CN116092768B - 一种低温磁体杜瓦装置及真空度控制方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及低温磁体杜瓦技术领域，具体公开了一种低温磁体杜瓦装置及真空度控制方法。其低温磁体杜瓦装置包括：杜瓦本体，其内部设置有真空腔体；超导模块，设置在真空腔体内部，超导模块与真空腔体内侧壁固定连接；环境调整模块，设置在杜瓦本体一侧，环境调整模块一端穿设过杜瓦本体，设置在真空腔体内部，环境调整模块用于对真空腔体的环境进行调整。通过在杜瓦本体一端设置环境调整模块，用于对杜瓦本体中真空腔体的内部环境进行调整，始终保持超导模块工作中对于真空度和温度的需求，进而延长低温磁体杜瓦装置使用寿命，同时减少了低温磁体杜瓦装置后期维护的成本。

Description

一种低温磁体杜瓦装置及真空度控制方法

技术领域

本发明涉及低温磁体杜瓦技术领域，特别是涉及一种低温磁体杜瓦装置及真空度控制方法。

背景技术

超导磁体储能作为一种新型的储能方式，能够快速实现有功、无功功率补偿，对于提高电力***稳定性、抑制低频振荡、改善供电品质都有良好的应用前景。但是与常规储能方式不同的是，超导磁体只能工作在低于液氮温度的低温环境中，而且还需要将容器内部抽成真空状态，也就是说安全可靠的低温制冷和真空环境是超导磁体运行的必备条件。

目前，传统设备中通常采用杜瓦来作为超导磁体的冷却容器，其主要是通过将杜瓦空间内抽至真空，在通过采用液氦或液氮直接浸泡冷却、采用制冷机执行冷却，但是在日常使用中，因为密封无法做到绝对的封闭，从而无法保证超导磁体一直处于真空环境内，从而造成超导磁体失效，进而导致杜瓦发生***对用户的安全和财产造成巨大损失。

鉴于此，急需发明一款磁体杜瓦，用于解决在日常使用中超导磁体因无法处于真空环境时，导致其超导磁体失效，无法使用的问题发生。

发明内容

本发明的目的是提供一种低温磁体杜瓦装置及真空度控制方法，旨用于如何防止传统设备中无法实时保证超导磁体处于真空环境内，进而导致超导磁体失效的问题。

一方面，本发明实施例提供了一种低温磁体杜瓦装置包括：

杜瓦本体，其内部设置有真空腔体；

超导模块，设置在所述真空腔体内部，所述超导模块与真空腔体内侧壁固定连接；

环境调整模块，设置在所述杜瓦本体一侧，所述环境调整模块一端穿设过所述杜瓦本体，设置在所述真空腔体内部，所述环境调整模块用于对所述真空腔体的环境进行调整。

进一步的，所述杜瓦本体包括：

内筒，其中部设置通腔；

杜瓦盖板，设置有两个，且两所述杜瓦盖板沿所述内筒设置方向相对的设置在所述内筒两侧，所述杜瓦盖板与所述内筒固定连接；

外筒，套设在所述内筒外侧，所述外筒与所述杜瓦盖板固定连接，所述外筒与所述内筒之间为真空腔体。

进一步的，所述超导模块包括：

超导线圈，设置在所述真空腔体的内部；

支撑架，设置在所述真空腔体的内部，所述支撑架与所述内筒外侧壁相连接，所述支撑架用于在超导线圈与所述内筒外侧壁相接触时，对所述超导线圈进行固定。

进一步的，所述环境调整模块包括：

壳体，其一侧穿过所述外筒侧壁，设置在所述真空腔体的内部，所述壳体与所述外筒固定连接，以使所述壳体与所述真空腔体相连通；

真空单元，设置在所述壳体下部，所述真空单元与所述壳体相连接，以使所述壳体与所述真空腔体相连通时，所述真空单元对所述真空腔体内的空气进行抽取；

控制单元，与所述真空单元电连接，所述控制单元用于控制所述真空单元。

进一步的，所述控制单元包括：

采集子单元，用于获取所述真空腔体内的压力信息和真空单元的抽取量信息；

处理子单元，用于根据所述采集子单元采集到的所述压力信息对所述真空单元进行控制。

进一步的，所述处理子单元还用于获取所述压力信息中当前压力值△T，所述处理子单元还用于预设标准压力值T0，所述处理子单元用于根据所述当前压力值△T与预设标准压力值T0之间的关系判断所述真空腔体内的真空度是否处于最佳真空度；

