CN117164249A

CN117164249A - 镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃

Info

Publication number: CN117164249A
Application number: CN202311013182.1A
Authority: CN
Inventors: 曹晖; 张洁林; 李军军; 林高强; 姚俊; 福原康太
Original assignee: Fuyao Glass Industry Group Co Ltd
Current assignee: Fuyao Glass Industry Group Co Ltd
Priority date: 2023-08-11
Filing date: 2023-08-11
Publication date: 2023-12-05

Abstract

本申请提供一种镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃，所述镀膜玻璃包括第一基板及镀膜结构，所述镀膜结构设置在所述第一基板的至少一个表面上，所述镀膜结构包括至少一个功能叠层，每个所述功能叠层包括依次层叠的下介质层、金属层和上介质层，所述下介质层和所述上介质层中的至少一个包括ZrOx层，其中x满足1＜x≤2，所述ZrOx层的消光系数k小于或等于0.0001。本申请的技术方案能够使镀膜结构具有更好的热处理稳定性和整体机械稳定性。

Description

镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃

技术领域

本申请涉及玻璃技术领域，尤其涉及一种镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃。

背景技术

镀膜玻璃是指利用气相沉积技术在玻璃基板的表面上形成特殊功能的涂层或膜层，气相沉积技术又分为化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。在实际产品中，可以利用物理气相沉积技术制造包含1-4个银层的镀膜玻璃，由于银层具有反射红外线和导电性好等特点，包含银层的镀膜玻璃可以用作隔热玻璃或电加热玻璃。隔热玻璃被安装到交通工具上时可以防止太阳光中的可见光之外的光线、特别是红外线进入内部空间，进而明显降低空调能耗以及提高驾驶员和乘客的热舒适性。电加热玻璃的温度可随着通过电流而升高，进而实现防止起雾或除雾、除霜、除冰等功能，提高驾驶安全性。

镀膜玻璃在制造用作机动车上的隔热玻璃或电加热玻璃时，还需要经过至少500℃的高温热处理和弯曲成型，例如汽车玻璃的烘弯工艺、压制弯曲工艺等，由于银层容易被腐蚀和氧化，需要在每个银层的上方和下方分别设置介质层，这些介质层用于保护银层在烘弯工艺、压制弯曲工艺等后续加工过程中不被破坏，传统镀膜玻璃中的介质层虽然能够提高膜层的机械稳定性和热稳定性，但是氧阻隔能力较差，使得热处理后的镀膜玻璃出现发雾现象，特别是包括3-4个银层的镀膜玻璃还存在膜层附着力差和膜层边缘发红等缺陷。

发明内容

本申请的实施例提供一种镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃，能够使镀膜结构具有更好的热处理稳定性和整体机械稳定性。

第一方面，本申请提供一种镀膜玻璃，包括：

第一基板；及

镀膜结构，所述镀膜结构设置在所述第一基板的至少一个表面上，所述镀膜结构包括至少一个功能叠层，每个所述功能叠层包括依次层叠的下介质层、金属层和上介质层，所述下介质层和所述上介质层中的至少一个包括ZrOx层，其中x满足1＜x≤2，所述ZrOx层的消光系数k小于或等于0.0001。

可以理解的是，消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层在高温热处理过程中表现得更稳定，能够很好地隔离外部高温热传导到金属层，使镀膜玻璃能够经受更高温度的热处理；而且消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层能够更好地隔绝氧离子扩散到金属层，使镀膜结构在热处理后的发雾现象极其轻微且没有边缘发红现象。另外，消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层具有更好的膜基结合力，从而避免在加工的过程中，由于膜层之间的连接强度较弱而与玻璃分离，进而提高镀膜结构的整体机械稳定性。

一种可能的实施方式中，所述镀膜玻璃的雾度小于或等于0.25％。

一种可能的实施方式中，所述ZrOx层的折射率n满足范围：2.00≤n≤2.18。

一种可能的实施方式中，所述金属层的材料选自银、金、铜、铝、铂金中的任意一种金属或金属合金，所述金属层的物理厚度为5nm-20nm。

一种可能的实施方式中，所述上介质层包括两个所述ZrOx层，其中一个所述ZrOx层的折射率大于另一个所述ZrOx层的折射率。

一种可能的实施方式中，所述功能叠层的数量为一个，所述镀膜结构包括依次层叠设置的最内附着层、所述下介质层、所述金属层、所述上介质层和最外保护层，所述上介质层包括1-3个所述ZrOx层。

一种可能的实施方式中，所述功能叠层的数量为两个，两个所述功能叠层分别为第一叠层和第二叠层，所述镀膜结构包括依次层叠设置的最内附着层、所述第一叠层、中间层、所述第二叠层和最外保护层，所述第一叠层的所述上介质层和所述第二叠层的所述上介质层中的至少一个包括1-3个所述ZrOx层。

一种可能的实施方式中，所述功能叠层的数量为三个，三个所述功能叠层分别为第一叠层、第二叠层和第三叠层，所述镀膜结构还包括两个中间层，两个所述中间层分别为第一中间层和第二中间层，所述镀膜结构包括依次层叠设置的最内附着层、所述第一叠层、所述第一中间层、所述第二叠层、所述第二中间层、所述第三叠层和最外保护层，所述第一叠层的所述上介质层、所述第二叠层的所述上介质层和所述第三叠层的所述上介质层中的至少一个包括1-3个所述ZrOx层。

一种可能的实施方式中，所述功能叠层的数量为四个，四个所述功能叠层分别为第一叠层、第二叠层、第三叠层和第四叠层，所述镀膜结构还包括三个中间层，三个所述中间层分别为第一中间层、第二中间层和第三中间层，所述镀膜结构包括依次层叠设置的最内附着层、所述第一叠层、所述第一中间层、所述第二叠层、所述第二中间层、所述第三叠层、所述第三中间层、所述第四叠层和最外保护层，所述第一叠层的所述上介质层、所述第二叠层的所述上介质层、所述第三叠层的所述上介质层和所述第四叠层的所述上介质层中的至少一个包括1-3个所述ZrOx层。

