CN115903120A - 用于增强现实设备的导光板 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及用于图像显示装置、特别是用于增强现实设备的导光板。本发明还涉及根据本发明的导光板在增强现实设备中的用途，以及涉及包括根据本发明的导光板的增强现实设备。
Description
技术领域
本发明涉及用于图像显示装置、特别是用于增强现实设备的导光板。本发明还涉及根据本发明的导光板在增强现实设备中的用途，以及涉及包括根据本发明的导光板的增强现实设备。
背景技术
增强现实(AR)用于显示计算机生成的感知信息，特别是关于真实世界中存在的物体的视觉信息。最近，AR设备的重要性越来越高。特别是，AR显示可以在类似于眼镜的设备上呈现。这种AR设备可以显示计算机生成的视觉信息，该信息投射通过设备的镜片表面或由其反射。光学波导是大多数这种AR设备的必要组成部分。特别是，光学波导可以被提供为导光板。一般来说，导光板是用于传输光的平面晶圆状结构。因此，将光在一个位置送入导光板，将其传输通过导光板并在另一个位置离开导光板。更确切地说，该板不仅要引导光，还要引导图像，也就是说，光路在耦入和耦出位置之间不能混合。值得注意的是，光穿过导光板的距离通常比较长，可能很容易就是几厘米。鉴于上述情况，人们希望导光板具有较高的内部传输。这种导光板还应该有较轻的重量，以便提高佩戴的舒适性，特别是在用于眼镜的情况下。
因此，本发明的目标在于提供一种用于AR应用的导光板，其折射率高、传输率高并且密度低。
发明内容
上述目标通过专利权利要求的主题得以实现。
上述目标尤其是通过导光板、优选用于增强现实应用的导光板得以实现，其包括光学玻璃，
其中光学玻璃的折射率nd为至少1.75、优选至少1.80，并且包括Nb2O5的量为至少15mol％以及P2O5的量为至少19mol％，
其中导光板具有在440nm的波长以及10mm的样品厚度测量的0.80或以上、优选0.90或以上的内部传输。
具体实施方式
优选地，导光板是平面导光板。导光板优选具有两个主面，其中优选地，主面具有大致相同的表面积。优选地，每个主面的表面积在1000至1000000mm2、更优选3000至750000mm2、更优选5000至500000mm2，例如10000至400000mm2、20000至300000mm2、30000至200000mm2、40000至150000mm2、50000至125000mm2或者60000至100000mm2的范围内。
在一个优选的实施方式中，导光板是盘状玻璃晶圆，优选为直径在100mm至500mm、更优选120mm至450mm、更优选140mm至400mm、更优选160mm至350mm、更优选180mm至325mm、更优选200mm至300mm的范围内的玻璃晶圆。尤其优选大约200mm或者大约300mm的直径。优选地，制品的直径为至少100mm、至少120mm、至少140mm、至少160mm、至少180mm或者至少200mm。优选地，制品的直径为至多500mm、更优选至多450mm、更优选至多400mm、更优选至多350mm、更优选至多325mm、更优选至多300mm。
在另一优选的实施方式中，导光板是增强现实设备的目镜，优选地，其直径从7.5mm至120mm、优选从20mm至70mm，并且更优选从40mm至60mm。
优选地，本发明玻璃的努氏硬度Hk在2GPa至10GPa、更优选2.5GPa至9.5GPa、更优选3GPa至9GPa、更优选3.5GPa至8.5GPa、更优选4至8GPa的范围内。努氏硬度Hk是衡量用金刚石压头压入时的永久性表面改变。努氏硬度Hk优选按照ISO 9385进行测定。优选地，努氏硬度Hk是在压入力为0.9807N(即，0.1kp)和压入时间为20秒的情况下测定的。优选地，在室温下使用抛光的玻璃表面测定努氏硬度Hk。
