CN115786881A - 一种化学气相沉积设备及其气体混合装置 - Google Patents

Abstract

一种化学气相沉积设备及其气体混合装置，化学气相沉积设备包含反应腔和位于反应腔内部上方的气体喷淋头，位于气体喷淋头上方的气体混合装置包含：具有主气体通道和第二气体通道的主体结构，以及设置在主气体通道内的气流塞。主气体通道的进气端连接至第一反应气体源，出气端朝向气体喷淋头，第二气体通道的进气端连接至第二反应气体源，出气端连接至所述主气体通道。气流塞具有柱状的弹身部，弹身部包括第一端和第二端，第一端朝向主气体通道进气端，第二端朝向主气体通道出气端，第二端包括一呈锥状结构的气体导流部。本发明能够实现较高的气体混合均匀度，从而降低了气体喷淋头的工艺复杂度，进一步降低了设备成本。

Description

一种化学气相沉积设备及其气体混合装置

技术领域

本发明涉及一种化学气相沉积设备及其气体混合装置。

背景技术

化学气相沉积(CVD)设备在执行沉积反应之前，需要将反应气体进行预混合，以达到在基片表面沉积的气体是按照工艺条件设定比例的混合气体的目的，混合气体在基片表面上方的分布均匀性决定了在基片表面沉积效果的均匀性。

现有技术中，通常通过开孔的气体喷淋头使混合气体均匀的输送到基片上方，但是因为混合气体进入气体喷淋头之前并不是在气体喷淋头上方均匀分布，所以随着半导体器件承载的功能越来越强，单纯依靠气体喷淋头的匀气功能已经不能满足行业发展趋势对沉积均匀性的要求。

这里的陈述仅提供与本发明有关的背景技术，而并不必然地构成现有技术。

发明内容

本发明的目的在于提供一种化学气相沉积设备及其气体混合装置，结构简单，加工和制造成本低，能够实现较高的气体混合均匀度。

为了达到上述目的，本发明提供一种气体混合装置，用于化学气相沉积设备，所述化学气相沉积设备包含反应腔以及位于反应腔内部上方的气体喷淋头，所述气体混合装置位于所述气体喷淋头上方，且其包含：

主体结构，其具有主气体通道和第二气体通道；所述主气体通道的进气端连接至第一反应气体源，出气端朝向气体喷淋头；所述第二气体通道的进气端连接至第二反应气体源，出气端连接至所述主气体通道；

以及，设置在所述主气体通道内的气流塞；所述气流塞具有柱状的弹身部，以及连接所述弹身部的第一端部和第二端部，所述第一端部朝向主气体通道进气端，所述第二端部朝向主气体通道出气端，所述第二端部呈锥状结构，所述第二气体通道的出气端朝向所述弹身部。