若所述当前压力值△T≤预设标准压力值T0，所述处理子单元则判断所述真空腔体内的真空度处于最佳真空度；

若所述当前压力值△T＞预设标准压力值T0，所述处理子单元则判断所述真空腔体内的真空度没有处于最佳真空度，所述处理子单元还用于根据当前压力值△T与预设标准压力值T0之间的当前压力值差△T-T0对所述真空单元的抽取量信息进行调整。

进一步的，所述处理子单元还用于根据当前压力值△T与预设标准压力值T0之间的当前压力值差△T-T0对所述真空单元的抽取量信息进行调整时，包括：

所述处理子单元还用于获取所述真空单元的抽取量信息中的实时抽取值△Y；

所述处理子单元还用于预先设定第一预设压力值差G1、第二预设压力值差G2、第三预设压力值差G3和第四预设压力值差G4，且G1＜G2＜G3＜G4；所述处理子单元还用于预先设定第一预设抽取值调整系数H1、第二预设抽取值调整系数H2、第三预设抽取值调整系数H3和第四预设抽取值调整系数H4，且0.5＜H1＜H2＜H3＜H4＜1.25；

所述处理子单元还用于根据所述当前压力值差△T-T0与各预设压力值差之间的关系对所述真空单元的抽取值进行调整；

当△T-T0＜G1时，选定所述第一预设抽取值调整系数H1对所述真空单元的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元的抽取值为△Y*H1；

当G1≤△T-T0＜G2时，选定所述第二预设抽取值调整系数H2对所述真空单元的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元的抽取值为△Y*H2；

当G2≤△T-T0＜G3时，选定所述第三预设抽取值调整系数H3对所述真空单元的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元的抽取值为△Y*H3；

当G3≤△T-T0＜G4时，选定所述第四预设抽取值调整系数H4对所述真空单元的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元的抽取值为△Y*H4。

进一步的，所述处理子单元还用于在选定第i预设抽取值调整系数Hi对所述真空单元的抽取值△Y进行调整，获取调整后的真空单元的抽取值为△Y*Hi，i=1,2,3,4，包括：

所述处理子单元还用于获取所述真空腔体的当前漏气率△P，所述处理子单元还用于预设标准漏气率P0，所述处理子单元用于根据当前漏气率△P与预设标准漏气率P0之间的关系判断所述真空腔体内的当前漏气率是否处于最佳漏气率；

当△P≤P0时，所述处理子单元则判定所述真空腔体的当前漏气率△P处于最佳漏气率；

当△P＞P0时，所述处理子单元则判定所述真空腔体的当前漏气率△P没有处于最佳漏气率，所述处理子单元还用于根据所述当前漏气率△P对所述调整后的真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正。

进一步的，所述处理子单元还用于根据所述当前漏气率△P对所述调整后的真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正时，包括：

所述处理子单元还用于预先设定第一预设漏气率P1、第二预设漏气率P2、第三预设漏气率P3和第四预设漏气率P4，且P1＜P2＜P3＜P4；所述处理子单元还用于预先设定第一预设抽取值修正系数C1、第二预设抽取值修正系数C2、第三预设抽取值修正系数C3和第四预设抽取值修正系数C4，且0＜C1＜C2＜C3＜C4＜0.75；

所述处理子单元还用于根据所述当前漏气率△P与各预设漏气率之间的关系对所述真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正；

当△P＜P1时，选定所述第一预设抽取值修正系数C1对所述真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元的抽取值为△Y*Hi*C1；

