CN115790442B - 一种基于大口径微位移调整架的干涉测量方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种基于大口径微位移调整架的干涉测量方法，首次采用适用于装夹重量大于50kg，600mm口径以上光学元件的大口径微位移调整架，大口径微位移调整架包括底座、镜架、定轴、第一微位移组件、动板、俯仰调节传动组件、偏摆调节传动组件、第一手轮、第二手轮。镜架与动板紧密贴合共同运动，微位移组件带动大口径光学元件产生纳米级步进，实现高精度机械移相，底座通过定轴、两组传动组件与动板传动，定轴保证底座和动板相对位置不变，传动组件可调节动板相对于底座的俯仰、偏摆，此装置实现了在进行大口径光学元件干涉测量时，兼顾二维偏摆调节及高精度机械移相的功能。
Description
技术领域
本发明涉及光学检测技术领域，具体涉及一种基于大口径微位移调整架的干涉测量方法。
背景技术
近年来，极大规模集成电路制造、新能源、航空航天、天文光学等国家重点发展领域对大口径光学元件及光学***的需求日益增长，同时也为精密光学测试技术带来了一系列亟待解决的难题。为保证光学***的成像质量，需对其面形进行检验，从而确认***的制造精度是否满足设计指标要求。因此，研究高精度大口径平晶面形检测方法是非常有必要的。移相干涉测量技术(Phase Shifting Interferometry，PSI)就是其中一种常用方法。1974年，Brunning等人首先提出移相干涉概念。20世纪70年代以来，随着光电技术的发展，具有高精度和高分辨率等特点的移相干涉技术逐渐成为一种标准的波前测量技术，作为以波长为单位的非接触式高精度测量技术，在光学领域中的应用非常广泛，尤其是在光学***成像评价和面形检测方面。通用的移相干涉方案多采用时间移相，例如压电晶体移相、波长调谐移相等。压电晶体移相方式将标准平晶与压电晶体/陶瓷移相器(PZT)固接，通过驱动电路激励压电晶体，带动标准平晶产生几分之一波长量级的光程变化，从而产生变化的干涉图样。而大口径干涉仪所用平晶口径一般大于600mm，重量近100kg，调整架重载导致移相误差过大甚至根本无法驱动移相。2001年朱煜等发表文章《由三个压电陶瓷堆组成的干涉仪移相器的校正与标定》，解决了由于卧式干涉仪中的三个压电陶瓷堆承重不均匀，在实际应用中引起的条纹旋转及间距变化的问题。但对过重的大口径平晶采用此方法会在调整二维偏摆时由于径向受力使压电晶体外壳前板弯曲变形甚至断裂，无法正常地在重载条件下利用压电晶体移相的同时进行二维偏摆调节。赵维谦等人在专利《一种大口径工作台移相干涉透过波前测量装置》(CN212059303U)中提出了一种即使在重载情况下，摩擦阻力也接近于零的低摩擦重载工作台，将大口径、大重量的光学元件固定在低摩擦重载工作台上，工作台被压电陶瓷驱动沿直线导轨运动，进而带动透射平晶完成移相，该装置承载能力大，运动精度高，适用于大口径移相干涉测量。为解决机械移相不便用于大口径光学元件的问题，目前大口径干涉仪多采用波长调谐移相方案，通过改变激光器波长而非推动硬件实现移相，有效避免了由重载引起的一系列问题。1999年美国ZYGO公司推出4英寸波长调谐移相式干涉仪，并通过扩束***将测试口径扩展到12英寸、18英寸、24英寸、32英寸、36英寸，ZYGO 24"干涉仪采用λ1＝632.8nm的可调谐激光器作为光源，空腔精度可达0.092λ1(58nm)。2011年，南京理工大学研制出一台600mm口径波长调谐移相近红外卧式斐索干涉仪，光源为λ2＝1055nm可调谐激光器，在干涉腔长260mm时为0.061λ2(64.4nm)。但波长调谐移相方式的移相量不仅与波长调谐量有关，还与干涉腔长有关。在长干涉腔情况下需要高分辨力的波长调谐，短干涉腔情况下需要大范围的波长调谐，而现有波长调谐激光器无法兼顾分辨力高和调谐范围大的要求。此外，波长的改变将引入色差，这给高精度透过波前测量带来了难以忽略的误差。同时***的重复性和精度与可调谐半导体激光器的特性有关，例如受温度影响导致的波长调制漂移误差。