CN116324563A - 光学部件和用于对准光学部件的方法以及投射曝光设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种光学部件(19)，其具有通过设计为六足的轴承连接到基座元件(27)的光学元件(25)和用于参考连接平面(28)上的至少一个六足腿(20)和两个元件(25、27)之一之间的接触点(29)的装置(31)。装置(31)被设计成在两个元件(25、27)朝向彼此的集成方向上是柔性的。本发明还涉及用于半导体技术的投射曝光***(1、101)和用于调节光学部件(19)的方法。

Description

光学部件和用于对准光学部件的方法以及投射曝光设备

相关申请的交叉引用

本专利申请要求德国专利申请DE102020212870.7的优先权，其内容通过引用完全并入本文。

技术领域

本发明涉及光学部件和用于对准光学部件的方法以及投射曝光设备。

背景技术

这种设备用于制造非常精细的结构，特别是在半导体部件或其他微结构构成部分上。所述设备的工作原理是基于通过通常缩小成像掩模上的结构来制造低至纳米范围的非常精细的结构，在设置有光敏材料的待结构化元件(所谓的晶片)上使用所谓的掩模版。所制造的结构的最小尺寸直接取决于所用光的波长。虽然迄今为止用于成像的波长主要在从100nm到300nm的范围内，在所谓的DUV范围内，但是具有几纳米量级的发射波长的光源，例如在1nm和120nm之间，特别是13.5nm量级的光源近来已经得到越来越多的使用。所描述的波长范围也被称为EUV范围。

用于上述应用的成像的光学元件必须相对于光学部件非常精确地组装，以便例如保持补偿组装公差所需的操纵器的行程尽可能小。光学元件布置在外壳中，通常在透镜外壳中，并且借助于参考点被组装。在本文中，参考点被理解为指外壳上的标记点，基于该标记点，可以确定光学元件相对于彼此以及相对于外壳的位置和方向。特别地，参考点可以是机械参考元件的形式，其例如可以是销形的或者以套筒的形式实施。

发现使用六足是将光学元件集成到透镜外壳中并使其对准的最佳可再现方法。然而，当定位光学元件时对高重复精度的要求导致在设计单独六足腿的去耦时的限制，该要求旨在确保光学元件(例如反射镜)的足够精确的交换。在现有技术中，为了固定X方向和Y方向，使用套筒作为参考元件，X方向和Y方向在Z方向上垂直于六足腿的纵向轴线，并且跨越连接平面。所述套筒连接到光学部件的反射镜或透镜外壳。它们用作六足腿在Z方向上的导向件，为此，在套筒中被引导的销形成在所述六足腿上。在反射镜和透镜外壳之间布置有可更换间隔件，其可以通过调整单独六足腿的长度来更换，以便在六个自由度上对准光学元件。如果光学元件的集成方向，也就是说光学元件在其组装或拆卸期间移动的方向，不平行于六足腿的纵向轴线，那么在垂直于六足腿的纵向轴线的集成期间，六足腿必须通过套筒中的销的强制引导以s形方式变形。通常，光学元件通过多个不平行的六足腿同时连接到外壳，因此这种情况必然会发生。当考虑进一步的先决条件，例如可用的安装空间时，在这些情况下，集成方向通常被选择成使得没有一个六足腿过度变形，结果每个六足腿经历前述的s形变形。在s形变形过程中在去耦接头中产生的应力明显高于在操作过程中由于反射镜的传统定位而在去耦元件中产生的应力。其结果是，六足腿的去耦接头需要设计得比光学元件连接所需的或期望的更软。另一个缺点在于在套筒中强制引导销的过程中可能产生颗粒。

发明内容

本发明的目的是提供弥补现有技术的上述缺点的光学部件和投射曝光设备。本发明的另一个目的包括指定用于对准光学部件的方法。

这个目的通过具有独立权利要求特征的设备和方法来实现。从属权利要求涉及本发明的有利发展和变型。

根据本发明的光学部件包括光学元件，其通过六足形式的安装件连接到基座元件。此外，光学部件包括用于参考连接平面中至少一个六足腿和两个元件之一之间的接触点的设备。根据本发明，该设备在两个元件相对于彼此的集成方向上具有柔软实施例。在这种情况下，由此产生的设备的轻微可动性/变形性的方向在集成方向上具有分量可能已经足够了。这尤其可以实现的是，在光学元件的集成/拆卸期间，上述s形变形的程度减小。

