CN115536272B - 发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖及制备工艺 - Google Patents

发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖及制备工艺 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖及制备工艺，包括以下步骤：A、准备陶瓷坯料，将陶瓷坯料进行压制；B、喷涂发色保护釉；C、按照预设图案打印颜色墨水；D、淋涂高温耐磨透明釉；其中，按照质量百分比计算，所述高温耐磨透明釉的化学成分包括SiO255～78％、Al2O35～12％、K2O1.5～4％、Na2O0.5～5％、CaO5.5～15.5％、MgO0～1.2％、BaO0～2％和ZnO3～6％；E、干燥后入窑烧制，抛光后得到耐磨抛釉砖。本方案提出的制备工艺，步骤简单，操作性强，将促进发色的性能、以及保证透明度和提升耐磨度的性能分别通过不同的功能层次实现，并通过改变各功能层次的配方结构，使得抛釉砖具有良好的发色性能、透明度、硬度和耐磨性能。

Description

发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖及制备工艺
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖及制备工艺。
背景技术
抛釉砖是近年来流行的一种陶瓷墙地砖产品，其一般通过在砖坯上印花或在砖坯上施以底釉后印花，之后再施以一层抛釉，入窑烧成后，再对抛釉层进行抛光，得到抛釉砖产品。其具有釉下彩/釉中彩的效果，印花层在抛釉层的保护下，基本不会被磨损；而且经抛光处理，使产品光泽度高，装饰效果好。
由于现有抛釉砖具有釉下彩/釉中彩结构，因此，为了确保印花层带来的装饰效果，这就要求抛釉层需具备一定的透明度和促进发色的性能，但基于配方结构的限制，一般具备透明度和促进发色性能的抛釉砖，其耐磨性能和硬度均不理想，而抛釉作为抛釉砖的最顶层，其耐磨性能和硬度对抛釉砖具有比较重要的意义。
由于抛釉砖的透明度和发色是其需要实现的较为重要的性能，因此在目前的抛釉砖产品中，一般会忽略抛釉砖的耐磨性能和硬度。虽然有少部分的陶瓷生产厂家注意到抛釉砖的耐磨性能和硬度问题，但他们的解决方法一般是在抛釉顶部增设一层耐磨保护釉层用于解决抛釉砖的耐磨性能和硬度问题，但现有技术中要想实现釉料的耐磨性能，其耐磨保护釉的配方结构一般为高铝体系，但高铝体系对抛釉砖的发色是十分不利的，因为高铝体系的配方结构透明度一般较低，若想保证抛釉砖的发色，那么在使用上述高铝体系的耐磨保护釉时，其釉层一定要薄，但过薄的耐磨保护釉对抛釉砖的耐磨性能和硬度所起到的作用十分有限，因此现有抛釉砖还缺乏较好的技术方案同时实现抛釉砖的透明度、发色和耐磨性的兼容。
发明内容
本发明的目的在于提出一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，步骤简单，操作性强，将促进发色的性能、以及保证透明度和提升耐磨度的性能分别通过不同的功能层次实现，并通过改变各功能层次的配方结构，使得抛釉砖具有良好的发色性能、透明度、硬度和耐磨性能。
本发明的另一个目的在于提出一种由上述制备工艺制备的发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖，其具有良好的发色性能、透明度、硬度和耐磨性能，以克服现有技术中的不足之处。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，包括以下步骤：