因此，波长调谐移相的适用范围有限，精度有待提高。并且需要使用进口昂贵的波长调谐激光器，严重依赖国外进口设备同时增加了干涉仪***的成本。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基于大口径微位移调整架的干涉测量方法，首次采用适用于装夹重量大于50kg，600mm口径以上光学元件的大口径微位移调整架。本发明将标准平面镜装夹在大口径微位移调整架上，即使在重载情况下，由于在微位移组件中加入三个直线轴承，增强了支撑结构的刚性，使压电晶体仅能轴向运动而非弯曲受到径向剪切力作用，此外加入调心球轴承，满足了内外两滚道轴心线间的有角偏差运动，由二维偏摆产生的径向剪切力被调心球轴承内外滚道的偏转抵消，补偿了支撑结构因受径向剪切力产生的形变，有效解决了现有大口径干涉仪中难以实现高精度机械移相的问题，为高精度、低成本、国产化的大口径光学元件及***波像差测量开辟了新思路。
实现本发明目的的技术解决方案为：
本发明所述的一种基于大口径微位移调整架的干涉测量方法，步骤如下：
步骤1、搭建大口径微位移调整架。
步骤2、将标准平面镜装夹在大口径微位移调整架的镜架上，共光轴依次设置干涉仪、扩束***、标准平面镜、被测镜，构成干涉测量光路。
步骤3、打开干涉仪，100mm小口径准直光束从干涉仪出射，经扩束***形成600mm以上大口径准直光束。
步骤4、使用大口径微位移调整架的手轮调整标准平面镜姿态；
步骤5、调整标准平面镜、被测镜的姿态，直至在计算机中观察到三、四根清晰的干涉条纹。
步骤6、标定相移量，在电压信号的控制下，微位移组件中的压电晶体产生纳米级步进，实现高精度机械移相。
步骤7、计算机采集多幅移相干涉图，通过分析处理软件解算出被测镜面形信息。
与现有技术相比，其显著优点在于：
(1)本发明所述的大口径微位移调整架适用于装夹600mm口径以上，重量大于50kg的光学元件，其承载能力强，可轻松实现二维调节、产生高精度微小位移。
(2)采用机械式移相，与波长调谐移相方法相比不存在色差的影响；且移相量与干涉腔长度无关，不需要对移相量实时标定，调整精度高且无需选用昂贵的进口波长调谐激光器作为光源，大大降低了***成本。
附图说明
图1为本发明的一种基于大口径微位移调整架的干涉测量方法原理示意图。
图2为大口径微位移调整架的三维结构示意图。
图3(a)为第一微位移组件与第一调心球轴承、定轴组合的三维结构示意图。
图3(b)为第一微位移组件与第一调心球轴承剖面、定轴剖面组合的示意图。
图4(a)为第一微位移组件的三维结构示意图。
图4(b)为第一微位移组件的正视图。
图4(c)为图4(b)A-A方向剖面图。
图5(a)为俯仰调节传动组件的三维结构示意图。
图5(b)为俯仰调节传动组件的剖面图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明。
结合图1，本发明所述的一种基于大口径微位移调整架的干涉测量方法，步骤如下：
步骤1、搭建大口径微位移调整架4；
结合图2、图3(a)、图3(b)、图4(a)、图4(b)和图4(c)，本发明所述的大口径微位移调整架4包括底座6、镜架7、定轴8、第一微位移组件9-1、动板10、俯仰调节传动组件11-1、偏摆调节传动组件11-2、第一手轮12-1、第二手轮12-2。动板10平行于底座6的前端面设置，定轴8后端与底座6固定连接，定轴8前端通过第一微位移组件9-1与动板10连接，俯仰调节传动组件11-1的后端固定在底座6内，前端与动板10连接；偏摆调节传动组件11-2的后端固定在底座6内，前端与动板10连接；镜架7通过连接支架平行固定在动板10的前端面上，随动板10运动。第一手轮12-1和第二手轮12-2自上向下设置在底座6侧面，第一手轮12-1通过蜗轮蜗杆结构与俯仰调节传动组件11-1连接，转动第一手轮12-1带动俯仰调节传动组件11-1运动进而实现动板10的俯仰运动，第二手轮12-2通过蜗轮蜗杆结构与偏摆调节传动组件11-2连接，转动第二手轮12-2带动偏摆调节传动组件11-2运动进而实现动板10的偏摆运动。