在集成了设计为反射镜的光学元件的情况下，在第一组装的范围内，六足腿最初连接到基座元件，并且反射镜随后被集成，也就是说经由六足腿又连接到基座元件。原则上，六足腿也可以最初连接到光学元件或反射镜，并且六足腿可以随后连接到基座元件。

为了描述基本过程，为了简单起见，下面仅讨论光学元件最初连接到基座元件的变型。在集成的范围内，光学元件和六足腿然后在布置在连接平面中的接触点处连接。在这种情况下，连接平面被理解为垂直于六足腿的纵向轴线的平面，其中六足腿的基点和光学元件需要以高精度和可重复性相对于彼此定向。连接平面中六足腿和光学元件之间的接触点必须位于光学元件上的相同位置，而与六足腿的有效长度无关，该有效长度在集成期间被调整。在这种情况下，六足腿的有效长度被理解为指六足腿的几何长度和在适配过程中使用的间隔件的厚度的总和。在光学元件和六足腿第一次在标称位置连接之后，同样可以在六足腿和光学元件之间以其标称位置组装该设备，例如以平行导向件的形式，也就是说没有在集成方向上偏转。如果通过交换布置在六足腿和光学元件之间的间隔件，在集成的范围内调整六足腿的有效长度，那么在连接平面中的接触点由该设备限定。同时，在集成方向上柔软的设备的优点在于，可以在不使六足腿的去耦元件之一变形的情况下调节六足腿和光学元件之间的间隔件交换间隙，因此不会将应力或变形引入光学元件。因此，六足腿可以有利地根据组装的光学部件的要求来设计。在本文中，柔软是指与部件在其他空间方向上的刚度相比，在一个方向上的刚度较低。

此外，该设备可以包括至少一个板簧。特别地，至少一个板簧可以布置在连接平面中。因此，在其板簧平面方向上刚性的板簧可以在连接平面中相对于光学元件限定六足腿的端点。此外，板簧的特征在于，它们垂直于板簧平面是柔软的。与板簧平面中的刚度相比，围绕纵向轴线的旋转刚度同样是柔软的，并且能够补偿集成期间光学元件相对于六足腿的轻微旋转，而不会在该过程中显著改变两个部件相对于彼此的对准。在六足腿从光学元件释放的情况下，板簧可以在集成方向上轻微变形，其结果是六足腿和光学元件之间的接触可被释放而没有讨厌的摩擦。如上所述，在这种情况下，六足腿相对于其纵向轴线不垂直地变形。在光学元件与六足腿的后续连接过程中，如果板簧沿着纵向轴线没有变形，也就是说没有弯曲或没有反折轮廓，则两个部件相对于彼此定位在相同方向上。

在本发明的另一实施例中，该设备包括具有至少两个接头的运动***，该运动***尤其可以是整体接头的形式。接头可以布置在运动***和光学元件或六足腿之间的过渡点处，并且可以连接到与板簧相比刚性的板或杆上，接头仅允许绕一个轴线运动。对于第一近似，该功能对应于板簧的功能，该设备的旋转点由接头的布置而不是板簧的弯曲来限定，并且能够适应反射镜的整体移动。

此外，设备可以设计成平行导向件。平行导向件的优点在于，除了一个自由度之外的所有自由度都被导向件阻挡，也就是说，只要板簧没有弯曲或没有反折轮廓，也就是说只要这些板簧是直的，连接平面中光学元件上的六足腿的基点的对准总是对应于接触点。

特别地，平行导向件可以包括不同长度的引导元件。引导元件的不同长度可以用于使平行导向件适应光学元件相对于六足腿的轨迹，结果引导元件不会经历反折轮廓，而是纯粹的弯曲。

在本发明的有利实施例中，设备可以包括用于在设备的纵向轴线方向上调节设备的连接元件的位置的装置。连接元件是用于将设备连接到光学元件的元件。如果集成的范围包括通过间隔件延长或缩短六足腿相对于标称长度的有效长度，那么这产生了在设备纵向轴线方向上的贡献和在集成方向上的贡献。为了校正在设备纵向轴线方向上的贡献，连接元件的位置可以借助于该装置进行调整。集成方向的变化通过板簧或设备的运动***的变形来补偿。反过来，这导致设备在其纵向方向上缩短，在大多数情况下，这种贡献并不显著，因此可以忽略不计。因此，为了在垂直于六足纵向轴线的平面内相对于光学元件定位六足腿的重复精度范围内减少误差，可以继续考虑该贡献。使用板簧或设备的运动***的长度l、间隔件a的厚度变化以及在板簧的情况下六足的纵向轴线相对于光学元件的集成方向的角度α，可以计算对设备长度校正的贡献b如下：

