述导动杆(11)外部且位于安装槽内部固接有复位弹簧(12),所述导动杆(11)与供电芯(8)之间固接有导线(13),所述导线(13)与导电板(9)连通,所述导线(13)的长度为过盈设置,所述连接架(5)的内部开设有多个与偏压电极(10)一一对应的卡槽,所述卡槽与导电板(9)相适配,所述卡槽内部安装有与偏压电极(10)连通的导电块,所述导电板(9)与卡槽的两侧均开设有倒角。
3.根据权利要求2所述的一种DLC溅射等离子涂层装置,其特征在于:所述连接架(5)的内壁且位于多个所述卡槽之间安装有清洁棉(14),所述清洁棉(14)的长度与导电板(9)的长度相适配。
4.根据权利要求1所述的一种DLC溅射等离子涂层装置,其特征在于:所述真空室(1)的内部且位于转动架(4)的下方安装有翻板机构,所述翻板机构用以将镀覆好一面涂层的产品进行翻面,实现双面镀覆。
5.根据权利要求4所述的一种DLC溅射等离子涂层装置,其特征在于:所述翻板机构包括接板机构与旋转机构,所述接板结构用以将镀覆好一面涂层的产品送至旋转机构上,所述旋转机构包括限位架(18),所述限位架(18)两侧与真空室(1)的内壁之间均通过连杆(29)转动连接,所述转动架(4)远离插电座(7)的一侧外部固接有主动轮(16),所述主动轮(16)底部啮合有从动轮(17),所述从动轮(17)与连杆(29)固定连接,所述限位架(18)两侧均开设有通槽,所述限位架(18)四角处均安装有限位组件,所述限位组件用以在旋转机构进行翻板作业时防止工件掉落,所述真空室(1)的内部且位于限位架(18)的正下方固接有顶推架(22),所述顶推架(22)包括气缸与安装在气缸上的托盘。
6.根据权利要求5所述的一种DLC溅射等离子涂层装置,其特征在于:所述接板机构包括一对弧形支撑杆(24),所述弧形支撑杆(24)顶面固接有吸盘(23),所述弧形支撑杆(24)底端滑动连接有弧形液压座(25),所述接板机构还包括安装在转动架(4)内部的多个电动顶推杆(33),多个所述电动顶推杆(33)与安装槽一一对应,一对所述弧形支撑杆(24)外部均设置有平移组件,所述平移组件用以将工件推送至旋转机构内部。
7.根据权利要求6所述的一种DLC溅射等离子涂层装置,其特征在于:所述平移组件包括安装座(26),所述安装座(26)靠近限位架(18)的一侧固接有电导轨(27),所述电导轨(27)内部滑动连接有电滑块,所述电滑块顶部固接有平移推板(28),所述电导轨(27)两侧均设置有导向轨(30),所述导向轨(30)内部转动连接有多个导向轮(31),所述导向轨(30)一端与安装座(26)固接。
8.根据权利要求7所述的一种DLC溅射等离子涂层装置,其特征在于:所述导向轨(30)远离电导轨(27)的一侧设置有导向架(32),所述导向架(32)与真空室(1)内壁底面之间固接有支撑杆。
9.根据权利要求5所述的一种DLC溅射等离子涂层装置,其特征在于:所述限位组件包括控制盒(19),所述控制盒(19)与限位架(18)之间固接有水平电推板(20)与竖直电推板(21)。
10.一种DLC溅射等离子涂层工艺,该等离子涂层工艺采用上述权利要求1-9中任意一项所述的一种DLC溅射等离子涂层装置进行涂层作业,其特征在于:该工艺包括以下步骤:
S1、将待加工的工件依次放置在安装槽内部,并通过弹性限位框架(15)对其进行限位;
S2、转动架(4)转动,将工件送到喷射组件(3)的正下方;
S3、供电组件运行,向位于喷射组件(3)正下方的偏压电极(10)供电,此时喷射组件(3)与偏压电极(10)相对;
S4、喷射组件(3)与偏压电极(10)之间产生负偏压,在待镀工件表面镀上一层致密的膜层,完成涂层镀覆;
S5、转动架(4)再次转动重复上述步骤,直至所有工件完成镀覆。
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Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4126530A (en) * | 1977-08-04 | 1978-11-21 | Telic Corporation | Method and apparatus for sputter cleaning and bias sputtering |
JPH1174225A (ja) * | 1997-05-08 | 1999-03-16 | Applied Materials Inc | 高密度プラズマを有する持続セルフスパッタリングリアクタ |
US20110100806A1 (en) * | 2008-06-17 | 2011-05-05 | Shincron Co., Ltd. | Bias sputtering device |
CN202022974U (zh) * | 2011-01-12 | 2011-11-02 | 超晶科技有限公司 | 带过滤屏的阴极弧离子镀装置 |
CN108396295A (zh) * | 2018-02-26 | 2018-08-14 | 温州职业技术学院 | 曲面磁控溅射阴极、闭合磁场涂层磁控溅射设备及其应用方法 |
CN110885966A (zh) * | 2019-11-22 | 2020-03-17 | 维达力实业(深圳)有限公司 | 滚筒式磁控溅射镀膜机 |
CN114107920A (zh) * | 2021-10-15 | 2022-03-01 | 万津实业(赤壁)有限公司 | 溅射镀膜装置 |
CN114622180A (zh) * | 2022-03-11 | 2022-06-14 | 松山湖材料实验室 | 一种多功能等离子体设备及等离子体生成方法 |
CN117089806A (zh) * | 2023-08-22 | 2023-11-21 | 江苏徐工工程机械研究院有限公司 | 镀膜装置及镀膜方法 |
-
2023
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4126530A (en) * | 1977-08-04 | 1978-11-21 | Telic Corporation | Method and apparatus for sputter cleaning and bias sputtering |
JPH1174225A (ja) * | 1997-05-08 | 1999-03-16 | Applied Materials Inc | 高密度プラズマを有する持続セルフスパッタリングリアクタ |
US20110100806A1 (en) * | 2008-06-17 | 2011-05-05 | Shincron Co., Ltd. | Bias sputtering device |
CN202022974U (zh) * | 2011-01-12 | 2011-11-02 | 超晶科技有限公司 | 带过滤屏的阴极弧离子镀装置 |
CN108396295A (zh) * | 2018-02-26 | 2018-08-14 | 温州职业技术学院 | 曲面磁控溅射阴极、闭合磁场涂层磁控溅射设备及其应用方法 |
CN110885966A (zh) * | 2019-11-22 | 2020-03-17 | 维达力实业(深圳)有限公司 | 滚筒式磁控溅射镀膜机 |
CN114107920A (zh) * | 2021-10-15 | 2022-03-01 | 万津实业(赤壁)有限公司 | 溅射镀膜装置 |
CN114622180A (zh) * | 2022-03-11 | 2022-06-14 | 松山湖材料实验室 | 一种多功能等离子体设备及等离子体生成方法 |
CN117089806A (zh) * | 2023-08-22 | 2023-11-21 | 江苏徐工工程机械研究院有限公司 | 镀膜装置及镀膜方法 |
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