当P1≤△P＜P2时，选定所述第二预设抽取值修正系数C2对所述真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元的抽取值为△Y*Hi*C2；

当P2≤△P＜P3时，选定所述第三预设抽取值修正系数C3对所述真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元的抽取值为△Y*Hi*C3；

当P3≤△P＜P4时，选定所述第四预设抽取值修正系数C4对所述真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元的抽取值为△Y*Hi*C4。

另一方面，本发明提供了一种真空度控制方法，应用于上述的低温磁体杜瓦装置，包括：

实时检测低温磁体杜瓦装置中真空腔体内的压力信息，其中所述压力信息包括真空腔体内的压力值差和真空腔体内的漏气率；

根据所述真空腔体内的压力值差和真空腔体内的漏气率控制真空单元的抽取值。

本发明实施例一种低温磁体杜瓦装置及真空度控制方法与现有技术相比，其有益效果在于：

通过在杜瓦本体一端设置环境调整模块，用于对杜瓦本体中真空腔体的内部环境进行调整，始终保持超导模块工作中对于真空度和温度的需求，通过设置控制单元实时对真空单元进行控制，使超导模块始终保持在真空的环境下进行工作，避免了超导模块出现失效的的问题，从而延长低温磁体杜瓦装置使用寿命，同时减少了低温磁体杜瓦装置后期维护的成本。

附图说明

图1是本发明实施例中一种低温磁体杜瓦装置的剖面结构示意图。

图2是本发明实施例中的控制单元的结构框图。

图3是本发明实施例中一种真空度控制方法的方法框图。

图中，110、外筒；120、杜瓦盖板；130、内筒；210、超导线圈；220、支撑架；310、壳体；320、真空单元；331、制冷机；332、一级冷头；333、二级冷头；334、导冷模块；335、冷屏。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

目前，传统设备中通常采用杜瓦来作为超导磁体的冷却容器，其主要是通过将杜瓦空间内抽至真空，再通过采用液氦或液氮直接浸泡冷却、采用制冷机执行冷却，但是在日常使用中，因为密封无法做到绝对的封闭，从而无法保证超导磁体一直处于真空环境内，从而造成超导磁体失效，进而导致杜瓦发生***对用户的安全和财产造成巨大损失。

本发明的目的是提供一种低温磁体杜瓦装置及真空度控制方法，旨用于如何防止传统设备中无法实时保证超导磁体处于真空环境内，进而导致超导磁体失效的问题。

如图1所示，本发明实施例优选实施例的一种低温磁体杜瓦装置包括：杜瓦本体、超导模块和环境调整模块。

具体而言，杜瓦本体，其内部设置有真空腔体；超导模块设置在真空腔体内部，超导模块与真空腔体内侧壁固定连接；环境调整模块设置在杜瓦本体一侧，环境调整模块一端穿设过杜瓦本体，设置在真空腔体内部，环境调整模块用于对真空腔体的环境进行调整。

可以看出的是，本发明实施例中的低温磁体杜瓦装置，由设置有真空腔体的杜瓦本体，超导模块和用于对真空腔体内环境进行调整的调整模块组成。

可以理解的是，通过环境调整模块对真空腔体内部的环境进行实时的调整，使超导模块始终处于在最佳的真空度和温度下进行工作，防止超导模块在使用中出现失效的情况。

具体而言，本发明一些实施例的优选实施例中杜瓦本体包括：内筒130、杜瓦盖板120和外筒110。

具体而言，内筒130其中部设置通腔；杜瓦盖板120设置有两个，且两杜瓦盖板120沿内筒130设置方向相对的设置在内筒130两侧，杜瓦盖板120与内筒130固定连接；外筒110套设在内筒130外侧，外筒110与杜瓦盖板120固定连接，外筒110与内筒130之间为真空腔体。

可以理解的是，本发明实施例中的杜瓦本体由内筒130，杜瓦盖板120和外筒110组成，通过将两个杜瓦盖板120固定在内筒130两端，再通过将外筒110套设在内筒130外部，再与杜瓦盖板120进行固定，使外筒110与内筒130之间形成真空密封腔体。

