CN116848449A - 光学装置、光源装置以及光纤激光器 - Google Patents

光学装置、光源装置以及光纤激光器 Download PDF

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Abstract

光学装置例如具备：基座(21a)；发光元件(32)，其设置于基座(21a)上，且输出激光；多个光学部件，它们设置于基座(21a)上，且将从发光元件(32)输出的激光引导至光纤(107)并与该光纤(107)耦合；以及遮蔽部(101d1)，其设置于基座(21a)上，且遮挡在作为光学部件的第一光学部件中从规定的光路偏离并朝向作为光学部件的第二光学部件的杂散光，并且将该杂散光向从第一光学部件偏移的方向反射。在光学装置中，遮蔽部(101d1)也可以将杂散光向远离基座(21a)的方向反射。

Description

光学装置、光源装置以及光纤激光器
技术领域
本发明涉及光学装置、光源装置以及光纤激光器。
背景技术
以往，已知有具备对从规定的光路偏离的光即杂散光(泄漏光)进行处理的处理部的光学装置(例如，专利文献1)。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2017/134911号
发明内容
发明要解决的课题
如专利文献1的光学装置那样，在这种光学装置中，抑制杂散光带来的负面影响是重要的。
因此，本发明的课题之一是得到能够抑制杂散光带来的负面影响的、具备进一步改善的新结构的光学装置、光源装置以及光纤激光器。
用于解决课题的方案
本发明的光学装置例如具备：基座；发光元件，其设置于所述基座上，且输出激光；多个光学部件，它们设置于所述基座上，且将从所述发光元件输出的激光引导至光纤并与该光纤耦合；以及遮蔽部，其设置于所述基座上，且遮挡在作为所述光学部件的第一光学部件中从规定的光路偏离并朝向作为所述光学部件的第二光学部件的杂散光，并且将该杂散光向从所述第一光学部件偏移的方向反射。
在所述光学装置中，也可以是，所述遮蔽部将所述杂散光向远离所述基座的方向反射。
在所述光学装置中，也可以是，所述遮蔽部反射所述杂散光并且吸收所述杂散光。
在所述光学装置中，也可以是，所述第一光学部件经由接合材料而固定于所述基座，所述遮蔽部遮挡朝向所述接合材料的所述杂散光。
在所述光学装置中，也可以是，所述第一光学部件经由所述接合材料而固定于从所述基座的表面突出的突出部。
也可以是，所述光学装置具备：第一子单元，其包括向第一方向传输激光的至少一个所述光学部件；以及第二子单元，其包括向所述第一方向的相反方向传输激光的至少一个所述光学部件，所述遮蔽部遮挡从所述第一子单元向所述第一方向前进的所述杂散光以及从所述第二子单元向所述第一方向的相反方向前进的所述杂散光中的至少一方并且进行反射。
在所述光学装置中，也可以是，所述遮蔽部遮挡从所述第一子单元向所述第一方向前进的所述杂散光以及从所述第二子单元向所述第一方向的相反方向前进的所述杂散光这两方，并且进行反射。
在所述光学装置中，也可以是，所述遮蔽部位于所述第一子单元与所述第二子单元之间。
也可以是，所述光学装置具备：多个第一子单元，它们分别包括向第一方向传输激光的至少一个所述光学部件；多个遮蔽部，它们与各个所述第一子单元对应地设置，分别作为遮挡向所述第一方向前进的所述杂散光并且向第二方向反射该杂散光的所述遮蔽部；以及吸收部，其接收由所述多个遮蔽部反射的所述杂散光并吸收该杂散光。
也可以是，所述光学装置具备：多个第一子单元，它们分别包括向第一方向传输激光的至少一个所述光学部件；多个第一遮蔽部，它们与各个所述第一子单元对应地设置，分别作为遮挡向所述第一方向前进的所述杂散光并且向第二方向反射该杂散光的多个遮蔽部；多个第二子单元，它们分别包括向第一方向的相反方向传输激光的至少一个所述光学部件；多个第二遮蔽部，它们与各个所述第二子单元对应地设置，分别作为遮挡向所述第一方向的相反方向前进的所述杂散光并且向所述第二方向反射该杂散光的多个遮蔽部；以及吸收部，其接收来自所述多个第一遮蔽部以及所述多个第二遮蔽部的所述杂散光并吸收该杂散光。
在所述光学装置中，也可以是，所述遮蔽部具有将朝向第三方向的所述杂散光向该第三方向的相反方向和与所述第三方向正交的第四方向之间的第五方向反射的反射面，在所述光学部件具有端点的结构中，所述端点相对于所述反射面在所述第三方向的相反方向上分离设置，从所述基座的表面向所述第四方向突出，且是所述第三方向的端面中的所述第四方向的端部，在将所述端点与所述反射面中的所述杂散光的光轴的位置即反射点的所述第三方向上的距离设为Xd、将所述光轴与所述端点的所述第四方向上的距离设为Zd、将所述杂散光相对于所述反射面的入射角设为α、将所述杂散光的光束宽度设为Wb时，满足以下的式子(1)Xd·tan(2α)-0.5·Wb/cos(2α)＞Zd···(1)。
在所述光学装置中，也可以是，在所述基座设置有供制冷剂通过的冷却通路，所述遮蔽部经由所述基座而与所述制冷剂热连接。
另外，本发明的光学装置例如具备：多个光学部件，它们将激光引导至光纤并与该光纤耦合；以及遮蔽部，其遮挡在所述光学部件中从规定的光路偏离的杂散光，并且将该杂散光向从所述光学部件偏移的方向反射。
也可以是，所述光学装置具备基座，所述基座具有设置有所述多个光学部件的表面，所述遮蔽部从所述表面突出，并且将所述杂散光向远离所述表面的方向反射。
也可以是，作为所述光学部件，具备将向第六方向前进的第一激光向第七方向反射，并且使向所述第七方向前进的第二激光透过的光学元件，来自所述光学元件的杂散光包含未被所述光学元件反射而从该光学元件向所述第六方向前进的所述第一激光的杂散光以及未透过所述光学元件而从该光学元件向所述第六方向前进的所述第二激光的杂散光中的至少一方，所述遮蔽部位于相对于所述光学元件而在所述第六方向上分离的位置。
另外，本发明的光源装置例如具备所述光学装置。
另外，本发明的光纤激光器例如具备所述光源装置；以及光放大光纤，其放大从所述光源装置射出的激光。
发明效果
根据本发明，例如，能够得到能够抑制杂散光带来的负面影响的、具有进一步改善的新结构的光学装置、光源装置以及光纤激光器。
附图说明
图1是第一实施方式的光学装置的例示性且示意性的俯视图。
