CN117616072A - 具有优异的折叠性能的光学膜和包括该光学膜的显示装置 - Google Patents

具有优异的折叠性能的光学膜和包括该光学膜的显示装置 Download PDF

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CN117616072A CN202180100358.XA CN202180100358A CN117616072A CN 117616072 A CN117616072 A CN 117616072A CN 202180100358 A CN202180100358 A CN 202180100358A CN 117616072 A CN117616072 A CN 117616072A
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

本发明提供了:一种光学膜,该光学膜包含聚合物树脂并且黄度指数为3.0以下,折叠性能参数为1.5GPa以下;和包括该光学膜的显示装置。

Description

具有优异的折叠性能的光学膜和包括该光学膜的显示装置
技术领域
本公开涉及一种包含具有优异的折叠后恢复力的聚合物树脂的光学膜和包括该光学膜的显示装置。
背景技术
近来,为了减小显示装置的厚度和重量并且增加其柔韧性的目的,已经考虑使用光学膜代替玻璃作为显示装置的覆盖窗。为了使光学膜能够用作显示装置的覆盖窗,光学膜需要具有优异的光学和机械性能以及卓越的折叠后恢复力。
因此,有必要开发一种表现出优异的光学性能以及卓越的机械性能如不溶性、耐化学性、耐热性、耐辐射性、低温特性和折叠后恢复力的膜。
在光学膜中,聚酰亚胺(PI)类树脂具有优异的不溶性、耐化学性、耐热性、耐辐射性和低温特性,并且用作汽车材料、航空材料、航天器材料、绝缘涂层、绝缘膜、保护膜等。
近来,已经开发了在聚酰亚胺类树脂中加入有酰胺重复单元的聚酰胺-酰亚胺类树脂,并且使用聚酰胺-酰亚胺类树脂制备的膜具有卓越的光学性能和优异的机械性能,如优异的不溶性、耐化学性、耐热性、耐辐射性和低温特性以及折叠后恢复力。
酰胺重复单元可以通过二胺类化合物和二羰基类化合物的聚合来制备。然而,例如,当使用2,2′-双(三氟甲基)联苯胺(TFDB)作为二胺时,引起的问题在于,在TFDB与二羰基类化合物的聚合过程中,由于TFDB的刚性结构,二羰基类化合物胶凝,因此,聚合反应不充分。
因此,需要开发一种即使在加入二羰基类化合物时也具有高聚合度的聚酰胺-酰亚胺类树脂。
发明内容
技术问题
本公开的一个方面是提供一种包含具有优异的折叠后恢复力的聚合物树脂的光学膜。
本公开的另一方面是提供一种表现出优异的光学性能和机械性能的光学膜。
技术方案
根据本公开,上面目的和其它目的可以通过提供一种光学膜来实现,所述光学膜包含聚合物树脂,并且黄度指数为3.0以下,使用下面方程式1计算的折叠后恢复力参数为1.5Gpa以下:
[方程式1]
其中,R为0.5mm,其为折叠时光学膜在折叠中心线上的曲率半径,d为光学膜的厚度,其表示为μm,E′为使用下面方程式2计算的弹性应变指数,其中,仅将数值(不包括单位)应用于方程式1中的曲率半径和厚度。
[方程式2]
弹性应变指数(E′)=E/(1-v2)
其中,E为光学膜的模量,表示为GPa,v为光学膜的泊松比(Poisson′s ratio)。
使用方程式2计算的弹性应变指数(E′)可以为5.5以上。
所述聚合物树脂可以包含酰亚胺重复单元和酰胺重复单元。
所述酰胺重复单元可以以酰亚胺重复单元和酰胺重复单元的总数的80%以上的量存在。
所述酰亚胺重复单元可以包含第一重复单元和第二重复单元。
所述酰胺重复单元可以包含第三重复单元和第四重复单元。
所述第一重复单元可以是由第一二胺类化合物和第一二酐类化合物的聚合形成的酰亚胺重复单元,所述第二重复单元可以是由第二二胺类化合物和第二二酐类化合物的聚合形成的酰亚胺重复单元。
所述第三重复单元可以是由所述第一二胺类化合物和第一二羰基类化合物的聚合形成的酰胺重复单元,所述第四重复单元可以是由所述第二二胺类化合物和第二二羰基类化合物的聚合形成的酰胺重复单元。
所述第一二胺类化合物可以是2,2′-双(三氟甲基)联苯胺(TFDB)。
所述第二二胺类化合物可以包含选自磺酰基、羰基、亚甲基、亚丙基和卤素中的至少一种官能团。
所述第二二胺类化合物可以包括选自双(3-氨基苯基)砜(3DDS)、双(4-氨基苯基)砜(4DDS)、2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷(3,3′-6F)、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷(4,4′-6F)、4,4′-亚甲基二苯胺(MDA)、3,3′-二氨基二苯甲酮、4,4′-二氨基二苯甲酮和四氯化联苯胺(CIBZ)中的至少一种。
聚合的第一二胺类化合物和聚合的第二二胺类化合物的摩尔比可以为95∶5至50∶50。
所述聚合物树脂的重均分子量(Mw)可以为200,000至500,000。
根据本公开的另一方面,提供了一种显示装置,包括显示面板和设置在该显示面板上的根据本公开的光学膜。
有益效果
本公开的一个实施方案提供了一种包含具有优异的折叠后恢复力的聚合物树脂的光学膜。
根据本公开的另一实施方案的光学膜表现出优异的光学性能和机械性能,因此,当用作显示装置的覆盖窗时,能够有效地保护显示装置的显示表面。
附图说明
图1是光学膜的剖视图,示出了折叠时长度的变化;
图2是示出了根据本公开的一个实施方案的显示装置的一部分的剖视图;
图3是示出了图2的“P”的放大剖视图。
具体实施方式
下文中,将参照附图详细描述本公开的实施方案。然而,仅示例性地提供下面的实施方案用于清楚地理解本公开,并且不限制本公开的范围。
在描述本公开的实施方案的附图中公开的形状、尺寸、比例、角度和数值仅是示例,并且本公开不限于示出的详细说明。在整个说明书中,相同的附图标记是指相同的要素。在下面的描述中,当相关已知功能或配置的详细描述被确定为不必要地模糊本公开的要点时,将省略详细描述。