所述主气体通道的进气端具有锥状内壁结构，所述锥状内壁结构延伸至所述气流塞的弹身部所在的位置。

所述第二气体通道的横截面呈环状，所述第二气体通道与所述主气体通道同心设置。

所述锥状内壁结构的开口宽度朝向主气体通道进气端方向逐渐减小，所述锥状内壁结构的锥状顶角朝上。

所述锥状内壁结构的高度大于等于所述气流塞的第二端部的高度。

所述气流塞的第一端部呈锥状结构。

所述气流塞的第一端部的锥状顶角大于所述主气体通道的锥状内壁结构的锥状顶角。

所述气流塞的弹身部的长度小于所述主气体通道的长度。

所述气流塞的弹身部的宽度小于所述主气体通道的最小宽度。

所述气流塞上具有连接部，所述连接部将所述气流塞固定设置在所述主气体通道内。

所述连接部呈环形，所述连接部通过多条连接筋与所述气流塞的弹身部连接，所述连接部嵌入固定至所述主气体通道的进气端。

所述第二气体通道的出气端设置的位置高于所述气流塞的第二端部。

所述主体结构具有至少两个其他气体通道，所述其他气体通道的进气端连接至至少一种其他反应气体源，出气端连接至所述主气体通道。

所述其他气体通道的出气端设置的位置高于所述弹状气流塞的第二端部。

所述主体结构具有至少两个清洁气体通道，所述清洁气体通道的进气端连接至清洁气体源，出气端朝向气体喷淋头。

所述第二气体通道、清洁气体通道围绕所述主气体通道均匀设置。

所述气体混合装置还包含挡板结构，其设置在所述主体结构上的主气体通道的出气端的下方。

本发明还提供一种化学气相沉积设备，包含：

反应腔，

设置在反应腔顶部的所述的气体混合装置；

设置在所述气体混合装置下方的气体喷淋头；

设置在反应腔内的基座，用于放置待处理的基片；

设置在所述基座下方的加热器。

本发明在主气体通道内设置气流塞，可以稳定主气体通道内的气流，防止产生气流涡旋和湍流，通过调节所述气流塞的形状、尺寸以及与主气体通道内壁之间的间隙，同时配合气流塞的外形尺寸来设计具有倾斜度的主气体通道的内壁形状，并且合理设置其余气体通道的位置，以及其余气体通道的出气端在主气体通道上的位置，可以使主气体通道内的混合气体达到最佳的气体混合均匀度。本发明结构简单，加工和制造成本低，能够实现较高的气体混合均匀度，从而降低了气体喷淋头的工艺复杂度，进一步降低了设备成本。

附图说明

图1是本发明提供的一种化学气相沉积设备的结构示意图。

图2是气体混合装置的结构示意图。

图3是一个实施例中气流塞的结构示意图。

图4是另一个实施例中气流塞的结构示意图。

图5是另一个实施例中气流塞和主气体通道的结构示意图。

图6是本发明第三个实施例中主气体通道和其他气体通道的俯视剖视图。

图7是本发明第四个实施例中主气体通道和气流塞的局部结构示意图。

图8是与图7中结构对应的气体喷淋头处的气体分布示意图。

图9是本发明第五个实施例中主气体通道和气流塞的局部结构示意图。

图10是与图9中结构对应的气体喷淋头处的气体分布示意图。

图11是本发明第六个实施例中主气体通道和气流塞的局部结构示意图。

图12是与图11中结构对应的气体喷淋头处的气体分布示意图。

具体实施方式

以下根据图1～图12，具体说明本发明的较佳实施例。

如图1所示，本发明提供一种化学气相沉积设备，该设备包含反应腔1以及设置在反应腔内部上方的气体喷淋头2，所述气体喷淋头2的上方设置有气体混合装置3，该气体混合装置3可以设置在所述反应腔1的内部，或者设置在所述反应腔1的顶部，所述气体混合装置3连接至多个气体源7，所述气体源7可以提供多种反应气体和清洁气体。所述反应腔1内部设置有一基座4，用于放置待处理的基片5，所述基座4下方设置加热器6，使所述基片5保持在制程所需的温度。至少两种反应气体从气体源7中进入所述气体混合装置3，所述气体混合装置3将反应气体进行均匀混合，混合后的反应气体通过所述气体喷淋头2进入反应腔1，对待处理的基片5进行处理。所述化学气相沉积设备还包含位于所述反应腔下方的抽气装置8，对基片5的处理结束后，抽气装置8将反应腔1中的气体排出，将清洁气体通过所述气体混合装置3和气体喷淋头2通入反应腔1，防止反应气体残留，清洁气体同样通过所述抽气装置8被排出反应腔1。

在本发明的一个实施例中，所述气体混合装置3设置在所述气体喷淋头2的上方，所述气体混合装置3包含一主体结构301，在本实施中，该主体结构是由第一主体301-1、第二主体301-2和盖子301-3这三部分共同组成的：所述第一主体301-1内具有空腔，所述第二主体301-2设置在该空腔内，并且其上设置有与气体源7连接的进气通道，所述第一主体301-1和第二主体301-2组合后形成有主气体通道302，该主气体通道302设置在主体结构301的中心部位，所述主气体通道302的进气端连接至第一反应气体源(图中未示出)，出气端朝向气体喷淋头2，所述主气体通道302中通入第一反应气体31；所述第一主体301-1内还具有至少两个清洁气体通道305，所述清洁气体通道305的进气端连接至清洁气体源(图中未示出)，出气端朝向气体喷淋头2，所述清洁气体通道305和所述主气体通道302之间并不连通，所述清洁气体通道305内通入清洁气体33；所述第二主体301-2和第一主体301-1组合后还形成有第二气体通道303，所述第二气体通道303的进气端连接至第二反应气体源(图中未示出)，出气端从侧面连接至所述主气体通道302，所述第二气体通道303内通入第二反应气体32；采用组合式的主体结构可以便于加工，提高工件的一致性，也更容易形成本发明的复杂气道结构，在其他一些实施例中，也可以在一个主体内加工出主气体通道、第二气体通道和清洁气体通道。所述盖子301-3设置在所述第一主体301-1底部，朝向所述气体喷淋头2，用于支撑气体混合装置，在一些实施例中，盖子同时为沉积设备的顶盖。