一种可能的实施方式中，所述上介质层中的所述ZrOx层与所述金属层直接接触，或在所述ZrOx层与所述金属层之间设置有阻挡层，所述阻挡层与所述金属层直接接触，所述阻挡层的物理厚度小于或等于5nm，所述阻挡层的材料选自Ti、Ni、Cr、Nb、W中的至少一种金属或金属合金。

一种可能的实施方式中，所述上介质层还包括上介质子层，所述上介质子层位于所述ZrOx层背离所述金属层的一侧，所述上介质子层的材料包括Zr、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb、Bi中的至少一种金属或金属合金的氧化物。

一种可能的实施方式中，所述下介质层包括一个与所述金属层直接接触的第一子层，所述第一子层的材料包括Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb、Bi中的至少一种金属或金属合金的氧化物。

一种可能的实施方式中，所述下介质层中还包括第二子层，所述第二子层位于所述第一子层背离所述金属层的一侧，所述第二子层为所述ZrOx层。

一种可能的实施方式中，所述最内附着层的物理厚度为10nm-40nm，所述上介质层或所述下介质层的物理厚度为5nm-30nm，所述中间层的物理厚度为30nm-70nm，所述最外保护层的物理厚度为5nm-70nm。

一种可能的实施方式中，所述最外保护层的具体结构为：TiOx层/ZnSnOx层/最外子层，所述最外子层的物理厚度为5nm-50nm，所述最外子层的材料包括SiAlZrNx、SiZrNx、SiNx、SiZrOx和SiAlZrOx中的至少一种。

第二方面，本申请提供一种夹层玻璃，包括第二基板、粘结层和所述的镀膜玻璃，所述粘结层连接于所述第二基板与所述镀膜玻璃之间，所述镀膜结构位于所述第一基板和所述第二基板之间。

一种可能的实施方式中，所述第一基板为透明玻璃或超透明玻璃，所述透明玻璃的总铁含量小于或等于0.1％，所述透明玻璃的可见光透过率大于或等于80％；所述超透明玻璃的总铁含量小于或等于0.015％，所述超透明玻璃的可见光透过率大于或等于90％。

第三方面，本申请还提供一种镀膜玻璃的制备方法，包括：

提供第一基板：

在所述第一基板的至少一个表面上通过磁控溅射工艺形成镀膜结构；

所述镀膜结构包括至少一个功能叠层，每个所述功能叠层包括依次层叠的下介质层、金属层和上介质层，所述下介质层和所述上介质层中的至少一个包括ZrOx层，其中x满足1＜x≤2，所述ZrOx层的消光系数k小于或等于0.0001。

一种可能的实施方式中，磁控溅射所述ZrOx层的靶材电源为高功率脉冲磁控溅射电源，磁控溅射所述ZrOx层的靶材为ZrOy陶瓷靶，其中y满足1.4≤y＜2。

附图说明

为了更清楚地说明本申请的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以如这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的夹层玻璃的结构示意图；

图2是图1所示的镀膜玻璃的第一种实施方式的剖面结构示意图；

图3是图1所示的镀膜玻璃的第二种实施方式的剖面结构示意图；

图4是图1所示的镀膜玻璃的第三种实施方式的剖面结构示意图；

图5是图1所示的镀膜玻璃的第四种实施方式的剖面结构示意图；

图6是本申请实施例提供的一种镀膜玻璃的的制备方法的流程示意图。

具体实施方式

为了方便理解，首先对本申请的实施例所涉及的术语进行解释。

和/或：仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。

多个：是指两个或多于两个。

连接：应做广义理解，例如，A与B连接，可以是A与B直接相连，也可以是A与B通过中间媒介间接相连。

化学式中x和y的取值：有明确定义的，以定义的范围为准。未明确定义的，可以根据磁控溅射工艺中以化学计量方式、亚化学计量方式或超化学计量方式沉积等进行确定。

高温热处理：至少500℃的高温热处理，例如生产汽车玻璃的自重弯曲工艺或压制弯曲工艺等。

下面将结合附图，对本申请的具体实施方式进行清楚地描述。

请参阅图1，图1是本申请实施例提供的夹层玻璃1000的结构示意图。夹层玻璃1000包括镀膜玻璃1001、粘结层1002和第二基板1003。粘结层1002连接于第二基板1003与镀膜玻璃1001之间。镀膜玻璃1001包括第一基板100和镀膜结构200。镀膜结构200设置在第一基板100的至少一个表面上。示例性的，镀膜结构200位于第一基板100和第二基板1003之间，即第一基板100设有镀膜结构200的一侧与粘结层1002连接。镀膜结构200包括至少一个功能叠层，每个功能叠层包括依次层叠的下介质层、金属层和上介质层，下介质层和上介质层中的至少一个包括ZrOx层，其中x满足1＜x≤2，ZrOx层的消光系数k小于或等于0.0001。消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层在高温热处理过程中表现得更稳定，能够很好地隔离外部高温热传导到金属层，使镀膜玻璃能够经受更高温度的热处理；而且消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层能够更好地隔绝氧离子扩散到金属层，使镀膜结构在热处理后的发雾现象极其轻微且没有边缘发红现象，使镀膜玻璃1001的雾度小于或等于0.25％，甚至小于或等于0.20％。

需说明的是，图1的目的仅在于示意性的描述镀膜玻璃1001、粘结层1002和第二基板1003的连接关系，并非是对各个设备的连接位置、具体构造及数量做具体限定。而本申请实施例示意的结构并不构成对夹层玻璃1000的具体限定。在本申请另一些实施例中，夹层玻璃1000可以包括比图1所示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者拆分某些部件，或者不同的部件布置。图1所示的部件可以以硬件，软件或软件和硬件的组合实现。

在本申请中，夹层玻璃1000可以安装到车辆上用作前挡玻璃、边窗玻璃、后挡玻璃或天窗玻璃等。每个功能叠层中的下介质层、金属层和上介质层可以分别通过磁控溅射工艺形成。其中，在沿远离第一基板100的方向上，功能叠层中的下介质层位于功能叠层中的金属层的下方，即下介质层比金属层更靠近第一基板100；功能叠层中的上介质层位于功能叠层中的金属层的上方，即功能叠层中的上介质层比功能叠层中的金属层更远离第一基板100。

