CN115889267A - 清洁装置、设备及方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种清洁装置、设备及方法，涉及硅片抛光技术领域。该装置包括：支撑件和支撑基质；所述支撑件与所述支撑基质固定连接；所述支撑基质上设置有至少一个第一毛刷以及至少一个第二毛刷，且所述第一毛刷与所述第二毛刷间隔设置；所述第一毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接，且所述第二毛刷与所述支撑基质固定连接；或者，所述第二毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接，且所述第一毛刷与所述支撑基质固定连接；或者，所述第一毛刷和所述第二毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接。本发明实施例的清洁装置，所述第一毛刷和/或所述第二毛刷能够在所述旋转轴的带动下相对于所述支撑基质转动，能够对抛头表面不同尺寸的沾污或颗粒进行清洗。
Description
技术领域
本发明涉及硅片抛光技术领域，特别涉及一种清洁装置、设备及方法。
背景技术
抛头对晶圆完成抛光后，抛头边缘以及抛头表面粘结的环氧树脂等粘结剂会存在沾污或颗粒等杂质，为了保证抛光的过程中不对晶圆带入新的杂质，需要对抛头进行清洁。现有的卡盘清洁器，通过支撑基质的旋转带动毛刷对抛头进行刷扫，并辅助具有一定水速的水流作用于毛刷和抛头之间，从而实现对抛头的清洁。但是抛头上沾污或颗粒的尺寸不同，且抛头表面粘结的环氧树脂等粘结剂导致粘结剂与抛头表面存在一定的高度差，因此，通过现有的卡盘清洁器无法对抛头进行彻底的清洁，从而影响晶圆的品质。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明提供一种清洁装置、设备及方法，能够解决现有技术中卡盘清洁器无法对抛头进行彻底的清洁，从而影响晶圆的品质的问题。
为了解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：
一种清洁装置，包括：
支撑件和支撑基质；
所述支撑件与所述支撑基质固定连接；
所述支撑基质上设置有至少一个第一毛刷以及至少一个第二毛刷，且所述第一毛刷与所述第二毛刷间隔设置；
所述第一毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接，且所述第二毛刷与所述支撑基质固定连接；或者，所述第二毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接，且所述第一毛刷与所述支撑基质固定连接；或者，所述第一毛刷和所述第二毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接。
进一步地，所述旋转轴为可伸缩旋转轴；
在所述旋转轴处于伸长状态时，所述第一毛刷和/或所述第二毛刷远离所述支撑基质；
在所述旋转轴处于缩短状态时，所述第一毛刷和/或所述第二毛刷靠近所述支撑基质。
进一步地，所述第一毛刷上的刷毛远离所述支撑基质的一端与所述支撑基质的距离为第一距离，所述第二毛刷上的刷毛远离所述支撑基质的一端与所述支撑基质的距离为第二距离；
所述第一距离与所述第二距离不同。
进一步地，所述第一毛刷上的刷毛与所述第二毛刷上的刷毛长度不同。
进一步地，所述第一毛刷与所述第二毛刷的刷毛设置密度不同。
进一步地，所述第一毛刷与所述第二毛刷均为三个，且所述第一毛刷与所述第二毛刷呈六十度设置。
本发明实施例还提供了一种清洁设备，包括：冲洗装置以及如上所述的清洁装置；
在所述清洁设备工作过程中，所述冲洗装置为所述清洁设备提供预设流速的清洗液对待清洁物品以及所述第一毛刷和所述第二毛刷进行清洗。
本发明实施例还提供了一种清洁方法，应用于如上所述的清洁装置，包括：
通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行第一方向的旋转的同时，通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行第二方向的旋转，并对待清洁物品进行清洁；或者，
通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行第一方向的旋转，对待清洁物品进行第一清洁；通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行第二方向的旋转，对待清洁物品进行第二清洁。