所述主气体通道302内设置一气流塞304，如图3所示，所述气流塞304具有柱状的弹身部3041，以及连接所述弹身部3041的第一端部3042和第二端部3043，所述第一端部3042朝向著气体通道的进气端，第二端部3043朝向主气体通道302的出气端，在本实施例中，第一端部为平面结构。所述第二端部3043呈圆锥体，使得两种反应气体充分混合，并且引导所述两种反应气体向反应腔方向流动，使得两种气体具有稳定扩散的气流分布，不会产生涡流等不利分布。因此，所述第二端部3043在本发明中作为气流导流部件起了重要作用。其中第二端部也可以其它多棱椎体，只要能够实现反应气体在流经时呈更好的气流分布的均属于本发明可选实施例。所述气流塞304通过连接部3044嵌入固定至所述主气体通道302的进气端的侧壁。在本实施例中，所述连接部3044呈环形，所述连接部3044通过多条连接筋与所述气流塞304的弹身部3041连接，所述主气体通道302的进气端内壁上具有凹槽，该凹槽的形状和尺寸与所述连接部3044匹配，使所述连接部3044嵌入卡设在所述凹槽内，从而使气流塞304固定在所述主气体通道302内。将所述气流塞304设置在所述主气体通道302内，可以稳定主气体通道302内的气流，防止产生气流涡旋和湍流，通过调节所述气流塞304的形状、尺寸以及与主气体通道302内壁之间的间隙，同时配合气流塞304的外形尺寸来设计主气体通道302的内壁形状，并且合理设置所述第二气体通道303的位置，以及所述第二气体通道303的出气端在所述主气体通道302上的位置，可以使主气体通道302内的混合气体达到最佳的气体混合均匀度。如图2所示，在本实施例中，所述第二气体通道303设置在所述主气体通道302的***，所述第二气体通道303的横截面呈环状，可以是完整的圆环，也可以是半环状，甚至可以是扇环状，如果所述第二气体通道303的横截面为一个完整的圆环，则可以在该第二气体通道303的进气端均匀设置多个进气口，以保证进气的均匀性和稳定性，如果所述第二气体通道303的横截面为半环状，则可以围绕所述主气体通道302设置两个第二气体通道303，同样可以在每个第二气体通道303的进气端均匀设置多个进气口，以保证进气的均匀性和稳定性，如果所述第二气体通道303的横截面为较短的扇环状，则可以相应地增加第二气体通道303的数量，使所有第二气体通道303环绕所述主气体通道302，此时由于第二气体通道303的长度较小，则每个第二气体通道303仅设置1-2个进气口即可，进一步，所述第二气体通道303与所述主气体通道302同心设置，以提高第二反应气体32在所述主气体通道302内的混合均匀性，所述第二气体通道303的出气端3031设置的位置高于所述气流塞304的第二端部3043所处的位置34(图中的虚线L-L)，以提高第二反应气体32在所述主气体通道302内与第一反应气体的混合均匀性，同时提高混合气体在不同方向上向气体喷淋头流动的均一性。针对主气体通道302，将其进气端设计为锥状内壁结构3021，其余部分设计为柱状结构，所述锥状内壁结构3021的锥状顶角朝上，所述锥状内壁结构3021的开口宽度朝向主气体通道302进气端方向逐渐减小，且所述锥状内壁结构3021延伸至所述气流塞304的弹身部3041所在的位置，并且令所述锥状内壁结构3021的高度大于等于所述气流塞304的第二端部3043的高度，使气流塞304的第一端部与主气体通道302的锥形内壁形成一空间，当第一反应气体从主气体通道302的进气端进入该空间时，有一缓冲作用，可以充分降低流速并均匀扩散，达到在主气体通道302内和第二反应气体更均匀的混合的目的。进一步，将所述气流塞304的第二端部3043设置为锥状结构，锥状的第二端部3043配合柱状的主气体通道302，在主气体通道302的出气端形成一气体出路逐渐扩大的空间，并且随着第二反应气体进入主气体通道302后被气流塞阻挡，再向下流动，可以使第一反应气体和第二反应气体在这一逐渐扩大的空间内有足够的时间混合均匀，并在水平面内以均一的流速向下扩散，使主气体通道302内的混合气体达到最佳的气体混合均匀度。应该注意让所述气流塞304的弹身部3041的长度小于所述主气体通道302的长度，避免所述气流塞304伸出所述主气流通道302，这样可以使主气体通道302的出气端的有效气体通道最大，同样可以提高气体的混合均匀性。而且由于所述主气体通道302的进气端具有锥状内壁结构，所以该主气体通道302的宽度是变化的，为了保证所述气流塞304和所述主气体通道302的内壁之间存在间隙以使反应气体顺利通过，需要保证所述气流塞304的弹身部3041的宽度小于所述主气体通道302的最小宽度。