金属层具有反射红外线和导电性好等特点，包含金属层的镀膜结构200使镀膜玻璃1001及夹层玻璃1000具有隔热功能，进而明显降低空调能耗以及提高驾驶员和乘客的热舒适性。根据实际应用的需要，镀膜结构200中的金属层的数量可以举例为一个、两个、三个、四个、五个甚至更多个。一种可能的实施方式中，镀膜结构200也可以作为透明导电膜使用，此时的夹层玻璃1000通电后具有电加热功能，因此能够升高夹层玻璃1000的温度，进而实现防止起雾或除雾、除霜、除冰等功能，提高驾驶安全性。示例性的，夹层玻璃1000的通电电压可以是12V～380V。其中，金属层的材料选自银、金、铜、铝、铂金中的任意一种金属或金属合金，具体可举例为Ag、AgCu合金、AgIn合金等，金属层的物理厚度为5nm～20nm。

第一基板100和第二基板1003均可以为透明玻璃或超透明玻璃(超白玻璃)。超透明玻璃中的氧化铁(Fe₂O₃)含量较低，超透明玻璃的可见光透过率大于或等于90％。透明玻璃的总铁含量小于或等于0.1％，透明玻璃的可见光透过率大于或等于80％。按重量百分比计算，第一基板100和第二基板1003可以包括0～0.1％的氧化铁(Fe₂O₃)，例如第一基板100和第二基板1003中氧化铁(Fe₂O₃)的含量小于或等于0.09％、小于或等于0.08％、小于或等于0.07％、小于或等于0.05％、小于或等于0.04％、小于或等于0.03％、小于或等于0.02％、小于或等于0.015％或小于或等于0.01％，甚至第一基板100和第二基板1003可以基本不含有氧化铁(Fe₂O₃)。示例性的，第一基板100和第二基板1003可以为钠钙硅超透明玻璃、硼硅酸玻璃或高铝玻璃等。

粘结层1002用于连接第一基板100与第二基板1003，以提高夹层玻璃1000的结构强度，使其满足更多场景的安全标准和法规要求。粘结层1002的材质可以是聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、乙烯醋酸乙烯酯(EVA)、热塑性聚氨酯弹性体(TPU)或离子型聚合物膜(SGP)等。示例性的，粘结层1002可以为单层结构或多层结构，多层结构可以举例有双层结构、三层结构、四层结构、五层结构等。粘结层1002还可以具有其他功能，例如设置至少一个着色区用作阴影带从而降低太阳光对人眼的干扰，或者增添红外线吸收剂从而具有防晒或隔热功能，或者增添紫外线吸收剂从而具有隔紫外线功能，又或者多层结构的至少一层的增塑剂含量更高从而具有隔音功能。

在第一种可能的实施方式中，请参阅图2，图2是图1所示的镀膜玻璃1001的第一种实施方式的剖面结构示意图。镀膜结构200中的功能叠层的数量为一个，镀膜结构200包括依次层叠设置的最内附着层210、第一下介质层221、第一金属层222、第一上介质层223和最外保护层290，第一下介质层221、第一金属层222和第一上介质层223构成一个功能叠层，第一上介质层223包括1-3个ZrOx层。

在第二种可能的实施方式中，请参阅图3，图3是图1所示的镀膜玻璃1001的第二种实施方式的剖面结构示意图。镀膜结构200中的功能叠层的数量为两个，两个功能叠层分别为第一叠层220和第二叠层230，第一叠层220包括第一下介质层221、第一金属层222和第一上介质层223，第二叠层230包括第二下介质层231、第二金属层232和第二上介质层233。镀膜结构200具体包括依次层叠设置的最内附着层210、第一下介质层221、第一金属层222、第一上介质层223、中间层260、第二下介质层231、第二金属层232、第二上介质层233和最外保护层290，第一上介质层223和第二上介质层233中的至少一个包括1-3个ZrOx层。

在第三种可能的实施方式中，请参阅图4，图4是图1所示的镀膜玻璃1001的第三种实施方式的剖面结构示意图。镀膜结构200中的功能叠层的数量为三个，三个功能叠层分别为第一叠层220、第二叠层230和第三叠层240，第一叠层220包括第一下介质层221、第一金属层222和第一上介质层223，第二叠层230包括第二下介质层231、第二金属层232和第二上介质层233，第三叠层240包括第三下介质层241、第三金属层242和第三上介质层243。镀膜结构还包括两个中间层，两个中间层分别为第一中间层260和第二中间层270。镀膜结构200具体包括依次层叠设置的最内附着层210、第一下介质层221、第一金属层222、第一上介质层223、第一中间层260、第二下介质层231、第二金属层232、第二上介质层233、第二中间层270、第三下介质层241、第三金属层242、第三上介质层243和最外保护层290，第一上介质层223、第二上介质层233和第三上介质层243中的至少一个包括1-3个ZrOx层。

在第四种可能的实施方式中，请参阅图5，图5是图1所示的镀膜玻璃1001的第四种实施方式的剖面结构示意图。镀膜结构200中的功能叠层的数量为四个，四个功能叠层分别为第一叠层220、第二叠层230、第三叠层240和第四叠层250，第一叠层220包括第一下介质层221、第一金属层222和第一上介质层223，第二叠层230包括第二下介质层231、第二金属层232和第二上介质层233，第三叠层240包括第三下介质层241、第三金属层242和第三上介质层243，第四叠层250包括第四下介质层251、第四金属层252和第四上介质层253。镀膜结构还包括三个中间层，三个中间层分别为第一中间层260、第二中间层270和第三中间层280。镀膜结构200具体包括依次层叠设置的最内附着层210、第一下介质层221、第一金属层222、第一上介质层223、第一中间层260、第二下介质层231、第二金属层232、第二上介质层233、第二中间层270、第三下介质层241、第三金属层242、第三上介质层243、第三中间层280、第四下介质层251、第四金属层252、第四上介质层253和最外保护层290，第一上介质层223、第二上介质层233、第三上介质层243和第四上介质层中的至少一个包括1-3个ZrOx层。

