CN116783514A - 具有阳光防护和绝热的涂有阳光控制涂层的制品 - Google Patents

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Abstract

涂覆制品包括具有第一表面和与第一表面相对的第二表面的基材,和施加在该基材的第一表面或第二表面上方的阳光控制涂层。该阳光控制涂层包括在该基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅或氮化硅层;在该氮化铝硅或氮化硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;和在该镍铬合金层的至少一部分上方并与之直接接触的第二氮化铝硅或氮化硅层。

Description

具有阳光防护和绝热的涂有阳光控制涂层的制品
相关申请的交叉参考
本申请要求2020年12月28日提交的美国临时申请号63/130,953和2021年12月1日提交的美国专利申请号17/539,267的优先权,其公开内容经此引用全文并入本文。
发明背景
技术领域
本发明大体上涉及涂有阳光控制涂层的制品。
现有技术描述
阳光控制涂层在建筑和交通工具(vehicle)透明体领域是已知的。这些阳光控制涂层阻挡或过滤所选范围的电磁辐射,如在太阳红外或太阳紫外辐射中,以减少进入交通工具或建筑物的太阳能的量。这种太阳能透射率的降低有助于减少交通工具或建筑物的冷却装置的负荷。
在汽车应用中,当用作挡风玻璃或汽车窗玻璃的其它所选部分(例如,在汽车的前座椅位置中相邻的侧窗玻璃)时,透明体通常需要相对高的可见光透射率,如大于70%或大于75%,以允许汽车驾驶员看到交通工具外。对于建筑应用,可见光透射率可以较低。在一些建筑应用中,可能合意的是具有反射性外表面以降低对建筑物内的可见性以保持尽可能多的隐私,同时仍然允许可见光进入建筑物并还允许建筑物内的工作者看到外面。此外,这些透明体通常被回火或热处理以提高安全性。
在一种已知的建筑透明体中,热强化玻璃基材涂覆有具有吸收材料的阳光控制涂层,以吸收可见光,从而使窗户变暗。该透明体还包括相对厚的、连续的红外反射金属层以反射太阳能,如太阳红外能。但是,采用这种已知透明体的问题在于该玻璃基材必须在施加涂层之前切割成所需形状并回火。如果在玻璃基材回火之前施加涂层,所得涂层在回火过程中可能变得雾化。这种雾度在审美上是不合意的。在另一些情况下,当在回火该玻璃基材之前施加涂层时,审美(即反射和/或透射的颜色)和/或阳光控制性能在回火之后可能表现出不可接受的大的变化。
合意的是生产具有特定反射率和/或透射率的阳光控制涂层,其中所得光学、阳光控制性能和审美性质可以在回火之前和之后得以保持。
发明内容
本发明涉及包含基材的涂覆制品。该基材包含第一表面和与第一表面相对的第二表面。阳光控制涂层施加在该基材的第一表面或第二表面上方。该阳光控制涂层包含在该基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅层;在该氮化铝硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;和在该镍铬合金层的至少一部分上方并与之直接接触的第二氮化铝硅层。
本发明还涉及涂覆制品,其由以下组成:玻璃基材;和施加在该玻璃基材上方的阳光控制涂层。该阳光控制涂层包含在该基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅层;在该氮化铝硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;和在该镍铬合金层的至少一部分上方并与之直接接触的第二氮化铝硅层。
本发明进一步涉及制造涂覆制品的方法。提供包含第一表面和与该第一表面相对的第二表面的基材。形成施加在该基材的第一表面或第二表面上方的阳光控制涂层。该阳光控制涂层包含在该基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅层;在该氮化铝硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;和在该镍铬合金层的至少一部分上方并与之直接接触的第二氮化铝硅层。
本发明进一步涉及制造涂覆制品的方法。提供包含第一表面和与该第一表面相对的第二表面的基材。形成施加在该基材的第一表面或第二表面上方的阳光控制涂层。该阳光控制涂层由以下组成:在该基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅层;在该氮化铝硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;和在该镍铬合金层的至少一部分上方并与之直接接触的第二氮化铝硅层。
附图概述
图1是根据本发明的一个实施例的涂覆制品的侧视图(非按比例)。
图2A是具有本发明的阳光控制涂层的示例性未除边隔热玻璃单元(IGU)的侧视图(非按比例)。
图2B是具有本发明的阳光控制涂层的示例性除边IGU的侧视图(非按比例)。
图2C是具有本发明的阳光控制涂层的示例性透明体的截面图(非按比例)。
发明详述
本文所用的空间或方向术语,如“左”、“右”、“内”、“外”、“上方”、“下方”等涉及本发明,如附图中所示。但是,要理解的是,本发明可采用各种替代取向,因此,此类术语不应被视为限制。此外,如本文所用,说明书和权利要求中所用的表示尺寸、物理特征、加工参数、成分量、反应条件等的所有数字应被理解为在所有情况下都被术语“约”修饰。因此,下列说明书和权利要求中阐述的数值可以随本发明试图获得的所需性质而变,除非做出相反的指示。至少而非试图限制对权利要求书的范围适用等同原则,应至少根据所报道的有效数位和通过应用普通舍入技术来解释各数值。此外,本文公开的所有范围应被理解为包括起点和终点范围值和其中所含的任何和所有子范围。例如,所述范围“1至10”应被视为包括最小值1和最大值10之间(包括端点)的任何和所有子范围;即以1以上的最小值开始和以10以下的最大值结束的所有子范围,例如1至3.3、4.7至7.5,5.5至10等等。“一”是指一个或多个。