在本说明书中使用诸如“包含”、“具有”或“包括”的术语的情况下,除非使用“仅”,否则也可以存在其它部分。除非相反地说明,否则单数形式的术语可以包括复数含义。此外,在解释要素时,即使对其没有明确的描述,该要素也理解为包括误差范围。
在描述位置关系时,例如,当位置关系描述为“上”、“上方”、“下”或“下一个”时,除非使用“恰好”或“直接”,否则可以包括它们之间没有接触的情况。
本文中可以使用诸如“下”、“下方”、“下部”、“上方”和“上部”的空间相关术语来描述如图中所示的一个装置或元件与另一装置或元件之间的关系。应当理解的是,除了图中描绘的方向之外,空间相关术语意在包括在装置的使用或操作过程中装置的不同方向。例如,如果将一个图中的装置倒置,则描述为在另一元件“下”或“下方”的元件将位于另一元件“上方”。因此,示例性术语“下”或“下方”可以包括“下”和“上方”两者的含义。以相同的方式,示例性术语“上方”或“上部”可以包括“上方”和“下”两者的含义。
在描述时间关系时,例如,当使用“之后”、“随后”、“接下来”或“之前”来描述时间顺序时,除非使用“恰好”或“直接”,否则可以包括非连续关系的情况。
应当理解的是,尽管本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述不同的要素,但是这些要素不受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个要素与另一要素区分开。因此,在本公开的技术构思中,第一要素可以称为第二要素。
应当理解的是,术语“至少一个”包括与一项或多项相关的所有组合。例如,“第一要素、第二要素和第三要素中的至少一个”可以包括选自第一、第二和第三要素中的两个或更多个要素的所有组合,以及第一、第二和第三要素中的每一个。
本公开的各个实施方案的特征可以部分地或完全地彼此结合或组合,并且可以彼此各种交互操作并在技术上驱动。本公开的实施方案可以彼此独立地进行,或者可以以相关方式一起进行。
本公开的一个实施方案提供了一种光学膜。根据本公开的一个实施方案的光学膜包含聚合物树脂。
所述聚合物树脂可以以各种形状和形式中的任意一种,例如,作为固体粉末、以溶解在溶液中的状态、或者作为溶解在溶液中之后固化的基质被包含在膜中。任意树脂都可以被认为与本公开的聚合物树脂相同,无论其形状和形式如何,只要其是包含与本公开中相同的重复单元的树脂即可。通常,所述聚合物树脂可以以基质的形式存在于膜中,其通过涂布聚合物树脂溶液并将其干燥以形成固体而得到。
根据本公开的一个实施方案,使用下面方程式1计算的光学膜的折叠后恢复力参数为1.5GPa以下:
[方程式1]
其中,R为0.5mm,其为折叠时光学膜在折叠中心线上的曲率半径,d为光学膜的厚度,其表示为μm,E′为使用下面方程式2计算的弹性应变指数,其中,所述光学膜的厚度可以使用电子测微计,例如,来自Anritsu Corporation的电子测微计来测量,所述光学膜的曲率半径通过使用弯曲试验机中的间隙规,例如,来自YUASA的DLDM111LHA,通过确定折叠后的内部折叠部分之间的间隙来测量,并且在方程式1中,仅将数值(不包括单位)应用于曲率半径和厚度。
[方程式2]
弹性应变指数(E′)=E/(1-v2)
其中,E为光学膜的模量,表示为GPa,v为光学膜的泊松比。
根据ASTM D882标准,可以使用万能试验机(例如,来自Instron Corp.)在下面条件下测量光学膜的模量。
-25℃/50RH%
-称重传感器:30KN,夹具:250N。
-试样尺寸:10×50mm,拉伸速度:25mm/min
光学膜的泊松比是施加轴向负荷的试样的横向应变与轴向应变的比例,可以根据ASTM E-132标准,使用非接触(视频引伸计)方法测量。具体地,可以使用万能试验机(例如,来自Instron Corp.的Instron 3367)在下面条件下测量泊松比。
-试验速度:10mm/min
-(25±2)℃/(45±5)%RH
将参照附图更详细地描述本公开的折叠后恢复力参数。图1是光学膜的剖视图,示出了当光学膜被折叠时长度的变化。图1仅展示了用于示出当光学膜被折叠时长度变化的一个示例,并且折叠时的长度变化对于每个光学膜可以是不同的。因此,本公开不限与此。
当光学膜的折叠后恢复力参数为1.5GPa以下时,折叠时产生的阻力减小,由此可以得到优异的折叠后恢复力,并且不会形成折叠痕迹。随着曲率半径(R)减小,折叠痕迹的出现增加。当折叠后恢复力参数为1.5GPa以下时,折叠后恢复力是优异的,因此,不出现折叠痕迹。特别是,折叠后恢复力参数中的曲率半径(R)为0.5mm。当折叠后恢复力参数为1.5GPa以下,曲率半径(R)为0.5mm时,不形成折叠痕迹,可以得到优异的折叠后恢复力。
具体地,当光学膜被折叠时,膜中会发生机械变化。如本文中所使用,术语“折叠痕迹”,例如,是指如下现象,其中膜弯曲、具有不均匀的起皱表面、或在透明膜的情况下产生白色浑浊度。此外,除了出现褶皱或浑浊度之外,在折叠之前和折叠之后,会发生光学膜的长度的变化,以及光学膜的机械和光学性能的变化,如透光率的变化。
当光学膜被折叠时,应力施加至膜上。此时,压缩应力沿着折叠方向施加至光学膜的折叠的内表面(下文中称为“内径”),并且拉伸应力施加至其外表面(下文中称为“外径”),该外表面是与之相对的表面。因此,压缩应变发生在光学膜的内径中,而拉伸应变发生在光学膜的外径中。
具体地,如图1中所示,折叠之前,折叠的内径上的两点(a和b)之间的距离等于折叠的外径上的两点(c,d)之间的距离。然而,当光学膜被折叠时,光学膜内径上的两点a和b在折叠过程中被压缩应力转换为a′和b′,外径上的两点c和d在折叠过程中被拉伸应力转换为c′和d′。由于折叠的内径上的压缩应力,a′和b′之间的距离变得比a和b之间的距离短,并且折叠的外径上的c′和d′之间的距离变得比c和d之间的距离长。此时,基于光学膜的中心线(M),折叠的内径的曲率半径(R1)为“R-d/2”,并且基于光学膜的中心线(M),折叠的外径的曲率半径(R2)为“R+d/2”。基于折叠的内径和外径的曲率半径计算的a′和b′之间的距离L1以及c′和d′之间的距离L2,分别为π(R-d/2)和π(R+d/2)。