具体而言，本发明一些实施例中超导模块包括：超导线圈210和支撑架220。

具体而言，超导线圈210设置在真空腔体的内部；支撑架220设置在真空腔体的内部，支撑架220与内筒130外侧壁相连接，支撑架220用于在超导线圈210与内筒130外侧壁相接触时，对超导线圈210进行固定。

可以看出的是，本发明实施例中的超导模块由缠绕在内筒130外壁上的超导线圈210，和用于固定超导线圈210的支撑架220组成，通过支撑架220与内筒130外侧壁固定连接时，进而对超导线圈210进行固定。

可以理解的是，在缠绕安装超导线圈210时，超导线圈210无法与内筒130的外侧壁之间进行连接，通过支撑架220将超导线圈210进行固定，避免超导线圈210在工作过程中发生超导线圈210在内筒130外侧壁脱落的问题。

具体而言，本发明一些实施例中优选实施中，环境调整模块包括：壳体310、真空单元320和控制单元。

具体而言，壳体310其一侧穿过外筒110侧壁，设置在真空腔体的内部，壳体310与外筒110固定连接，以使壳体310与真空腔体相连通；真空单元320设置在壳体310下部，真空单元320与壳体310相连接，以使壳体310与真空腔体相连通时，真空单元320对真空腔体内的空气进行抽取；控制单元与真空单元320电连接，控制单元用于控制真空单元320。

可以看出，本发明实施例中环境调整模块由壳体310、真空单元320和控制单元组成，通过将壳体310的一侧穿设过外筒110的侧壁，使壳体310的内部空间与真空腔体相连通，进而使设置在壳体310下部真空单元320对真空腔体内部的空气进行抽取，再由控制单元实时对真空单元320的抽取量进行控制。

优选的是，真空单元320由真空泵，或真空制造设备组成。

优选的是，壳体310内部还设置有压力传感器，用于获取真空腔体内部压力信息。

可以理解的是，通过设置控制单元对所述由真空泵，或真空制造设备所组成的真空单元320进行控制，使真空腔体内的真空度始终保持最佳的真空度，从而延长了磁体杜瓦的使用寿命，进一步的减少了磁体杜瓦的维护成本。

实施例二

作为本发明的一项优选实施例,本实施例在实施例一的基础上在环境调整模块内增设了冷却模块。

参阅图1所示，本发明一些实施例中的冷却模块包括：制冷机331、一级冷头332、二级冷头333、冷屏335和导冷模块334。

具体而言，制冷机331设置在壳体310顶端，制冷机331一端穿设过壳体310外侧壁设置在壳体310内部；一级冷头332设置在壳体310内部，一级冷头332一端与制冷机331穿设过壳体310外侧壁一端相连通，以使制冷机331对真空腔体内部进行降温；二级冷头333设置在一级冷头332另一端，二级冷头333一端与一级冷头332另一端相连通；冷屏335设置在真空腔体内部，冷屏335与超导线圈210相连接；导冷模块334设置在真空腔体内部，导冷模块334一端与冷屏335相连接，导冷模块334另一端设置在二级冷头333下方，以使导冷模块334将二级冷头333释放的冷却温度传导至冷屏335进而对超导线圈210进行冷却。

可以理解的是，本发明实施例中冷却模块，由制冷机331、一级冷头332、二级冷头333、冷屏335和导冷模块334组成，通过一级冷头332对真空腔体内部的温度进行调整，再由二级冷头333、导冷模块334和冷屏335对超导线圈210的温度进行冷却，进而保证超导线圈210在低温环境中进行工作。

综上所述，可以理解的是，本发明实施例由设置有真空腔体的杜瓦本体，设置在真空腔体内缠绕在杜瓦内筒130外侧的超导线圈210和用于固定超导线圈210的支撑架220组成的超导模块，和设置在杜瓦外筒110一侧由壳体310、冷却模块、真空单元320和控制单元组成的环境调整模块组成，通过控制单元根据真空腔体内部的真空度，调整真空单元320的吸取量，由冷却模块降低超导线圈210的温度和调整真空腔体内部环境温度，进而保证超导线圈210始终在最佳的温度和最佳的真空度下进行工作，避免了超导线圈210出现失效的问题，进一步的延长了低温磁体杜瓦装置使用寿命，减少了后期维护的成本。