反折轮廓_Z＝a*cosα，对应于设备和六足的基点在集成方向上的位置之间的距离。

反折轮廓_Y＝(3*反折轮廓_Z ²)/(5*l)

b＝a*sinα+反折轮廓_Y，对应于要校正的长度。

在a＝0.5mm、l＝100mm且α＝50°的情况下，得出：

反折轮廓_Z＝0.5mm*cos 50°＝0.32mm

反折轮廓_Y＝(3*(0.32mm)²/(5*100mm))＝6*10^-4mm＝0.61μm

b＝0.5mm*sin 50°+6*10^-4＝0.38mm

根据本发明的用于对准光学部件和如上所述的设备的方法包括以下方法步骤：

-从光学元件释放六足腿，

-释放用于调节光学元件的连接元件的位置的装置，

-将光学元件从基座元件移开，

-***具有预定厚度的间隔件，

-基于***的间隔件的厚度确定连接元件的新位置，

-通过该装置调节连接元件的新位置，

-使光学元件更靠近基座元件，

-将六足腿固定到光学元件。

当六足件由于释放冻结应力或由于重力而被释放时，六足腿和光学元件之间的间隙可能已经出现，光学元件例如可能是反射镜的形式。该间隙在远离运动期间(例如在悬挂光学元件的情况下，当降低光学元件时)增加到可以***间隔件的程度。间隔件延长或缩短了六足腿的有效长度，结果，当光学元件向基座元件移动时(即在悬挂的光学元件的情况下提升时)，不会到达垂直于六足腿纵向轴线的平面中的相同位置。为了补偿目的，如上所述，连接元件的位置可以基于间隔件厚度的变化来确定，并且可以使用该装置来调节，该装置例如可以包括体现为固定螺钉的导向件和止挡件。如果所有六条六足腿的长度都是合适的，就有可能调整光学元件相对于基座元件的位置和方向。

特别地，当调节连接元件的位置时，可以考虑反折轮廓在设备纵向轴线方向上的贡献。通过改变间隔件的厚度，在垂直于六足腿的纵向轴线的平面中存在二阶误差，这取决于六足腿的纵向轴线和光学元件的集成方向之间的角度。所述角度，像位置的纯几何位移一样，同样可以垂直于集成方向被校正，导致六足腿和光学元件在垂直于六足腿纵向轴线的平面中的相同位置的连接的可重复性提高。

此外，设备可以设计成平行导向件。在没有变形的引导元件的情况下，平行导向件可以唯一地限定六足腿和反射镜之间的位置，并且因此在相对于彼此定位两个部件时导致非常高的重复精度。

特别地，平行导向件可以包括不同长度的引导元件。在这种情况下，平行导向件的引导元件可被设计成使得这些通过引导元件的简单弯曲而跟随反射镜的轨迹。结果，由反折轮廓产生的寄生力可以有利地减小到最小。

附图说明

下面参照附图更详细地解释本发明的示例性实施例和变型，其中，

图1示出了可以实施本发明的DUV投射曝光设备的基本结构，

图2示出了可以实施本发明的EUV投射曝光设备的基本结构，

图3示出了现有技术中已知的光学部件的详细视图，

图4a、4b示出了用于说明在连接平面中限定六足腿和光学元件之间的位置的设备的功能的图示，

图5示出了该设备的详细视图，以及

图6示出了根据本发明的对准方法的流程图。

具体实施方式

图1示出了可以应用本发明的示例性投射曝光设备1。投射曝光设备1用于曝光衬底上的结构，该衬底涂有光敏材料，并且通常主要由硅构成，并且被称为晶片2，用于制造半导体部件，例如计算机芯片。

在这种情况下，投射曝光设备1基本包括用于照明物平面9中的物场8的照明装置3，用于接收和精确定位设置有结构并布置在物平面9中的掩模的掩模版保持器6，所述掩模是所谓的掩模版7，其用于确定晶片2上的后续结构，用于安装、移动和精确定位所述晶片2的晶片保持器10，以及成像设备，即投射光学单元13，其具有多个光学元件14，这些光学元件通过安装件15保持在投射光学单元13的透镜外壳16中。