在本实施例中，如图2和图3所示，从主气体通道302的进气端进入的第一反应气体31受到所述气流塞304的弹身部3041的阻挡和分流，第一反应气体31沿着所述气流塞304与所述主气体通道302内壁之间形成的气流通道朝主气体通道302的出气端流动。从第二气体通道303的进气端进入的第二反应气体32从所述第二气体通道303的出气端进入所述主气体通道302，第二反应气体32在所述气流塞304的弹身部3041的位置与所述第一反应气体31混合后，继续沿着所述气流塞304的第二端部3043与所述主气体通道302内壁之间形成的气流通道朝主气体通道302的出气端流动，最终在所述气流塞304的第二端部3043的末端所有的气流汇合在一起流向所述主气体通道302的出气端。在此过程中，第一反应气体31和第二反应气体32得到了充分混合，并且稳定了主气体通道302内的气流，避免产生气流涡旋和湍流，使混合气体达到最佳的气体混合均匀度。

在本实施中，由于在主气体通道302中设置了气流塞304，从而得到了良好的气体混合均匀度，因此就可以相应地简化所述气体喷淋头2的结构。使得气体喷淋头2板上开设的气体通孔的尺寸和数量要求更低。如图2所示，在所述主体结构301上的所有气体通道的出气端的下方设置一挡板结构306，所述挡板结构306位于所述气体喷淋头2上方，所述挡板结构306对混合后的气流起到缓冲作用，将小范围的流动气体在水平面内扩散成更大范围的流动气体，同时也提高了气体的混合时间，可以进一步均匀混合气体，从而使到达所述气体喷淋头2表面的混合气体获得更加均匀的分布。

在本发明的另一个实施例中，如图4所示，所述气流塞304具有柱状的弹身部3041，以及连接所述弹身部3041的第一端部3042和第二端部3043，所述第一端部3042朝向主气体通道302的进气端，所述第二端部3043朝向主气体通道302的出气端，所述第二端部3043设置为锥状结构。在本实施例中，所述气流塞304的形状有所改变，将所述气流塞304的第一端部3042也设置为锥状结构，以匹配所述主气体通道302的进气端上的锥状内壁结构3021。将所述气流塞304设置在所述主气体通道302内，可以稳定主气体通道302内的气流，防止产生气流涡旋和湍流，通过调节所述气流塞304的形状、尺寸以及与主气体通道302内壁之间的间隙，可以使主气体通道302内的混合气体达到最佳的气体混合均匀度。如图5所示，为了获得更稳定的气流，应该保证所述气流塞304的第一端部3042的锥状顶角β大于所述主气体通道302的锥状内壁结构3021的锥状顶角α，以调整第一反应气体与第二反应气体混合之前可被气流塞削减到合适的流速后再与第二反应气体混合，提高混合均匀性。所以呈锥体状的第一端部3042起了与第二端部3043类似的作用，也能引导形成跟佳的气流分布形态，构成位于气流混合通道上游的另一气体导流部。

在本实施例中，如图4和图5所示，从主气体通道302的进气端进入的第一反应气体31在进气端就受到所述气流塞304的第一端部3042的阻挡和分流，第一反应气体31沿着所述气流塞304的第一端部3042与所述主气体通道302内壁之间形成的气流通道朝主气体通道302的出气端流动。从第二气体通道303的进气端进入的第二反应气体32从所述第二气体通道303的出气端进入所述主气体通道302，第二反应气体32在所述气流塞304的弹身部3041的位置与所述第一反应气体31混合后，继续沿着所述气流塞304的第二端部3043与所述主气体通道302内壁之间形成的气流通道朝主气体通道302的出气端流动，最终在所述气流塞304的第二端部3043的末端所有的气流汇合在一起流向所述主气体通道302的出气端。在此过程中，第一反应气体31和第二反应气体32得到了充分混合，并且稳定了主气体通道302内的气流，避免产生气流涡旋和湍流，使混合气体达到最佳的气体混合均匀度。