优选地，本发明的导光板的厚度d从0.10mm至2.0mm、更优选从0.15mm至1.5mm、更优选从0.20mm至1.2mm、更优选从0.25mm至1.0mm、更优选从0.30mm至0.75mm，例如，从0.40mm至0.60mm。关于导光板的重量，厚度小是有利的。
优选地，本发明的导光板的翘曲较小，尤其是小于100μm、更优选小于50μm、更优选小于20μm的翘曲。翘曲可能大于1μm、大于5μm或者大于10μm。
优选地，本发明的导光板的弯曲较小，尤其是小于100μm、更优选小于50μm、更优选小于20μm的弯曲。弯曲可能大于1μm、大于5μm或者大于10μm。
导光板的翘曲和/或弯曲可能受到导光板的直径和厚度以及涂层的影响。优选地，本发明导光板的翘曲和/或弯曲小于导光板直径的0.1％、更优选小于导光板直径的0.075％、更优选小于导光板直径的0.05％、更优选小于导光板直径的0.025％、更优选小于导光板直径的0.01％。翘曲和/或弯曲可能大于导光板直径的0.001％、大于导光板直径的0.002％或者大于导光板直径的0.005％。优选地，根据SEMI3D1203152015来测定翘曲和弯曲。
优选地，导光板的TTV(总厚度变化)小于2μm、更优选小于1.8μm、更优选小于1.6μm、更优选小于1.5μm、更优选小于1.4μm、更优选小于1.3μm、更优选小于1.2μm、更优选小于1.1μm、更优选小于1.0μm、更优选小于0.75μm、更优选小于0.5μm。可以基于SEMI MF1530GBIR来测定TTV。也可以基于导光板厚度轮廓的干涉测量来测定TTV，例如，使用干涉仪，特别是Zygo公司的干涉仪。在一些实施方式中，TTV可为至少0.1μm或者至少0.2μm。对于AR领域中的导光板的用途，非常小的TTV是特别有利的。例如，可以通过诸如研磨、碾磨和/或抛光的磨蚀工艺来获得小的TTV。因此，本发明的导光板优选是施加了磨蚀处理的导光板。
优选地，本发明的导光板的特征还在于特别平行的主面。这可以通过最大局部坡度”来描述。具体而言，导光板的最大局部坡度优选小于2弧秒、更优选小于1.5弧秒、更优选小于1弧秒、更优选小于0.75弧秒、更优选小于0.5弧秒、更优选小于0.25弧秒、更优选小于0.15弧秒。导光板的最大局部坡度可以大于0.01弧秒、大于0.05弧秒或者大于0.1弧秒。优选地，基于导光板厚度轮廓的干涉测量来测定局部坡度，例如，使用干涉仪，特别是Zygo公司的干涉仪。特别是，优选地，将局部坡度测定为由连接最大厚度与最小厚度的线在限定的横向尺寸内形成的角度。该横向尺寸优选在1至5mm的范围内，例如1mm、2mm、3mm、4mm或者5mm。优选在晶圆的整个面积上、或者整个面积的至少50％、至少60％、至少70％、至少80％、至少90％、至少95％或者至少99％上测定局部坡度，特别是在晶圆的整个质量面积上测定局部坡度，并且所测定的局部坡度值的最大值即为“晶圆的最大局部坡度”。
优选地，导光板的表面粗糙度Rq在从0.1nm至5nm，例如从0.15nm至3.5nm、从0.2nm至2nm、从0.25nm至1.5nm、从0.3nm至1.0nm或者从0.35nm至0.75nm的范围内。优选地，该表面粗糙度Rq小于5nm、更优选小于3.5nm、更优选小于2nm、更优选小于1.5nm、更优选小于1.0nm、更优选小于0.75nm、更优选小于0.5nm。优选地，利用白光干涉法(WLI)或者原子力显微镜(AFM)来测定表面粗糙度Rq。AFM是最优选的。在本公开中，互换地使用术语“Rq”和“RMS”。优选地，根据DIN EN ISO 4287来测定表面粗糙度Rq。