压缩应力和拉伸应力与长度变化的幅度成比例。外径的长度变化是+π(d/2),内径的长度变化是-π(d/2)。因此,施加至内径的应力与d/2R(=[π(d/2)]/πR)成比例,并且施加至外径的应力与d/2R成比例。随着施加至外径和内径的应力减小,光学膜的折叠后恢复力提高。因此,光学膜的d/2R的较低值有利于折叠。具体地,当d/2R为0.08以下时,光学膜表现出优异的折叠后恢复力,因此不留下折叠痕迹,当d/2R超过0.08时,在折叠过程中施加过大的压力,折叠后会留下折叠痕迹。
另外,光学膜的折叠后恢复力参数与弹性应变指数(E′)成比例。随着弹性应变指数(E′)增加,光学膜的折叠后恢复力提高,并且随着弹性应变指数(E′)降低,光学膜的折叠后恢复力劣化。
根据本公开的一个实施方案,使用方程式2计算的光学膜的弹性应变指数(E′)可以为5.5GPa以上。通过控制光学膜的厚度和曲率半径以及其模量和泊松比,可以提高光学膜的折叠后恢复力。随着光学膜的模量和泊松比增加,在折叠过程中光学膜的耐应变(变形)性增加。例如,即使光学膜的厚度增加,当光学膜的模量增加时,折叠后恢复力提高。另一方面,即使光学膜的厚度减小,当光学膜的模量也减小时,折叠后恢复力劣化,使得光学膜不适合用作柔性显示装置的覆盖窗。此外,如果光学膜的泊松比增加,则折叠后恢复力提高,相反地,当光学膜的泊松比降低时,折叠后恢复力劣化。
根据本公开的一个实施方案,光学膜的黄度指数(Y.I.)可以为3.0以下。可以根据ASTM E313标准,使用分光光度计(CM-3700D,KONICA MINOLTA)来测量黄度指数。
根据本公开的一个实施方案,光学膜可以包含聚合物树脂。
通过控制所述聚合物树脂的重复单元的组分和含量,可以赋予光学膜1.5GPa以下的折叠后恢复力参数。另外,通过增加聚合物树脂的聚合度,可以减小折叠后恢复力参数并且可以改善折叠后恢复力。
所述聚合物树脂可以包含酰亚胺重复单元和酰胺重复单元中的至少一种。例如,聚合物树脂可以包含酰亚胺重复单元或酰胺重复单元中的一种,并且可以包含酰亚胺重复单元和酰胺重复单元两者。聚合物树脂可以包含聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂和聚酰胺-酰亚胺类树脂中的至少一种。
在本公开中,聚合物树脂的酰亚胺重复单元可以由包含二胺类化合物和二酐类化合物的单体组分来制备。二胺类化合物和二酐类化合物可以聚合以形成酰胺酸,并且该酰胺酸可以再次酰亚胺化以形成酰亚胺重复单元。另外,酰胺重复单元可以通过包含二胺类化合物和二羰基类化合物的单体组分的聚合来制备。酰亚胺重复单元和酰胺重复单元的具体结构可以根据用于聚合的单体而变化。
然而,根据本公开的一个实施方案的聚合物树脂不限于此。根据本公开的一个实施方案的聚合物树脂可以由除了二胺类化合物、二酐类化合物和二羰基类化合物之外,进一步包含其它化合物的单体组分来制备。因此,除了酰亚胺重复单元和酰胺重复单元之外,根据本公开的一个实施方案的聚合物树脂还可以包含其它重复单元。
根据本公开的一个实施方案的光学膜可以包含聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂和聚酰胺-酰亚胺类树脂中的至少一种。
根据本公开的一个实施方案,光学膜可以是聚酰亚胺类膜、聚酰胺类膜和聚酰胺-酰亚胺类膜中的任意一种,但是本公开的实施方案不限于此。具有透光率的任意膜都可以用作根据本公开的一个实施方案的光学膜。
在本公开的一个实施方案中,聚合物树脂可以包含对应于酰亚胺重复单元和酰胺重复单元的总数的80%以上的量的酰胺重复单元。优选地,聚合物树脂可以包含对应于酰亚胺重复单元和酰胺重复单元的总数的95%以上,更优选的98%以上的量的酰胺重复单元。
当聚合物树脂包含对应于酰亚胺重复单元和酰胺重复单元的总数的80%以上的量的酰胺重复单元时,可以保持由聚合物树脂制造的膜的光学性能,同时可以改善机械性能;特别是,可以大大改善折叠后恢复力。即,可以制造一种包含比酰亚胺重复单元更大量的酰胺重复单元的光学膜,其是无色且透明的,并且具有优异的不溶性、耐化学性、耐热性、耐辐射性、低温特性、折叠后恢复力等。
当为了形成大量的酰胺重复单元而加入大量的二羰基类化合物时,存在的问题在于,由于二羰基类化合物胶凝,并由此聚合反应不充分地进行,因此,树脂的聚合度降低。
在本公开中,可以通过使用两种或更多种不同类型的二胺类化合物进行聚合来防止或抑制二羰基类化合物的胶凝。
根据本公开的一个实施方案,酰亚胺重复单元可以包含第一重复单元和第二重复单元。
酰亚胺重复单元由二胺类化合物和二酐类化合物的聚合而形成,第一重复单元是由第一二胺类化合物和第一二酐类化合物的聚合得到的酰亚胺重复单元,第二重复单元是由第二二胺类化合物和第二二酐类化合物的聚合得到的酰亚胺重复单元。本公开的聚合物树脂包含来自至少两种类型的二胺类化合物的重复单元,包括第一二胺类化合物和第二二胺类化合物。
具体地,根据本公开的一个实施方案,所述第一二胺类化合物是2,2′-双(三氟甲基)联苯胺(TFDB)。根据本公开的一个实施方案,所述第二二胺类化合物包括除了TFDB之外的芳香族二胺类化合物。本公开的酰亚胺重复单元和酰胺重复单元可以来自TFDB和除了TFDB之外的芳香族二胺类化合物。
由于2,2′-双(三氟甲基)联苯胺(TFDB)具有特定的直链和刚性结构,可以赋予包含来自TFDB的重复单元的膜大大改善的机械性能如不溶性、耐化学性、耐热性、耐辐射性和低温特性。