在图2、图3、图4和图5中，最内附着层210直接沉积在第一基板100的表面上，用于减少或防止碱金属离子从玻璃扩散到镀膜结构200中，还可以增加镀膜结构200与第一基板100的表面之间的附着力，以及有助于调节镀膜结构200的机械性能、光学性能和高温热处理性能。最内附着层210为第一基板100的表面和第一叠层220之间的所有膜层，最内附着层210可以为单一膜层，也可以由多个子膜层构成。在一些实施方式中，最内附着层210的物理厚度为10nm-40nm，最内附着层210的材料可以选自Si、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb、Bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物，具体可举例为SiAlZrNx、NbOx、SiNx、ZnSnOx、SiZrNx等。

在每个功能叠层中，上介质层主要用于保护金属层免受氧离子的破坏，上介质层的物理厚度为5nm-30nm，上介质层可以为单一膜层，也可以由多个子膜层构成。优选地，上介质层可以包括1-3个消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层，ZrOx层在高温热处理过程中表现得更稳定，能够很好地隔离外部高温热传导到金属层，使镀膜玻璃能够经受更高温度的热处理；而且消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层能够更好地隔绝氧离子扩散到金属层，使镀膜结构在热处理后的发雾现象极其轻微且没有边缘发红现象，使镀膜玻璃1001的雾度小于或等于0.25％，甚至小于或等于0.20％。优选地，ZrOx层的消光系数k≤0.00009，或k≤0.00008，k≤0.00007，k≤0.00006，k≤0.00005等。

其中，上介质层中的ZrOx层与金属层直接接触，或在ZrOx层与金属层之间设置有阻挡层，阻挡层与金属层直接接触，阻挡层的物理厚度小于或等于5nm，阻挡层的材料选自Ti、Ni、Cr、Nb、W中的至少一种金属或金属合金，阻挡层主要用于防止金属层在磁控溅射过程中与氧化反应气体接触以及改进镀膜结构200的光学性能等。

在一些实施方式中，上介质层可以为单一膜层，单一膜层为ZrOx层时，ZrOx层与金属层直接接触或与阻挡层直接接触。在另一些实施方式中，上介质层也可以由多个子膜层构成，多个子膜层中的1个、2个或3个子膜层为ZrOx层。当多个子膜层中的1个子膜层为ZrOx层时，ZrOx层与金属层直接接触或与阻挡层直接接触。当多个子膜层中的2个子膜层为ZrOx层时，其中一个ZrOx层的折射率大于另一个ZrOx层的折射率，折射率更大的ZrOx层与金属层直接接触或与阻挡层直接接触。当多个子膜层中的3个子膜层为ZrOx层时，其中一个ZrOx层的折射率大于另两个ZrOx层的折射率，折射率更大的ZrOx层与金属层直接接触或与阻挡层直接接触。还有一些实施方式中，多个子膜层中还包括上介质子层，上介质子层位于ZrOx层背离金属层的一侧，上介质子层的材料包括Zr、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb、Bi中的至少一种金属或金属合金的氧化物，例如ZnO、AZO、ZnSnOx等。

在每个功能叠层中，下介质层主要用于保护金属层免受碱金属离子的破坏以及作为金属层的结晶种子层以提高其沉积致密度，下介质层的物理厚度为5nm-30nm，下介质层可以为单一膜层，也可以由多个子膜层构成。在一些实施方式中，下介质层包括一个与金属层直接接触的第一子层，第一子层的材料包括Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb、Bi中的至少一种金属或金属合金的氧化物，例如ZnO、AZO、ZnSnOx等。在另一些实施方式中，下介质层中还包括第二子层，第二子层位于第一子层背离金属层的一侧，第二子层为ZrOx层。

在图3、图4和图5中，镀膜结构200包括至少两个功能叠层，在相邻两个功能叠层之间设置有中间层，即第一中间层260、第二中间层270、第三中间层280，中间层的物理厚度为30nm-70nm。具体地，第一中间层260位于第一上介质层223和第二下介质层231之间，第二中间层270位于第二上介质层233和第三下介质层241之间，第三中间层280位于第三上介质层243和第四下介质层251之间。这些中间层可以提高镀膜结构200的平整度以及改善反射颜色，这些中间层可以为单一膜层，也可以由多个子膜层构成。在一些实施方式中，第一中间层260、第二中间层270和第三中间层280的材料可以选自Si、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb、Bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物，具体可举例为ZrNx、SiOx、SiOxNy、SiAlZrNx、SiZrNx、SiNx、SiZrOx、SiAlZrOx、ZnSnOx、AZO、ITO等。

在图2、图3、图4和图5中，最外保护层290沉积在最远离第一基板100的功能叠层的外侧，图2中的最外保护层290沉积在功能叠层的远离第一基板100的一侧，图3中的最外保护层290沉积在第二叠层230的远离第一基板100的一侧，图4中的最外保护层290沉积在第三叠层240的远离第一基板100的一侧，图5中的最外保护层290沉积在第四叠层250的远离第一基板100的一侧，最外保护层290主要用于保护功能叠层中的金属层免受腐蚀和机械损伤，以及有利于调节镀膜结构200的机械性能、光学性能和高温热处理性能。最外保护层290为镀膜结构200中的最远离第一基板100的功能叠层的外侧的所有膜层，最外保护层290可以为单一膜层，也可以由多个子膜层构成。其中，最外保护层290的物理厚度可以在5nm～70nm之间(包括端点值5nm和70nm)。

在一些实施方式中，最外保护层290的材料也可以选自Si、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb、Bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物，具体可举例为ZrNx、SiOx、SiOxNy、SiAlZrNx、SiZrNx、SiNx、SiZrOx、SiAlZrOx等。

还有一些实施方式中，最外保护层290包含三个子膜层，其具体结构可以为：TiOx层291/ZnSnOx层292/最外子层293，最外子层293的物理厚度为5nm-50nm，最外子层293的材料包括SiAlZrNx、SiZrNx、SiNx、SiZrOx和SiAlZrOx中的至少一种，TiOx层291的物理厚度小于或等于20nm，ZnSnOx层292的物理厚度小于或等于20nm，采用TiOx层291/ZnSnOx层292/最外子层293的结构可以使镀膜结构200具有更优的热延展性能，在高温热处理过程中能够保证镀膜结构200不开裂。