根据上述各实施例中的优选实施例中，参阅图2所示，本发明实施例中的控制单元包括：采集子单元和处理子单元。

具体而言，采集子单元用于获取真空腔体内的压力信息和真空单元320的抽取量信息；处理子单元用于根据采集子单元采集到的压力信息对真空单元320进行控制。

可以理解的是，本发明实施例中的控制单元由采集子单元和处理子单元组成，通过采集子单元获取压力传感器获取到的真空腔体内压力信息和真空单元320的抽取量信息，通过处理子单元再根据采集子单元采集到的压力信息对真空单元320进行控制，进而保证超导模块始终处在最佳的真空度环境下进行工作，避免了超导模块出现失效的的问题。

具体而言，处理子单元还用于获取压力信息中当前压力值△T，处理子单元还用于预设标准压力值T0，处理子单元用于根据当前压力值△T与预设标准压力值T0之间的关系判断真空腔体内的真空度是否处于最佳真空度：

若当前压力值△T≤预设标准压力值T0，处理子单元则判断真空腔体内的真空度处于最佳真空度。

若当前压力值△T＞预设标准压力值T0，处理子单元则判断真空腔体内的真空度没有处于最佳真空度，处理子单元还用于根据当前压力值△T与预设标准压力值T0之间的当前压力值差△T-T0对真空单元320的抽取量信息进行调整。

可以理解的是，处理子单元通过获取真空腔体内部的压力值，与预设标准压力值之间进行比对，进而判断当前的真空腔体内部的真空度是否为最佳真空度，若当前的真空腔体内部的真空度不为最佳真空度时，再根据当前压力值与预设标准压力值之间的差值，调整真空单元320的抽取量。

具体而言，处理子单元还用于根据当前压力值△T与预设标准压力值T0之间的当前压力值差△T-T0对真空单元的抽取量信息进行调整时，包括：

处理子单元还用于获取真空单元320的抽取量信息中的实时抽取值△Y。

处理子单元还用于预先设定第一预设压力值差G1、第二预设压力值差G2、第三预设压力值差G3和第四预设压力值差G4，且G1＜G2＜G3＜G4；处理子单元还用于预先设定第一预设抽取值调整系数H1、第二预设抽取值调整系数H2、第三预设抽取值调整系数H3和第四预设抽取值调整系数H4，且0.5＜H1＜H2＜H3＜H4＜1.25。

处理子单元还用于根据当前压力值差△T-T0与各预设压力值差之间的关系对真空单元320的抽取值进行调整：

当△T-T0＜G1时，选定第一预设抽取值调整系数H1对真空单元320的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元320的抽取值为△Y*H1；

当G1≤△T-T0＜G2时，选定第二预设抽取值调整系数H2对真空单元的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元320的抽取值为△Y*H2；

当G2≤△T-T0＜G3时，选定第三预设抽取值调整系数H3对真空单元的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元320的抽取值为△Y*H3；

当G3≤△T-T0＜G4时，选定第四预设抽取值调整系数H4对真空单元的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元320的抽取值为△Y*H4。

可以理解的是，处理子单元通过当前压力值与预设标准压力值之间的差值，实时的对真空单元320的抽取量进行调整，进而保证真空腔体内的超导线圈210始终处于最佳的真空环境下进行工作。

具体而言，处理子单元还用于在选定第i预设抽取值调整系数Hi对真空单元的抽取值△Y进行调整，获取调整后的真空单元320的抽取值为△Y*Hi，i=1,2,3,4，包括：

处理子单元还用于获取真空腔体的当前漏气率△P，处理子单元还用于预设标准漏气率P0，处理子单元用于根据当前漏气率△P与预设标准漏气率P0之间的关系判断真空腔体内的当前漏气率是否处于最佳漏气率：