然而,由于2,2′-双(三氟甲基)联苯胺(TFDB)的刚性结构,TFDB和二羰基类化合物之间的聚合被加速。这种快速聚合可以仅使二羰基类化合物的一部分与二胺类化合物反应,并且该二羰基类化合物的剩余部分可以胶凝而不被聚合。二羰基类化合物的胶凝会降低树脂的聚合度并且使膜的光学性能劣化。因此,仅通过加入2,2′-双(三氟甲基)联苯胺(TFDB)难以制备包含大量酰胺重复单元的聚合物树脂。根据本公开,第二二胺类化合物可以防止二羰基类化合物的胶凝,并改善聚合物的聚合度。
根据本公开的一个实施方案,第二二胺类化合物包括芳香族二胺类化合物。
在本公开的一个实施方案中,术语“芳香族二胺类化合物”是指其中氨基直接结合到芳环上的二胺类化合物,并且可以包括脂肪族基团或其它取代基作为其结构的一部分。芳环可以是单环、包括通过杂原子与其直接连接的单环的稠合环、或稠环。芳环的实例可以包括,但不限于,苯环、联苯环、萘环、蒽环和芴环。
根据本公开的一个实施方案,第二二胺类化合物可以由下面化学式1表示:
[化学式1]
H2N-A1-NH2
其中,A1表示二价芳香族有机基团。芳香族有机基团是指其中π电子离域,由此单键和双键彼此交替连接以形成环的有机基团。例如,A1可以包括具有4至40个碳原子的二价芳香族有机基团。化学式1中的芳香族有机基团中的氢原子可以被卤族元素、烃基或被卤族元素取代的烃基所取代。此处,烃基或被卤族元素取代的烃基可以具有1至8个碳原子。例如,A1中的氢可以被-F、-CH3、-CF3等取代。
使用其中氢原子被氟取代的烃基所取代的二胺类化合物制造的光学膜可以被赋予优异的透光率和优异的可加工性。
化学式1中的A1可以,例如,包括由下面化学式中的任意一种表示的结构。
在上面化学式中,*表示结合位置。在上面化学式中,X可以是单键、O、S、SO2、CO、CH2、C(CH3)2和C(CF3)2中的任意一种。虽然对各个环上的X的结合位置没有特别的限制,但是X的结合位置可以是,例如,各个环上的间位或对位。
根据本公开的一个实施方案,第二二胺类化合物可以包含选自磺酰基、羰基、亚甲基、亚丙基和卤素中的至少一种官能团。
磺酰基、羰基、亚甲基、亚丙基和卤素取代基的功能是控制化合物中电子的运动。因此,第二二胺类化合物包含磺酰基、羰基、亚甲基、亚丙基和卤素中的至少一种取代基,从而控制电离能。因此,可以适当地调节与二羰基类化合物的聚合反应的反应活性和反应速率。
根据本公开的一个实施方案,第二二胺类化合物可以包括选自双(3-氨基苯基)砜(3DDS)、双(4-氨基苯基)砜(4DDS)、2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷(3,3′-6F)、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷(4,4′-6F)、4,4′-亚甲基二苯胺(MDA)、3,3′-(二甲氨基)二苯甲酮(3,3′-CO)、4,4′-(二甲氨基)二苯甲酮(4,4′-CO)和四氯化联苯胺(CIBZ)中的至少一种。
根据本公开的一个实施方案,第一二酐类化合物和第二二酐类化合物可以各自独立地由下面化学式2表示。第一二酐类化合物和第二二酐类化合物可以彼此相同或不同。本公开不限于此。
[化学式2]
在化学式2中,A2表示四价有机基团。例如,A2可以包含具有4至40个碳原子的四价有机基团。化学式2中的有机基团中的氢原子可以被卤族元素、烃基或被卤族元素取代的烃基所取代。此处,烃基或被卤族元素取代的烃基可以具有1至8个碳原子。
化学式2中的A2可以,例如,包括由下面化学式中的任意一个表示的结构。
在上面化学式中,*表示结合位置。在上面化学式中,Z可以独立地为单键、O、S、SO2、CO、(CH2)n、(C(CH3)2)n和(C(CF3)2)n中的任意一种,n可以为1至5的整数。虽然对各个环上的Z的结合位置没有特别的限制,但是Z的结合位置可以是,例如,各个环上的间位或对位。
在本公开的一个实施方案中,第一二酐类化合物和第二二酐类化合物可以各自独立地包括选自2,2-双(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐(6FDA)、联苯四甲酸二酐(BPDA)、萘四甲酸二酐(NTDA)、二苯砜四甲酸二酐(DSDA)、4-(2,5-氧代四氢呋喃-3-基)-1,2,3,4-四氢萘-1,2-二甲酸酐(TDA)、均苯四甲酸二酐(PMDA)、二苯甲酮四甲酸二酐(BTDA)、氧双邻苯二甲酸酐(ODPA)、双(羧基苯基)二甲基硅烷二酐(SiDA)、双(二羧基苯氧基)二苯硫醚二酐(BDSDA)、磺酰基二邻苯二甲酸酐(SO2DPA)和异亚丙基二苯氧基双(邻苯二甲酸酐)(BPADA)中的至少一种。
根据本公开的一个实施方案的光学膜可以包含,例如,多种二酐类化合物。
使用其中氢原子被氟取代的烃基所取代的二酐类化合物制造的光学膜可以表现出优异的透光率和可加工性。
根据本公开的一个实施方案,酰胺重复单元可以包含第三重复单元和第四重复单元。
所述酰胺重复单元由二胺类化合物和二羰基类化合物的聚合而形成,第三重复单元是由第一二胺类化合物和第一二羰基类化合物的聚合得到的酰胺重复单元,第四重复单元是由第二二胺类化合物和第二二羰基类化合物的聚合得到的酰胺重复单元。
根据本公开的一个实施方案,第一二羰基类化合物和第二二羰基类化合物可以各自独立地由下面化学式3表示。第一二羰基类化合物和第二二羰基类化合物可以彼此相同或不同。本公开不限于此。
[化学式3]
在化学式3中,A3表示二价有机基团。例如,A3可以包含具有4至40个碳原子的二价有机基团。化学式3中的有机基团中的氢原子可以被卤族元素、烃基、或被氟取代的烃基所取代。此处,烃基或被氟取代的烃基可以具有1至8个碳原子。例如,A3中的氢可以被-F、-CH3、-CF3等取代。
化学式3中的A3可以,例如,包括由下面化学式中的任意一个表示的结构。
在上面化学式中,*表示结合位置。在上面化学式中,Y可以独立地为单键、O、S、SO2、CO、CH2、C(CH3)2和C(CF3)2中的任意一种。虽然对各个环上的Y的结合位置没有特别的限制,但是Y的结合位置可以是,例如,各个环上的间位或对位。