图2是第一实施方式的光学装置所包含的基座的例示性且示意性的立体图。
图3是第一实施方式的光学装置所包含的子单元的例示性且示意性的侧视图。
图4是第一实施方式的光学装置的包含遮蔽部的一部分的例示性且示意性的侧视图(局部剖视图)。
图5是第一实施方式的光学装置的包含遮蔽部及光学部件的一部分的例示性且示意性的侧视图。
图6是第二实施方式的光学装置的一部分的例示性且示意性的俯视图。
图7是第二实施方式的光学装置所包含的遮蔽部的例示性且示意性的侧视图。
图8是第三实施方式的光学装置的例示性且示意性的俯视图。
图9是图8的一部分的放大图。
图10是第四实施方式的光学装置的例示性且示意性的俯视图。
图11是第五实施方式的光学装置的例示性且示意性的俯视图。
图12是第六实施方式的光学装置的例示性且示意性的俯视图。
图13是第七实施方式的光源装置的例示性的结构图。
图14是第八实施方式的光纤激光器的例示性的结构图。
图15是实施方式的变形例的光学装置所包含的遮蔽部的例示性且示意性的侧视图。
具体实施方式
以下，公开本发明的例示性的实施方式以及变形例。以下所示的实施方式以及变形例的结构以及由该结构带来的作用以及结果(效果)是一例。本发明也能够通过以下的实施方式以及变形例所公开的结构以外的结构来实现。另外，根据本发明，能够得到通过结构而得到的各种效果(也包括衍生的效果)中的至少一个。
以下所示的多个实施方式以及变形例具备同样的结构。因此，根据各实施方式以及变形例的结构，能够得到基于该同样的结构的同样的作用以及效果。另外，以下，有时对这些同样的结构标注同样的附图标记，并且省略重复的说明。
在本说明书中，序数是为了便于区别部件、部位、方向等而标注的，并不表示优先级、顺序。
另外，在各图中，由箭头X1表示X1方向，由箭头X2表示X2方向，由箭头Y表示Y方向，由箭头Z表示Z方向。X1方向、Y方向以及Z方向相互交叉，并且相互正交。另外，X1方向与X2方向彼此为相反方向。
需要说明的是，在图1、3、8、10～12中，激光L的光路用实线的箭头表示。
[第一实施方式]
图1是第一实施方式的光学装置100A(100)的概要结构图，是在Z方向的相反方向上观察光学装置100A的内部的俯视图。
如图1所示，光学装置100A具备基座101、多个子单元100a、光合成部108、聚光透镜104、105、以及光纤107。从各子单元100a的发光模块10A输出的激光经由各子单元100a的反射镜103、光合成部108、以及聚光透镜104、105而传输到光纤107的端部(未图示)，且与光纤107光学性地耦合。光学装置100A也可以称为发光装置。
基座101例如由铜系材料、铝系材料那样的热传导率高的材料制作。基座101可以由一个部件构成，也可以由多个部件构成。另外，基座101被盖部(未图示)覆盖。多个子单元100a、多个反射镜103、光合成部108、聚光透镜104、105、以及光纤107的端部均设置于基座101上，且收容于在基座101与盖部之间形成的收容室(未图示)内。收容室被气密密封。
光纤107是输出光纤，且经由支承其端部的光纤支承部106a而与基座101固定。
光纤支承部106a可以作为基座101的一部分而与该基座101一体地构成，作为与基座101分体的构件而构成的光纤支承部106a也可以例如经由螺钉那样的固定件而安装于基座101。
子单元100a分别具有输出激光的发光模块10A、多个透镜41A～43A、以及反射镜103。透镜41A～43A及反射镜103是光学部件的一例。透镜42A、43A在快轴以及慢轴上对激光进行准直。
另外，光学装置100A具备多个子单元100a在Y方向上以规定间隔排列的两个阵列A1、A2。在阵列A1的子单元100a1(100a)中，发光模块10A向X1方向输出激光，透镜41A～43A向X1方向传输来自该发光模块10A的激光，反射镜103向Y方向反射向X1方向前进的激光。在阵列A2的子单元100a1(100a)中，发光模块10A向X2方向输出激光，透镜41A～43A向X2方向传输来自该发光模块10A的激光，反射镜103向Y方向反射向X2方向前进的激光。子单元100a1是第一子单元的一例，子单元100a2是第二子单元的一例。另外，X1方向是第一方向的一例，X2方向是第一方向的相反方向的一例。
在本实施方式中，阵列A1的子单元100a1和阵列A2的子单元100a2在X1方向(X2方向)上排列。在子单元100a1和子单元100a2沿X1方向排列的情况下，例如能够得到光学装置100A在Y方向上的尺寸变得更小的优点。但是，并不限定于此，子单元100a1与子单元100a2也可以相互错开。例如，各子单元100a2也可以相对于在Y方向上相邻的两个子单元100a1之间的间隙在X1方向上排列。
图2是基座101的立体图。如图2所示，在基座101的表面101b设置有子单元100a的位置随着朝向Y方向而向Z方向的相反方向错开的多个台阶101b1。对于多个子单元100a在Y方向上以规定间隔(例如一定间隔)排列的阵列A1、A2中的每一个，子单元100a配置于各台阶101b1上。由此，阵列A1所包含的子单元100a的Z方向的位置随着朝向Y方向而向Z方向的相反方向错开，并且阵列A2所包含的子单元100a的Z方向的位置也随着朝向Y方向而向Z方向的相反方向错开。通过这样的结构，在各阵列A1、A2中，能够从多个反射镜103向光合成部108输入沿Y方向前进的在Z方向上排列的相互平行的激光。需要说明的是，也可以构成为，台阶101b1相对于Z方向在向Y方向或者Y方向的相反方向倾斜的方向上错开，激光从各反射镜103向相对于Y方向具有规定的仰角的方向前进。
如图1所示，来自各反射镜103的激光被输入到光合成部108，在该光合成部108中被合成。
光合成部108具有合成器108a、反射镜108b、以及1/2波长板108c。合成器108a、反射镜108b、以及1/2波长板108c是光学部件的一例。
反射镜108b使来自阵列A1的子单元100a的激光经由1/2波长板108c朝向合成器108a。1/2波长板108c使来自阵列A1的光的偏振面旋转。
来自阵列A2的子单元100a的激光被直接输入合成器108a。
合成器108a合成来自两个阵列A1、A2的激光。合成器108a也可以称为偏振合成元件。