优选地，导光板的表面粗糙度Ra在从0.1nm至5nm，例如从0.15nm至3.5nm、从0.2nm至2nm、从0.25nm至1.5nm、从0.3nm至1.0nm或者从0.35nm至0.75nm的范围内。优选地，该表面粗糙度Ra小于5nm、更优选小于3.5nm、更优选小于2nm、更优选小于1.5nm、更优选小于1.0nm、更优选小于0.75nm、更优选小于0.5nm。优选地，根据ISO DIN EN ISO 4287来测定表面粗糙度Ra。
导光板包括光学玻璃或由光学玻璃组成，优选为平面玻璃片的形式。除了平面玻璃片之外，导光板还可以包括另外的组件，例如，一个或多个光学元件，比如衍射光栅和/或一个或多个光学涂层，其中每一个涂层位于导光板的第一和/或第二表面上。
根据本发明的导光板在440nm的波长以及10mm的样品厚度测量的内部传输Ti为0.80或以上、优选0.85或以上、更优选0.90或以上并且特别优选0.95或以上。在优选的实施方式中，根据本发明的导光板的内部传输(440nm，10mm)为0.80至0.99、优选0.85至0.98并且特别优选0.90至0.97。
该导光板由光学玻璃制成，其折射率nd为至少1.75、优选至少1.80、优选至少1.85并且特别优选为至少1.90。在一些实施方式中，光学玻璃的折射率nd为至少1.95。折射率nd表示波长为587.6nm处的折射率。
在优选的实施方式中，光学玻璃的折射率nd从1.75至2.2、优选从1.78至2.1、优选从1.80至2.0并且特别优选从1.81至1.95。
在优选的实施方式中，光学玻璃的Abbe数vd介于17至25、优选介于18至23之间。
在一个优选的实施方式中，光学玻璃的折射率nd从至少1.80至小于1.90。在另一优选的实施方式中，光学玻璃的折射率nd从至少1.90至2.0、优选从至少1.92至1.96。在另一实施方式中，光学玻璃的折射率从至少1.95至2.10。
优选地，光学玻璃的密度小于5.0g/cm3、优选小于4.1g/cm3。
优选地，光学玻璃的密度与折射率nd之比小于2.2、优选小于2.1。
根据本发明的光学玻璃包括Nb2O5的量为至少15mol％，以及P2O5的量为至少17mol％。
在优选的实施方式中，光学玻璃包括Nb2O5的量为至少17mol％、优选至少19mol％并且特别优选至少20mol％。优选地，光学玻璃包括不大于45mol％、优选不大于35mol％、更优选不大于32mol％以及特别优选不大于28mol％的Nb2O5。
在优选的实施方式中，光学玻璃包括P2O5的量为至少19mol％、优选至少20mol％并且特别优选至少23mol％。优选地，光学玻璃包括不大于40mol％、优选不大于35mol％、更优选不大于30mol％以及特别优选不大于28mol％的P2O5。
在优选的实施方式中，光学玻璃中P2O5和Nb2O5的总量从35mol％至75mol％、特别优选从40至60mol％。
在优选的实施方式中，本发明导光板中的光学玻璃包括以mol％计的以下成分：
| <![CDATA[Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub>]]> | 15––45 |
| <![CDATA[P<sub>2</sub>O<sub>5</sub>]]> | 17–40 |
| <![CDATA[B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>]]> | 0-12 |
| <![CDATA[SiO<sub>2</sub>]]> | 0–5 |
| <![CDATA[R<sub>2</sub>O]]> | 4–40 |
| RO | 0-25 |
| ZnO | 0–5 |
| <![CDATA[TiO<sub>2</sub>]]> | 0–30 |
其中，R2O是Li2O、Na2O、K2O和Cs2O中的一个或多个；并且