根据本公开的一个实施方案,第一二羰基类化合物和第二二羰基类化合物可以各自独立地包括选自对苯二甲酰氯(TPC)、间苯二甲酰氯(IPC)、联苯二甲酰氯(BPDC)、4,4′-氧基双苯甲酰氯(OBBC)和萘二甲酰二氯(NTDC)中的至少一种。
在本公开的一个实施方案中,第一和第三重复单元的数目与第二和第四重复单元的数目的比例为95∶5至50∶50。第一重复单元和第三重复单元两者都是通过使用第一二胺类化合物聚合形成的重复单元,第二重复单元和第四重复单元两者都是通过使用第二二胺类化合物聚合形成的重复单元。因此,用于聚合的第一二胺类化合物与用于聚合的第二二胺类化合物的摩尔比为95∶5至50∶50。
关于第一和第三重复单元的数目与第二和第四重复单元的数目的比例,当第一和第三重复单元的数目的分数增加至95∶5以上时,由于来自TFDB和二羰基类化合物的重复单元的比例增加,膜的雾度会增加。另一方面,当第二和第四重复单元的数目的分数增加至50∶50以上时,膜的耐热性和强度会劣化。
根据本公开的一个实施方案的聚合物树脂可以包含由下面化学式4表示的第一重复单元和由下面化学式5表示的第二重复单元:
[化学式4]
其中,A2如上面所描述,
[化学式5]
其中,A1和A2如上面所描述。
根据本公开的一个实施方案的聚合物树脂可以包含由下面化学式6表示的第三重复单元和由下面化学式7表示的第四重复单元:
[化学式6]
其中,A3如上面所描述,
[化学式7]
其中,A1和A3如上面所描述。
根据本公开的一个实施方案,本公开的聚合物树脂的重均分子量(Mw)可以是为200,000至500,000。
聚合物树脂的重均分子量可以在下面条件下使用GPC(Alliance e2695/2414RID,Waters)测量。
检测器:2414RID,Waters
流动相:DMAc中10mM的LiBr
样品浓度:DMAc中0.25(w/w)%
柱和检测器温度:50℃
流量:1.0ml/min
由于与二胺类化合物特别是TFDB的高反应速度引起的二羰基类化合物的胶凝降低了包含大量酰胺重复单元的聚合物树脂的聚合度。重均分子量与聚合度成比例。即,随着聚合度降低,聚合物树脂的重均分子量也降低。
当聚合物树脂的重均分子量小于200,000时,聚合度降低,聚合物链的端基的数目增加,聚合物树脂的物理性能劣化。另一方面,在该过程中很难制备重均分子量大于500,000的聚合物树脂。通过控制聚合过程中的聚合粘度来调节聚合物树脂的重均分子量。重均分子量超过500,000的树脂不利于加工,因为非常高的聚合粘度和随之而来的反应溶液流动性降低,这使得难以控制和处理,并且为了再次溶解聚合物树脂需要大量的溶剂。
根据本公开的一个实施方案,光学膜是透光的。另外,该光学膜是柔韧性的。例如,根据本公开的一个实施方案的光学膜是可弯曲的、可折叠的或可卷曲的。该光学膜可以具有优异的机械和光学性能。
根据本公开的一个实施方案,光学膜可以具有足以使光学膜保护显示面板的厚度。例如,光学膜的厚度可以为10μm至100μm。
根据本公开的一个实施方案,基于50μm的厚度,使用紫外线分光光度计测量的光学膜在可见光区域中的平均透光率可以为88%以上。
光学膜的平均透光率可以使用分光光度计在360nm至740nm的波长范围内测量。
根据本公开的一个实施方案,基于50μm的厚度,光学膜的雾度可以为0.5%以下。
光学膜的雾度可以如下确定,将制造的光学膜切割成尺寸为50mm×50mm的样品,根据ASTM D1003标准,使用雾度计(型号名称:HM-150,Murakami Color ResearchLaboratory制造)进行测量5次,并采用5个数值的平均值作为光学膜的雾度。
图2是示出了根据另一实施方案的显示装置200的一部分的剖视图,图3是图2中“P”的放大剖视图。
参照图2,根据本公开的另一实施方案的显示装置200包括显示面板501和在显示面板501上的光学膜100。
参照图2和图3,显示面板501包括:基底510、在基底510上的薄膜晶体管TFT、和与薄膜晶体管TFT连接的有机发光器件570。有机发光器件570包括第一电极571、在第一电极571上的有机发光层572、和在有机发光层572上的第二电极573。图2和图3中示出的显示装置200是有机发光显示装置。
基底510可以由玻璃或塑料形成。具体地,基底510可以由塑料如聚合物树脂或光学膜形成。尽管未示出,缓冲层可以设置在基底510上。
薄膜晶体管TFT设置在基底510上。薄膜晶体管TFT包括半导体层520、与半导体层520绝缘并与半导体层520至少部分重叠的栅电极530、与半导体层520连接的源电极541、以及与源电极541间隔开并与半导体层520连接的漏电极542。
参照图3,栅绝缘层535设置在栅电极530与半导体层520之间。层间绝缘层551可以设置在栅电极530上,并且源电极541和漏电极542可以设置在层间绝缘层551上。
平坦化层552设置在薄膜晶体管TFT上,以使薄膜晶体管TFT的顶部平坦化。
第一电极571设置在平坦化层552上。第一电极571通过设置在平坦化层552中的接触孔与薄膜晶体管TFT连接。
堤层580设置在第一电极571的一部分中的平坦化层552上,以限定像素区域或发光区域。例如,堤层580以矩阵的形式设置在多个像素之间的边界处,以限定相应的像素区域。
有机发光层572设置在第一电极571上。有机发光层572也可以设置在堤层580上。有机发光层572可以包括一个发光层,或在垂直方向上堆叠的两个发光层。可以从有机发光层572发射具有红色、绿色和蓝色中的任意一种颜色的光,并且可以从有机发光层572发射白光。
第二电极573设置在有机发光层572上。
第一电极571、有机发光层572和第二电极573可以堆叠以构成有机发光器件570。
尽管未示出,但是当有机发光层572发射白光时,各个像素可以包括用于基于特定波长过滤从有机发光层572发射的白光的滤色器。所述滤色器形成在光路中。
薄膜封装层590可以设置在第二电极573上。薄膜封装层590可以包括至少一个有机层和至少一个无机层,并且至少一个有机层和至少一个无机层可以交替地设置。