来自合成器108a的激光通过聚光透镜104、105而朝向光纤107的端部(未图示)聚光，且与光纤107光学性地耦合，在光纤107内传输。聚光透镜104、105是光学部件的一例。
另外，在基座101设置有对子单元100a(发光模块10A)、光纤支承部106a、聚光透镜104、105、合成器108a、遮蔽部101d1(后述)等进行冷却的制冷剂通路109。在制冷剂通路109中，例如，供冷却液那样的制冷剂流动。制冷剂通路109例如通过基座101的各部件的安装面的附近、例如正下方或者其附近，制冷剂通路109的内表面以及制冷剂通路109内的制冷剂(未图示)与冷却对象的部件、部位、即子单元100a(发光模块10A)、光纤支承部106a、聚光透镜104、105、合成器108a等热连接。经由基座101在制冷剂与部件、部位之间进行热交换，部件被冷却。需要说明的是，作为一例，制冷剂通路109的入口109a以及出口109b设置于基座101的Y方向的相反方向的端部，但也可以设置于其他位置。
[子单元]
图3是表示阵列A1的子单元100a1(100a)的结构的侧视图。需要说明的是，关于阵列A2的子单元100a2，光学部件的配置及激光的传输方向与子单元100a1是相反的，但具有与子单元100a1同样的结构。
发光模块10A具有子台座芯片(chip on submount)30、以及收容该子台座芯片30的壳体20。需要说明的是，在图3中，发光模块10A以透视壳体20的内部的状态描绘。
壳体20是长方体状的箱，且收容子台座芯片30。壳体20具有壁构件21、以及窗构件22。壁构件21例如由金属材料制作。
另外，壳体20具有基座21a。基座21a具有与Z方向交叉的板状的形状。基座21a例如是壁构件21的一部分(底壁)。基座21a例如由无氧铜那样的热传导率高的金属材料制作。无氧铜是铜系材料的一例。需要说明的是，基座21a也可以与壁构件21分体设置。
在壁构件21的X1方向的端部设置有开口部21b。在开口部21b安装有透过激光L的窗构件22。窗构件22与X1方向交叉且正交。从子台座芯片30向X1方向射出的激光L通过窗构件22，向发光模块10A之外射出。激光L从发光模块10A向X1方向射出。
构成壁构件21(壳体20)的多个构件(未图示)的边界部分、以及壁构件21与窗构件22之间的边界部分等以气体无法通过的方式被密封。即，壳体20被气密密封。需要说明的是，窗构件22也是壁构件21的一部分。
子台座芯片30具有子台座31、以及发光元件32。子台座芯片30也可以称为半导体激光模块。
子台座31例如具有与Z方向交叉并且正交的板状的形状。子台座31例如能够由氮化铝、陶瓷、玻璃那样的热传导率比较高的绝缘材料制作。在子台座31上，作为向发光元件32供给电力的电极形成有金属化层31a。
子台座31安装于基座21a上。发光元件32安装于子台座31的顶面上。即，发光元件32经由子台座31而安装于基座21a上，并且经由子台座31及壳体20而安装于基座101上。
发光元件32例如是具有快轴(FA)和慢轴(SA)的半导体激光元件。发光元件32具有在X1方向上延伸的细长的形状。发光元件32从设置于X1方向的端部的射出开口(未图示)向X1方向射出激光L。子台座芯片30以使发光元件32的快轴沿着Z方向且慢轴沿着Y方向的方式安装。Z方向是快轴方向的一例，Y方向是慢轴方向的一例。
从发光元件32射出的激光L依次经由透镜41A、透镜42A、以及透镜43A而至少在Z方向以及Y方向上准直。透镜41A、透镜42A、以及透镜43A均设置于壳体20外。
在本实施方式中，透镜41A、透镜42A、以及透镜43A依次在X1方向上排列。从发光元件32射出的激光L依次通过透镜41A、透镜42A、以及透镜43A。另外，在从发光元件32射出并通过透镜41A、透镜42A、以及透镜43A之前的期间，激光L的光轴为直线状，激光L的快轴方向沿着Z方向，并且激光L的慢轴方向沿着Y方向。
透镜41A在X1方向上与窗构件22稍微分离，或者在X1方向上与窗构件22相接。
通过窗构件22的激光L入射到透镜41A。透镜41A是具有相对于沿着光轴的中心轴Ax的轴对称形状的透镜，且构成为绕中心轴Ax的旋转体。透镜41A以使中心轴Ax沿着X1方向并且与激光L的光轴重叠的方式配置。透镜41A的入射面41a及射出面41b分别具有绕沿X1方向延伸的中心轴Ax的旋转面。射出面41b是向X1方向凸出的凸曲面。射出面41b比入射面41a突出得大。透镜41A是所谓的凸透镜。
从透镜41A射出的激光L的光束宽度随着向X1方向前进而变窄。需要说明的是，光束宽度是在激光的光束轮廓中，光强度成为规定值以上的区域的宽度。规定值例如是峰值的光强度的1/e2。透镜41A在Z方向、Y方向以及Z方向与Y方向之间的方向上聚焦激光L，因此能够得到激光L的像差变小的效果。
透镜42A具有相对于作为与Z方向交叉且正交的平面的假想中心面Vc2的面对称形状。透镜42A的入射面42a及射出面42b具有沿着Y方向的母线并且具有沿着Y方向延伸的柱面。入射面42a是向X1方向的相反方向凸出的凸曲面。另外，射出面42b是向X1方向凹陷的凹曲面。
透镜42A在Z方向上的光束宽度Wzc比向透镜41A入射的入射面41a处的Z方向上的光束宽度Wza小的状态下，在Z方向上、即在快轴上对激光L进行准直。透镜42A在与Y方向正交的截面中是凹透镜。透镜42A也可以称为准直透镜。
另外，透镜42A位于比透镜41A的激光L的Z方向的聚焦点Pcz更靠透镜41A的附近的位置。假设在透镜42A位于比Z方向的聚焦点Pcz靠透镜41A的远处的情况下，在透镜41A与透镜42A之间的激光L的光路上出现Z方向的聚焦点Pcz。在该情况下，有可能产生在能量密度高的Z方向的聚焦点Pcz处垃圾集聚等不良情况。关于这一点，在本实施方式中，透镜42A位于比Z方向的聚焦点Pcz靠透镜41A的附近的位置，因此在激光L到达聚焦点Pcz之前被透镜42A准直。即，根据本实施方式，在激光L的光路上不出现Z方向的聚焦点Pcz，因此能够避免产生由该聚焦点Pcz引起的不良情况。
需要说明的是，激光L的Y方向上的聚焦点(未图示)出现在透镜41A与透镜42A之间，但Y方向上的聚焦点处的能量密度不那么高，因此不会产生垃圾的集聚那样的问题。