此外,本文所用的术语“在上方形成”、“在上方沉积”或“在上方提供”意味着在表面上形成、沉积或提供,但不一定与该表面接触。例如,“在基材上方形成”的涂层不排除在形成的涂层与基材之间存在一个或多个相同或不同组成的其它涂层或膜。此外,本文中提到的所有文献,例如但不限于已颁发的专利和专利申请,应被视为全文“经此引用并入本文”。本文所用的术语“膜”是指具有所需或所选涂层组成的涂覆区域。“层”可包含一个或多个“膜”,“涂层”或“涂层堆叠体”可包含一个或多个“层”。
对下列讨论而言,可以就用于建筑透明体,例如但不限于隔热玻璃单元(IGU)来论述本文中描述的涂覆制品。本文所用的术语“建筑透明体”是指位于建筑物上的任何透明体,例如但不限于,窗户和天窗。但是,要理解的是,本文中描述的涂覆材料不限于用于此类建筑透明体,而是可用于任何所需领域中的透明体,例如但不限于,层叠或非层叠住宅和/或商业窗户,隔热玻璃单元,和/或陆地、航空、太空、水上和水下交通工具的透明体。在一个方面或实施方案中,本文中描述的涂覆制品是用于交通工具的透明体,如窗户或顶窗。因此,要理解的是,具体公开的示例性方面或实施方案仅用于解释本发明的一般概念,并且本发明不限于这些具体的示例性实施方案。此外,尽管典型的“透明体”可具有充足的可见光透射以便可透过该透明体观察材料,但“透明体”不必对可见光透明,而可以是半透明或不透明的。也就是说,“透明”是指具有大于0%直至100%的可见光透射率。
在一些实施方案中,该阳光控制涂层30可以施加到整体式窗玻璃的表面上。“整体式”意指具有单个结构支撑件或结构构件,例如具有单个基材。结合本发明的特征的非限制性涂覆制品10显示在图1中。该涂覆制品10可包含具有第一表面14和与第一表面14相对的第二表面16的基材12。阳光控制涂层30施加在第一表面14或第二表面16上方。在一个非限制性实施方案中,该阳光控制涂层30施加在第一表面14上方。在一个非限制性实施方案中,该阳光控制涂层30施加在第二表面16上方。该阳光控制涂层30包括位于基材12上方并与之直接接触的第一氮化铝硅或氮化硅层32。镍铬合金层34位于该第一氮化铝硅或氮化硅层32的至少一部分的上方并与之直接接触。第二氮化铝硅或氮化硅层36位于该镍铬合金层34的至少一部分的上方并与之直接接触。在一些实施方案中,该阳光控制涂层30仅包括该第一氮化铝硅或氮化硅层、该镍铬合金层34和该第二氮化铝硅或氮化硅层36。在另一些实施方案中,该基材12由本文中描述的阳光控制涂层30组成。
包含本发明的涂覆制品的示例性隔热玻璃单元可见于图2A和2B。由此,该透明体可包括具有第一表面14(1号表面)和相对的第二表面16(2号表面)的第一基材12。在所示非限制性实施方案中,1号表面14朝向建筑物外部,即是外表面,并且2号表面16朝向建筑物内部。该透明体还包括具有内第一表面20(3号表面)和相对的外第二表面22(4号表面)的第二基材18。该第一基材12与该第二基材18分隔。在一些实施方案中,该透明体包括具有第一表面(5号表面)和相对的第二表面(6号表面)的第三基材。在一些实施方案中,该基材中的一个或多个可包含层叠结构(例如夹在两个玻璃基材之间的聚合物夹层)。该透明体可具有任何所需的可见光、红外辐射、或紫外辐射透射和/或反射。
在一些实施方案中,该阳光控制涂层30可以是未除边的(图2A)或除边的(图2B)。第一和第二基材12、18可以以任何合适的方式连接,如通过使用聚合物密封剂材料粘接到常规间隔框架24。在两个基材12、18之间形成间隙或腔室26。腔室26可以填充所选气氛,如空气,或非反应性气体如氩气或氪气。阳光控制涂层30可以在该第一基材12的1号表面14的至少一部分上方形成。阳光控制涂层可以在2号表面18的至少一部分或3号表面20的至少一部分或4号表面22的至少一部分或5号表面的至少一部分或6号表面的至少一部分上方形成。
在一个非限制性实施方案中,阳光控制涂层30可以在双层玻璃IGU的3号表面20的至少一部分上方形成。在另一非限制性实施方案中,阳光控制涂层30可以在双层玻璃IGU的4号表面22的至少一部分上方形成。在一个非限制性实施方案中,该阳光控制涂层30可以在三层玻璃IGU的2号表面18上形成。在另一非限制性实施方案中,该阳光控制涂层30可以在三层玻璃IGU的3号表面20上形成。在另一非限制性实施方案中,该阳光控制涂层30可以在三层玻璃IGU的4号表面22上形成。在另一非限制性实施方案中,该阳光控制涂层30可以在三层玻璃IGU的5号表面上形成。在另一非限制性实施方案中,该阳光控制涂层30可以在三层玻璃IGU的6号表面上形成。隔热玻璃单元的实例例如可见于美国专利号4,193,228;4,464,874;5,088,258;和5,106,663。
图2C的示例性透明体是用于交通工具的常规透明体的形式,如窗户或顶窗。为清楚起见,没有显示密封件、连接器和打开机构,也没有显示整个交通工具。该透明体110包括安装在交通工具118(部分显示)的车身中的具有第一表面114(1号表面)和相对的第二表面116(2号表面)的第一基材112。在示出的非限制性实施方案中,第一表面114面向交通工具的外部,并由此是外表面,并且第二表面116面向交通工具的内部。车身的非限制性实例包括:在顶窗的情况下的汽车车顶,在汽车窗户的情况下的汽车门或框架,或飞机的机身。该透明体可以固定到机构,该透明体(如车窗或顶窗)可以通过该机构打开和关闭,如交通工具领域中广泛已知的那样。本文中描述的阳光控制涂层130显示为在第一表面114的至少一部分上方形成,或者其可以在第二表面116的至少一部分上方形成。