光学膜100设置在具有上述堆叠结构的显示面板501上。
下文中,将简要描述根据本公开的另一实施方案的制造光学膜的方法。
根据本公开的一个实施方案的制造光学膜的方法包括:制备聚合物树脂;将聚合物树脂溶解在溶剂中以制备聚合物树脂溶液;和使用聚合物树脂溶液制造光学膜。
聚合物树脂的制备可以通过使形成聚合物树脂的单体聚合来进行。
根据本公开的另一实施方案,聚合物树脂可以由包含第一二胺类化合物、第二二胺类化合物、第一二酐类化合物、第二二酐类化合物、第一二羰基类化合物和第二二羰基类化合物的单体组分制备。在本公开中,对单体的加入顺序或方法没有限制。例如,可以将第一和第二二酐类化合物以及第一和第二二胺类化合物顺序地加入到其中溶解有第一和第二二胺类化合物的溶液中,并且可以对得到的混合物进行聚合。或者,为了避免随机性,可以将第一二胺类化合物、第一和第二二酐类化合物、第二二胺类化合物以及第一和第二二羰基类化合物按该顺序加入,或者可以将第二二胺类化合物、第一和第二二酐类化合物、第一二胺类化合物以及第一和第二二羰基类化合物按该顺序加入,然后聚合。
更具体地,聚合物树脂可以通过包含第一二胺类化合物、第二二胺类化合物、第一和第二二酐类化合物以及第一和第二二羰基类化合物的单体的聚合以及酰亚胺化来制备。酰亚胺重复单元可以通过包含第一和第二二胺类化合物以及第一和第二二酐类化合物的单体的聚合以及酰亚胺化来制备。另外,酰胺重复单元可以通过包含第一和第二二胺类化合物以及第一和第二二羰基类化合物的单体的聚合来制备。
因此,根据本公开的另一实施方案的聚合物树脂可以具有酰亚胺重复单元和酰胺重复单元。
可以分别制备酰亚胺重复单元和酰胺重复单元,然后共聚。或者,可以首先制备酰亚胺重复单元,然后可以进一步加入二羰基类化合物以制备酰胺重复单元,或者可以首先制备酰胺重复单元,然后可以进一步加入二酐类化合物以制备酰亚胺重复单元。本公开的聚合物树脂对重复单元的形成顺序(加入单体的顺序)没有限制。
根据本公开的另一实施方案,基于第一和第二二酐类化合物以及第一和第二二羰基类化合物的总摩尔量,第一和第二二羰基类化合物可以以80摩尔%以上的量加入。因此,本公开的聚合物树脂包含80%以上的量的酰胺重复单元。优选地,基于第一和第二二酐类化合物以及第一和第二二羰基类化合物的总摩尔量,第一和第二二羰基类化合物可以以95摩尔%以上的量,更优选地以98摩尔%以上的量加入。
根据本公开的另一实施方案,第一二胺类化合物是2,2′-双(三氟甲基)联苯胺(TFDB)。
根据本公开的另一实施方案,第二二胺类化合物包括芳香族二胺类化合物。下文中,为了避免重复描述,省略了对上面配置的解释。
2,2′-双(三氟甲基)联苯胺(TFDB)可以用作第一二胺类化合物,上述化学式1的芳香族二胺类化合物可以用作第二二胺类化合物,上述化学式2的化合物可以用作第一和第二二酐类化合物。上述化学式3的化合物可以用作第一和第二二羰基类化合物。
根据本公开的另一实施方案,第二二胺类化合物的芳族香二胺类化合物可以包含选自磺酰基、羰基、亚甲基、亚丙基和卤素中的至少一种官能团。
根据本公开的另一实施方案,第二二胺类化合物的芳香族二胺类化合物可以包括选自双(3-氨基苯基)砜(3DDS)、双(4-氨基苯基)砜(4DDS)、2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷(3,3′-6F)、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷(4,4′-6F)、4,4′-亚甲基二苯胺(MDA)、3,3′-(二甲氨基)二苯甲酮(3,3′-CO)、4,4′-(二甲氨基)二苯甲酮(4,4′-CO)和四氯化联苯胺(CIBZ)中的至少一种。
根据本公开的另一实施方案,第一二胺类化合物的加入量与第二二胺类化合物的加入量的比例可以为95∶5至50∶50。
在本公开的另一实施方案中,用于制备聚合物树脂溶液的溶剂可以是,例如,极性非质子有机溶剂如N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、1-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、间甲酚、四氢呋喃(THF)、氯仿、甲乙酮(MEK)或它们的混合物。然而,根据本公开的一个实施方案的溶剂不限于此,并且可以使用其它溶剂。
下文中,将参照示例性实施例更详细地描述本公开。然而,下面的制备例和实施例不应理解为限制本公开的范围。
<实施例1>
在氮气通过反应器的同时,将313.34g的N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)装入配备有搅拌器、氮气注射器、滴液漏斗、温度控制器和冷却器的500mL的反应器中。然后,将反应器的温度调节至25℃,将24.02g(0.075mol)的作为第一二胺类化合物的TFDB溶解在其中,将6.21g(0.025mol)的作为第二二胺类化合物的双(3-氨基苯基)砜(3DDS)进一步溶解在其中,并将得到的溶液保持在25℃。将0.89g(0.002mol)的6FDA加入到得到的二胺类化合物溶液中,并通过搅拌2小时彻底溶解在其中。将反应器温度降低至10℃,向其中加入19.90g(0.098mol)的对苯二甲酰氯(TPC),完全溶解,并反应1小时,然后将温度升高至25℃。向得到的反应溶液中加入0.35g的吡啶和0.45g的乙酸酐,并在80℃下搅拌30分钟,然后逐滴加入过量的甲醇,以得到聚酰胺-酰亚胺粉末。在减压下过滤粉末,干燥,并再次溶解在DMAc中,以制备固体浓度为14重量%的聚合物树脂溶液。
将得到的聚合物树脂溶液浇铸。使用浇铸基底进行浇铸。对于浇铸基底的类型没有特别的限制。作为浇铸基底,可以使用玻璃基底、不锈钢(SUS)基底、特氟隆基底等。根据本公开的一个实施方案,可以使用有机基底作为浇铸基底。