本发明并不局限于只混合两种反应气体，可以将本发明拓展至混合多种反应气体。如图6所示，在本发明的第三个实施例中，在所述主体结构301的中心位置处设置有主气体通道302，所述主体结构301上还设置有两个第二气体通道303和两个第三气体通道307，由于所述第二气体通道303和第三气体通道307都需要将反应气体通入所述主气体通道302进行混合，因此需要将所述第二气体通道303和第三气体通道307沿着所述主气体通道302的通道壁设置，通常是将两个第二气体通道303和两个第三气体通道307围绕所述主气体通道302设置，所述第二气体通道303和第三气体通道307都与所述主气体通道302同心设置，以提高所述主气体通道302内的气体混合均匀性。所述主气体通道302的进气端连接至第一反应气体源(图中未示出)，出气端朝向气体喷淋头2，所述第二气体通道303的进气端连接至第二反应气体源(图中未示出)，出气端连接至所述主气体通道302，所述第三气体通道307的进气端连接至第三反应气体源(图中未示出)，出气端连接至所述主气体通道302，需要保证第二气体通道303的出气端设置的位置和第三气体通道307的出气端设置的位置都要高于所述气流塞304的第二端部3043所处的位置，以提高第二反应气体和第三反应气体在所述主气体通道302内的混合均匀性。由于清洁气体无需与反应气体进行混合，也就无需将清洁气体通道305与所述主气体通道302连通，所以可以将所述清洁气体通道305设置在所述第二气体通道303和第三气体通道307的***，而无需紧挨着所述主气体通道302设置。但是所述清洁气体通道305仍然需要围绕所述主气体通道302均匀设置，以保证清洁气体能够均匀分布至所述气体喷淋头。

在本实施例中，从主气体通道302的进气端进入的第一反应气体在进气端就受到所述气流塞304的阻挡和分流，第一反应气体沿着所述气流塞304与所述主气体通道302内壁之间形成的气流通道朝主气体通道302的出气端流动。从第二气体通道303的进气端进入的第二反应气体从所述第二气体通道303的出气端进入所述主气体通道302，从第三气体通道307的进气端进入的第三反应气体从所述第三气体通道307的出气端进入所述主气体通道302，第二反应气体和第三反应气体在所述气流塞304的弹身部3041的位置与所述第一反应气体31混合后，继续沿着所述气流塞304的第二端部3043与所述主气体通道302内壁之间形成的气流通道朝主气体通道302的出气端流动，最终在所述气流塞304的第二端部3043的末端所有的气流汇合在一起流向所述主气体通道302的出气端。在此过程中，第一反应气体、第二反应气体和第三反应气体得到了充分混合，并且稳定了主气体通道302内的气流，避免产生气流涡旋和湍流，使混合气体达到最佳的气体混合均匀度。

对本发明提供的气体混合装置能够达到的气体混合均匀度进行测试，通过测试气体喷淋头朝向所述气体混合装置一侧表面的气体分布，评测本发明提供的气体混合装置的有效性。

如图7所示，在本发明的第四实施例中，将原本呈柱状结构设置的主气体通道302的进气端设计为锥状内壁结构3021，所述锥状内壁结构3021的锥状顶角朝上，所述锥状内壁结构3021的开口宽度朝向主气体通道302进气端方向逐渐减小，所述气流塞304设置平面的第一端部。图8为使用图7的结构通过仿真模拟气体喷淋头上表面的混合气体流量分布图，其中相同颜色可以代表具有相同的气体流量，可以看出，此时在气体喷淋头表面的气体分布呈现基本对称的分布，对均匀性有所改善。

如图9所示，在本发明的第五实施例中，在第四实施例的基础上，提高了主气体通道302的锥状内壁结构3021的高度，将锥状内壁结构3021的高度增加了80％，由此气流塞和锥状内壁结构形成的空间变大，气流塞304的结构未改变。从图10可以看出，通过提升锥状内壁结构3021的高度，可以极大地改善气体混合均匀度。

如图11所示，在本发明的第六实施例中，在第五实施例的基础上，改变了气流塞304的机构，将气流塞304的第一端部3042也设置为锥状结构。从图12可以看出，通过将所述气流塞304的第一端部3042设置为锥状结构也可以极大地改善气体混合均匀度。