从发光元件32射出并经由透镜41A及透镜42A的激光L的Y方向的光束宽度随着向X1方向前进而扩展。在Y方向上扩展的前端粗的激光L经由透镜42A而入射到透镜43A。
透镜43A具有相对于作为与Y方向交叉且正交的平面的假想中心面的面对称形状。透镜43A的入射面43a以及射出面43b具有沿着Z方向的母线且具有沿着Z方向延伸的柱面。入射面43a是与X1方向正交的平面。另外，射出面43b是向X1方向凸出的凸曲面。
透镜43A在Y方向上、即在慢轴上对激光L进行准直。透镜43A在与Z方向正交的截面中是凸透镜。透镜43A也可以称为准直透镜。
[遮蔽部]
如图1所示，在阵列AI的子单元100a1和阵列A2的子单元100a2中，在激光向相互对置的方向前进的情况下，在阵列A1、A2中的一方的阵列的子单元100a内，向接近另一方的阵列的方向前进的激光的杂散光(泄漏光)有可能干扰该另一方的阵列的子单元100a内的激光。另外，在透镜41A～43A经由接合材料(未图示)而与基座101接合的情况下，若杂散光照射到该接合材料，则该接合材料有可能损伤。杂散光例如源自通过在各光学部件中非本意地反射或透过而从规定的光路偏离的激光。
因此，在本实施方式中，在阵列A1与阵列A2之间设置有遮挡杂散光的遮蔽部101d1。遮蔽部101d1遮挡从子单元100a1的透镜41A～43A及反射镜103向子单元100a2的透镜41A～43A及反射镜103的X1方向的杂散光，并且在从该子单元100a1的透镜41A～43A及反射镜103偏移的方向上反射该杂散光。另外，遮蔽部101d1遮挡从子单元100a2的透镜41A～43A以及反射镜103向子单元100a1的透镜41A～43A以及反射镜103的向X2方向的杂散光，并且在从该子单元100a2的透镜41A～43A以及反射镜103偏移的方向上反射该杂散光。子单元100a1所包含的透镜41A～43A及反射镜103是第一光学部件的一例，子单元100a1所包含的透镜41A～43A及反射镜103是第一光学部件的一例。另外，X1方向是第一方向的一例，X2方向是第一方向的相反方向的一例。
图4是遮蔽部101d1的侧视图。遮蔽部101d1从表面101b向Z方向突出。遮蔽部101d1的Z方向的顶部的位置、即距表面101b的高度设定为足以遮挡虚线的箭头所示的杂散光Ls的高度。例如，遮蔽部101d1的Z方向的顶部的位置至少与子单元100a内所包含的透镜41A～43A的Z方向的顶部的位置相同或更位于Z方向的前方。
遮蔽部101d1可以经由例如粘接剂、焊料那样的接合材料安装于基座101的表面101b上，也可以焊接，还可以经由螺钉那样的固定件安装，还可以与基座101一体地构成。粘接剂可以是电磁波固化性的粘接剂、热固化性的粘接剂，优选是热传导率比较高的粘接剂。
另外，在本实施方式中，遮蔽部101d1在X1方向的端部以及X2方向的端部分别具有反射面101da。这些反射面101da相对于Z方向倾斜，以使反射光Lsr不返回(不接触)反射镜103、透镜41A～43A那样的光学部件，相对于该光学部件向与基座101的表面101b相反的一侧偏移。向X1方向前进的杂散光Ls被遮蔽部101d1的X2方向的端部的反射面101da向X1方向的相反方向(X2方向)与Z方向之间的方向反射。另一方面，沿X2方向前进的杂散光Ls被遮蔽部101d1的X1方向的端部的反射面101da向X2方向的相反方向(X1方向)与Z方向之间的方向反射。
而且，在反射面101da上涂敷有例如黑色涂料那样的将激光的能量转换为热能量的涂料。在该情况下，反射面101da作为吸收激光的能量的吸收面而发挥功能。反射面101da是吸收面的一例。根据这种结构，能够进一步降低反射面101da中的反射光的强度，因此能够阻止或减少反射光对其他部位的负面影响。
另外，在基座101以与遮蔽部101d1在Z方向上重叠的方式设置有供制冷剂C流动的制冷剂通路109。制冷剂通路109以从制冷剂通路109的入口109a到出口109b之间的一部分的区间通过相对于遮蔽部101d1在Z方向上重叠的位置的方式设置。在该区间中，制冷剂通路109例如沿着遮蔽部101d1在Y方向上延伸。
遮蔽部101d1及基座101例如由铜系材料、铝系材料那样的热传导率高的材料制作，遮蔽部101d1与制冷剂通路109的内表面以及制冷剂C经由基座101而热连接。因此，根据本实施方式，经由基座101在制冷剂C与遮蔽部101d1之间进行热交换，产生了基于杂散光Ls的能量的热的遮蔽部101d1被冷却，能够抑制遮蔽部101d1及该遮蔽部101d1的周边的温度上升。
[反射面的角度]
图5是表示与阵列A1的子单元100a1对应的遮蔽部101d1和光学部件40的沿Y方向观察的侧视图。光学部件40是阵列A1的子单元100a1所包含的光学部件，且是透镜41A～43A、反射镜103中的任意一个。
在图5中，相对于从阵列A1向X1方向前进的杂散光Ls的遮蔽部101d1的反射面101da处的反射光Lsr的、表面101b侧的端部与光学部件40的X1方向的端面40a中的Z方向的端部在点Pe处正好重叠。因此，若反射光Lsr与图5的状态相比相对于光学部件40位于与表面101b相反的一侧，则反射光Lsr不会照射到光学部件40。
在图5中，沿X1方向前进的杂散光Ls相对于反射面101da的入射角度为α。反射光Lsr向X2方向与Z方向之间的Dr方向前进，该Dr方向相对于X2方向的仰角为2α。杂散光Ls及反射光Lsr的光束宽度(直径)为Wb。与点Pe在Z方向上排列的杂散光Ls的光轴Ax1上的点为Pa，与点Pe在Z方向上排列的反射光Lsr的光轴Ax1上的点为Pc。另外，设点Pa与点Pb的X1方向的距离为Xd，设点Pa与点Pe之间的Z方向的距离为Zd，设点Pa与点Pc的Z方向的距离为Zv，设点Pe与点Pc之间的距离为Zi。另外，N方向是点Pb处的反射面101da的法线方向。需要说明的是，光束宽度例如能够设为强度成为峰值强度的1/e2以上的区域的宽度、强度相对于峰值强度成为规定比率以上的区域的宽度。在此，规定比率例如为0.1[％]以上并且1[％]以下的值。另外，来自发光元件的激光被准直透镜准直的情况下的光束宽度Wb能够基于准直透镜的焦距f以及准直透镜的数值孔径NA，通过Wb＝2×f×NA的式子求出。