A、准备陶瓷坯料，将陶瓷坯料进行压制，干燥得到坯体层；
B、喷涂发色保护釉，干燥后形成发色保护釉层；
C、按照预设图案打印颜色墨水，形成喷墨印花层；
D、淋涂高温耐磨透明釉，形成高温耐磨透明釉层；其中，按照质量百分比计算，所述高温耐磨透明釉的化学成分包括SiO2 55～78％、Al2O3 5～12％、K2O 1.5～4％、Na2O 0.5～5％、CaO 5.5～15.5％、MgO 0～1.2％、BaO 0～2％和ZnO 3～6％；
E、干燥后入窑烧制，抛光后得到发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖。
优选的，还包括步骤F，且步骤F位于步骤D之前；
步骤F的具体步骤为：按照预设图案打印喷墨量为5～50g/m2的精雕墨水，形成精雕墨水层。
优选的，步骤D中，所述高温耐磨透明釉过325目筛，筛余0.3～0.6％，所述高温耐磨透明釉的比重为1.65～1.85g/cm3,流速为25～38s，且所述高温耐磨透明釉的淋釉量为300～600g/m2。
优选的，步骤D中，按照质量份数计算，所述高温耐磨透明釉的原料包括钾长石15～25份、钠长石5～10份、水洗高岭土6～10份、氧化锌2～5份、石英40～65份、煅烧氧化铝2～5份、滑石0～3份、硅灰石5～15份和透明熔块10～25份。
优选的，步骤B中，按照质量百分比计算，所述发色保护釉的化学成分包括SiO2 55～70％、Al2O3 4～9％、K2O 2～5.5％、Na2O 0.5～2.4％、CaO 8～20％、MgO 0.3～3.6％和ZnO 3～8％。
优选的，按照质量份数计算，所述发色保护釉的原料包括钾长石10～22份、水洗高岭土6～10份、氧化锌6～9份、石英30～50份、煅烧氧化铝3～6份、滑石1.5～3份、硅灰石10～18份和透明熔块8～18份。
优选的，步骤B中，所述发色保护釉的施釉量为50～150g/m2，比重为1.05～1.2，流速为11～15s。
优选的，步骤E中，所述抛光步骤为全抛、半抛或扫抛中的任意一种。
优选的，步骤A的具体步骤为：准备陶瓷坯料，将陶瓷坯料进行压制，干燥后喷水得到坯体层；其中，所述喷水步骤的喷水量为80～150g/m2。
一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖，由上述的发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺制备而成，所述耐磨抛釉砖的耐磨性能至少达到4级2100转，莫氏硬度至少达到4级。
本申请实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：
1、将促进发色的性能通过发色保护釉层实现，将透明度、硬度和耐磨度的提升通过高温耐磨透明釉层实现，并通过改变高温耐磨透明釉层的配方结构，使得抛釉砖同时具有良好的发色性能、透明度、硬度和耐磨性能。
2、将高温耐磨透明釉层的配方结构设计为高硅体系，并令方石英作为主晶相，尽量减少其他杂晶相的生成，并利用透明度高的方石英作为单一晶体，提升高温耐磨透明釉层的透感；另外，相比起玻璃质，晶体本身具有一定的硬度，可以赋予釉料更好的耐磨性能。
附图说明
图1是本发明一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖中一个实施例的层次结构示意图。