进一步地，结合图3，定轴8通过第一调心球轴承13-1与第一微位移组件9-1连接。
结合图4，所述第一微位移组件9-1包括压电晶体14、压电晶体保护壳15、前挡板16、第一直线轴承17-1、第二直线轴承17-2、第三直线轴承17-3。压电晶体14固定在压电晶体保护壳15内，前挡板16平行设置在压电晶体保护壳15前方，第一直线轴承17-1、第二直线轴承17-2、第三直线轴承17-3平行设置，用于连接压电晶体保护壳15与前挡板16，第一直线轴承17-1、第二直线轴承17-2、第三直线轴承17-3组成的刚性结构使压电晶体14仅能做轴向运动而不能弯曲受到径向剪切力，当电压激励压电晶体14伸长时，第一微位移组件9-1与动板10传动继而带动标准平面镜3产生纳米级步进，从而实现高精度机械移相。
结合图5(a)和图5(b)，所述俯仰调节传动组件11-1包括框架18、联轴器19、止挡块21、滚珠丝杆22、第二微位移组件9-2、第二调心球轴承13-2和两个行程开关20。框架18作为支撑件，其上设有止挡块21和两个行程开关20，滚珠丝杆22后端伸入框架18，并通过联轴器19与蜗轮蜗杆结构连动，滚珠丝杆22的前端向前依次穿过框架18、底座6后，通过第二调心球轴承13-2与第二微位移组件9-2连接，第二微位移组件9-2与动板10连接，固定在框架18上的止挡块21和行程开关20分别在手动、电动调节时对滚珠丝杆22起限位作用。
第二微位移组件9-2与第一微位移组件9-1结构相同。
所述偏摆调节传动组件11-2结构与俯仰调节传动组件11-1相同，用于实现动板10的偏摆运动。
第二调心球轴承13-2适用于内外两滚道轴心线间的有角偏差运动，与第二微位移组件9-2贴合的第二调心球轴承13-2外滚道随动板10偏转，当受电压激励时可使压电晶体14沿动板10轴向运动，滚珠丝杆22与第二调心球轴承13-2内滚道固定，仍沿底座6轴向运动。当调节俯仰/偏摆角度后，由于动板10和底座6不平行而产生的径向剪切力将传至后方的第二调心球轴承13-2，第二调心球轴承13-2内外滚道相对偏转抵消这部分力，从而对压电晶体保护壳15因受径向剪切力而产生的形变进行补偿。
目前常用的机械式移相干涉测量方法所用调整架的移相单元主要由三个压电陶瓷堆组成，当光学元件的口径为600mm以上，重量大于50kg时，会产生承重不均匀，条纹旋转及间距变化的问题，影响干涉测量结果，甚至还会由于重载导致压电晶体损坏无法实现移相。本发明在微位移组件中加入三个直线轴承，增强了支撑结构的刚性，并且使压电晶体仅能轴向运动而非弯曲受到径向剪切力作用，此外在微位移组件后加入调心球轴承，满足了内外两滚道轴心线间的有角偏差运动，调节俯仰/偏摆时产生的径向剪切力被调心球轴承内外滚道的偏转抵消，补偿了支撑结构因受径向剪切力产生的形变，兼顾了二维调节与高精度机械式移相的功能。
本发明中所述的大口径微位移调整架4中压电晶体保护壳15的受力公式如下：
Fb＝S*k*σb
Fτ＝S*k*στ
其中，Fb为压电晶体保护壳15所受的轴向拉伸力，Fτ为压电晶体保护壳15所受的径向剪切力，S为压电晶体保护壳15最薄弱处颈部的截面积，σb为拉伸强度，στ为剪切强度，压电晶体外壳16材料为铝，其拉伸强度σb＝30N/mm2，剪切强度στ＝15N/mm2，k为在实际生产中材料内部杂质、机加工过程中刀具对工件的损伤、表面处理时化学溶液的腐蚀等因素对材料拉伸强度的影响因子，根据经验将k设为0.1。
压电晶体保护壳15颈部截面积S为50mm2，则能承受径向剪切力Fτ的极限约为75N，经测量，调节俯仰、偏摆时所产生的径向剪切力大于100N，大于可承受极限，因此压电晶体保护壳15受损严重。为解决此问题，本发明中所述的大口径微位移调整架4提出将第一直线轴承17-1、第二直线轴承17-2、第三直线轴承17-3水平方向平行设置在压电晶体保护壳15与前挡板16间，增强刚性。此时，压电晶体保护壳15只会沿轴向拉伸，Fb约为150N，大于实际受力大小。
且安全系数β可表示为：
其中，Fb'为可承受极限，Fb为实际受力大小。