当△P≤P0时，处理子单元则判定真空腔体的当前漏气率△P处于最佳漏气率。

当△P＞P0时，处理子单元则判定真空腔体的当前漏气率△P没有处于最佳漏气率，处理子单元还用于根据当前漏气率△P对调整后的真空单元320的抽取值△Y*Hi进行修正。

可以理解的是，处理子单元还用于将真空腔体内的漏气率与预设标准漏气率进行对比，进而判断真空腔体内的漏气率是否处于标准漏气率，若是当前真空腔体内的漏气率未处于预设标准漏气率，再根据当前真空腔体内的漏气率对调整后的真空单元320的抽取量进行修正，进一步的保证了真空腔体内的超导线圈210始终处于最佳的真空环境下进行工作。

具体而言，处理子单元还用于根据当前漏气率△P对调整后的真空单元320的抽取值△Y*Hi进行修正时，包括：

处理子单元还用于预先设定第一预设漏气率P1、第二预设漏气率P2、第三预设漏气率P3和第四预设漏气率P4，且P1＜P2＜P3＜P4；处理子单元还用于预先设定第一预设抽取值修正系数C1、第二预设抽取值修正系数C2、第三预设抽取值修正系数C3和第四预设抽取值修正系数C4，且0＜C1＜C2＜C3＜C4＜0.75；

处理子单元还用于根据当前漏气率△P与各预设漏气率之间的关系对真空单元320的抽取值△Y*Hi进行修正；

当△P＜P1时，选定第一预设抽取值修正系数C1对真空单元320的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元320的抽取值为△Y*Hi*C1；

当P1≤△P＜P2时，选定第二预设抽取值修正系数C2对真空单元320的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元320的抽取值为△Y*Hi*C2；

当P2≤△P＜P3时，选定第三预设抽取值修正系数C3对真空单元320的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元320的抽取值为△Y*Hi*C3；

当P3≤△P＜P4时，选定第四预设抽取值修正系数C4对真空单元320的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元320的抽取值为△Y*Hi*C4。

可以理解的是，本发明实施例中处理子单元通过获取当前的漏气率实时对调整后的真空单元320的抽取量进行修正，避免出现因漏气率较大，而抽取量较小，无法将真空腔体内泄入进的空气及时排干净的问题发生。

基于上述相同的技术构思，参阅图3所示，本发明实施例中还提供了一种真空度控制方法，应用于一种低温磁体杜瓦装置中，包括：

实时检测低温磁体杜瓦装置中真空腔体内的压力信息，其中压力信息包括真空腔体内的压力值差和真空腔体内的漏气率。

根据真空腔体内的压力值差和真空腔体内的漏气率控制真空单元320的抽取值。

综上所述，本发明实施例中一种低温磁体杜瓦装置及真空度控制方法，有益效果在于：其通过在杜瓦本体一端设置环境调整模块，用于对杜瓦本体中真空腔体的内部环境进行调整，始终保持超导模块工作中对于真空度和温度的需求，通过设置控制单元实时对真空单元320进行控制，使超导模块始终保持在真空的环境下进行工作，避免了超导模块出现失效的的问题，从而延长低温磁体杜瓦装置使用寿命，同时减少了低温磁体杜瓦装置后期维护的成本。

以上仅为本发明的一个实施例子，但不能以此限制本发明的范围，凡依据本发明所做的结构上的变化，只要不失本发明的要义所在，都应视为落入本发明保护范围之内受到制约。

所属技术领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的***的具体工作过程及有关说明，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。

需要说明的是，上述实施例提供的***，仅以上述各功能模块的划分进行举例说明，在实际应用中，可以根据需要而将上述功能分配由不同的功能模块来完成，即将本发明实施例中的模块或者步骤再分解或者组合，例如，上述实施例的模块可以合并为一个模块，也可以进一步拆分成多个子模块，以完成以上描述的全部或者部分功能。对于本发明实施例中涉及的模块、步骤的名称，仅仅是为了区分各个模块或者步骤，不视为对本发明的不当限定。