本发明的有益效果是：
本发明实施例的清洁装置，通过旋转轴将第一毛刷和/或第二毛刷设置于支撑基质上，使得所述第一毛刷和/或所述第二毛刷能够在所述旋转轴的带动下相对于所述支撑基质转动，能够对抛头表面不同尺寸的沾污或颗粒进行清洗。
附图说明
图1表示本发明实施例的清洁装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。在下面的描述中，提供诸如具体的配置和组件的特定细节仅仅是为了帮助全面理解本发明的实施例。因此，本领域技术人员应该清楚，可以对这里描述的实施例进行各种改变和修改而不脱离本发明的范围和精神。另外，为了清楚和简洁，省略了对已知功能和构造的描述。
应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本发明的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。
本发明针对现有技术中卡盘清洁器无法对抛头进行彻底的清洁，从而影响晶圆的品质的问题，提供一种清洁装置、设备及方法。
如图1所示，本发明实施例提供一种清洁装置，包括：
支撑件和支撑基质1；
所述支撑件与所述支撑基质1固定连接；
所述支撑基质1上设置有至少一个第一毛刷2以及至少一个第二毛刷3，且所述第一毛刷2与所述第二毛刷3间隔设置；
所述第一毛刷2通过旋转轴与所述支撑基质1连接，且所述第二毛刷3与所述支撑基质1固定连接；或者，所述第二毛刷3通过旋转轴与所述支撑基质1连接，且所述第一毛刷2与所述支撑基质1固定连接；或者，所述第一毛刷2和所述第二毛刷3通过旋转轴与所述支撑基质1连接。
可选地，所述第一毛刷2包括：第一刷毛载体21以及第一刷毛22；
所述第一刷毛22设置于所述第一刷毛载体21上远离所述支撑基质1的一面；
所述第一刷毛22通过所述第一刷毛载体21与所述支撑基质1连接。
可选地，所述第二毛刷3包括：第二刷毛载体31以及第二刷毛32；
所述第二刷毛32设置于所述第二刷毛载体31上远离所述支撑基质1的一面；
所述第二刷毛32通过所述第二刷毛载体31与所述支撑基质1连接。
可选地，在所述第一毛刷2和所述第二毛刷3通过旋转轴与所述支撑基质1连接的情况下，连接所述第一毛刷2与所述支撑基质1的第一旋转轴与连接所述第二毛刷3与所述支撑基质1的第二旋转轴的转动方向相反。
本发明实施例的清洁装置，通过旋转轴将第一毛刷和/或第二毛刷设置于支撑基质上，使得所述第一毛刷和/或所述第二毛刷能够在所述旋转轴的带动下相对于所述支撑基质转动，能够对抛头表面不同尺寸的沾污或颗粒进行清洗。
可选地，所述旋转轴为可伸缩旋转轴；
在所述旋转轴处于伸长状态时，所述第一毛刷2和/或所述第二毛刷3远离所述支撑基质1；
在所述旋转轴处于缩短状态时，所述第一毛刷2和/或所述第二毛刷3靠近所述支撑基质1。
本发明实施例的清洁装置，通过设置所述可伸缩旋转轴，能够调节所述第一毛刷和/或所述第二毛刷与抛头的距离，能够对抛头以及抛头表面粘结的粘结剂形成的高度差处的沾污或颗粒进行清洗，从而提高对抛头的清洗效果，提高晶圆的品质。
可选地，所述第一毛刷2上的刷毛远离所述支撑基质1的一端与所述支撑基质1的距离为第一距离，所述第二毛刷3上的刷毛远离所述支撑基质1的一端与所述支撑基质1的距离为第二距离；
所述第一距离与所述第二距离不同。
可选地，所述第一距离与所述第二距离不同，包括：
所述第一毛刷2上的第一刷毛与所述第二毛刷3上的第二刷毛的长度不同；或者，
所述第一刷毛与所述第二刷毛的长度相同，且相对于所述支撑基质1，第三距离与第四距离不同；
其中，所述第三距离为所述第一刷毛载体远离所述支撑基质1的一端与所述支撑基质1的距离，所述第四距离为所述第二刷毛载体远离所述支撑基质1的一端与所述支撑基质1的距离。
本发明实施例的清洁装置，所述第一距离与所述第二距离不同，能够对抛头表面各处的沾污进行清洗，从而提高对抛头的清洗效果，提高晶圆的品质。
可选地，所述第一毛刷2与所述第二毛刷3的规格尺寸不同。
所述第一毛刷2与所述第二毛刷3的规格尺寸不同可以理解为：所述第一毛刷2上的刷毛与所述第二毛刷3上的刷毛长度不同；或者，
所述第一毛刷2与所述第二毛刷3的刷毛设置密度不同；或者，
所述第一刷毛载体与所述第二刷毛载体的尺寸不同。
本发明一可选实施例中，所述第一毛刷上的第一刷毛的长度大于所述第二毛刷上的第二刷毛的长度；所述第一毛刷上第一刷毛的密度小于所述第二毛刷上的第二刷毛的密度；所述第一刷毛载体在所述支撑基质上的第一投影面积大于所述第二刷毛载体在所述支撑基质上的第二投影面积。