图2是本发明一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖中另一个实施例的层次结构示意图。
图3是本发明一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺中实施例3的釉面效果示意图。
具体实施方式
一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，包括以下步骤：
A、准备陶瓷坯料，将陶瓷坯料进行压制，干燥得到坯体层1；
B、喷涂发色保护釉，干燥后形成发色保护釉层2；
C、按照预设图案打印颜色墨水，形成喷墨印花层3；
D、淋涂高温耐磨透明釉，形成高温耐磨透明釉层4；其中，按照质量百分比计算，所述高温耐磨透明釉的化学成分包括SiO2 55～78％、Al2O3 5～12％、K2O 1.5～4％、Na2O 0.5～5％、CaO 5.5～15.5％、MgO 0～1.2％、BaO 0～2％和ZnO 3～6％；
E、干燥后入窑烧制，抛光后得到发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖。
由于抛釉砖的透明度和发色是其需要实现的较为重要的性能，因此在目前的抛釉砖产品中，一般会忽略抛釉的耐磨性能和硬度。
为了解决现有抛釉砖产品中忽略的耐磨性能和硬度，本技术方案提出了一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，包括A(制坯)、B(喷涂发色保护釉)、C(打印颜色墨水)和D(淋涂高温耐磨透明釉)四个步骤。首先，本方案将促进发色的性能通过发色保护釉层2实现，将透明度、硬度和耐磨度的提升通过高温耐磨透明釉层4实现，并通过改变高温耐磨透明釉层4的配方结构，使得抛釉砖同时具有良好的发色性能、透明度、硬度和耐磨性能。需要说明的是，本方案中的坯体层1由陶瓷领域常规的陶瓷坯料压制后干燥而成，喷墨印花层3由陶瓷领域常规的颜色墨水经过喷墨打印按照预设图案打印而成，在此不对陶瓷坯料和颜色墨水作进一步描述。
需要说明的是，由于本方案利用发色保护釉对颜色墨水起到促进发色的作用，为避免油性的颜色墨水拨开水性的发色保护釉，从而影响发色保护釉促进发色性能的正常实现，本方案在发色保护釉和颜色墨水的布施步骤上进行改进。具体地，先在坯体层1顶部喷涂发色保护釉，待其干燥后再在釉层表面打印颜色墨水，从而确保制备后的耐磨抛釉砖具有良好的发色效果。
进一步地，现有抛釉砖的抛釉层中透明度的实现主要是通过在釉层中引入足够多的玻璃质(即非晶质)，从而使得抛釉层可以显现出满足生产要求的透感；但上述透感的实现与耐磨度的实现是相互矛盾的，这是由于釉层中的玻璃质会影响耐磨度的提升，玻璃质越多，耐磨度就越低，因此，本方案中高温耐磨透明釉配方结构的考虑不能基于上述原理。另外，现有技术中要想实现釉料的耐磨性能，其釉料的配方结构一般为高铝体系，但高铝体系的配方结构透明度一般较低，这是由于氧化铝本身是不透明的材料，若想保证抛釉砖的发色，那么在使用上述高铝体系的釉料时，其釉层一定要薄，但过薄的耐磨保护釉对抛釉砖的耐磨性能和硬度所起到的作用十分有限，因此，本方案中高温耐磨透明釉配方结构的考虑也不能基于上述原理。
所以，为了兼容抛釉的高透明度和良好的耐磨性能，本方案将高温耐磨透明釉层4的配方结构设计为高硅体系，并令方石英作为主晶相，尽量减少其他杂晶相的生成。由于本方案中高温耐磨透明釉利用透明度高的方石英作为单一晶体，因此能有效提升高温耐磨透明釉层4的透感；另外，相比起玻璃质，晶体本身具有一定的硬度，可以赋予高温耐磨透明釉层4更好的耐磨性能。