本领域技术人员应该能够意识到，结合本文中所公开的实施例描述的各示例的模块、方法步骤，能够以电子硬件、计算机软件或者二者的结合来实现，软件模块、方法步骤对应的程序可以置于随机存储器（RAM）、内存、只读存储器（ROM）、电可编程ROM、电可擦除可编程ROM、寄存器、硬盘、可移动磁盘、CD-ROM、或技术领域内所公知的任意其它形式的存储介质中。为了清楚地说明电子硬件和软件的可互换性，在上述说明中已经按照功能一般性地描述了各示例的组成及步骤。这些功能究竟以电子硬件还是软件方式来执行，取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。本领域技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能，但是这种实现不应认为超出本发明的范围。

术语“包括”或者任何其它类似用语旨在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备/装置不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其它要素，或者还包括这些过程、方法、物品或者设备/装置所固有的要素。

至此，已经结合附图所示的优选实施方式描述了本发明的技术方案，但是，本领域技术人员容易理解的是，本发明的保护范围显然不局限于这些具体实施方式。在不偏离本发明的原理的前提下，本领域技术人员可以对相关技术特征作出等同的更改或替换，这些更改或替换之后的技术方案都将落入本发明的保护范围之内。

以上，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。

Claims (4)

1.一种低温磁体杜瓦装置，其特征在于，包括：

杜瓦本体，其内部设置有真空腔体；

超导模块，设置在所述真空腔体内部，所述超导模块与真空腔体内侧壁固定连接；

环境调整模块，设置在所述杜瓦本体一侧，所述环境调整模块一端穿设过所述杜瓦本体，设置在所述真空腔体内部，所述环境调整模块用于对所述真空腔体的环境进行调整；

所述杜瓦本体包括：

内筒，其中部设置通腔；

杜瓦盖板，设置有两个，且两所述杜瓦盖板沿所述内筒设置方向相对的设置在所述内筒两侧，所述杜瓦盖板与所述内筒固定连接；

外筒，套设在所述内筒外侧，所述外筒与所述杜瓦盖板固定连接，所述外筒与所述内筒之间为真空腔体；

所述环境调整模块包括：

壳体，其一侧穿过所述外筒侧壁，设置在所述真空腔体的内部，所述壳体与所述外筒固定连接，以使所述壳体与所述真空腔体相连通；

真空单元，设置在所述壳体下部，所述真空单元与所述壳体相连接，以使所述壳体与所述真空腔体相连通时，所述真空单元对所述真空腔体内的空气进行抽取；

控制单元，与所述真空单元电连接，所述控制单元用于控制所述真空单元；

所述控制单元包括：

采集子单元，用于获取所述真空腔体内的压力信息和真空单元的抽取量信息；

处理子单元，用于根据所述采集子单元采集到的所述压力信息对所述真空单元进行控制；

所述处理子单元还用于获取所述压力信息中当前压力值△T，所述处理子单元还用于预设标准压力值T0，所述处理子单元用于根据所述当前压力值△T与预设标准压力值T0之间的关系判断所述真空腔体内的真空度是否处于最佳真空度；

若所述当前压力值△T≤预设标准压力值T0，所述处理子单元则判断所述真空腔体内的真空度处于最佳真空度；

若所述当前压力值△T＞预设标准压力值T0，所述处理子单元则判断所述真空腔体内的真空度没有处于最佳真空度，所述处理子单元还用于根据当前压力值△T与预设标准压力值T0之间的当前压力值差△T-T0对所述真空单元的抽取量信息进行调整；

所述处理子单元还用于根据当前压力值△T与预设标准压力值T0之间的当前压力值差△T-T0对所述真空单元的抽取量信息进行调整时，包括：

所述处理子单元还用于获取所述真空单元的抽取量信息中的实时抽取值△Y；

所述处理子单元还用于预先设定第一预设压力值差G1、第二预设压力值差G2、第三预设压力值差G3和第四预设压力值差G4，且G1＜G2＜G3＜G4；所述处理子单元还用于预先设定第一预设抽取值调整系数H1、第二预设抽取值调整系数H2、第三预设抽取值调整系数H3和第四预设抽取值调整系数H4，且0.5＜H1＜H2＜H3＜H4＜1.25；