在该情况下，连结点Pa、Pb、Pc的三角形是直角三角形，因此Zv＝Xd·tan(2α)。另外，Zd＝Zv-Zi，Zi＝0.5Wb/cos(2α)。因此，在图5的状态中，
Zd＝Zv-Zi＝Xd·tan(2α)-0.5Wb/cos(2α)成立。
因此，为了反射光Lsr与图5的状态相比，相对于光学部件40位于与表面101b相反的一侧，下式(1)成立即可。
Xd·tan(2α)-0.5·Wb/cos(2α)＞Zd···(1)
在图5的情况下，X1方向为第三方向的一例，Z方向为第四方向的一例，Dr方向为第五方向的一例。另外，点Pe为端点的一例，点Pb为反射点的一例。需要说明的是，阵列A2的子单元100a2具有与图5的结构处于镜像关系的结构。因此，关于子单元100a2，只要满足式(1)的条件，就能够避免反射光Lsr与光学部件40的干扰。但是，关于子单元100a2，X1方向是第三方向的一例，X2方向是第三方向的相反方向的一例，Z方向是第四方向的一例。
如以上说明那样，在本实施方式中，遮蔽部101d1遮挡从作为子单元100a1的光学部件40的透镜41A～43A及反射镜103(第一光学部件)朝向作为子单元100a2的光学部件40的透镜41A～43A及反射镜103(第二光学部件)的朝向X1方向的杂散光，并且将该杂散光向从子单元100a1的光学部件40(第一光学部件)偏移的方向反射。另外，遮蔽部101d1遮挡从子单元100a2的透镜41A～43A及反射镜103朝向子单元100a1的透镜41A～43A以及反射镜103的朝向X2方向的杂散光，并且将该杂散光向从子单元100a2的光学部件40偏移的方向反射。
根据这种结构，例如能够抑制来自第一光学部件的杂散光与由第二光学部件传输的激光干扰，或者抑制由于该杂散光而使第一光学部件、第二光学部件的接合材料损伤这样的不良情况产生。
另外，如本实施方式那样，遮蔽部101d1也可以将杂散光向远离基座101的方向反射。假设，杂散光向接近基座101的方向反射的情况下，有可能因反射光的基座101中的二次反射光而产生不良情况。关于这一点，如本实施方式那样，若遮蔽部101d1向远离基座101的方向反射杂散光，则例如容易避免基座101中的二次反射光引起的不良情况。
另外，如本实施方式那样，遮蔽部101d1也可以反射杂散光，并且进行吸收。根据这种结构，例如，能够在遮蔽部101d1减弱杂散光的反射光的强度，因此能够进一步抑制由该反射光引起的不良情况。
另外，如本实施方式那样，遮蔽部101d1可以位于子单元100a1和子单元100a2之间。根据这种结构，例如，关于子单元100a1、100a2，能够共享遮蔽部101d1，因此与针对子单元100a1、100a2分别设置遮蔽部101d1的结构相比，能够获得部件数量减少而能够抑制光学装置100A的制造的工时、成本，能够更紧凑地构成光学装置100A这样的优点。
[第二实施方式]
图6是第二实施方式的光学装置100B(100)所包含的子单元100a1(100a)的俯视图。除了取代图1所示的子单元100a而设置有图6所示的子单元100a这一点以外，光学装置100B具备与第一实施方式的光学装置100A同样的结构。需要说明的是，在图6中示出了阵列A1的子单元100a1，但阵列A2的子单元100a2也具有与图6同样的结构、即与图6的结构处于镜像关系的结构。
如图6所示，透镜41A经由接合部50而与发光模块10A接合。另外，透镜42A经由接合部50而与柱101c接合。发光模块10A及柱101c是从基座101的表面101b向Z方向突出的突出部的一例。另外，接合部50是接合材料的一例。
柱101c可以经由例如粘接剂、焊料那样的接合材料安装于基座101的表面101b上，也可以焊接，还可以经由螺钉那样的固定件安装，还可以与基座101一体地构成。柱101c的粘接剂也可以是电磁波固化性的粘接剂、热固化性的粘接剂。需要说明的是，柱101c相对于透镜42A而设置于Y方向的两侧，但也可以仅设置于单侧。
另外，接合部50例如是由合成树脂材料制作而成的粘接剂。接合部50也可以是电磁波固化性的粘接剂、热固化性的粘接剂。
而且，在本实施方式中，在相对于接合部50在X1方向上分离的位置设置有遮挡朝向接合部50的杂散光Ls的遮蔽部101d2。通过这样的结构，向阵列A1、A2中的一方的阵列的子单元100a所包含的接合部50照射来自阵列A1、A2中的另一方的阵列的子单元100a的杂散光Ls，由此能够抑制该接合部50损伤。根据本实施方式，例如能够得到能够通过比较紧凑的结构实现遮蔽部101d2的优点。需要说明的是，在光学装置100B还具备上述第一实施方式的遮蔽部101d1的情况下，例如能够得到能够更可靠地避免杂散光Ls引起的不良情况的优点。另外，在光学装置100B不具备上述第一实施方式的遮蔽部101d1的情况下，例如能够得到能够更轻量地构成光学装置100B的优点。
图7是遮蔽部101d2的侧视图。如图7所示，在本实施方式中，遮蔽部101d2也具有与上述第一实施方式同样的反射面101da。反射面101da对杂散光Ls的反射方向与上述第一实施方式同样。由此，容易避免由来自反射面101da的反射光Lsr引起的不良情况。需要说明的是，遮蔽部101d2也可以与第一实施方式同样地作为吸收部而发挥功能。
在第二实施方式的光学装置100B中，也通过遮蔽部101d2得到与上述第一实施方式的光学装置100A同样的效果。
[第三实施方式]
图8是第三实施方式的光学装置100C(100)的俯视图。除了代替图8所示的遮蔽部101d1而设置有图8所示的多个遮蔽部101d3这一点以外，光学装置100C具备与第一实施方式的光学装置100A同样的结构。遮蔽部101d3分别设置于子单元100a1与子单元100a2之间。另外，与第一实施方式同样地，即使本实施方式，各遮蔽部101d3与制冷剂通路109的内表面及制冷剂也经由基座101而热连接。
图9是将图8所示的光学装置100C的遮蔽部101d3、反射镜103、以及吸收部101e放大而示出的俯视图。如图9所示，遮蔽部101d3也与上述第一实施方式同样地，能够遮蔽从子单元100a1向子单元100a2的杂散光Ls，并且遮蔽从子单元100a2向子单元100a1的杂散光Ls。