经改进后安全系数β达1.5。此外在第二微位移组件9-2后加入第二调心球轴承13-2，第二调心球轴承13-2适用于内外两滚道轴心线间的有角偏差运动，与第二微位移组件9-2贴合的第二调心球轴承13-2外滚道随动板10偏转，当受电压激励时可使压电晶体14沿动板10轴向运动，滚珠丝杆22与第二调心球轴承13-2内滚道固定，仍沿底座6轴向运动。当调节俯仰/偏摆后，由于动板10和底座6不平行而产生的径向剪切力将传至后方的第二调心球轴承13-2，第二调心球轴承13-2内外滚道相对偏转抵消这部分力，此时压电晶体保护壳15实际受力已远远小于100N，安全系数甚至高于1.5，满足了大口径微位移调整架4重载条件下的可靠性。
步骤2、将标准平面镜3装夹在大口径微位移调整架4的镜架7上，共光轴依次设置干涉仪1、扩束***2、标准平面镜3、被测镜5，构成干涉测量光路。
步骤3、打开干涉仪1，100mm小口径准直光束从干涉仪1出射，经扩束***2形成600mm以上大口径准直光束。
步骤4、使用大口径微位移调整架4的手轮调整标准平面镜姿态。
步骤5、调整标准平面镜3、被测镜5的姿态，直至在计算机中观察到三～四根清晰的干涉条纹。
步骤6、标定相移量，在电压信号的控制下，微位移组件中的压电晶体14产生纳米级步进，实现高精度机械移相。
步骤7、计算机采集多幅移相干涉图，用以解算被测镜5面形信息。
Claims (4)
1.一种基于大口径微位移调整架的干涉测量方法，其特征在于，步骤如下：
步骤1、搭建大口径微位移调整架（4），适用于装夹重量大于50kg，600mm口径以上光学元件；
步骤2、将标准平面镜（3）装夹在大口径微位移调整架（4）的镜架（7）上，共光轴依次设置干涉仪（1）、扩束***（2）、标准平面镜（3）、被测镜（5），构成干涉测量光路；
步骤3、打开干涉仪（1），口径100 mm的准直光束从干涉仪（1）出射，经扩束***（2）形成600mm以上大口径准直光束；
步骤4、使用大口径微位移调整架（4）的手轮调整标准平面镜姿态；
步骤5、调整标准平面镜（3）、被测镜（5）的姿态，直至在计算机中观察到三~四根清晰的干涉条纹；
步骤6、标定相移量，在电压信号的控制下，微位移组件中的压电晶体（14）产生纳米级步进，实现高精度机械移相；
步骤7、计算机采集多幅移相干涉图，用以解算被测镜（5）面形信息；
所述大口径微位移调整架（4）包括底座（6）、镜架（7）、定轴（8）、第一微位移组件（9-1）、动板（10）、俯仰调节传动组件（11-1）、偏摆调节传动组件（11-2）；动板（10）平行于底座（6）的前端面设置，定轴（8）后端与底座（6）固定连接，定轴（8）前端通过第一微位移组件（9-1）与动板（10）连接，俯仰调节传动组件（11-1）的后端固定在底座（6）内，前端与动板（10）连接；偏摆调节传动组件（11-2）的后端固定在底座（6）内，前端与动板（10）连接；镜架（7）通过连接支架平行固定在动板（10）的前端面上，随动板（10）运动；俯仰调节传动组件（11-1）用于实现动板（10）的俯仰运动，偏摆调节传动组件（11-2）用于实现动板（10）的偏摆运动；
所述大口径微位移调整架（4）还包括自上向下设置在底座（6）侧面的第一手轮（12-1）和第二手轮（12-2），第一手轮（12-1）通过蜗轮蜗杆结构与俯仰调节传动组件（11-1）连接，转动第一手轮（12-1）带动俯仰调节传动组件（11-1）运动进而实现动板（10）的俯仰运动，第二手轮（12-2）通过蜗轮蜗杆结构与偏摆调节传动组件（11-2）连接，转动第二手轮（12-2）带动偏摆调节传动组件（11-2）运动进而实现动板（10）的偏摆运动；
所述俯仰调节传动组件（11-1）包括框架（18）、联轴器（19）、止挡块（21）、滚珠丝杆（22）、第二微位移组件（9-2）、第二调心球轴承（13-2）和两个行程开关（20）；框架（18）作为支撑件，其上设有止挡块（21）和两个行程开关（20），滚珠丝杆（22）后端伸入框架（18），并通过联轴器（19）与蜗轮蜗杆结构连动，滚珠丝杆（22）的前端向前依次穿过框架（18）、底座（6）后，通过第二调心球轴承（13-2）与第二微位移组件（9-2）连接，第二微位移组件（9-2）与动板（10）连接，固定在框架（18）上的止挡块（21）和行程开关（20）分别在手动、电动调节时对滚珠丝杆（22）起限位作用；