其中，RO是MgO、CaO、SrO和BaO中的一个或多个。
在另一优选的实施方式中，本发明导光板中的光学玻璃包括以mol％计的以下组分：
可以以0.0至1.0mol％、至多0.5mol％或者至多0.2mol％的量使用HfO2，用于提高折射率。一些实施方式不含HfO2。
可以以0.0至5.0mol％、至多3.5mol％、至多2.0mol％、至多1.0mol％、至多0.5mol％或者至多0.2mol％的量使用Y2O3。一些实施方式不含Y2O3。
在一些实施方式中，光学玻璃由至少95.0mol％，诸如至少98.0mol％或者至少99.0mol％的本文所述的组分构成，诸如上表中所列的组分。在一些实施方式中，该玻璃基本上完全由这些组分构成。
在一些实施方式中，该玻璃基本上没有选自La2O3、Gd2O3、Y2O3、GeO2、Ta2O5、MgO、Li2O、ZrO2、WO3及其组合的一种或者多种成分。
光学玻璃的特别优选的实施方式基本上不含Bi2O3、GeO2和/或WO3。
光学玻璃的特别优选的实施方式基本上不含Bi2O3、GeO2和WO3。
光学玻璃的特别优选的实施方式基本上不含Ta2O5、Bi2O3、GeO2和WO3。
优选地，光学玻璃基本上不含铅。
在本说明书中，当提及玻璃不含一种组分或者该玻璃不包含某种组分时，则这意味着至多只能允许该组分作为玻璃中的杂质存在。这意味着其不是大量添加的。根据本发明，非大量是小于200ppm、诸如小于100ppm、小于50ppm或者小于10ppm(m/m)的量。
由于铌的含量，该玻璃可以不含其他昂贵的组分，诸如，例如钽、钨和/或锗。尽管在一些类型的玻璃中，这些组分改进了多种光学特性，但是在此处没有使用它们，也是由于已经发现了这些组分的增加使密度/折射能力比恶化。对于例如，镧、钆以及锂，后者都是适用的，因此，在一些实施方式中不使用这些组分。此外，镧和钆以及钇也提高了混合物的熔融温度，从而增加了熔体的氧损失。
此外，当使用这些组分时，在晶种以及界面处，结晶的倾向得以提高。众所周知，Li2O对于陶瓷熔槽和坩埚材料具有腐蚀性，因此，在可能的情况下，不使用或者只是少量使用Li2O。
玻璃的熔体可以用传统的澄清剂进行澄清，但是由于最感兴趣的玻璃通常可以在低于1300℃的温度熔融，并且由于它们的低粘度在相当适中的温度下进行澄清处理是可能的，所以可以减少例如Sb2O3、As2O3和/或SnO2的含量(例如，减少到<0.1mol％)，以有利于UV传输，或者它们可以被省略(纯物理澄清)。任选地，玻璃可以包括以下一种或多种具有澄清效果的组分，以mol％计其给定的份额为：
| <![CDATA[Sb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>]]> | 0.0至0.5 |
| <![CDATA[As<sub>2</sub>O<sub>3</sub>]]> | 0.0至0.5 |
| <![CDATA[SnO<sub>2</sub>]]> | 0.0至0.5 |
特别优选的实施方式基本上不含As2O3。
优选地，铂的份额特别低，因为铂明显地降低了光学玻璃的透射率。优选地，铂的份额低于5ppm、进一步优选低于3ppm、进一步优选低于1ppm、进一步优选低于50ppb、进一步优选低于ppb。
优选的实施方式A
在一个优选的实施方式中，本发明的导光板由光学玻璃制成，其折射率nd为至少1.80并且小于1.90，和/或其内部传输Ti(440nm，10mm)为至少0.90、优选至少0.95。
优选地，以mol％计，折射率nd为至少1.80并且小于1.90的导光板中的光学玻璃包括以下组分：
| <![CDATA[Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub>]]> | 19––35 |