另一些实施方式中，最外保护层290包含两个子膜层，其具体结构可以为：TiOx层291/ZnSnOx层292。TiOx层291的物理厚度小于或等于20nm，ZnSnOx层292的物理厚度小于或等于20nm。

本申请还提供一种镀膜玻璃1001的制备方法，请参阅图6，图6是本申请实施例提供的一种镀膜玻璃1001的的制备方法的流程示意图。该制备方法包括：

S100：提供第一基板100。

S200：在第一基板100的至少一个表面上通过磁控溅射工艺形成镀膜结构200；

镀膜结构200包括至少一个功能叠层，每个功能叠层包括依次层叠的下介质层、金属层和上介质层，下介质层和上介质层中的至少一个包括ZrOx层，其中x满足1＜x≤2，ZrOx层的消光系数k小于或等于0.0001。

在本申请中，磁控溅射ZrOx层的靶材电源为高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)，磁控溅射ZrOx层的靶材为ZrOy陶瓷靶，其中y满足1.4≤y＜2。

采用HiPIMS电源沉积ZrOx层(HiPIMS)改变了ZrOx层(HiPIMS)的致密性，进而改变了ZrOx层(HiPIMS)的折射率n和消光系数k，采用HiPIMS电源磁控溅射得到的ZrOx层的折射率n＝2.00～2.18，消光系数k≤0.0001，有利于扩大ZrOx层(HiPIMS)的应用范围。

其中，消光系数k具体可举例为0.0001、0.00009、0.00008、0.00007、0.00006、0.00005、0.00004、0.00003、0.00002、0.00001，甚至小于0.00001，优选ZrOx层的消光系数k≤0.00005。其中，折射率n具体可举例为2.00、2.01、2.02、2.03、2.04、2.05、2.06、2.07、2.08、2.09、2.10、2.11、2.12、2.13、2.14、2.15、2.16、2.17、2.18等，优选ZrOx层的折射率n＝2.05～2.15。

对比例1-6和实施例1-12

本申请准备2.1mm厚的透明玻璃基板，通过磁控溅射工艺在透明玻璃基板的表面上沉积对比例1-6和实施例1-12的膜层结构，并测量对比例1-6和实施例1-12的镀膜玻璃测试样品在高温热处理前的铅笔硬度，以及测量对比例2-6和实施例1-12在高温热处理后的折射率n和消光系数k，将测量结果计入表1中。

对比例1：透明玻璃基板/Ag层。

对比例2：透明玻璃基板/Ag层/DLC层，磁控溅射DLC层的靶材为石墨靶，工艺气体为Ar，靶材电源为高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)，占空比为5％～17％。

对比例3：透明玻璃基板/Ag层/AZO层，磁控溅射AZO层的靶材为AZO陶瓷靶，工艺气体为Ar和O₂，靶材电源为中频磁控溅射电源(MF)，占空比为100％。

对比例4-6：透明玻璃基板/Ag层/ZrOx层，磁控溅射ZrOx层的靶材为ZrOy陶瓷靶(y＝1.4)，工艺气体为Ar和O₂，靶材电源为中频磁控溅射电源(MF)，占空比为100％。

实施例1-12：透明玻璃基板/Ag层/ZrOx层，磁控溅射ZrOx层的靶材为ZrOy陶瓷靶(y＝1.4)，工艺气体为Ar和O₂，靶材电源为高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)，占空比为5％～17％。

其中，磁控溅射对比例1-6和实施例1-12的Ag层的靶材为银金属靶，工艺气体为Ar，靶材电源为直流电源(DC)。

表1：对比例1-6和实施例1-12的镀膜玻璃测试样品的测量结果

从表1中可以看出，对比例1的Ag层的硬度较差，对比例2在Ag层上沉积的DLC层(HiPIMS)的消光系数k远远大于0.0001，对比例3在Ag层上沉积的AZO层(MF)的消光系数k大于0.0001，对比例4-6在Ag层上沉积的ZrOx层(MF)的消光系数k均大于0.001。与对比例1-6相比，实施例1-12通过采用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)作为靶材电源，可以将ZrOx层(HiPIMS)的消光系数k降低至小于0.0001，甚至小于或等于0.00005，更甚至小于或等于0.00001，显然ZrOx层(HiPIMS)比DLC层、AZO层甚至ZrOx层(MF)都具有更低的消光系数，ZrOx层(HiPIMS)更有利于在功能叠层的下介质层和上介质层中使用，特别适合在功能叠层的上介质层中使用，从而能够更好地隔离外部高温热传导到金属层以及更好地隔绝氧离子扩散到金属层。

一般来说，中频磁控溅射电源(MF)在工作时的占空比基本为100％，即MF电源对靶材不间断作用，而高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)在工作时的占空比为5％～17％，即HiPIMS电源对靶材作用时间较短，当沉积相同材料时，在相同工艺条件下，HiPIMS电源的溅射速率通常低于MF电源的溅射速率，但从对比例4-6和实施例1-12对比来看，在ZrOx材料上出现了相反的情况，这是由于ZrOx材料的导电性差和难电离相关，MF电源较难以将靶材完全电离，在溅射过程中往往出现电压不稳定、靶材打火花、打弧报警严重等问题。与对比例4-6采用MF电源沉积ZrOx层相比，实施例1-12采用HiPIMS电源沉积ZrOx层的溅射速率提高了21.9％～68％，溅射速率的提高有利于材料的应用，大大节约了材料应用所需的腔位、阴极、电源等成本。