在这种情况下，基本的功能原理提供了引入到掩模版7中的结构在晶片2上成像，该成像通常减小了比例。

照明装置3的光源4提供电磁辐射形式的投射光束17，所述投射光束是将布置在物平面9中的掩模版7成像到布置在像平面12中的像场11的区域中的晶片2上所需要的，所述电磁辐射尤其在100nm和300nm之间的波长范围内。举例来说，激光器可以用作这种辐射的源4。通过照明装置3的照明光学单元5中的光学元件18对辐射进行整形，使得投射光束17在入射到布置在物平面9中的掩模版7上时以关于直径、偏振、波前形状等的期望属性照明物场8。

掩模版7的图像通过投射光束17产生，并且在被投射光学单元13相应地缩小之后，被转移到布置在像平面12中的晶片2，如上面已经解释。在这种情况下，掩模版7和晶片2可以同步移动，使得掩模版7的区域在所谓的扫描操作期间几乎连续地成像到晶片2的相应区域上。投射光学单元13具有多个单独的折射、衍射和/或反射光学元件14，例如透镜元件、反射镜、棱镜、终端板等，所述光学元件14能够例如通过一个或多个致动器装置(图中未单独示出)来致动。

图2通过示例示出了微光刻EUV投射曝光设备101的基本设置，本发明同样可以应用于该设备中。投射曝光设备101的结构和将布置在物平面109中的掩模版107上的结构成像到布置在像场111中的晶片102上的原理与图1中描述的结构和过程类似。相同的构成部分由相对于图1增加了100的附图标记表示，也就是说图2中的附图标记从101开始。与图1中描述的透射光设备相比，由于所使用的EUV辐射117的短波长在1nm到120nm的范围内，特别是13.5nm，所以在EUV投射曝光设备101中，只有实施为反射镜的光学元件114、118可以用于成像和/或照明。

除了光源104之外，投射曝光设备101的照明装置103还包括照明光学单元105，用于照明物平面109中的物场108。由光源104产生的光学使用辐射形式的EUV辐射117借助于集成在光源104中的收集器被对准，使得它在入射到场分面镜120上之前穿过中间焦平面119区域中的中间焦点。在场分面镜120的下游，EUV辐射117被光瞳分面镜121反射。在光瞳分面镜121和具有反射镜118的光学组件122的帮助下，场分面镜120的场分面被成像到物场108中。除了使用反射镜114之外，下游投射光学单元113的设置在原理上与图1中描述的设置没有不同，因此不再详细描述。

图3示出了现有技术中已知的光学部件19的详细视图，其通过六足腿20以截面图示出。六足腿20将光学元件(在所示的示例中为反射镜25的形式)连接到框架27形式的基座元件，并且包括两个去耦元件22.x，其设计成去耦除了在六足腿20的纵向轴线21方向上的自由度之外的所有自由度。在所示的示例中，使用了图中未单独标出的两个挠性轴承的串联组合。在集成光学部件19的过程中，六足腿20最初被拧到框架27上。反射镜25随后被集成，也就是说在图3中箭头所示的集成方向I上移动到六足腿20方向上的接触点29。接触点29，也就是六足腿20和反射镜25彼此连接的位置，由布置在六足腿20的基点23处指向反射镜25的销24和布置在反射镜25之中或之上的套筒26限定。接触点29位于所谓的连接平面28中，该平面垂直于六足腿20的纵向轴线21定向。为了通过布置在六足腿20的基点23和反射镜25之间的间隔件30来调节六足腿20的有效长度，在集成期间，六足腿20和反射镜25之间的连接必须被多次释放，结果，反射镜25的位置和方向可以相对于框架27对准。销24和套筒26确保接触点29不会由于具有不同厚度的间隔件被***连接平面28而在连接平面28中移位。在图3所示的情况下，六足腿20的纵向轴线21相对于集成方向I成不同于0°的角度α，结果，为了从套筒26中释放销24，面向反射镜25的六足腿20的基点23必须在连接平面28中偏转。结果，六足腿20以反折轮廓变形，如图3中的虚线所示，结果在去耦元件22.x中产生高应力。