在本发明的广泛实践中,透明体的基材12、18、112可以是相同或不同材料。基材12、18、112可包括具有任何所需特征的任何所需材料。例如,基材12、18、112中的一个或多个可以对可见光透明或半透明。“透明”是指具有大于0%直至100%的可见光透射率。或者,基材12、18、112中的一个或多个可以是半透明的。“半透明”是指允许电磁能(例如可见光)穿过,但漫射这种能量以致观察者相对侧上的物体不清晰可见。合适的材料的实例包括但不限于塑料基材(如丙烯酸聚合物,如聚丙烯酸酯;聚甲基丙烯酸烷基酯,如聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丙酯等;聚氨酯;聚碳酸酯;聚对苯二甲酸烷基酯,如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等;含聚硅氧烷的聚合物;或用于制备这些的任何单体的共聚物,或其任意混合物);陶瓷基材;玻璃基材;或上述任意的混合物或组合。例如,基材12、18、112中的一个或多个可包括常规钠钙硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃或含铅玻璃。该玻璃可以是透明玻璃。“透明玻璃”是指未染色或未着色的玻璃。或者,该玻璃可以是染色或以其它方式着色的玻璃。该玻璃可以是退火或热处理的玻璃。本文所用的术语“热处理”是指回火或至少部分回火。该玻璃可以为任何类型,如常规浮法玻璃,并可以是具有任何光学性质,例如可见光透射率、紫外线透射率、红外线透射率和/或总太阳能透射率的任何值的任何组成。“浮法玻璃”是指通过常规浮法工艺形成的玻璃,其中将熔融玻璃沉积到熔融金属浴上并受控冷却以形成浮法玻璃带。在美国专利号4,466,562和4,671,155中公开了浮法玻璃工艺的实例。
基材12、18、112可各自包含例如透明浮法玻璃或可以是染色或着色的玻璃,或者一个基材12、18可以是透明玻璃,另一基材12、18是着色玻璃。尽管并不限制,但适于第一基材12、112和/或第二基材18的玻璃的实例描述在美国专利号4,746,347;4,792,536;5,030,593;5,030,594;5,240,886;5,385,872;和5,393,593中。基材12、18、112可具有任何所需尺寸,例如长度、宽度、形状或厚度。在一种示例性透明体中,基材12、18、112可以为1毫米至25毫米厚,如1毫米至8毫米厚,如2毫米至8毫米,如3毫米至7毫米,如5毫米至7毫米,如6毫米厚。在另一些实例中,较薄的基材可用于透明体,例如厚度小于1毫米的基材。
在本文中描述的涂覆制品10的非限制性实施方案中,本发明的阳光控制涂层30沉积在玻璃基材12、18、112之一的至少一个表面的至少一部分上方。在根据图2A的实例中,阳光控制涂层30在外侧玻璃基材12的内表面16的至少一部分上方形成;作为补充或替代,要理解的是,在与本公开一致的非限制性实例中,阳光控制涂层30可以在外部玻璃基材12的外表面14的至少一部分上方形成。在一个实施方案中,阳光控制涂层30是施加在基材12、18、112的第一表面14、20、114或第二表面16、22、116上方的仅有涂层。
本文中描述的阳光涂层,如阳光控制涂层30,可以通过任何可用方法沉积,例如但不限于常规化学气相沉积(CVD)和/或物理气相沉积(PVD)法。CVD法的实例包括喷雾热解。PVD法的实例包括电子束蒸发和真空溅射(如磁控管溅射气相沉积(MSVD))。也可以使用其它涂覆方法,例如但不限于溶胶-凝胶沉积。在一个非限制性实施方案中,该阳光控制涂层30通过MSVD沉积。MSVD涂布装置和方法的实例是本领域普通技术人员充分了解的并描述在例如美国专利号4,379,040;4,861,669;4,898,789;4,898,790;4,900,633;4,920,006;4,938,857;5,328,768;和5,492,750中。
该阳光控制涂层30包括位于基材12、18、112上方的第一氮化铝硅或氮化硅层32,位于第一氮化铝硅或氮化硅层32上方并与之直接接触的镍铬合金层34,和位于镍-铬层34上方并与之直接接触的第二氮化铝硅或氮化硅层36。
该第一氮化铝硅或氮化硅层32包含氮化铝硅或氮化硅。该第一氮化硅层32可以由含有硅的单个阴极溅射。该第一氮化铝硅层32可以由两个阴极(例如一个硅阴极和一个铝阴极)溅射,或由含有硅和铝的单个阴极溅射。该第一氮化铝硅层32可包含5重量%至20重量%的铝和95重量%至80重量%的硅,如10重量%至20重量%的铝和90重量%至80重量%的硅,如20重量%至25重量%的铝和80重量%至75重量%的硅。在一个示例性实施方案中,该第一氮化铝硅或氮化硅层32包含硅。在另一实施方案中,该第一氮化铝硅层32包含硅和铝,其包含至少5重量%的铝和至少95重量%的硅。在另一实施方案中,该第一氮化铝硅层32包含硅和铝,其包含至少10重量%的铝和至少90重量%的硅。在另一实施方案中,该第一氮化铝硅层32包含硅和铝,其包含至少15重量%的铝和至少85重量%的硅。在另一实施方案中,该第一氮化铝硅层32包含硅和铝,其包含至少20重量%的铝和至少80重量%的硅。在另一实施方案中,该第一氮化铝硅层32包含硅和铝,其包含至少25重量%的铝和至少75重量%的硅。在一个非限制性实施方案中,硅和铝基本上是第一氮化铝硅层32中仅有的金属。在一个非限制性实施方案中,硅基本上是第一氮化硅层32中仅有的金属。也就是说,该第一氮化铝硅层可以基本不含,或完全不含其它金属。本文中所用的“基本不含其它金属”是指该第一氮化铝硅层含有小于1重量%的除硅和铝之外的附加金属。例如,该第一氮化铝硅或氮化硅层32基本不含钛、锆、铪或其混合物。
该第一氮化铝硅或氮化硅层32通过在氮气(N2)气氛中溅射金属或金属合金来形成,所述氮气气氛具有特定流量以形成大于0% N2至小于或等于100%的N2的气氛。该流量是该气氛中N2量的近似值,但是本领域普通技术人员将认识到,如果存在从外部气氛向涂覆室中的任何泄漏,附加的N2可能泄漏到涂覆室中。例如,涂覆室中的N2组成(即沉积该材料的室的气氛中的N2浓度)可以为10%至100%、如20%至100%、如30%至100%、如40%至100%、如50%至100%。该气氛的剩余部分可以是惰性气体,如氩。
可以在含氮气氛中溅射金属或金属合金,使得沉积的第一氮化铝硅或氮化硅层32包含化学计量膜,如化学计量的氮化铝硅膜或化学计量的氮化硅膜。第一氮化铝硅或氮化硅层32中氮的原子比可以为至少45原子百分比(原子%)至不超过60原子%、如至少50原子%至不超过60原子%、如至少55原子%至不超过60原子%不等,其中原子%是指氮摩尔数对膜组合物的总摩尔数之比。该第一氮化铝硅或氮化硅层32包含至少30重量%的氮和不超过50重量%的氮,或至少35重量%的氮和不超过50重量%的氮,或至少35重量%的氮和不超过45重量%的氮,或至少35重量%和不超过40重量%的氮。