进一步地，由于釉料中的晶体不是在烧制的时候生成的，是利用具有上述晶体的原料进行制釉，因此，在烧制过程中，只需要少量的助溶剂即可将原料中的晶体进行粘合，从而减少高温耐磨透明釉中助溶剂如CaO、MgO、BaO和ZnO的使用，且由于溶剂材料本身是不耐磨的，减少助溶剂的使用还有利于进一步提升高温耐磨透明釉层4的耐磨性能。
更进一步地，由于配方结构中助溶剂的急剧减少，因此使得釉料的熔融温度升高，在抛釉砖的烧制过程中不会产生熔融或难以熔融，利用上述特点，可以采用淋涂方式对高温耐磨透明釉的厚度进行堆积，从而更进一步地提升耐磨透明釉的硬度和耐磨性能，使得抛釉砖的表面无论是经过全抛，还是经过扫/半抛的抛光方式进行抛光处理后，其硬度和耐磨性能还能满足生产所需。
更进一步说明，还包括步骤F，且步骤F位于步骤D之前；
步骤F的具体步骤为：按照预设图案打印喷墨量为5～50g/m2的精雕墨水，形成精雕墨水层5。
为提升本方案中耐磨抛釉砖的立体装饰效果，本方案还可以在高温耐磨透明釉层4的底部设置精雕墨水层5，即精雕墨水层5可位于喷墨印花层3和高温耐磨透明釉层4之间，通过采用精雕墨水和高温耐磨透明釉的配合使用来形成凹凸效果，其产生凹凸纹理的机制是精雕墨水呈油性，而高温耐磨透明釉呈水性，油性墨水与水性釉料接触会产生张力，具有精雕墨水会将后续布施的水性釉料物理性地排开，从而在高温耐磨透明釉层4形成凹凸纹理，增强耐磨抛釉砖的立体感。
优选的，还包括步骤G，且步骤G位于步骤A之后；
步骤G的具体步骤为：淋涂底釉，形成底釉层6；其中，按照质量百分比计算，所述底釉的化学成分包括SiO2 55～65％、Al2O3 25～30％、K2O 3～4％、Na2O 2～3％、CaO 0.5～1％、MgO 1～2％和ZrO2 3～10％。在本技术方案的一个优选实施例中，还可在坯体层1的顶部设置由底釉烧制而成的底釉层6，底釉层6的设置可以对坯体层1起到遮盖作用，避免坯体层1影响喷墨印花层3的发色，有利于更进一步地提升抛釉砖的发色效果。
优选的，按照质量份数计算，所述底釉的原料包括钾长石30～40份、钠长石10～15份、水洗高岭土3～10份、煅烧高岭土10～30份、石英5～15份、煅烧氧化铝5～15份、滑石3～5份和石灰石2～6份和硅酸锆5～15份。
优选的，所述底釉的比重为1.85～1.95g/cm3,流速为25～45s，淋釉量为300～700g/m2。
优选的，还包括步骤H，且步骤H位于步骤E之后；
步骤H的具体步骤为：在抛光后的耐磨抛釉砖顶部涂覆超洁亮蜡水，形成超洁亮蜡层7。需要说明的是，本方案中的耐磨抛釉砖还可在其顶部还设置用超洁亮蜡层7，其由陶瓷领域常用的超洁亮蜡水涂覆而成，可以起到提升抛釉砖光泽度的作用。
更进一步说明，步骤D中，所述高温耐磨透明釉过325目筛，筛余0.3～0.6％，所述高温耐磨透明釉的比重为1.65～1.85g/cm3,流速为25～38s，且所述高温耐磨透明釉的淋釉量为300～600g/m2。
在本技术方案的一个优选实施例中，高温耐磨透明釉过325目筛，筛余0.3～0.6％，有利于形成致密的釉层，避免釉层中气泡和针孔的生成，保证釉层表面具有较好的釉面效果。进一步地，对高温耐磨透明釉比重和流速进行控制，能在确保施釉质量稳定的前提下，在抛釉砖顶部堆积理想厚度的釉层。
另外，当喷墨印花层3的表面打印有精雕墨水时，在淋釉质量稳定的前提下，油性的精雕墨水能够顺利拨开水性的高温耐磨透明釉，实现立体凹凸效果。如果比重太高，流速太慢，则会造成精雕墨水无法顺利拨开釉层；反之，如果比重太低，流速太快，则不利于釉层拨开效果的保持，容易降低抛釉砖的立体感。