为了阐明用于在连接平面28中限定六足腿20和光学元件25之间的接触点29的设备31.1的功能，图4a和4b分别描绘了根据本发明的光学部件19的详细视图。

这里，图4a示出了光学部件19与第一间隔件(所谓的标称间隔件30.1)的第一组装之后的状态。六足腿20、框架27形式的基座元件和反射镜25形式的光学元件的结构和布置与图3所示的相同。然而，代替图3中使用的销24，所示的示例中的光学部件19包括用于在连接平面28中限定接触点29的设备31.1。设备31.1使用六足连接34连接到六足腿20的基点23，并且包括具有两个板簧33的平行导向件32，板簧33连接到六足连接34和连接元件35。连接元件35将设备31.1连接到反射镜25，并且包括用于在设备31.1的纵向轴线方向上调节设备31.1的长度的装置。后者又包括导向件36和止挡件37，指向连接元件35的板簧33的基点38能够在导向件36中沿设备31.1的纵向轴线39的方向移动，以适应设备31.1的长度。止挡件37同样可以在设备31.1的纵向轴线39的方向上移动，并且可以例如通过夹具锁定在每个位置。板簧33的基点38和止挡件37同样可以通过螺纹连接(此处未示出)牢固地相互连接。板簧33在图4a所示的标称位置没有变形。

图4b示出了六足腿20和反射镜25之间的界面被释放的情况，并且为了适应六足腿20的有效长度，具有预定厚度的间隔件30已被引入到由此产生的间隙中。设备31.1的板簧33由于在集成方向上的移动而变形为具有反折轮廓，这在图4b中由双箭头示出。板簧33的导向件36和止挡件37之间的连接同样被释放，结果板簧33的缩短被反折轮廓补偿。与图4a中的标称间隔件30.1相比，如果集成方向保持不变的话，间隔件30.2的厚度变化导致反射镜25和六足腿20在连接平面28中的相同接触点29处彼此不接触。该偏差可以通过调节止挡件37来补偿。在这种情况下，基于间隔件30.x的厚度变化的止挡件37的位置的适配由在设备31.1的纵向轴线39的方向上的贡献和作为反折轮廓的结果的板簧33的缩短构成。由于板簧33在集成方向上的变形，垂直于设备31.1的纵向轴线39的间隔件30.x的厚度变化所引起的贡献的补偿产生了反折轮廓。在集成期间，板簧33的基点38在导向件36中被推到止挡件37。反射镜25被平行导向件32强制导向，结果是反射镜25和六足腿20再次在相同的接触点29处接触，如在替换间隔件30.x之前。由间隔件30.x的厚度补偿引起的反折轮廓保留在板簧中。止挡件37的位移计算如下：

反折轮廓_Z＝a*cosα

反折轮廓_Y＝(3*反折轮廓_Z ²)/(5*l)

b＝a*sinα+反折轮廓_Y

其中，a对应于间隔件30的厚度变化，α对应于六足腿20的纵向轴线和集成方向I之间的角度，l对应于板簧33的长度，b对应于止挡件位置的变化。

在a＝0.5mm、l＝100mm且α＝50°的情况下，得出：

反折轮廓_Z＝0.5mm*cos 50°＝0.32mm

反折轮廓_Y＝(3*(0.32mm)²/(5*100mm))＝6*10^-4mm＝0.61μm

b＝0.5mm*sin 50°+6*10^-4＝0.38mm

图5示出了替代设备31.2的详细视图，其中反射镜25与仅部分示出的六足腿20一起处于组装位置。与图4a和4b中描述的设备31.1相比，设备31.2包括具有两个臂41.x的运动***40，每个臂具有两个接头42，代替了平行导向件32。两个相应的接头42分别布置在基点38和六足连接34处，并将臂41.x连接到这些。在为了更换间隔件30.x而偏转反射镜19的过程中，臂被偏转并绕四个接头42枢转。与图4a、4b所示的板簧33.x相比，臂41.x具有垂直于其纵向范围的相对刚性实施例。此外，它们具有如此不同的长度，以至于对于间隔件30的厚度的小变化，它们不需要通过变形来补偿由围绕六足腿20的基点23的与之相关的圆周运动引起的在设备31.2的纵向轴线方向上的任何运动。结果，避免了由弹性元件的变形引入额外的应力。

图6描述了用于对准光学部件的可能方法，该光学部件具有光学元件和设备，该光学元件通过六足形式的安装件连接到基座元件，该设备用于在垂直于六足腿纵向轴线的平面中限定至少一个六足腿相对于基座元件或光学元件的位置，该设备在光学元件的集成方向上具有柔软实施例，并且包括用于调节设备长度的装置。