| <![CDATA[P<sub>2</sub>O<sub>5</sub>]]> | 19–30 |
| <![CDATA[B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>]]> | >0-10 |
| <![CDATA[SiO<sub>2</sub>]]> | >0–3 |
| <![CDATA[R<sub>2</sub>O]]> | 10–40 |
| RO | 0-20 |
| ZnO | 0–4 |
| <![CDATA[TiO<sub>2</sub>]]> | 0–15 |
优选地，光学玻璃的密度不大于4.5g/cm3、优选不大于4.1g/cm3并且特别优选不大于3.8g/cm3。
在优选的实施方式中，光学玻璃的密度/折射率比(δ/nd)小于2.2、优选小于2.1。
优选地，该玻璃包括大于0并且不大于3mol％的SiO2，优选地SiO2的量在1至3mol％的范围内。
优选地，该玻璃包括B2O3的量从1至10mol％。
优选地，光学玻璃的SiO2/B2O3(以mol％计)大于0，SiO2与B2O3之比优选在0.1至3的范围内、优选在1至2.5的范围内。
光学玻璃包括一种或多种碱金属氧化物R2O，其中R是Li、Na、K和/或Cs，优选Na和/或K。优选地，光学玻璃中R2O的总量从10至40mol％、优选从15至37mol％。
在优选的实施方式中，光学玻璃包括Na2O和K2O的至少之一，其中Na2O和K2O的总量从18至37mol％。在优选的实施方式中，光学玻璃包括Na2O的量从15至35mol％、优选从19至32mol％。
优选地，光学玻璃包括K2O的总量从1至10mol％、优选从5至8mol％。光学玻璃的一些优选的实施方式不含K2O。
在光学玻璃中可以包括Li2O的量不大于10mol％、优选不大于5mol％并且特别优选不大于2mol％。一些优选的实施方式不含Li2O。
光学玻璃可以包括一种或多种碱土金属氧化物RO，其中R是Mg、Ca、Sr和/或Ba。在优选的实施方式中，光学玻璃包括RO的总量从10至20mol％、优选从13至18mol％。在这种实施方式中，R2O/RO的比例(以mol％计)优选小于5、优选小于3、更优选小于2并且特别优选小于1.5。然而，一些优选的实施方式不含RO。
光学玻璃可以包括不大于10mol％、优选不大于6mol％并且特别优选不大于4mol％的MgO。优选的实施方式不含MgO。
光学玻璃可以包括不大于10mol％、优选不大于8mol％并且特别优选不大于6mol％的CaO。优选的实施方式不含CaO。
光学玻璃可以包括不大于10mol％、优选不大于6mol％并且特别优选不大于4mol％的SrO。优选的实施方式不含SrO。
光学玻璃可以包括不大于15mol％、优选不大于13mol％并且特别优选不大于12mol％的BaO。一些优选的实施方式不含BaO。
光学玻璃可以包括TiO2的量不大于15mol％、优选不大于13mol％。一些优选的实施方式不含TiO2。
光学玻璃可以包括ZnO2的量不大于4mol％。一些优选的实施方式不含ZnO2。
光学玻璃可以包括Bi2O3、GeO2和WO3中的一种或多种。然而，优选的光学玻璃基本上不含这种组分。
实施方式B
在一个优选的实施方式中，本发明的导光板包括光学玻璃或者由光学玻璃组成，其折射率nd为至少1.90和/或其内部传输Ti(440nm，10mm)为至少0.80、优选至少0.84，以及更优选至少0.90。
优选地，导光板中的光学玻璃的折射率nd为至少1.90，并且优选不大于2.20、优选不大于2.10，并且特别优选不大于2.0，以mol％计，其包括以下组分：
| <![CDATA[Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub>]]> | 20––40 |