另外，遮蔽部101d3具有两个反射面101da。与子单元100a1对应且面向该子单元100a1的位于X2方向的端部的反射面101da1(101da)分别将来自子单元100a1的杂散光Ls向Y方向反射。另外，与子单元100a2对应且面向该子单元100a2的位于X1方向的端部的反射面101da2(101da)分别将来自子单元100a2的杂散光Ls向Y方向反射。在此，与第一实施方式同样地，各子单元100a的Z方向的位置随着朝向Y方向而向Z方向的相反方向错开，并且各遮蔽部101d3的Z方向的端部的位置也随着朝向Y方向而向Z方向的相反方向错开。因此，各反射光Lsr能够在Z方向上超过各遮蔽部101d3地向Y方向前进。通过这样的结构，从各子单元100a1向X1方向前进的杂散光Ls成为被反射面101da1反射且与Z方向平行并向Y方向前进的反射光Lsr。另外，从各子单元100a2向X2方向前进的杂散光Ls成为被反射面101da2反射且与Z方向平行并向Y方向前进的反射光Lsr。反射面101da1是第一遮蔽部的一例，反射面101da2是第二遮蔽部的一例。另外，X1方向是第一方向的一例，X2方向是第一方向的相反方向的一例，Y方向是第二方向的一例。
从反射面101da1及反射面101da2朝向Y方向的反射光Lsr被输入到吸收部101e的端面101e1。吸收部101e从基座101的表面101b向Z方向突出。在端面101e1上涂敷有例如黑色涂料那样的、将激光的能量转换为热能量的涂料。在该情况下，端面101e1作为吸收激光的能量的吸收面而发挥功能。端面101e1也可以被称为吸收面。另外，端面101e1相对于Z方向倾斜，使得即使在该端面101e1中未被吸收的反射光Lsr在该端面101e1反射的情况下，也不返回遮蔽部101d3而从基座101的表面101b离开，向Y方向的相反方向与Z方向之间的方向前进。即，端面101e1的法线方向相对于Y方向的相反方向具有大于0°且小于90°的仰角。而且，设置于基座101的制冷剂通路109以与吸收部101e在Z方向上局部地重叠的方式设置，吸收部101e与制冷剂通路109的内表面及制冷剂经由基座101而热连接。
根据本实施方式，通过与反射光Lsr对应的吸收部101e，例如能够得到能够更可靠地处理反射光Lsr即杂散光Ls这一优点。另外，根据本实施方式，能够在吸收部101e中集中处理多个反射光Lsr，因此例如与将分别处理多个反射光Lsr的吸收部设置于多个部位的情况相比，能够得到能够削减部件数量，或能够进一步简化光学装置100C的结构这一优点。需要说明的是，吸收部101e也可以与阵列A1、A2分别对应地设置。
而且，如图8所示，本实施方式的光学装置100C具备与合成器108a对应的遮蔽部101d2。遮蔽部101d2从基座101的表面101b向Z方向突出，能够遮挡沿X1方向输入合成器108a的激光L1中的未在Y方向上反射且向X1方向前进的杂散光Ls、以及沿Y方向输入合成器108a的激光L2中的未在Y方向上透过而被反射且向X1方向前进的杂散光Ls。另外，遮蔽部101d2具有将来自合成器108a的杂散光Ls向从合成器108a、1/2波长板108c、反射镜108b那样的光学部件偏移的方向即远离基座101的表面101b的方向反射的反射面101da。而且，在反射面101da上涂敷有例如黑色涂料那样的将激光的能量转换为热能量的涂料。在该情况下，反射面101da作为吸收杂散光Ls的能量的吸收面而发挥功能。反射面101da是吸收面的一例。另外，设置于基座101的制冷剂通路109设置为与遮蔽部101d2在Z方向上局部地重叠，遮蔽部101d2与制冷剂通路109的内表面以及制冷剂经由基座101而热连接。这样，遮蔽部101d2能够处理来自特定的光学元件的杂散光Ls，能够阻止或降低该杂散光Ls对其他部位的负面影响。合成器108a是光学元件的一例。从阵列A1向合成器108a输入的激光L1是第一激光的一例，X1方向是第六方向的一例，Y方向是第七方向的一例。另外，从阵列A2向合成器108a输入的激光L2是第二激光的一例。
在第三实施方式的光学装置100C中，也通过遮蔽部101d3、101d2得到与上述第一实施方式的光学装置100A同样的效果。
[第四实施方式]
图10是第四实施方式的光学装置100D(100)的俯视图。光学装置100D除了子单元100a的光学部件的结构不同之外，具备与第一实施方式的光学装置100A(100)相同的结构。
在本实施方式中，子单元100a具有发光模块10E，透镜42B、透镜43B、以及反射镜103。发光模块10E不具有壳体20，而具有子台座芯片30。该子台座芯片30在光学装置100D的收容室内露出。透镜42B在Z方向上、即在快轴上对来自发光元件32的激光进行准直。另外，透镜43B在Y方向上、即在慢轴上对来自透镜42B的激光进行准直。
在第四实施方式的光学装置100D中，通过遮蔽部101d1，也能够得到与上述第一实施方式的光学装置100A同样的效果。
[第五实施方式]
图11是第五实施方式的光学装置100E(100)的俯视图。光学装置100E除了多个发光元件32输出相互不同的波长(λ1、λ2、···，λn-1、λn)的激光并不具有1/2波长板108c这一点以外，具备与上述第四实施方式的光学装置100D同样的结构。多个波长的间隔例如在中心波长之间为5[nm]～20[nm]。另外，在此合成的光也可以包含蓝色的激光。
在第五实施方式的光学装置100E中，通过遮蔽部101d1，也能够得到与上述第一实施方式的光学装置100A同样的效果。
[第六实施方式]
图12是第六实施方式的光学装置100F(100)的俯视图。光学装置100F具备输入来自外部的激光的多个光纤107A，且不具备发光模块。多个光纤107A输入相互不同的波长的激光。光纤107A分别由光纤支承部106a支承。光学装置100F也可以称为光合成装置。
光学装置100F具备透镜44、反射镜103、滤波器108D、以及透镜45。来自多个光纤107A的激光经由透镜44、反射镜103、滤波器108d、以及透镜45而传输到光纤107的端部(未图示)，且与光纤107光学性地耦合。透镜44、反射镜103、滤波器108d、以及透镜45是光学部件的一例。
反射镜103将向X2方向前进的激光向Y方向反射。另外，透镜44例如是准直透镜，透镜45例如是聚光透镜。