在第一方法步骤51中，从光学元件释放六足腿20。

在第二方法步骤52中，释放用于使连接元件35的位置适应光学元件25的装置36、37。

在第三方法步骤53中降低光学元件25。

在第四方法步骤54中，在六足腿20和光学元件25之间***具有预定厚度的间隔件30.2。

在第五方法步骤55中，基于***的间隔件30.2的厚度来确定连接元件35的新位置。

在第六方法步骤56中，通过装置36、37调整连接元件35的新位置。

在第七方法步骤57中，光学元件被提升。

在第八方法步骤58中，六足腿20连接到光学元件25。

设备31.x也可以布置在六足腿20和基座元件37之间，因此该方法必须相应地进行调整。

附图标记列表

1DUV投射曝光设备

2晶片

3照明装置

4光源

5照明光学单元

6掩模版保持器

7掩模版

8物场

9物平面

10晶片保持器

11像场

12像平面

13投射光学单元

14光学元件(投射光学单元)

15安装件

16透镜外壳

17投射光束

18光学元件(照明装置)

19光学部件

20六足腿

21六足腿的纵向轴线

22.x去耦装置

23六足腿的基点

24销

25反射镜

26套筒

27框架

28连接平面

29接触点

30、30.1、30.2间隔件

31.x设备

32平行导向件

33.1、33.2板簧

34六足腿连接

35连接元件

36导向件

37止挡件

38板簧基点

39设备的纵向轴线

40运动***

41.1、41.2臂

42接头

51方法步骤1

52方法步骤2

53方法步骤3

54方法步骤4

55方法步骤5

56方法步骤6

57方法步骤7

58方法步骤8

101EUV投射曝光设备

102晶片

103照明装置

104光源

105照明光学单元

106掩模版保持器

107掩模版

108物场

109物平面

110晶片保持器

111像场

112像平面

113投射光学单元

114光学元件(投射光学单元)

115安装件

116透镜外壳

117投射光束

118光学元件(照明装置)

119中间焦点

120场分面镜

121光瞳分面镜

122光学组件

Claims (13)

1.一种光学部件(19)，具有通过六足形式的安装件连接到基座元件(27)的光学元件(25)，并且具有用于参考连接平面(28)中的至少一个六足腿(20)和两个元件(25、27)之一之间的接触点(29)的设备(31)，

其特征在于，

所述设备(31)在两个元件(25、27)相对于彼此的集成方向(I)上具有柔软实施例。

2.根据权利要求1所述的光学部件(19)，

其特征在于，

所述设备(31)包括至少一个板簧(33)。

3.根据权利要求2所述的光学部件(19)，

其特征在于，

所述至少一个板簧(33)布置在所述连接平面中。

4.根据权利要求1所述的光学部件(19)，

其特征在于，

所述设备(31)包括具有至少两个接头(42)的运动***(40)。

5.根据权利要求4所述的光学部件(19)，

其特征在于，

所述接头(42)是整体接头的形式。

6.根据前述权利要求中任一项所述的光学部件(19)，

其特征在于，

所述设备(31)是平行导向件的形式。

7.根据权利要求6所述的光学部件(19)，

其特征在于，

所述平行导向件包括不同长度的引导元件。

8.根据前述权利要求中任一项所述的光学部件(19)，

其特征在于，

所述设备包括用于在设备(31)的纵向轴线的方向上调节设备(31.x)的连接元件(35)相对于所述光学元件的位置的装置(36、37)。

9.一种用于半导体技术的投射曝光设备(1、101)，包括根据前述权利要求中任一项所述的光学部件(19)。

10.一种用于对准光学部件(19)的方法，该光学部件(19)具有通过六足形式的安装件连接到基座元件(27)的光学元件(25)以及用于在垂直于六足腿(20)的纵向轴线的平面中限定所述至少一个六足腿(20)相对于所述基座元件(27)或所述光学元件(25)的位置的设备(31)，该设备(31)包括用于调节设备长度的装置，该方法包括以下方法步骤：

-从光学元件(25)释放六足腿(20)，

-释放用于调节连接元件(35)的位置的装置，

-将光学元件(25)从基座元件(27)移开，

-***具有预定厚度的间隔件(30、30.1)，

-基于***的间隔件(30、30.1)的厚度确定设备(31)的连接元件(35)的新位置，

-通过装置(37)调节连接元件(35)的新位置，

-使光学元件(25)更靠近基座元件(27)，

-将六足腿(20)固定到光学元件(25)。

11.根据权利要求10所述的方法，

其特征在于，

当调节所述连接元件(35)的位置时，考虑反折轮廓在所述设备(31)的纵向轴线的方向上的贡献。

12.根据权利要求10或11所述的方法，

其特征在于，

所述设备(31)是平行导向件的形式。

13.根据权利要求12所述的方法，

其特征在于，

所述平行导向件包括不同长度的引导元件。

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