第二调心球轴承（13-2）适用于内外两滚道轴心线间的有角偏差运动，与第二微位移组件（9-2）贴合的第二调心球轴承（13-2）外滚道随动板（10）偏转，当受电压激励时可使压电晶体（14）沿动板（10）轴向运动，滚珠丝杆（22）与第二调心球轴承（13-2）内滚道固定，仍沿底座（6）轴向运动；当调节俯仰角度后，由于动板（10）和底座（6）不平行而产生的径向剪切力将传至后方的第二调心球轴承（13-2），第二调心球轴承（13-2）内外滚道相对偏转抵消这部分力，从而对压电晶体保护壳（15）因受径向剪切力而产生的形变进行补偿。
2.根据权利要求1所述的基于大口径微位移调整架的干涉测量方法，其特征在于，所述偏摆调节传动组件（11-2）结构与俯仰调节传动组件（11-1）相同。
3.根据权利要求1所述的基于大口径微位移调整架的干涉测量方法，其特征在于，第二微位移组件（9-2）与第一微位移组件（9-1）结构相同。
4.根据权利要求1或3所述的基于大口径微位移调整架的干涉测量方法，其特征在于，所述第一微位移组件（9-1）包括压电晶体（14）、压电晶体保护壳（15）、前挡板（16）、第一直线轴承（17-1）、第二直线轴承（17-2）、第三直线轴承（17-3）；压电晶体（14）固定在压电晶体保护壳（15）内，前挡板（16）平行设置在压电晶体保护壳（15）前方，第一直线轴承（17-1）、第二直线轴承（17-2）、第三直线轴承（17-3）平行设置，用于连接压电晶体保护壳（15）与前挡板（16），第一直线轴承（17-1）、第二直线轴承（17-2）、第三直线轴承（17-3）组成的刚性结构使压电晶体（14）仅能做轴向运动而不能弯曲受到径向剪切力，当电压激励压电晶体（14）伸长时，第一微位移组件（9-1）与动板（10）传动继而带动标准平面镜（3）产生纳米级步进，从而实现高精度机械移相。
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Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102278940A (zh) * | 2011-04-27 | 2011-12-14 | 南京理工大学 | 用于子孔径拼接的参考平晶前置干涉仪 |
| CN105241391A (zh) * | 2015-09-21 | 2016-01-13 | 长春设备工艺研究所 | 一种用于大口径凹非球面镜面型精度干涉检测的装置 |
| CN105241393A (zh) * | 2015-09-24 | 2016-01-13 | 南京理工大学 | 高精度便携式光学表面三维形貌在线检测仪 |
| WO2017101557A1 (zh) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 面形检测装置及方法 |
| CN107036554A (zh) * | 2017-05-25 | 2017-08-11 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 平面光学元件绝对面形检测装置 |
| CN208366288U (zh) * | 2018-07-19 | 2019-01-11 | 中国计量科学研究院 | 一种用于大口径相移式干涉仪的参考平面镜误差分离装置 |
| CN110702032A (zh) * | 2019-11-20 | 2020-01-17 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种望远镜主镜检测与标定的对准***及对准方法 |
| CN111442909A (zh) * | 2020-05-20 | 2020-07-24 | 北京理工大学 | 一种大口径工作台移相干涉透过波前测量装置及方法 |