更进一步地，本方案中对高温耐磨透明釉的淋釉量为300～600g/m2，有利于保证烧制成抛釉砖的硬度和耐磨度，使得抛釉砖的表面无论是经过全抛，还是经过扫/半抛的抛光方式进行抛光处理后，其硬度和耐磨性能还能满足生产所需。
优选的，所述高温耐磨透明釉的比重为1.7～1.75g/cm3,流速为28～33s。
更进一步说明，步骤D中，按照质量份数计算，所述高温耐磨透明釉的原料包括钾长石15～25份、钠长石5～10份、水洗高岭土6～10份、氧化锌2～5份、石英40～65份、煅烧氧化铝2～5份、滑石0～3份、硅灰石5～15份和透明熔块10～25份。
在本技术方案的一个更选实施例中，高温耐磨透明釉的原料配比由上述质量份数的原料所示，在此不作限定。
优选的，按照质量百分比计算，所述透明熔块的化学成分包括SiO2 45～65％、Al2O3 6～15％、K2O 3～7％、Na2O 0～2.5％、CaO 6～15％、MgO 0～1％、BaO 0～2％和ZnO3～12％。透明熔块是按上述配方经熔化水淬后的制备的熔块颗粒，其具有透明度高、始熔温度高和硬度高的特点。
更进一步说明，步骤B中，按照质量百分比计算，所述发色保护釉的化学成分包括SiO2 55～70％、Al2O3 4～9％、K2O 2～5.5％、Na2O 0.5～2.4％、CaO 8～20％、MgO 0.3～3.6％和ZnO 3～8％。
在本技术方案的一个优选实施例中，还对发色保护釉的化学成分进行了优选，使得发色保护釉层2的配方结构与高温耐磨透明釉层4的配方结构相匹配，一方面有利于提升发色保护釉层2对喷墨印花层3的发色效果，满足生产所需，另一方面可有效提升发色保护釉层2与高温耐磨透明釉层4的结合性。
具体地，本方案将发色保护釉层2化学成分中的SiO2和Al2O3的含量与高温耐磨透明釉层4的配方结构进行匹配，从而提升抛釉砖的釉层结合性；另外，当将高温耐磨透明釉层4淋涂于在打印了颜色墨水的发色保护釉层2的顶部时，配方结构相互匹配的发色保护釉层2和高温耐磨透明釉层4可有效避免陶瓷领域中低温共熔现象的发生，而低温共熔现象会导致高温耐磨透明釉层4在精雕墨水作用下拨开的具有凹凸起伏的釉面效果在烧制过程中更容易熔平，从而降低抛釉砖的立体效果。
进一步地，由于发色保护釉配方结构中的助熔剂含量会影响到抛釉砖耐磨度、硬度等的釉面性能，因此，本方案将配方结构中起到助熔作用的CaO、MgO和ZnO三种成分的含量进行调整，并使上述三种成分的含量至少占总配方结构的11.3％，从而令发色保护釉层2的配方结构处于钙镁体系，为颜色墨水的发色提供一个更良好的化学成分环境。
更进一步说明，按照质量份数计算，所述发色保护釉的原料包括钾长石10～22份、水洗高岭土6～10份、氧化锌6～9份、石英30～50份、煅烧氧化铝3～6份、滑石1.5～3份、硅灰石10～18份和透明熔块8～18份。
在本技术方案的一个优选实施例中，可以通过钾长石、水洗高岭土、石英、煅烧氧化铝、滑石、硅灰石和透明熔块作为原料制备发色保护釉，从而使得发色保护釉层2具有所需配方结构的化学成分，且上述原料简单易得，有利于进一步降低发色保护釉的生产难度和生产成本。
优选的，按照质量百分比计算，所述透明熔块的化学成分包括SiO2 45～65％、Al2O3 6～15％、K2O 3～7％、Na2O 0～2.5％、CaO 6～15％、MgO 0～1％、BaO 0～2％和ZnO3～12％。透明熔块是按上述配方经熔化水淬后的制备的熔块颗粒，其具有透明度高、对颜色墨水发色好、始熔温度高和硬度高的特点。
更进一步说明，步骤B中，所述发色保护釉的施釉量为50～150g/m2，比重为1.05～1.2，流速为11～15s。