本发明在主气体通道内设置气流塞，可以稳定主气体通道内的气流，防止产生气流涡旋和湍流，通过调节所述气流塞的形状、尺寸以及与主气体通道内壁之间的间隙，同时配合气流塞的外形尺寸来设计具有倾斜度的主气体通道的内壁形状，并且合理设置其余气体通道的位置，以及其余气体通道的出气端在主气体通道上的位置，可以使主气体通道内的混合气体达到最佳的气体混合均匀度。本发明结构简单，加工和制造成本低，能够实现较高的气体混合均匀度，从而降低了气体喷淋头的工艺复杂度，进一步降低了设备成本。

本发明所述化学气相沉积适用于沉积耐融金属如钨等材料到晶圆内的连接孔中，其中流入主气体通道302的可以是含钨的WF6或者钨与有机基团的化合物，通过载气Ar,He等送入反应腔。通过第二气体通道303输送硅烷、B2H2等反应气体进入反应腔。清洁气体通道305输入N₂,Ar,He等清洁气体。

需要说明的是，在本发明的实施例中，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述实施例，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。

Claims (18)

1.一种气体混合装置，用于化学气相沉积设备，所述化学气相沉积设备包含反应腔以及位于反应腔内部上方的气体喷淋头，其特征在于，所述气体混合装置位于所述气体喷淋头上方，且其包含：

主体结构，其具有主气体通道和第二气体通道；所述主气体通道的进气端连接至第一反应气体源，出气端朝向气体喷淋头；

所述第二气体通道的进气端连接至第二反应气体源，还包括多个第二气体出气喷口连接至所述主气体通道；以及，

设置在所述主气体通道内的气流塞；所述气流塞具有柱状的弹身部，所述弹身部的第一端朝向主气体通道进气端，弹身部的第二端朝向主气体通道出气端，所述弹身部第二端还包括一呈锥状的气体导流部，所述多个第二气体出气喷口围绕所述主气体通道，使得第二反应气体流经所述第二气体出气喷口后朝向所述弹身部或者气体导流部喷出。

2.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述主气体通道的进气端具有锥状内壁结构，所述锥状内壁结构延伸至所述气流塞的弹身部所在的位置。

3.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述第二气体通道的横截面呈环状，所述第二气体通道与所述主气体通道同心设置。

4.如权利要求2所述的气体混合装置，其特征在于，所述锥状内壁结构的开口宽度朝向主气体通道进气端方向逐渐减小，所述锥状内壁结构的锥状顶角朝上。

5.如权利要求2所述的气体混合装置，其特征在于，所述锥状内壁结构的高度大于等于所述气流塞的气体导流部的高度。

6.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述气流塞的第一端还包括呈锥状的第二气体导流部。

7.如权利要求6所述的气体混合装置，其特征在于，所述气流塞的第二气体导流部的锥状顶角大于所述主气体通道的锥状内壁结构的锥状顶角。

8.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述气流塞的弹身部的长度小于所述主气体通道的长度。

9.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述气流塞的弹身部的宽度小于所述主气体通道的最小宽度。

10.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述气流塞上具有连接部，所述连接部将所述气流塞固定设置在所述主气体通道内。

11.如权利要求10所述的气体混合装置，其特征在于，所述连接部呈环形，所述连接部通过多条连接筋与所述气流塞的弹身部连接，所述连接部嵌入固定至所述主气体通道的进气端。

12.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述多个第二气体出气喷口设置的位置高于所述气流塞的气体导流部。

13.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述主体结构具有至少两个其他气体通道，所述其他气体通道的进气端连接至至少一种其他反应气体源，出气端连接至所述主气体通道。

14.如权利要求13所述的气体混合装置，其特征在于，所述其他气体通道的出气喷口设置的位置高于所述弹状气流塞的气体导流部。

15.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述主体结构具有至少两个清洁气体通道，所述清洁气体通道的进气端连接至清洁气体源，出气端朝向气体喷淋头。

16.如权利要求15中所述的气体混合装置，其特征在于，所述第二气体通道、清洁气体通道围绕所述主气体通道均匀设置。

17.如权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述气体混合装置还包含挡板结构，其设置在所述主体结构上的主气体通道的出气端的下方。

18.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包含：

反应腔，

设置在反应腔顶部的如权利要求1-17任意一项所述的气体混合装置；

设置在所述气体混合装置下方的气体喷淋头；

设置在反应腔内的基座，用于放置待处理的基片；

设置在所述基座下方的加热器。

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