本发明实施例的清洁装置，通过设置不同规格尺寸的第一毛刷和第二毛刷，能够对抛头表面不同尺寸的沾污或颗粒进行清洗，提高对抛头表面的清洗效率。
可选地，所述第一毛刷2与所述第二毛刷3均为三个，且所述第一毛刷2与所述第二毛刷3呈六十度设置。
本发明一可选实施例中，设置三个第一毛刷和三个第二毛刷，且所述第一毛刷与所述第二毛刷间隔设置，每个所述第一毛刷与所述第二毛刷之间的夹角呈60度。
本发明一可选实施例中，设置两个第一毛刷和两个第二毛刷，且所述第一毛刷与所述第二毛刷间隔设置，每个所述第一毛刷与所述第二毛刷之间的夹角呈90度。
本发明实施例还提供了一种清洁设备，包括：冲洗装置以及如上所述的清洁装置；
在所述清洁设备工作过程中，所述冲洗装置为所述清洁设备提供预设流速的清洗液对待清洁物品以及所述第一毛刷和所述第二毛刷进行清洗。
可选地，所述清洗液流向所述待清洁物品与所述第一毛刷和所述第二毛刷之间，用于清洗所述待清洁物品以及所述第一毛刷和所述第二毛刷上的沾污。
本发明一可选实施例中，所述清洗液为清水，以预设流速冲洗所述待清洁物品以及所述第一毛刷和所述第二毛刷。
本发明实施例还提供了一种清洁方法，应用于如上所述的清洁装置，包括：
通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行第一方向的旋转的同时，通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行第二方向的旋转，并对待清洁物品进行清洁；或者，
通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行第一方向的旋转，对待清洁物品进行第一清洁；通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行第二方向的旋转，对待清洁物品进行第二清洁。
可选地，所述第一方向为顺时针方向，所述第二方向为顺时针方向。
本发明一可选实施例中，通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行顺时针方向的旋转的同时，所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行顺时针方向的旋转，则通过所述旋转轴连接的所述第一毛刷和/或所述第二毛刷的转速为第一转速加第二转速。
本发明一可选实施例中，通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行顺时针方向的旋转，对所述清洁物品进行第一清洁，然后所述旋转轴停止旋转；
通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行顺时针方向的旋转，对待清洁物品进行第二清洁。
本发明实施例的清洗方法，通过将所述第一毛刷和所述第二毛刷与所述支撑基质设置为相同转动方向，能够调节对所述待清洁物品进行清洁时毛刷的转动速度，从而提高对待清洁物品的清洁效率。
本发明一可选实施例中，所述旋转轴为可伸缩旋转轴；所述旋转轴伸长使所述第一毛刷和/或所述第二毛刷远离所述支撑基质，并带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行顺时针方向的旋转，对所述清洁物品进行第一清洁，然后所述旋转轴缩短，使所述第一毛刷和/或所述第二毛刷远离所述支撑基质带动第一毛刷和/或所述第二毛刷；
通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行顺时针方向的旋转，对待清洁物品进行第二清洁。
本发明实施例的清洁方法，通过所述旋转轴调节所述第一毛刷和/或所述第二毛刷的高度，能够对待清洁物品表面任意角度和任意角落的沾污进行清洁。
可选地，所述第一方向为顺时针方向，所述第二方向为逆时针方向。
本发明一可选实施例中，通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行顺时针方向的旋转的同时，所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行逆时针方向的旋转。
本发明一可选实施例中，通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行顺时针方向的旋转，对所述清洁物品进行第一清洁，然后所述旋转轴停止旋转；
通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行逆时针方向的旋转，对待清洁物品进行第二清洁。