| <![CDATA[P<sub>2</sub>O<sub>5</sub>]]> | 20–40 |
| <![CDATA[B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>]]> | 0-10 |
| <![CDATA[SiO<sub>2</sub>]]> | 0–3 |
| <![CDATA[R<sub>2</sub>O]]> | 3–22 |
| RO | >0-30 |
| ZnO | 0–4 |
| <![CDATA[TiO<sub>2</sub>]]> | >0–35 |
优选地，光学玻璃的密度为不大于5.50g/cm3、更优选不大于500g/cm3、更优选不大于4.5g/cm3并且特别优选不大于4.0g/cm3。
在优选的实施方式中，光学玻璃的密度/折射率比(δ/nd)为小于2.2、优选小于2.1并且特别优选小于2.0。
光学玻璃可以包括不大于3mol％、优选不大于2mol％并且特别优选不大于1mol％的SiO2。在一个优选的实施方式中，SiO2的量在以下范围内：0.1至3mol％、优选0.5至2.0mol％。一些优选的实施方式不含SiO2。
优选地，玻璃包括B2O3的量从0至10mol％。在一个优选的实施方式中，光学玻璃包括从0.5至7.5mol％、优选从0.8至7mol％的B2O3。一些优选的实施方式不含B2O3。
光学玻璃可以包括一种或多种碱金属氧化物R2O，其中R是Li、Na、K和/或Cs，优选Na和/或K。在一些优选的实施方式中，光学玻璃中R2O的总量为3至20mol％、优选4至18mol％。一些优选的实施方式不含R2O。
在优选的实施方式中，光学玻璃包括Na2O和K2O的至少之一，其中Na2O和K2O的总量从3至20mol％。
在一些优选的实施方式中，光学玻璃包括Na2O的量从8至18mol％。
在一些优选的实施方式中，光学玻璃包括K2O的量从1至10mol％、优选从4至7mol％。一些优选的实施方式的光学玻璃不含K2O。
Li2O可以以不大于10mol％、优选不大于5mol％并且特别优选不大于2mol％的量包含在光学玻璃中。特别优选的实施方式不含Li2O。
光学玻璃可以包括一种或多种碱土金属氧化物RO，其中R是Mg、Ca、Sr和/或Ba。在优选的实施方式中，光学玻璃包括RO的总量从1至30mol％、优选从2至25mol％。
光学玻璃可以包括不大于5mol％、优选不大于3mol％并且特别优选不大于1mol％的MgO。优选的实施方式不含MgO。
光学玻璃可以包括不大于5mol％、优选不大于3mol％并且特别优选不大于1mol％的CaO。优选的实施方式不含CaO。
光学玻璃可以包括不大于5mol％、优选不大于3mol％并且特别优选不大于1mol％的SrO。优选的实施方式不含SrO。
光学玻璃包括大于0且不大于30mol％、优选至少1.0至25mol％的BaO。
光学玻璃包括TiO2的量从5至30mol％、优选从8至28mol％的TiO2。
光学玻璃可以包括ZnO2的量不大于4mol％、优选不大于2mol％并且特别优选不大于1.5mol％。
光学玻璃可以包括Bi2O3、GeO2和WO3中的一种或多种。然而，优选的光学玻璃基本上不含这种组分。
本发明还涉及制造本发明的导光板的方法，该方法包括以下步骤
熔融玻璃原料，和
冷却熔体。
该方法还可以包括在冷却熔体之前使熔体成形的步骤。
该方法还可以包括后处理导光板的步骤。例如，可以应用一个或多个切割处理。特别优选地，该方法包括一个或多个磨蚀处理，特别是选自研磨、碾磨和抛光的处理。这对于实现非常小的TTV是特别有利的。此外，可以特定地调整表面粗糙度。