从表1中还可以看出，采用MF电源沉积的ZrOx层(MF)的折射率n大于2.2、消光系数k＞0.001，而采用HiPIMS电源沉积的ZrOx层(HiPIMS)更低的折射率n＝2.00～2.18，更具体地n＝2.06～2.12，以及更低的消光系数k≤0.0001，甚至k≤0.00005。也就是说，采用HiPIMS电源沉积ZrOx层(HiPIMS)改变了ZrOx层(HiPIMS)的致密性，进而改变了ZrOx层(HiPIMS)的折射率n和消光系数k，有利于扩大ZrOx层(HiPIMS)的应用范围。由此可见，在镀膜结构200中采用ZrOx层(HiPIMS)，不仅能够提高镀膜结构200的膜层硬度，提升镀膜玻璃的抗划伤能力和耐加工性能，还更有利于进行膜系设计以及调节镀膜结构200对不同波长光线的透过率、反射率、吸收率等光学性能。

对比例7-9和实施例13-17

本申请准备2.1mm厚的透明玻璃基板，通过磁控溅射工艺在透明玻璃基板的表面上沉积对比例7-9和实施例13-17的镀膜结构200，该镀膜结构200具有三个功能叠层，具体包括依次层叠设置的最内附着层210、第一下介质层221、第一金属层222、第一上介质层223、第一中间层260、第二下介质层231、第二金属层232、第二上介质层233、第二中间层270、第三下介质层241、第三金属层242、第三上介质层243和最外保护层290，第一上介质层223、第二上介质层233和第三上介质层243中的至少一个包括1-3个ZrOx层(HiPIMS)。

测量对比例7-9和实施例13的镀膜结构200在高温热处理前后的方块电阻R、铅笔硬度和酒精擦拭实验结果，并观察对比例7-9和实施例13的镀膜玻璃1001在高温热处理后的整体外观、边部外观，以及测量对比例7-9和实施例13的镀膜玻璃1001在高温热处理后的雾度，将测量结果计入表2中。

表2：对比例7-9和实施例13的镀膜玻璃1001的测量结果

测量实施例14-17的镀膜结构200在高温热处理前后的方块电阻R、铅笔硬度和酒精擦拭实验结果，并观察实施例14-17的镀膜玻璃1001在高温热处理后的整体外观、边部外观，以及测量实施例14-17的镀膜玻璃1001在高温热处理后的雾度，将测量结果计入表3中。

表3：实施例14-17的镀膜玻璃1001的测量结果

从表2和表3中可以看出：

对比例7使用中频磁控溅射电源(MF)沉积AZO层(n＝1.94，k＝0.04041)作为第一叠层中的第一上介质层、第二叠层中的第二上介质层和第三叠层中的第三上介质层，镀膜结构200在高温热处理前经酒精擦拭实验仅10次就出现膜层脱落现象，说明其膜层附着力较差，不利于后续深加工，而且镀膜结构200在高温热处理后出现轻微发雾现象。

对比例8使用中频磁控溅射电源(MF)沉积AZO层(n＝1.94，k＝0.04041)作为第一叠层中的第一上介质层、第二叠层中的第二上介质层和第三叠层中的第三上介质层，并在每个金属层和上介质层之间增加NiCr层(n＝2.55，k＝1.22)作为阻隔层，镀膜结构200在高温热处理前经酒精擦拭实验满足要求且降低了在高温热处理后的雾度，但由于AZO层和NiCr层的消光系数k远大于0.0001，使镀膜玻璃1001在高温热处理过程中的边缘局部区域因深色油墨的缘故而吸热更多，最终产生边部外观发红现象。

对比例9使用中频磁控溅射电源(MF)沉积AZO层(n＝1.94，k＝0.04041)作为第一叠层中的第一上介质层、第二叠层中的第二上介质层和第三叠层中的第三上介质层，并在每个金属层和上介质层之间增加NiCrOx层(n＝2.90，k＝1.42)作为阻隔层，镀膜结构200在高温热处理前经酒精擦拭实验满足要求且降低了在高温热处理后的雾度，但由于AZO层和NiCr层的消光系数k远大于0.0001，使镀膜玻璃1001在高温热处理过程中的边缘局部区域因深色油墨的缘故而吸热更多，最终产生边部外观发红现象。

实施例13使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)沉积ZrOx层(n＝2.10，k＝0.00002)作为第一叠层中的第一上介质层、第二叠层中的第二上介质层和第三叠层中的第三上介质层，镀膜结构200在高温热处理前经酒精擦拭实验满足要求且降低了在高温热处理后的雾度，使镀膜玻璃1001在高温热处理后的雾度小于0.25％，且整体外观均匀，边部外观无发红现象。

实施例14使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)沉积ZrOx层(n＝2.11，k＝0.00002)以及使用中频磁控溅射电源(MF)沉积AZO层(n＝1.976，k＝0.00047)作为第一叠层中的第一上介质层、第二叠层中的第二上介质层和第三叠层中的第三上介质层，每个上介质层中的ZrOx层(n＝2.11，k＝0.00002)与金属层直接接触，每个上介质层中的AZO层位于ZrOx层(n＝2.11，k＝0.00002)背离金属层的一侧，镀膜结构200在高温热处理前经酒精擦拭实验满足要求且降低了在高温热处理后的雾度，使镀膜玻璃1001在高温热处理后的雾度小于或等于0.20％，且整体外观均匀，边部外观无发红现象。

实施例15使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)沉积ZrOx层(n＝2.15，k＝0.00005)和ZrOx层(n＝2.09，k＝0.00002)作为第一叠层中的第一上介质层、第二叠层中的第二上介质层和第三叠层中的第三上介质层，每个上介质层中的ZrOx层(n＝2.15，k＝0.00005)与金属层直接接触，每个上介质层中的ZrOx层(n＝2.09，k＝0.00002)位于ZrOx层(n＝2.15，k＝0.00005)背离金属层的一侧，镀膜结构200在高温热处理前经酒精擦拭实验满足要求且降低了在高温热处理后的雾度，使镀膜玻璃1001在高温热处理后的雾度小于0.25％，且整体外观均匀，边部外观无发红现象。