本发明实施例的清洗方法，通过将所述第一毛刷和所述第二毛刷与所述支撑基质设置为相反的转动方向，能够从多个角度对所述待清洁物品表面进行清洁，从而提高对待清洁物品的清洁效率。
本发明一可选实施例中，所述旋转轴为可伸缩旋转轴；所述旋转轴伸长使所述第一毛刷和/或所述第二毛刷远离所述支撑基质，并带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行顺时针方向的旋转，对所述清洁物品进行第一清洁，然后所述旋转轴缩短，使所述第一毛刷和/或所述第二毛刷远离所述支撑基质带动第一毛刷和/或所述第二毛刷；
通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行逆时针方向的旋转，对待清洁物品进行第二清洁。
本发明实施例的清洁方法，通过旋转轴将第一毛刷和/或第二毛刷设置于支撑基质上，使得所述第一毛刷和/或所述第二毛刷能够在所述旋转轴的带动下相对于所述支撑基质转动，能够对抛头表面不同尺寸的沾污或颗粒进行清洗。
需要说明，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于实施例而言，由于其基本相似于产品实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见产品实施例的部分说明即可。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (8)
1.一种清洁装置，其特征在于，包括：
支撑件和支撑基质；
所述支撑件与所述支撑基质固定连接；
所述支撑基质上设置有至少一个第一毛刷以及至少一个第二毛刷，且所述第一毛刷与所述第二毛刷间隔设置；
所述第一毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接，且所述第二毛刷与所述支撑基质固定连接；或者，所述第二毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接，且所述第一毛刷与所述支撑基质固定连接；或者，所述第一毛刷和所述第二毛刷通过旋转轴与所述支撑基质连接。
2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述旋转轴为可伸缩旋转轴；
在所述旋转轴处于伸长状态时，所述第一毛刷和/或所述第二毛刷远离所述支撑基质；
在所述旋转轴处于缩短状态时，所述第一毛刷和/或所述第二毛刷靠近所述支撑基质。
3.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述第一毛刷上的刷毛远离所述支撑基质的一端与所述支撑基质的距离为第一距离，所述第二毛刷上的刷毛远离所述支撑基质的一端与所述支撑基质的距离为第二距离；
所述第一距离与所述第二距离不同。
4.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述第一毛刷上的刷毛与所述第二毛刷上的刷毛长度不同。
5.根据权利要求1或4所述的清洁装置，其特征在于，所述第一毛刷与所述第二毛刷的刷毛设置密度不同。
6.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述第一毛刷与所述第二毛刷均为三个，且所述第一毛刷与所述第二毛刷呈六十度设置。
7.一种清洁设备，其特征在于，包括：冲洗装置以及如权利要求1至6任一项所述的清洁装置；
在所述清洁设备工作过程中，所述冲洗装置为所述清洁设备提供预设流速的清洗液对待清洁物品以及所述第一毛刷和所述第二毛刷进行清洗。
8.一种清洁方法，应用于如权利要求1至6任一项所述的清洁装置，其特征在于，包括：
通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行第一方向的旋转的同时，通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行第二方向的旋转，并对待清洁物品进行清洁；或者，
通过所述旋转轴带动所述第一毛刷和/或所述第二毛刷以第一转速进行第一方向的旋转，对待清洁物品进行第一清洁；通过所述支撑件带动所述支撑基质以及设置于所述支撑基质上的第一毛刷和第二毛刷以第二转速进行第二方向的旋转，对待清洁物品进行第二清洁。
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