具体地,将得到的聚合物树脂溶液涂布到玻璃基底上,浇铸,并用热空气在80℃下干燥20分钟,并且在120℃下干燥20分钟,以制造膜。然后,将制造的膜从玻璃基底上剥离,并用销钉固定至框架。
将固定有膜的框架置于烘箱中,然后在270℃的恒温下用热空气干燥10分钟。因此,完成了厚度为50μm的光学膜。
<实施例2至实施例14>
除了改变第一二胺类化合物的加入量、第二二胺类化合物的类型和加入量、二酐类化合物的加入量以及二羰基类化合物的类型和加入量之外,以与实施例1相同的方式制造实施例2至实施例14的光学膜。
实施例1至实施例14的第一二胺类化合物的加入量、第二二胺类化合物的类型和加入量、二酐类化合物的加入量以及二羰基类化合物的类型和加入量的详细说明示于下面表1中。
<比较例1至比较例3>
除了改变第一二胺类化合物的加入量、是否加入第二二胺类化合物及其类型和加入量、二酐类化合物的加入量以及二羰基类化合物的类型和加入量之外,以与实施例1相同的方式制造比较例1至比较例3的光学膜。
比较例1至比较例3的第一二胺类化合物的加入量、是否加入第二二胺类化合物及其类型和加入量、二酐类化合物的加入量以及二羰基类化合物的类型和加入量的详细说明示于下面表1中。
<比较例4>
在氮气通过反应器的同时,将313.34g的N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)装入配备有搅拌器、氮气注射器、滴液漏斗、温度控制器和冷却器的500mL的反应器中。然后,将反应器的温度调节至25℃,将28.8207g(0.090mol)的作为第一二胺类化合物的TFDB溶解在其中,将2.483g(0.010mol)的作为第二二胺类化合物的双(4-氨基苯基)砜(4DDS)进一步溶解在其中,并将得到的溶液保持在25℃。将5.8833g(0.030mol)的环丁烷-1,2,3,4-四甲酸二酐(CBDA)和2.2212g(0.005mol)的6FDA加入到得到的二胺类化合物溶液中,并通过搅拌2小时彻底溶解在其中。将反应器温度降低至10℃,向其中加入13.1989g(0.065mol)的对苯二甲酰氯(TPC),完全溶解,并反应1小时,然后将温度升高至25℃。向得到的反应溶液中加入0.35g的吡啶和0.45g的乙酸酐,并在80℃下搅拌30分钟,逐滴加入过量的甲醇,以得到聚酰胺-酰亚胺粉末。在减压下过滤粉末,干燥,并再次溶解在DMAc中,以制备固体浓度为14重量%的聚合物树脂溶液。
将得到的聚合物树脂溶液浇铸。使用浇铸基底进行浇铸。对于浇铸基底的类型没有特别的限制。作为浇铸基底,可以使用玻璃基底、不锈钢(SUS)基底、特氟隆基底等。根据本公开的一个实施方案,可以使用有机基底作为浇铸基底。
具体地,将得到的聚合物树脂溶液涂布到玻璃基底上,浇铸,并用热空气在80℃下干燥20分钟,并且在120℃下干燥20分钟,以制造膜。然后,将制造的膜从玻璃基底上剥离,并用销钉固定至框架。
将固定有膜的框架置于烘箱中,然后在270℃的恒温下用热空气干燥10分钟。因此,完成了厚度为50μm的光学膜。
<比较例5和比较例6>
除了改变第一二胺类化合物的加入量、第二二胺类化合物的加入量、二酐类化合物的加入量以及二羰基类化合物的加入量之外,以与实施例1相同的方式制造比较例5和比较例6的光学膜。
比较例5和比较例6的第一二胺类化合物的加入量、第二二胺类化合物的加入量、二酐类化合物的加入量和二羰基类化合物的加入量的详细说明示于下面表1中。
[表1]
TFDB:2,2′-双(三氟甲基)联苯胺
3DDS:双(3-氨基苯基)砜
4DDS:双(4-氨基苯基)砜
3,3′-6F:2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷
4,4′-6F:2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷
pPDA:对苯二胺
8FODA:氧-4,4′-双(2,3,5,6-四氟苯胺)
TPC:对苯二甲酰氯
BPDC:4,4′-联苯二甲酰氯
CBDA:环丁烷-1,2,3,4-四甲酸二酐
<测量例>
对在实施例1至实施例14和比较例1至比较例6中制造的聚合物树脂以及膜进行下面测量。
1)聚合物树脂的重均分子量:使用GPC(Alliance e2695/2414 RID,Waters)在下面条件下测量聚合物树脂的重均分子量。
检测器:2414 RID,Waters
流动相:DMAc中10mM的LiBr
样品浓度:DMAc中0.25(w/w)%
柱和检测器温度:50℃
流量:1.0ml/min
2)模量:根据ASTM D882标准,使用万能试验机(例如,Instron Corp.)在下面条件下测量模量。
-25℃/50RH%
一负荷传感器:30KN,夹具:250N
一试样尺寸:10×50mm,拉伸速度:25mm/min
3)泊松比:根据ASTM E-132标准,使用非接触(视频引伸计)方法测量光学膜的泊松比。具体地,使用万能试验机(例如,Instron Corp.的Instron 3367)在下面条件下测量泊松比。
-试验速度:10mm/min
-(25±2)℃/(45±5)%RH
4)弹性应变指数(E′):根据下面方程式2,使用非接触(视频引伸计)方法计算光学膜的弹性应变指数(E′):
[方程式2]
弹性应变指数(E′)=E/(1-v2)
5)黄度指数(Y.I.):根据ASTM E313标准,使用分光光度计(CM-3700D,KONICAMINOLTA)测量黄度指数。
6)折叠后恢复力参数:使用下面方程式1计算光学膜的折叠后恢复力参数:
[方程式1]
其中,R表示折叠时光学膜在折叠中心线上的曲率半径,以mm表示,d表示光学膜的厚度,以μm表示,E′表示弹性应变指数,其中,仅数值(不包括单位)应用于曲率半径和厚度。
7)透光率(%):使用分光光度计(CM-3700D,KONICA MINOLTA)测量波长为360nm至740nm的平均透光率。