实施例16使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)沉积ZrOx层(n＝2.08，k＝0.00002)以及使用中频磁控溅射电源(MF)沉积TiOx层(n＝2.48，k＝0.00095)作为第一叠层中的第一上介质层和第二叠层中的第二上介质层，并使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)沉积ZrOx层(n＝2.09，k＝0.00002)作为第三叠层中的第三上介质层，每个上介质层中的ZrOx层(n＝2.08，k＝0.00002)与金属层直接接触，上介质层中的TiOx层位于ZrOx层(n＝2.08，k＝0.00002)背离金属层的一侧，镀膜结构200在高温热处理前经酒精擦拭实验满足要求且降低了在高温热处理后的雾度，使镀膜玻璃1001在高温热处理后的雾度小于0.25％，且整体外观均匀，边部外观无发红现象。

实施例17使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)沉积ZrOx层(n＝2.09，k＝0.00002)作为第一叠层中的第一上介质层、第二叠层中的第二上介质层和第三叠层中的第三上介质层，以及使用中频磁控溅射电源(MF)沉积AZO层(n＝1.976，k＝0.00047)、使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)沉积ZrOx层(n＝2.12，k＝0.00002)作为第一叠层中的第一下介质层、第二叠层中的第二下介质层和第三叠层中的第三下介质层，每个下介质层中的AZO层与金属层直接接触，每个下介质层中的ZrOx层(n＝2.12，k＝0.00002)位于AZO层背离金属层的一侧，镀膜结构200在高温热处理前经酒精擦拭实验满足要求且降低了在高温热处理后的雾度，使镀膜玻璃1001在高温热处理后的雾度小于或等于0.20％，且整体外观均匀，边部外观无发红现象。

在表2和表3中，实施例13-17的镀膜结构200在经过高温热处理后的方块电阻R均能够降低至小于或等于1.1Ω/□，且在高温热处理前后的酒精擦拭均满足要求，以及在高温热处理前后的铅笔硬度与对比例7-9相比均有所提高，甚至实施例17在高温热处理后的铅笔硬度达到了9H，证明了使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)不仅可以促进ZrOy陶瓷靶电离来提高溅射速率，同时制备的ZrOx层具有结构致密、表面光滑等优点，消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层在高温热处理过程中表现得更稳定，能够很好地隔离外部高温热传导到金属层，使镀膜玻璃能够经受更高温度的热处理；而且消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层能够更好地隔绝氧离子扩散到金属层，使镀膜结构在热处理后的发雾现象极其轻微且没有边缘发红现象。另外，消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层具有更好的膜基结合力，从而避免在加工的过程中，由于膜层之间的连接强度较弱而与玻璃分离，进而提高镀膜结构的整体机械稳定性。

对比例10和实施例18-20

本申请准备2.1mm厚的透明玻璃基板，通过磁控溅射工艺在透明玻璃基板的表面上沉积对比例10和实施例18-20的镀膜结构200，该镀膜结构200具有四个功能叠层，具体包括依次层叠设置的最内附着层210、第一下介质层221、第一金属层222、第一上介质层223、第一中间层260、第二下介质层231、第二金属层232、第二上介质层233、第二中间层270、第三下介质层241、第三金属层242、第三上介质层243、第三中间层280、第四下介质层251、第四金属层252、第四上介质层253和最外保护层290，第一上介质层223、第二上介质层233、第三上介质层243和第四上介质层253中的至少一个包括1-3个ZrOx层(HiPIMS)。

测量对比例10和实施例18-20的镀膜结构200在高温热处理前后的方块电阻R、铅笔硬度和酒精擦拭实验结果，并观察对比例10和实施例18-20的镀膜玻璃1001在高温热处理后的整体外观、边部外观，以及测量对比例10和实施例18-20的镀膜玻璃1001在高温热处理后的雾度，将测量结果计入表4中。

表4：对比例10和实施例18-20的镀膜玻璃1001的测量结果

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从表4中可以看出：

对比例10使用中频磁控溅射电源(MF)沉积AZO层(n＝1.94，k＝0.04041)作为第一叠层中的第一上介质层、第二叠层中的第二上介质层、第三叠层中的第三上介质层和第四叠层中的第四上介质层，镀膜结构200在高温热处理后的铅笔硬度下降，且出现轻微发雾现象，说明其热处理稳定性较差，难以满足生产汽车玻璃的自重弯曲工艺或压制弯曲工艺等的使用要求。

实施例18使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)沉积ZrOx层(n＝2.09，k＝0.00002)作为第一叠层中的第一上介质层、第二叠层中的第二上介质层、第三叠层中的第三上介质层和第四叠层中的第四上介质层，镀膜结构200在高温热处理后的铅笔铅笔硬度没有下降且降低了在高温热处理后的雾度，使镀膜玻璃1001在高温热处理后的雾度等于0.25％，且整体外观均匀、边部外观正常。

实施例19使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)沉积ZrOx层(n＝2.12，k＝0.00002)和ZrOx层(n＝2.10，k＝0.00002)作为第一叠层中的第一上介质层、第二叠层中的第二上介质层、第三叠层中的第三上介质层和第四叠层中的第四上介质层，每个上介质层中的ZrOx层(n＝2.12，k＝0.00002)与金属层直接接触，每个上介质层中的ZrOx层(n＝2.10，k＝0.00002)位于ZrOx层(n＝2.12，k＝0.00002)背离金属层的一侧，镀膜结构200在高温热处理后的铅笔铅笔硬度没有下降且降低了在高温热处理后的雾度，使镀膜玻璃1001在高温热处理后的雾度小于0.25％，且整体外观均匀、边部外观正常。

实施例20使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)沉积ZrOx层(n＝2.08，k＝0.00002)作为第一叠层中的第一上介质层、第二叠层中的第二上介质层、第三叠层中的第三上介质层和第四叠层中的第四上介质层，以及使用中频磁控溅射电源(MF)沉积AZO层(n＝1.976，k＝0.00047)、使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)沉积ZrOx层(n＝2.09，k＝0.00002)作为第一叠层中的第一下介质层、第二叠层中的第二下介质层、第三叠层中的第三下介质层和第四叠层中的第四下介质层，每个下介质层中的AZO层与金属层直接接触，每个下介质层中的ZrOx层(n＝2.09，k＝0.00002)位于AZO层背离金属层的一侧，镀膜结构200在高温热处理后的铅笔铅笔硬度有所提高且降低了在高温热处理后的雾度，使镀膜玻璃1001在高温热处理后的雾度小于0.25％，且整体外观均匀、边部外观正常。