滤波器108d主要反射朝向X2方向的激光L1，并且使朝向Y方向的激光L2透过。在此，X2方向、Y方向以及滤波器108d的姿势被设定为反射的激光和透过的激光均朝向Y方向。即，从滤波器108d输出并向Y方向前进的激光(主要光)包含激光L1的反射光和激光L2的透过光。滤波器108d是光学元件的一例。激光L1是第一激光的一例，X2方向是第六方向的一例，Y方向是第七方向的一例。另外，激光L2是第二激光的一例。
激光L1和激光L2例如是相互波长不同的光。作为一例，在激光L1的波长比激光L2的波长长的情况下，滤波器108d例如是低通滤波器。
另外，激光L1的波长也可以比激光L2的波长短。在该情况下，滤波器108d例如是高通滤波器。
在滤波器108d中，难以得到100％的反射特性及透过特性，实际上，产生激光L1的透过激光以及激光L2的反射激光，它们成为来自这些滤波器108d的杂散光Ls。杂散光Ls从滤波器108d朝向X2方向。
因此，光学装置100F具备遮挡并反射来自滤波器108d的杂散光的遮蔽部101d2。遮蔽部101d2具有与设置于上述第三实施方式的光学装置100C的遮蔽部101d2同样的结构。因此，在本实施方式中，也能够通过遮蔽部101d2得到与上述第三实施方式的光学装置100C同样的效果。
[第七实施方式]
[光源装置、光纤激光器的结构]
图13是安装有上述第一～第五实施方式中任一个光学装置100(发光装置)的第七实施方式的光源装置110的结构图。光源装置110具备多个光学装置100来作为激发光源。从多个光学装置100输出的激光经由光纤107而向作为光耦合部的合成器90传输。光纤107的输出端分别与多个输入1输出的合成器90的多个输入端口耦合。需要说明的是，光源装置110并不限定于具有多个光学装置100，只要具有至少一个光学装置100即可。另外，合成器90也可以与上述第六实施方式的光学装置100F同样地构成，且具备遮蔽部101d2。
[第八实施方式]
图14是安装有图13的光源装置110的光纤激光器200的结构图。光纤激光器200具备图13所示的光源装置110及合成器90、稀土类添加光纤130以及输出侧光纤140。在稀土类添加光纤130的输入端以及输出端分别设置有高反射FBG120、121(fiber brag grating)。
在合成器90的输出端连接有稀土类添加光纤130的输入端，在稀土类添加光纤130的输出端连接有输出侧光纤140的输入端。需要说明的是，将从多个光学装置100输出的激光向稀土类添加光纤130输入的输入部也可以使用其他构成来代替合成器90。例如，也可以构成为将多个光学装置100中的输出部的光纤107排列配置，使用包含透镜的光学***等输入部将从多个光纤107输出的激光输入到稀土类添加光纤130的输入端。稀土类添加光纤130是光放大光纤的一例。
根据第七实施方式的光源装置110、或者第八实施方式的光纤激光器200，通过具备上述第一～第六实施方式的光学装置100而得到与上述第一～第六实施方式同样的效果。
以上，例示了本发明的实施方式，但上述实施方式是一例，并未意图限定发明的范围。上述实施方式能够以其他各种形态实施，在不脱离发明的主旨的范围内，能够进行各种省略、替换、组合、变更。另外，各结构、形状等规格(构造、种类、方向、型式、大小、长度、宽度、厚度、高度、数量、配置、位置、材质等)能够适当变更来实施。
例如，光学部件不限于实施方式公开的光学部件，例如，也可以是棱镜、衍射光学元件那样的使光反射、折射、或者衍射的其他光学元件。需要说明的是，衍射光学元件例如将周期不同的多个衍射光栅复合而构成为一体。
另外，子单元、发光模块、各光学部件、突出部、遮蔽部等的结构、配置、组合并不限定于上述实施方式。另外，杂散光的行进方向也不限定于上述的方向。
另外，在上述实施方式中，如图4、7所示，遮蔽部101d1、101d2的反射面101da具有平面状的形状，但并不限定于此，反射面101da例如也可以如图15所示具有凸曲面状的形状。另外，在图15的变形例中，反射面101da仅在杂散光Ls照射的部位具有曲面状的形状，但并不限定于此，反射面101da也可以整体上具有曲面状的形状。另外，反射面也可以具有凹曲面状的形状。
工业上的可利用性
本发明能够利用于光学装置、光源装置以及光纤激光器。
附图标记说明
10A...发光模块(突出部)
10E...发光模块
20...壳体
21...壁构件
21a...基座
21b...开口部
22...窗构件
30...子台座芯片
31...子台座
31a...金属化层
32...发光元件
40...光学部件
40a...端面
41A...透镜(光学部件、第一光学部件、第二光学部件)
41a...入射面
41b...射出面
42A、42B...透镜(光学部件、第一光学部件、第二光学部件)
42a...入射面
42b...射出面
43A、43B...透镜(光学部件、第一光学部件、第二光学部件)
43a...入射面
43b...射出面
44、45...透镜
50...接合部(接合材料)
90...合成器
100、100A～100F...光学装置
100a...子单元
100a1...子单元(第一子单元)
100a2...子单元(第二子单元)
101...基座
101b...表面
101c...柱(突出部)
101d1、101d2、101d3...遮蔽部
101da...反射面(吸收面)
101da1...反射面(第一遮蔽部)
101da2...反射面(第二遮蔽部)
101e...吸收部
101e1...端面
103...反射镜(光学部件、第一光学部件、第二光学部件)
104、105...聚光透镜(光学部件)
106a...光纤支承部
107...光纤
107A...光纤
108...光合成部
108a...合成器(光学部件、光学元件)
108b...反射镜(光学部件)
108c...1/2波长板(光学部件)
108d...滤波器(光学部件、光学元件)
109...制冷剂通路
109a...入口
109b...出口
110...光源装置
120、121...高反射FBG
130...稀土类添加光纤
140...输出侧光纤
200...光纤激光器
Ax...中心轴
Ax1...光轴
A1、A2...阵列
C...制冷剂
Dr...方向(第五方向)
L...激光
L1...激光(第一激光)