| CN111442740A (zh) * | 2020-05-20 | 2020-07-24 | 北京理工大学 | 一种大口径工作台移相干涉面形测量装置及方法 |
| CN212059303U (zh) * | 2020-05-20 | 2020-12-01 | 北京理工大学 | 一种大口径工作台移相干涉透过波前测量装置 |
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2022
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Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102278940A (zh) * | 2011-04-27 | 2011-12-14 | 南京理工大学 | 用于子孔径拼接的参考平晶前置干涉仪 |
| CN105241391A (zh) * | 2015-09-21 | 2016-01-13 | 长春设备工艺研究所 | 一种用于大口径凹非球面镜面型精度干涉检测的装置 |
| CN105241393A (zh) * | 2015-09-24 | 2016-01-13 | 南京理工大学 | 高精度便携式光学表面三维形貌在线检测仪 |
| WO2017101557A1 (zh) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 面形检测装置及方法 |
| CN107036554A (zh) * | 2017-05-25 | 2017-08-11 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 平面光学元件绝对面形检测装置 |
| CN208366288U (zh) * | 2018-07-19 | 2019-01-11 | 中国计量科学研究院 | 一种用于大口径相移式干涉仪的参考平面镜误差分离装置 |
| CN110702032A (zh) * | 2019-11-20 | 2020-01-17 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种望远镜主镜检测与标定的对准***及对准方法 |
| CN111442909A (zh) * | 2020-05-20 | 2020-07-24 | 北京理工大学 | 一种大口径工作台移相干涉透过波前测量装置及方法 |
| CN111442740A (zh) * | 2020-05-20 | 2020-07-24 | 北京理工大学 | 一种大口径工作台移相干涉面形测量装置及方法 |
| CN212059303U (zh) * | 2020-05-20 | 2020-12-01 | 北京理工大学 | 一种大口径工作台移相干涉透过波前测量装置 |
Non-Patent Citations (4)
| Title |
|---|
| 《Deformation analysis of lateral support of 600mm aperture interferometer mirrors》;Zhaodong Liu等;《Applied Mechanics and Materials》;全文 * |
| 《Optical phase-shifting methods based on low coherence laser for large aperture Fizeau interferometer》;Xinyu Miao等;《Optics and Lasers in Engineering》;全文 * |
| 《光学面形绝对测量方法仿真和实验研究》;孟诗，等;《激光与光电子学进展》;全文 * |
| 《大口径光学元件瞬态波前检测》;孟诗，等;《光电工程》;全文 * |
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