本领域普通技术人员将认识到,第一氮化铝硅或氮化硅层32可进一步包含非故意的元素。非故意的元素可以例如通过涂覆机的设备故障或工艺室的交叉污染而混入到第一氮化铝硅或氮化硅层32中。例如,如果存在从外部气氛向涂覆室中的任何泄漏,氧(O2)可能泄漏到涂覆室中。在一个非限制性实施方案中,该第一氮化铝硅或氮化硅层32包含至少90原子%的氮化铝硅或氮化硅和不超过10原子%的组合的氧或者除硅、铝和氮之外的物类;如至少95原子%的氮化铝硅或氮化硅和不超过5原子%的组合的氧或者除硅、铝和氮之外的物类;如至少97原子%的氮化铝硅或氮化硅和不超过3原子%的组合的氧或者除硅、铝和氮之外的物类;如至少99原子%的氮化铝硅或氮化硅和不超过1原子%的组合的氧或者除硅、铝和氮之外的物类;或如100原子%的氮化铝硅或氮化硅和0原子%的组合的氧或者除硅、铝和氮之外的物类。
该第一氮化铝硅或氮化硅层32可构成小于15纳米(nm)的总厚度。该第一氮化铝硅层32可构成1nm至14nm、优选4nm至13nm、更优选6至12nm、或最优选7nm至11nm的总厚度。
该镍铬合金层34包含镍铬合金。该镍铬合金层34不包括其它金属元素(例如铌、钽、钼、锆、钛、钴、钨)及其合金。该镍铬合金层34包含70重量%至90重量%的镍和10重量%至30重量%的铬,如75重量%至85重量%的镍和15重量%至25重量%的铬,如80重量%的镍和20重量%的铬。在一个非限制性实施方案中,该镍铬合金是INCONEL。
该镍铬合金层基本不含氮和/或氧。但是,本领域普通技术人员将认识到,镍铬合金层34可进一步包含非故意的元素,如氮和氧。本文中所用的“基本不含氮和/或氧”是指该镍铬合金层含有小于2重量%的氮和/或氧。非故意的元素可以例如通过涂覆机的设备故障或工艺室的交叉污染而混入到镍铬合金层34中。这些非故意的元素可以在气相中或可以吸附在真空室的内表面上,所述非故意的元素可以从这些表面上解吸并在沉积该镍铬合金层34时混入该层中。由于与用于沉积氮化铝硅层的相邻工艺室,氮可能混入该镍铬合金层膜中。该镍铬合金层34可包含至少90原子%的镍铬合金和不超过10原子%的氧、氮、或除镍与铬之外的物类;如至少95原子%的镍铬合金和不超过5原子%的组合的氧、氮、或除镍与铬之外的物类;如至少97原子%的镍铬合金和不超过3原子%的组合的氧、氮、或除镍与铬之外的物类,如至少99原子%的镍铬合金和不超过1原子%的组合的氧、氮、或除镍与铬之外的物类;或如100原子%的镍铬合金和0原子%的组合的氧、氮、或除镍与铬之外的物类。
该镍铬合金层34包含1nm至10nm、优选1nm至9.5nm、更优选1.5nm至9nm、或最优选2nm至8.5nm的厚度。
该第二氮化铝硅或氮化硅层36包含氮化铝硅或氮化硅。该第二氮化铝硅或氮化硅层36可包含上文就第一氮化铝硅或氮化硅层32所描述的氮化铝硅或氮化硅。在一个非限制性实施方案中,如前所述,硅和铝基本上是第二氮化铝硅层36中仅有的金属。在另一非限制性实施方案中,如前所述,硅基本上是第二氮化硅层36中仅有的金属。
该第二氮化铝硅或氮化硅层36通过在N2气氛中溅射金属或金属合金来形成,所述气氛具有特定流量以形成大于0% N2至小于或等于100%的N2的气氛。该流量是该气氛中N2量的近似值,但是本领域普通技术人员将认识到,如果存在从外部气氛向涂覆室中的任何泄漏,额外的N2可泄漏到涂覆室中。例如,涂覆室中的N2组成(即沉积该材料的室的气氛中的N2浓度)可以为10%至100%、如20%至100%、如30%至100%、如40%至100%、如50%至100%。该气氛的剩余部分可以是惰性气体,如氩。
可以在含氮气氛中溅射金属或金属合金,使得沉积的第二氮化铝硅或氮化硅层36包含化学计量膜,如化学计量的氮化铝硅膜或化学计量的氮化硅膜。第二氮化铝硅或氮化硅层36中氮的原子比可以为至少45原子%至不超过60原子%、如至少50原子%至不超过60原子%、如至少55原子%至不超过60原子%不等。该第二氮化铝硅或氮化硅层36包含至少30重量%的氮和不超过50重量%的氮,或至少35重量%的氮和不超过50重量%的氮,或至少35重量%的氮和不超过45重量%的氮,或至少35重量%和不超过40重量%的氮。
本领域普通技术人员将认识到,第二氮化铝硅或氮化硅层36可进一步包含非故意的元素。非故意的元素可以例如通过涂覆机的设备故障或工艺室的交叉污染而混入到第二氮化铝硅或氮化硅层36中。例如,如果存在从外部气氛向涂覆室中的任何泄漏,O2可泄漏到涂覆室中。在一个非限制性实施方案中,该第一氮化铝硅或氮化硅层32包含至少90原子%的氮化铝硅或氮化硅和不超过10原子%的组合的氧或者除硅、铝和氮之外的物类;如至少95原子%的氮化铝硅或氮化硅和不超过5原子%的组合的氧或者除硅、铝和氮之外的物类;如至少97原子%的氮化铝硅或氮化硅和不超过3原子%的组合的氧或者除硅、铝和氮之外的物类;如至少99原子%的氮化铝硅或氮化硅和不超过1原子%的组合的氧或者除硅、铝和氮之外的物类;或如100原子%的氮化铝硅或氮化硅和0原子%的组合的氧或者除硅、铝和氮之外的物类。
该第二氮化铝硅或氮化硅层36构成小于60nm、如25nm至58nm、优选30nm至55nm、更优选32nm至50nm、或最优选35nm至48nm的厚度。
在一些非限制性实施方案中,第一氮化铝硅或氮化硅层32的厚度对镍铬合金层24的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层36的厚度之比为1-5:1:3-22。在另一些实施方案中,第一氮化铝硅或氮化硅层32的厚度对镍铬合金层34的厚度对第二氮化铝硅层36的厚度之比为1-4:1:4-20。
在一些非限制性实施方案中,第二氮化铝硅或氮化硅层36的厚度大于第一氮化铝硅或氮化硅层32的厚度。例如,第一氮化铝硅或氮化硅层32的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层36的厚度之比为至少1:3、如至少1:4。
在一些非限制性实施方案中,第二氮化铝硅或氮化硅层36的厚度大于第一氮化铝硅或氮化硅层32与镍铬合金层34的总厚度。例如,在一些非限制性实施方案中,第一氮化铝硅或氮化硅层32的总厚度与镍铬合金层34的厚度之比为至少1:2。在一些实施方案中,该第一氮化铝硅或氮化硅层32与镍铬合金层34的总厚度小于25nm,如2nm至24nm、优选5nm至22nm、更优选7.5nm至21nm、或最优选9nm至19.5nm。