8)雾度:雾度如下确定,将制造的光学膜切割成尺寸为50mm×50mm的样品,根据ASTM D1003标准,使用雾度计(型号名称:HM-150,Murakami Color Research Laboratory制造)进行测量5次,采用5个数值的平均值作为光学膜的雾度。
9)折叠痕迹:将从光学膜中随机得到的尺寸为100mm×50mm的样品沿着单一弯曲轴进行弯曲试验。通过使用弯曲试验机(YUASA,DLDM111LHA),在25℃/50 RH%下以60rpm的速度将100mm×50mm的样品重复弯曲200,000次至曲率半径为2.0mm(直径为4.0mm),来进行弯曲试验。然后,分析沿弯曲轴出现的折叠痕迹。
此时,会需要用于锐化折叠痕迹的对比度(阴影)的分析方法。例如,可以通过检查膜上的异物来进行成像。如果可能的话,使用各种检查方法如反射、散射和透射方法来检测使用CCD照相机或肉眼难以察觉的缺陷或压痕,以便检测与膜材料具有相同颜色的异物。优选的是使用检查(即测定)装置,而不是测量装置。
具体地,例如,检查装置包括三个部件,即,检查装置、控制单元(控制器盒:将通过检查装置接收的激光数据转换成图像数据)和专用PC(成像PC:其上安装有专用应用程序的PC,该专用应用程序与控制单元(控制器盒)连接并能够进行图像处理)。即,可以通过设置测量/评价条件、将激光数据转换为图像数据、以及使用用于分析图像/照片的亮度、饱和度、反射率等的已知软件进行分析来进行分析/评价,但不限于此。
测量结果示于下面表2和表3中。
[表2]
[表3]
从表2和表3的测量结果可以看出,本公开的实施例1至实施例14具有高的重均分子量,并表现出优异的黄度指数、透光率和雾度。另外,本公开的实施例1至实施例14的折叠后恢复力参数全部为1.5GPa以下,弹性应变指数(E′)为5.5GPa以上,并且甚至在弯曲试验之后也没有留下折叠痕迹(X)。
然而,在比较例1中,由于二羰基类化合物的胶凝而无法制造膜。在比较例2中,树脂具有低的重均分子量,并且由于高黄度指数和雾度,因此可见度差。在比较例2中,折叠后恢复力参数为1.5GPa以下,但是弹性应变指数(E′)小于5.5GPa,因此,在弯曲试验后留下轻微的折叠痕迹(△)。在比较例3中,折叠后恢复力参数为1.5GPa以下,但是弹性应变指数(E′)小于5.5GPa,因此,在弯曲试验后留下轻微的折叠痕迹。在比较例4中,黄度指数和雾度高,透光率低,折叠后恢复力参数高于1.5GPa,并且在弯曲试验后留下严重的折叠痕迹(O)。在比较例5中,黄度指数和雾度高,透光率低,因此可见度低。在比较例5中,折叠后恢复力参数为1.5GPa以下,但是弹性应变指数(E′)小于5.5GPa,并且在弯曲试验后留下轻微的折叠痕迹(Δ)。在比较例6中,树脂具有低的重均分子量,黄度指数和雾度高,并且透光率低,因此可见度差。在比较例6中,折叠后恢复力参数为1.5GPa以下,但是弹性应变指数(E′)小于5.5GPa,并且在弯曲试验后留下轻微的折叠痕迹(Δ)。
[附图标记的说明]
100:光学膜
200:显示装置
501:显示面板。

Claims (14)

1.一种光学膜,包含聚合物树脂,并且具有3.0以下的黄度指数和1.5GPa以下的使用下面方程式1计算的折叠后恢复力参数:
[方程式1]
其中,R为0.5mm,其为折叠时所述光学膜在折叠中心线上的曲率半径;
d为所述光学膜的厚度,其表示为μm;
E′为使用下面方程式2计算的弹性应变指数,
其中,仅将不包括单位的数值应用于方程式1中的曲率半径和厚度,
[方程式2]
弹性应变指数(E′)=E/(1-v2)
其中,E为所述光学膜的模量,表示为GPa,
v为所述光学膜的泊松比。
2.根据权利要求1所述的光学膜,其中,使用方程式2计算的所述弹性应变指数(E′)为5.5以上。
3.根据权利要求1所述的光学膜,其中,所述聚合物树脂包含酰亚胺重复单元和酰胺重复单元。
4.根据权利要求3所述的光学膜,其中,所述酰胺重复单元以所述酰亚胺重复单元和所述酰胺重复单元的总数的80%以上的量存在。
5.根据权利要求3所述的光学膜,其中,所述酰亚胺重复单元包含第一重复单元和第二重复单元。
6.根据权利要求3所述的光学膜,其中,所述酰胺重复单元包含第三重复单元和第四重复单元。
7.根据权利要求5所述的光学膜,其中,所述第一重复单元是由第一二胺类化合物和第一二酐类化合物的聚合形成的酰亚胺重复单元,
所述第二重复单元是由第二二胺类化合物和第二二酐类化合物的聚合形成的酰亚胺重复单元。
8.根据权利要求6所述的光学膜,其中,所述第三重复单元是由第一二胺类化合物和第一二羰基类化合物的聚合形成的酰胺重复单元,
所述第四重复单元是由第二二胺类化合物和第二二羰基类化合物的聚合形成的酰胺重复单元。
9.根据权利要求7或8所述的光学膜,其中,所述第一二胺类化合物是2,2′-双(三氟甲基)联苯胺(TFDB)。
10.根据权利要求7或8所述的光学膜,其中,所述第二二胺类化合物包括选自磺酰基、羰基、亚甲基、亚丙基和卤素中的至少一种官能团。
11.根据权利要求7或8所述的光学膜,其中,所述第二二胺类化合物包括选自双(3-氨基苯基)砜(3DDS)、双(4-氨基苯基)砜(4DDS)、2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷(3,3′-6F)、2,2-双(4一氨基苯基)六氟丙烷(4,4′-6F)、4,4′-亚甲基二苯胺(MDA)、3,3′-二氨基二苯甲酮、4,4′-二氨基二苯甲酮和四氯化联苯胺(CIBZ)中的至少一种。
12.根据权利要求7或8所述的光学膜,其中,聚合的所述第一二胺类化合物和聚合的所述第二二胺类化合物的摩尔比为95∶5至50∶50。
13.根据权利要求1所述的光学膜,其中,所述聚合物树脂具有200,000至500,000的重均分子量(Mw)。
14.一种显示装置,包括:
显示面板;和
设置在所述显示面板上的根据权利要求1至13中任一项所述的光学膜。
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