在表4中，实施例18-20的镀膜结构200在经过高温热处理后的方块电阻R均能够降低小于或等于0.8Ω/□，甚至小于或等于0.75Ω/□，且在高温热处理前后的酒精擦拭均满足要求，以及在高温热处理前后的铅笔硬度与对比例10相比均有所提高，甚至实施例20在高温热处理后的铅笔硬度达到了大于9H，证明了使用高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS)不仅可以促进ZrOy陶瓷靶电离来提高溅射速率，同时制备的ZrOx层具有结构致密、表面光滑等优点，消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层在高温热处理过程中表现得更稳定，能够很好地隔离外部高温热传导到金属层，使镀膜玻璃能够经受更高温度的热处理；而且消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层能够更好地隔绝氧离子扩散到金属层，使镀膜结构在热处理后的发雾现象极其轻微且没有边缘发红现象。另外，消光系数k小于或等于0.0001的ZrOx层具有更好的膜基结合力，从而避免在加工的过程中，由于膜层之间的连接强度较弱而与玻璃分离，进而提高镀膜结构的整体机械稳定性。

以上对本申请实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想。同时，对于本领域的一般技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims

1.一种镀膜玻璃，其特征在于，包括：

第一基板；及

2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃的雾度小于或等于0.25％。

3.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述ZrOx层的折射率n满足范围：2.00≤n≤2.18。

4.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述金属层的材料选自银、金、铜、铝、铂金中的任意一种金属或金属合金，所述金属层的物理厚度为5nm-20nm。

5.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述上介质层包括两个所述ZrOx层，其中一个所述ZrOx层的折射率大于另一个所述ZrOx层的折射率。

6.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述功能叠层的数量为一个，所述镀膜结构包括依次层叠设置的最内附着层、所述下介质层、所述金属层、所述上介质层和最外保护层，所述上介质层包括1-3个所述ZrOx层。

7.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述功能叠层的数量为两个，两个所述功能叠层分别为第一叠层和第二叠层，所述镀膜结构包括依次层叠设置的最内附着层、所述第一叠层、中间层、所述第二叠层和最外保护层，所述第一叠层的所述上介质层和所述第二叠层的所述上介质层中的至少一个包括1-3个所述ZrOx层。

8.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述功能叠层的数量为三个，三个所述功能叠层分别为第一叠层、第二叠层和第三叠层，所述镀膜结构还包括两个中间层，两个所述中间层分别为第一中间层和第二中间层，所述镀膜结构包括依次层叠设置的最内附着层、所述第一叠层、所述第一中间层、所述第二叠层、所述第二中间层、所述第三叠层和最外保护层，所述第一叠层的所述上介质层、所述第二叠层的所述上介质层和所述第三叠层的所述上介质层中的至少一个包括1-3个所述ZrOx层。

9.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述功能叠层的数量为四个，四个所述功能叠层分别为第一叠层、第二叠层、第三叠层和第四叠层，所述镀膜结构还包括三个中间层，三个所述中间层分别为第一中间层、第二中间层和第三中间层，所述镀膜结构包括依次层叠设置的最内附着层、所述第一叠层、所述第一中间层、所述第二叠层、所述第二中间层、所述第三叠层、所述第三中间层、所述第四叠层和最外保护层，所述第一叠层的所述上介质层、所述第二叠层的所述上介质层、所述第三叠层的所述上介质层和所述第四叠层的所述上介质层中的至少一个包括1-3个所述ZrOx层。

10.根据权利要求6-9任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述上介质层中的所述ZrOx层与所述金属层直接接触，或在所述ZrOx层与所述金属层之间设置有阻挡层，所述阻挡层与所述金属层直接接触，所述阻挡层的物理厚度小于或等于5nm，所述阻挡层的材料选自Ti、Ni、Cr、Nb、W中的至少一种金属或金属合金。

11.根据权利要求6-9任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述上介质层还包括上介质子层，所述上介质子层位于所述ZrOx层背离所述金属层的一侧，所述上介质子层的材料包括Zr、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb、Bi中的至少一种金属或金属合金的氧化物。

12.根据权利要求6-9任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述下介质层包括一个与所述金属层直接接触的第一子层，所述第一子层的材料包括Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb、Bi中的至少一种金属或金属合金的氧化物。

13.根据权利要求12所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述下介质层中还包括第二子层，所述第二子层位于所述第一子层背离所述金属层的一侧，所述第二子层为所述ZrOx层。

14.根据权利要求6-9任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述最内附着层的物理厚度为10nm-40nm，所述上介质层或所述下介质层的物理厚度为5nm-30nm，所述中间层的物理厚度为30nm-70nm，所述最外保护层的物理厚度为5nm-70nm。

15.根据权利要求6-9任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述最外保护层的具体结构为：TiOx层/ZnSnOx层/最外子层，所述最外子层的物理厚度为5nm-50nm，所述最外子层的材料包括SiAlZrNx、SiZrNx、SiNx、SiZrOx和SiAlZrOx中的至少一种。

16.一种夹层玻璃，其特征在于，包括第二基板、粘结层和根据权利要求1-15任一项所述的镀膜玻璃，所述粘结层连接于所述第二基板与所述镀膜玻璃之间，所述镀膜结构位于所述第一基板和所述第二基板之间。

17.根据权利要求16所述的夹层玻璃，其特征在于，所述第一基板为透明玻璃或超透明玻璃，所述透明玻璃的总铁含量小于或等于0.1％，所述透明玻璃的可见光透过率大于或等于80％；所述超透明玻璃的总铁含量小于或等于0.015％，所述超透明玻璃的可见光透过率大于或等于90％。

18.一种镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括：

提供第一基板：

19.根据权利要求18所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，磁控溅射所述ZrOx层的靶材电源为高功率脉冲磁控溅射电源，磁控溅射所述ZrOx层的靶材为ZrOy陶瓷靶，其中y满足1.4≤y＜2。