本领域普通技术人员可以设想,可以使用另外的涂层,如底涂层和/或保护涂层。例如,底涂层可以位于阳光控制涂层30的镍铬合金层34上方并与之直接接触。底涂层可以是单个膜或多膜层。底涂层可以包括在沉积过程中可以牺牲的氧捕获材料,以防止镍铬合金层在溅射工艺或后续加热工艺过程中的降解或氧化。底涂层还可以吸收至少一部分穿过该涂层的电磁辐射,如可见光。适于底涂层的材料的非限制性实例包括钛、硅、镍、铬、钴、铌、钒、钼、钽、钨、铪、铟、锡、锆、铝、硅与铝的合金和/或其混合物。例如,底涂层可以是锌铝,例如掺杂铝的锌。例如,底涂层可以是钛,并可具有0.1nm至6nm、优选0.5nm至5nm、更优选0.7nm至4nm、最优选1nm至3.5nm的总厚度。
可以在阳光控制涂层30的顶部上方施加附加层。例如,可以在阳光控制涂层30的第二氮化铝硅或氮化硅层36上方施加附加层,以提供具有附加性质的涂覆制品。
例如,如本文中先前描述的阳光控制涂层30可包括在该阳光控制涂层30的第二氮化铝硅或氮化硅层36上方的保护涂层。保护涂层可以帮助保护下方涂层免受机械和化学侵蚀。保护涂层可包含超过一个保护膜,并可包括例如金属氧化物和/或金属氮化物层。例如,保护涂层可包括二氧化硅与氧化铝的混合物、二氧化硅、氧化铝、氮化硅、氮氧化硅铝、二氧化钛、氧化铝钛、氧化锆或其混合物。保护涂层可以具有大于0nm的总厚度。
但是,可以理解的是,该涂覆制品可以不含一个或多个底涂层和/或保护涂层。在一个实施方案中,基材的表面可以仅包括阳光控制涂层(即没有底涂层或保护涂层)。在此类情况下,第一氮化铝硅层32、镍铬合金层34和第二氮化铝硅层36是阳光控制涂层30仅有的层。
阳光控制涂层30的反射和透射美观性取决于光的光学干涉的物理现象,并且通常随阳光控制涂层30中所用材料的光学性质、阳光控制涂层30中所用材料的厚度以及阳光控制涂层30中此类材料的顺序灵敏地变化。在本发明的实践中,合意的是涂覆有阳光控制涂层30的基材的审美和阳光控制性能在对涂覆基材施以热处理(例如热回火工艺)时表现出最小的变化。该阳光控制涂层30可以为涂覆制品提供其它合意的性质,如耐磨性和耐化学性。
在本发明的实践中,通过选择第一氮化铝硅或氮化硅层32、镍铬合金层34和第二氮化铝硅或氮化硅层36的特定厚度,可以改变涂层的吸收颜色(例如色调)。在本发明的实践中,期望在回火之前和之后保持涂覆制品的颜色。
该涂覆制品10可具有小于0.80、如小于0.75、如小于0.70的太阳能得热系数(SHGC)。例如,该涂覆制品可具有0.40至0.75、如0.50至0.70的SHGC。
本文中使用的“U因子”是通过结构的热传递率或热传递速率除以跨所述结构的温差。U因子的单位包括每小时平方英尺-华氏度的BTU(BTU/h-ft2/℉)或瓦特/平方米-开尔文(W/m2-K)。该涂覆制品10可具有小于1.1BTU/h·ft2·°F、如小于1.05BTU/h·ft2·°F、如小于1.02BTU/h·ft2·°F的冬季U因子。该涂覆制品可具有小于1.0BTU/h·ft2·°F、如小于0.95BTU/h·ft2·°F、如小于0.92BTU/h·ft2·°F的夏季U因子。该涂覆制品10可具有至少0.80、如至少0.85、如至少0.88的光热增益(LSG)。
该涂覆制品10可具有1%至100%、如30%至80%、如35%至75%、如45%至70%的可见光透射率。
本文中使用的“外部反射率”是涂覆制品从未涂覆表面(即基材侧)的反射率的量度。涂覆制品可具有1%至50%、如5%至30%、如12%至20%的外部反射率。
本文中使用的“内部反射率”是涂覆制品从涂覆表面(即涂层侧)的反射率的量度。涂覆制品可具有1%至50%、如5%至25%、如8%至16%的内部反射率。在一些非限制性实施方案中,内部光反射小于16%。
该涂覆制品可具有以下透射审美CIELAB L*a*b*色值:L*为60至95、如68至90、如72至86;a*为-3至0、如-2.5至-0.5、如-2.4至-1;和b*为-4至1.1、如-3.5至1、如-3.1至0.9。
该涂覆制品可具有以下外部反射审美CIELAB L*a*b*色值(从未涂覆的玻璃侧测得):L*为35至60、如40至55、如44至50;a*为-4至-2、如-3.8至-2.3、如-3.3至-2.5;和b*为-10至-5、如-9.5至-6、如-9至-6.5。
该涂覆制品可具有以下内部反射审美CIELAB L*a*b*色值(从涂覆侧测得):L*为25至55、如30至50、如34至47;a*为-2至4、如-1.5至3.5、如-1至3;和b*为-4至13、如-3至12.5、如-2.5至11.5。在一个非限制性实施例中,内部反射L*值为不大于46。
使用Perkin Elmer 1050分光光度计测定可见光透射率、可见光外部反射率、可见光内部反射率、阳光透射率、阳光外部反射率、阳光内部反射率和UV透射率。参考值,包括遮蔽系数(SC)、太阳能得热系数(SHGC)、光热增益(LSG),是根据可获自Lawrence BerkeleyNational Laboratory,measured center of glazing(COG)的OPTICS(v6.0)软件和WINDOW(v7.6.4)软件确定的那些,根据NFRC 2010(其包括NFRC 100-2010)标准默认设置计算,除非有相对的指示。U因子是冬季/夜间U因子,除非另行说明。SHGC值是夏季/白天值。颜色值(例如L*、a*、b*)符合International Commission on Illumination规定的1976CIELAB颜色体系。说明书中的L*、a*、b*值表示色心点值,除非另行说明。
在下列编号条款中进一步描述本发明。
条款1:涂覆制品,其包含:包含第一表面和与第一表面相对的第二表面的基材;和施加在该基材的第一表面或第二表面上方的阳光控制涂层,该阳光控制涂层包含:在该基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅或氮化硅层;在该氮化铝硅或氮化硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;和在该镍铬合金层的至少一部分上并与之直接接触的第二氮化铝硅或氮化硅层。
条款2:条款1的涂覆制品,其中该阳光控制涂层由该第一氮化铝硅或氮化硅层、该镍铬合金层、和该第二氮化铝硅或氮化硅层组成。