所述处理子单元还用于根据所述当前压力值差△T-T0与各预设压力值差之间的关系对所述真空单元的抽取值进行调整；

当△T-T0＜G1时，选定所述第一预设抽取值调整系数H1对所述真空单元的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元的抽取值为△Y*H1；

当G1≤△T-T0＜G2时，选定所述第二预设抽取值调整系数H2对所述真空单元的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元的抽取值为△Y*H2；

当G2≤△T-T0＜G3时，选定所述第三预设抽取值调整系数H3对所述真空单元的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元的抽取值为△Y*H3；

当G3≤△T-T0＜G4时，选定所述第四预设抽取值调整系数H4对所述真空单元的抽取值△Y进行调整，调整后的真空单元的抽取值为△Y*H4；

所述处理子单元还用于在选定第i预设抽取值调整系数Hi对所述真空单元的抽取值△Y进行调整，获取调整后的真空单元的抽取值为△Y*Hi，i=1,2,3,4，包括：

所述处理子单元还用于获取所述真空腔体的当前漏气率△P，所述处理子单元还用于预设标准漏气率P0，所述处理子单元用于根据当前漏气率△P与预设标准漏气率P0之间的关系判断所述真空腔体内的当前漏气率是否处于最佳漏气率；

当△P≤P0时，所述处理子单元则判定所述真空腔体的当前漏气率△P处于最佳漏气率；

当△P＞P0时，所述处理子单元则判定所述真空腔体的当前漏气率△P没有处于最佳漏气率，所述处理子单元还用于根据所述当前漏气率△P对所述调整后的真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正。

2.如权利要求1所述的低温磁体杜瓦装置，其特征在于，所述超导模块包括：

超导线圈，设置在所述真空腔体的内部；

支撑架，设置在所述真空腔体的内部，所述支撑架与所述内筒外侧壁相连接，所述支撑架用于在超导线圈与所述内筒外侧壁相接触时，对所述超导线圈进行固定。

3.如权利要求1所述的低温磁体杜瓦装置，其特征在于，

所述处理子单元还用于根据所述当前漏气率△P对所述调整后的真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正时，包括：

所述处理子单元还用于预先设定第一预设漏气率P1、第二预设漏气率P2、第三预设漏气率P3和第四预设漏气率P4，且P1＜P2＜P3＜P4；所述处理子单元还用于预先设定第一预设抽取值修正系数C1、第二预设抽取值修正系数C2、第三预设抽取值修正系数C3和第四预设抽取值修正系数C4，且0＜C1＜C2＜C3＜C4＜0.75；

所述处理子单元还用于根据所述当前漏气率△P与各预设漏气率之间的关系对所述真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正；

当△P＜P1时，选定所述第一预设抽取值修正系数C1对所述真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元的抽取值为△Y*Hi*C1；

当P1≤△P＜P2时，选定所述第二预设抽取值修正系数C2对所述真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元的抽取值为△Y*Hi*C2；

当P2≤△P＜P3时，选定所述第三预设抽取值修正系数C3对所述真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元的抽取值为△Y*Hi*C3；

当P3≤△P＜P4时，选定所述第四预设抽取值修正系数C4对所述真空单元的抽取值△Y*Hi进行修正，修正后的真空单元的抽取值为△Y*Hi*C4。

4.一种真空度控制方法，应用于如权利要求1-3任意一项所述的低温磁体杜瓦装置，其特征在于，包括：

实时检测低温磁体杜瓦装置中真空腔体内的压力信息，其中所述压力信息包括真空腔体内的压力值差和真空腔体内的漏气率；

根据所述真空腔体内的压力值差和真空腔体内的漏气率控制真空单元的抽取值。

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