L2...激光(第二激光)
Ls...杂散光
Lsr...反射光
N...方向(法线方向)
Pa、Pc...点
Pb...点(反射点)
Pcz...聚焦点
Pe...点(端点)
Vc2...假想中心面
Wb...光束宽度
Wza...(在Z方向上的)光束宽度
Wzc...(在Z方向上被准直的)光束宽度
X...方向
Xd...距离
X1...方向(第一方向、第三方向、第六方向)
X2...方向(第一方向的相反方向、第三方向的相反方向、第六方向)
Y...方向(第二方向、第七方向)
Z...方向(第四方向)
Zd...距离
α...入射角。

Claims (17)

1.一种光学装置，其中，
所述光学装置具备：
基座；
发光元件，其设置于所述基座上，且输出激光；
多个光学部件，它们设置于所述基座上，且将从所述发光元件输出的激光引导至光纤并与该光纤耦合；以及
遮蔽部，其设置于所述基座上，且遮挡在作为所述光学部件的第一光学部件中从规定的光路偏离并朝向作为所述光学部件的第二光学部件的杂散光，并且将该杂散光向从所述第一光学部件偏移的方向反射。
2.根据权利要求1所述的光学装置，其中，
所述遮蔽部将所述杂散光向远离所述基座的方向反射。
3.根据权利要求1或2所述的光学装置，其中，
所述遮蔽部反射所述杂散光并且吸收所述杂散光。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学装置，其中，
所述第一光学部件经由接合材料而固定于所述基座，
所述遮蔽部遮挡朝向所述接合材料的所述杂散光。
5.根据权利要求4所述的光学装置，其中，
所述第一光学部件经由所述接合材料而固定于从所述基座的表面突出的突出部。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学装置，其中，
所述光学装置具备：
第一子单元，其包括向第一方向传输激光的至少一个所述光学部件；以及
第二子单元，其包括向所述第一方向的相反方向传输激光的至少一个所述光学部件，
所述遮蔽部遮挡从所述第一子单元向所述第一方向前进的所述杂散光以及从所述第二子单元向所述第一方向的相反方向前进的所述杂散光中的至少一方并且进行反射。
7.根据权利要求6所述的光学装置，其中，
所述遮蔽部遮挡从所述第一子单元向所述第一方向前进的所述杂散光以及从所述第二子单元向所述第一方向的相反方向前进的所述杂散光这两方，并且进行反射。
8.根据权利要求6或7所述的光学装置，其中，
所述遮蔽部位于所述第一子单元与所述第二子单元之间。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的光学装置，其中，
所述光学装置具备：
多个第一子单元，它们分别包括向第一方向传输激光的至少一个所述光学部件；
多个遮蔽部，它们与各个所述第一子单元对应地设置，分别作为遮挡向所述第一方向前进的所述杂散光并且向第二方向反射该杂散光的所述遮蔽部；以及
吸收部，其接收由所述多个遮蔽部反射的所述杂散光并吸收该杂散光。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的光学装置，其中，
所述光学装置具备：
多个第一子单元，它们分别包括向第一方向传输激光的至少一个所述光学部件；
多个第一遮蔽部，它们与各个所述第一子单元对应地设置，分别作为遮挡向所述第一方向前进的所述杂散光并且向第二方向反射该杂散光的多个遮蔽部；
多个第二子单元，它们分别包括向第一方向的相反方向传输激光的至少一个所述光学部件；
多个第二遮蔽部，它们与各个所述第二子单元对应地设置，分别作为遮挡向所述第一方向的相反方向前进的所述杂散光并且向所述第二方向反射该杂散光的多个遮蔽部；以及
吸收部，其接收来自所述多个第一遮蔽部以及所述多个第二遮蔽部的所述杂散光并吸收该杂散光。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的光学装置，其中，
所述遮蔽部具有将朝向第三方向的所述杂散光向该第三方向的相反方向和与所述第三方向正交的第四方向之间的第五方向反射的反射面，
在所述光学部件具有端点的结构中，所述端点相对于所述反射面在所述第三方向的相反方向上分离设置，从所述基座的表面向所述第四方向突出，且是所述第三方向的端面中的所述第四方向的端部，
在将所述端点与所述反射面中的所述杂散光的光轴的位置即反射点的所述第三方向上的距离设为Xd、
将所述光轴与所述端点的所述第四方向上的距离设为Zd、
将所述杂散光相对于所述反射面的入射角设为α、
将所述杂散光的光束的宽度设为Wb时，
满足以下的式子(1)
Xd·tan(2α)-0.5·Wb/cos(2α)＞Zd···(1)。
12.根据权利要求1～11中任一项所述的光学装置，其中，
在所述基座设置有供制冷剂通过的冷却通路，
所述遮蔽部经由所述基座而与所述制冷剂热连接。
13.一种光学装置，其中，
所述光学装置具备：
多个光学部件，它们将激光引导至光纤并与该光纤耦合；以及
遮蔽部，其遮挡在所述光学部件中从规定的光路偏离的杂散光，并且将该杂散光向从所述光学部件偏移的方向反射。
14.根据权利要求13所述的光学装置，其中，
所述光学装置具备基座，所述基座具有设置有所述多个光学部件的表面，
所述遮蔽部从所述表面突出，并且将所述杂散光向远离所述表面的方向反射。
15.根据权利要求1～14中任一项所述的光学装置，其中，
作为所述光学部件，具备将向第六方向前进的第一激光向第七方向反射，并且使向所述第七方向前进的第二激光透过的光学元件，
来自所述光学元件的杂散光包含未被所述光学元件反射而从该光学元件向所述第六方向前进的所述第一激光的杂散光以及未透过所述光学元件而从该光学元件向所述第六方向前进的所述第二激光的杂散光中的至少一方，
所述遮蔽部位于相对于所述光学元件而在所述第六方向上分离的位置。
16.一种光源装置，其中，
所述光源装置具备权利要求1～12中任一项所述的光学装置。
17.一种光纤激光器，其中，
所述光纤激光器具备：
权利要求16所述的光源装置；以及
光放大光纤，其放大从所述光源装置射出的激光。
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