条款3:条款1的涂覆制品,其中该阳光控制涂层是施加在该基材的第一表面或第二表面上方的仅有涂层。
条款4:条款1或2的涂覆制品,其中该镍铬合金层包含70重量%至90重量%的镍和10重量%至30重量%的铬的合金。
条款5:条款1或2的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于15纳米的厚度。
条款6:条款1或2的涂覆制品,其中该镍铬合金层构成1纳米至10纳米的厚度。
条款7:条款5至6的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层与镍铬合金层的总厚度为小于25纳米。
条款8:条款1或2的涂覆制品,其中第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于60纳米的厚度。
条款9:条款1至8任一项的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对镍铬合金层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为1-5:1:3-22。
条款10:条款9的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对镍铬合金层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为1-4:1:4-20。
条款11:条款1至8任一项的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层与镍铬合金层的总厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:2。
条款12:条款1至8任一项的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:3。
条款13:条款12的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:4。
条款14:条款1至13任一项的涂覆制品,其中内部反射L*值为不大于46。
条款15:条款1至14任一项的涂覆制品,其中内部光反射为小于16%。
条款16:条款1至15任一项的涂覆制品,其中该基材包含玻璃。
条款17:条款1至16任一项的涂覆制品,其中该制品是可回火的。
条款18:涂覆制品,由以下组成:玻璃基材;和施加在玻璃基材上方的阳光控制涂层,该阳光控制涂层包含:在该基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅或氮化硅层;在该氮化铝硅或氮化硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;和在该镍铬合金层的至少一部分上方并与之直接接触的第二氮化铝硅或氮化硅层。
条款19:条款18的涂覆制品,其中该阳光控制涂层由该第一氮化铝硅或氮化硅层、该镍铬合金层、和该第二氮化铝硅或氮化硅层组成。
条款20:条款18或19的涂覆制品,其中该镍铬合金层包含70重量%至90重量%的镍和10重量%至30重量%的铬的合金。
条款21:条款18或19的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于15纳米的厚度。
条款22:条款18或19的涂覆制品,其中该镍铬合金层构成1纳米至10纳米的厚度。
条款23:条款21至22的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层与镍铬合金层的总厚度为小于25纳米。
条款24:条款18或19的涂覆制品,其中第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于60纳米的厚度。
条款25:条款18至24任一项的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对镍铬合金层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为1-5:1:3-22。
条款26:条款25的涂覆制品,其中第一氮化铝硅层的厚度对镍铬合金层的厚度对第二氮化铝硅层的厚度之比为1-4:1:4-20。
条款27:条款18至24任一项的涂覆制品,其中第一氮化铝硅层与镍铬合金层的总厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:2。
条款28:条款18至24任一项的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:3。
条款2:条款28的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:4。
条款30:条款18至29任一项的涂覆制品,其中内部反射L*值为不大于46。
条款31:条款18至30任一项的涂覆制品,其中内部光反射为小于16%。
条款32:条款18至31任一项的涂覆制品,其中该制品是可回火的。
条款33:制造涂覆制品的方法,该方法包括:提供包含第一表面和与该第一表面相对的第二表面的基材;并形成施加在该基材的第一表面或第二表面上方的阳光控制涂层,该阳光控制涂层包含:在该基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅或氮化硅层;在该氮化铝硅或氮化硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;和在该镍铬合金层的至少一部分上方并与之直接接触的第二氮化铝硅或氮化硅层,其中第一氮化铝硅层的厚度构成小于15纳米的厚度,其中第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于60纳米的厚度,和其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:3。
条款34:条款33的方法,其中该阳光控制涂层由该第一氮化铝硅或氮化硅层、该镍铬合金层、和该第二氮化铝硅或氮化硅层组成。