因此，该方法优选地包括一个或多个磨蚀处理(优选选自研磨、碾磨和抛光)。然而，磨蚀处理可能在脆的玻璃材料表面中引入局部应力，导致表面下损伤(SSD)。因此，优选关于磨蚀处理平衡了该方法，使得其足以实现小的TTV，但是又不太多以至于产生了太多的SSD。
例如，导光板可以通过使用行星运动学(planetary cinematic)的双面处理来进行处理。在这种机器中，在一批中处理许多晶圆，根据尺寸，通常是处理10至30个晶圆。在这种机器中，质量基于批次内的统计分布，而且也在批次间有变化，这是由于几个处理条件的干扰。
示例性的处理步骤目标在于高去除率，例如，用金刚石工具进行研磨。该方法可以包括抛光，特别是许多步骤，例如，使用聚氨酯垫、铈-氧化物浆料和大约30g/cm2的局部载荷。还可以使用软的垫(毛毡或其他)，其使用最细的铈浆料(D97，例如1.5至3微米)或者最细的金刚石工具(粒径<0.1微米)。
本发明还涉及本发明的导光板作为增强现实设备中的导光板的用途。
本发明还涉及包括本发明的导光板的增强现实设备。
实施例
将在以下表1和2中示出的实施例和比较组合物熔融，并且研究其性能。对于一些玻璃，测定了内部传输。
表1：以mol％计(基于氧化物)的组合物以及性能
表2：以mol％计(基于氧化物)的组合物以及性能
根据本发明的组合物表现出了优异的传输性能、相对低的Tg以及相对低的密度，并且同时表现出相对高的折射率。
尽管已经关于至少一个实施方式描述了本发明，但是本发明还可以在本公开的精神和范围内进行改进。因此，本申请旨在涵盖使用其一般原则的本发明的任何变体、用途或者修改。此外，本申请旨在涵盖与本发明所属的技术领域中的已知或常规实践偏离的本公开的内容，并且落入所附权利要求限定的范围的内容。
Claims (13)
1.一种导光板，其包括光学玻璃，
其中所述光学玻璃的折射率nd为至少1.75、优选至少1.80，并且包括Nb2O5的量为至少15mol％，以及P2O5的量为至少19mol％，
其中所述导光板具有在440nm的波长以及10mm的样品厚度测量的0.80或以上、优选0.90或以上的内部传输。
2.根据权利要求1所述的导光板，其中所述光学玻璃中P2O5与Nb2O5的总量从35mol％至75mol％。
3.根据权利要求1或2所述的导光板，其中所述光学玻璃的密度与折射率nd之比小于2.2、优选小于2.1。
4.根据权利要求1至3的任一项所述的导光板，其中所述光学玻璃基本上不含Bi2O3、GeO2和/或WO3。
5.根据权利要求1至4的任一项所述的导光板，其中所述光学玻璃基本上不含As2O3。
6.根据权利要求1至5的任一项所述的导光板，其中所述光学玻璃的Abbe数vd介于17至25。
7.根据权利要求1至6的任一项所述的导光板，其中所述光学玻璃包括以mol％计的以下组分：
其中，R2O是Li2O、Na2O、K2O和Cs2O中的一个或多个；并且
其中，RO是MgO、CaO、SrO和BaO中的一个或多个。
8.根据权利要求1至7的任一项所述的导光板，其中所述光学玻璃包括以mol％计的以下组分：
。
9.根据权利要求1至8的任一项所述的导光板，其中所述光学玻璃的折射率nd为至少1.80且小于1.90，并且包括以mol％计的以下组分：
。
10.根据权利要求1至8的任一项所述的导光板，其中所述光学玻璃的折射率nd为至少1.90，并且包括以mol％计的以下组分：
。
11.根据权利要求1至10的任一项所述的导光板，其中所述导光板的总厚度变化TTV小于2μm。
12.根据权利要求1至11的任一项所述的导光板，其中根据权利要求1至10的任一项的所述导光板的表面粗糙度Rq在0.1nm至5nm的范围中。
13.包括根据权利要求1至12的任一项所述的导光板的增强现实设备。
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