条款35:条款33或34的方法,其中该阳光控制涂层是施加在该基材的第一表面或第二表面上方的仅有涂层。
条款36:条款33或34的方法,其中该镍铬合金层包含70重量%至90重量%的镍和10重量%至30重量%的铬的合金。
条款37:条款33或34的方法,其中该镍铬合金层构成1纳米至10纳米的厚度。
条款38:条款33至37任一项的方法,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对镍铬合金层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为1-5:1:3-22。
条款39:条款38的方法,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对镍铬合金层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为1-4:1:4-20。
条款40:条款33至37的方法,其中第一氮化铝硅或氮化硅层与镍铬合金层的总厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:2。
条款41:条款33的方法,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:4。
条款42:条款33至41任一项的方法,其中内部反射L*值为不大于46。
条款43:条款33至42任一项的方法,其中内部光反射为小于16%。
条款44:条款33至43任一项的方法,其中该基材包含玻璃。
条款45:条款33至44任一项的方法,其中该制品是可回火的。
条款46:涂覆制品,其包含:包含第一表面和与第一表面相对的第二表面的基材;和施加在该基材的第一表面或第二表面上方的阳光控制涂层,该阳光控制涂层由以下组成:在该基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅或氮化硅层;在该氮化铝硅或氮化硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;和在该镍铬合金层的至少一部分上方并与之直接接触的第二氮化铝硅或氮化硅层。
条款47:条款46的涂覆制品,其中该阳光控制涂层是施加在该基材的第一表面或第二表面上方的仅有涂层。
条款48:条款46的涂覆制品,其中该镍铬合金层包含70重量%至90重量%的镍和10重量%至30重量%的铬的合金。
条款49:条款46的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于15纳米的厚度。
条款50:条款46的涂覆制品,其中该镍铬合金层构成1纳米至10纳米的厚度。
条款51:条款49至50的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层与镍铬合金层的总厚度为小于25纳米。
条款52:条款46的涂覆制品,其中第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于60纳米的厚度。
条款53:条款46至52任一项的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对镍铬合金层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为1-5:1:3-22。
条款54:条款53的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对镍铬合金层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为1-4:1:4-20。
条款55:条款46至52的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层与镍铬合金层的总厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:2。
条款56:条款46至52任一项的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:3。
条款57:条款56的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:4。
条款58:条款46至57任一项的涂覆制品,其中内部反射L*值为不大于46。
条款59:条款46至58任一项的涂覆制品,其中内部光反射为小于16%。
条款60:条款46至59任一项的涂覆制品,其中该基材包含玻璃。
条款61:条款46至60任一项的涂覆制品,其中该制品是可回火的。
条款62:制造涂覆制品的方法,该方法包括:提供包含第一表面和与该第一表面相对的第二表面的基材;并形成施加在该基材的第一表面或第二表面上方的阳光控制涂层,该阳光控制涂层由以下组成:在该基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅或氮化硅层;在该氮化铝硅或氮化硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;和在该镍铬合金层的至少一部分上方并与之直接接触的第二氮化铝硅或氮化硅层,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于15纳米的厚度,其中第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于60纳米的厚度,和其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:3。
以下实施例说明了本发明的各种实施方案。但是,要理解的是,本发明不限于这些具体实施方案。
实施例
实施例A
涂覆制品制备
用根据表1的阳光控制涂层涂覆玻璃基材。阳光控制涂层包括设置在玻璃基材上方的第一氮化铝硅(SiAlN)层、设置在第一氮化铝硅层上方的镍铬合金层和设置在镍铬合金层上方的第二氮化铝硅层。对比例1和2(CE-1和CE-2)是市售样品,包含涂覆有具有以下结构的阳光控制涂层的玻璃基材:
第一SiAlN层
氮化铌层
第二SiAlN层。
表1
实施例1和2以沉积态(实施例1A和实施例2A)和热处理态(实施例1B和实施例2B)进行测试。对比例1和2以沉积态(对比例1A和对比例2A)和热处理态(对比例1B和对比例2B)进行测试。
涂覆制品性能
实施例1A、1B、2A、2B、CE-1A、CE-1B、CE-2A和CE-2B的所得性能性质,包括透射率(T)、外部反射率、内部反射率、U因子(对冬季和夏季条件)、SHGC和LSG,可以在表2中找到。
表2
实施例B
涂覆制品制备
用根据表3的阳光控制涂层涂覆玻璃基材。阳光控制涂层包括设置在玻璃基材上方的第一氮化铝硅(SiAlN)层、设置在第一氮化铝硅层上方的镍铬合金层和设置在镍铬合金层上方的第二氮化铝硅层。对比例3和4(CE-3和CE-4)是市售样品,包含涂覆有具有以下结构的阳光控制涂层的玻璃基材:
第一SiAlN层
氮化铌层
第二SiAlN层。
表3
实施例3和4以沉积态(实施例3A和实施例4A)和热处理态(实施例3B和实施例4B)进行测试。对比例3和4以沉积态(对比例3A和对比例4A)和热处理态(对比例3B和对比例4B)进行测试。
涂覆制品性能
实施例3A、3B、4A、4B、CE-3A、CE-3B、CE-4A和CE-4B的所得性能性质,包括透射率(T)、外部反射率、内部反射率、对冬季和夏季条件的U因子、SHGC和LSG,可以在表4中找到。对实施例3A、3B、4A和4B的每一个,测试两个样品(n=2)。对CE-3A、CE-3B、CE-4A和CE-4B的每一个,测试一个样品(n=1)。
表4
实施例3A、3B、4A和4B的性能具有与CE-3A、CE-3B、CE-4A和CE-4B相当的性能。
涂覆制品的审美
实施例3A、3B、4A、4B、CE-3A、CE-3B、CE-4A和CE-4B的所得审美性质,包括透射颜色、反射外部颜色和反射内部颜色,可以在表5中找到。对实施例3A、3B、4A和4B的每一个,测试两个样品(n=2)。对CE-3A、CE-3B、CE-4A和CE-4B的每一个,测试一个样品(n=1)。
表5
实施例3A、3B、4A和4B的内部反射L*值有利地低于CE-3A、CE-3B、CE-4A和CE-4B。
本领域技术人员将容易理解,在不脱离前面描述中公开的概念的情况下,可以对本发明进行修改。因此,本文详细描述的特定实施方案仅是说明性的,并不限制本发明的范围,本发明的范围由所附权利要求及其任何和所有等同物的全部宽度给出。

Claims (15)

1.涂覆制品,其包含:
包含第一表面和与第一表面相对的第二表面的基材;和
施加在所述基材的第一表面或第二表面上方的阳光控制涂层,所述阳光控制涂层包含:
在所述基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅或氮化硅层;
在所述氮化铝硅或氮化硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;和
在所述镍铬合金层的至少一部分上方并与之直接接触的第二氮化铝硅或氮化硅层。
2.权利要求1的涂覆制品,其中所述阳光控制涂层由所述第一氮化铝硅或氮化硅层、所述镍铬合金层、和所述第二氮化铝硅或氮化硅层组成。
3.权利要求2的涂覆制品,其中所述阳光控制涂层是施加在所述基材的第一表面或第二表面上方的仅有涂层。
4.权利要求1的涂覆制品,其中所述镍铬合金层包含70重量%至90重量%的镍和10重量%至30重量%的铬的合金,且
其中所述镍铬合金层构成1纳米至10纳米的厚度。
5.权利要求1的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对镍铬合金层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为1-5:1:3-22。
6.权利要求1的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层与镍铬合金层的总厚度为小于25纳米。
7.权利要求1的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层与镍铬合金层的总厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:2。
8.权利要求1的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:3。
9.权利要求1的涂覆制品,其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于15纳米的厚度,且
其中第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于60纳米的厚度。
10.权利要求1的涂覆制品,其中内部反射L*值为不大于46。
11.权利要求1的涂覆制品,其中内部光反射为小于16%。
12.权利要求1的涂覆制品,其中所述制品是可回火的。
13.制造涂覆制品的方法,所述方法包括:
提供包含第一表面和与所述第一表面相对的第二表面的基材;并
形成施加在所述基材的第一表面或第二表面上方的阳光控制涂层,所述阳光控制涂层包含:
在所述基材的至少一部分上方的第一氮化铝硅或氮化硅层;
在所述氮化铝硅或氮化硅层的至少一部分上方并与之直接接触的镍铬合金层;
在所述镍铬合金层的至少一部分上方并与之直接接触的第二氮化铝硅或氮化硅层,
其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于15纳米的厚度,
其中第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度构成小于60纳米的厚度,和
其中第一氮化铝硅或氮化硅层的厚度对第二氮化铝硅或氮化硅层的厚度之比为至少1:3。
14.权利要求13的方法,其中所述阳光控制涂层由所述第一氮化铝硅或氮化硅层、所述镍铬合金层、和所述第二氮化铝硅或氮化硅层组成。
15.权利要求13的方法,其中所述阳光控制涂层是施加在所述基材的第一表面或第二表面上方的仅有涂层。
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