在本技术方案的一个优选实施例中，还将发色保护釉的施釉量优选为50～150g/m2，比重限定为1.05～1.2，流速限定为11～15s，有利于确保发色保护釉的雾化效果，能有效确保发色保护釉的均匀喷涂。
更进一步说明，步骤E中，所述抛光步骤为全抛、半抛或扫抛中的任意一种。
由于本方案的高温耐磨透明釉层4是通过淋涂的方式布施于抛釉砖的顶部，而非喷釉方式，因此可以通过增大淋釉量实现釉层厚度的堆积，使得抛釉砖的表面无论是经过全抛，还是经过扫/半抛的抛光方式进行抛光处理后，其硬度和耐磨性能还能满足生产所需，使抛釉砖的生产可以满足不同的抛光方式。
更进一步说明，步骤A的具体步骤为：准备陶瓷坯料，将陶瓷坯料进行压制，干燥后喷水得到坯体层1；其中，所述喷水步骤的喷水量为80～150g/m2。
在本技术方案的一个优选实施例中，还需要在干燥后对坯体层1进行喷水处理，可润湿干燥坯体层1的表面，减少淋底釉时出现痱子泡等缺陷。若喷水量太少，对减少痱子泡的作用不大；若喷水量太多则会增加坯体层1的水分，降低坯体层1的强度，影响损耗。
一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖，由上述发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺制备而成，所述耐磨抛釉砖的耐磨性能至少达到4级2100转，莫氏硬度至少达到4级。
本方案还提出了一种由上述制备方法制备而成的耐磨抛釉砖，其发色良好、透明度高，且耐磨性能至少达到4级2100转，莫氏硬度至少达到4级，具有较高的硬度和耐磨度。
下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例1
A、准备陶瓷坯料，将陶瓷坯料进行压制，干燥得到坯体层；
B、喷涂发色保护釉，干燥后形成发色保护釉层；其中，按照质量百分比计算，发色保护釉的化学成分包括SiO2 55％、Al2O3 5％、K2O 5.5％、Na2O 2.4％、CaO 20％、MgO 3.6％和ZnO 8％，余量为其他微量氧化物；
C、按照预设图案打印颜色墨水，形成喷墨印花层；
D、淋涂高温耐磨透明釉，形成高温耐磨透明釉层；其中，高温耐磨透明釉的淋釉量为300g/m2，按照质量百分比计算，所述高温耐磨透明釉的化学成分包括SiO2 55％、Al2O312％、K2O 4％、Na2O 5％、CaO 15.5％、MgO 1％、BaO 2％和ZnO 5％，余量为其他微量氧化物；
E、干燥后入窑烧制，全抛后得到抛釉砖一。
实施例2
A、准备陶瓷坯料，将陶瓷坯料进行压制，干燥得到坯体层；
B、喷涂发色保护釉，干燥后形成发色保护釉层；其中，按照质量百分比计算，发色保护釉的化学成分包括SiO2 64％、Al2O3 9％、K2O 3.5％、Na2O 0.5％、CaO 15％、MgO 1.5％和ZnO 6％，余量为其他微量氧化物；
C、按照预设图案打印颜色墨水，形成喷墨印花层；
F、按照预设图案打印喷墨量为30g/m2的精雕墨水，形成精雕墨水层；
D、淋涂高温耐磨透明釉，形成高温耐磨透明釉层；其中，高温耐磨透明釉的淋釉量为500g/m2，按照质量百分比计算，所述高温耐磨透明釉的化学成分包括SiO2 70％、Al2O310％、K2O 3.5％、Na2O 1.5％、CaO 5.5％、MgO 1.2％、BaO 2％和ZnO 6％，余量为其他微量氧化物；
E、干燥后入窑烧制，扫抛后得到抛釉砖二。
实施例3
A、准备陶瓷坯料，将陶瓷坯料进行压制，干燥后喷水得到坯体层；其中，喷水步骤的喷水量为100g/m2；
G、淋涂底釉，形成底釉层；其中，底釉的淋釉量为300g/m2；按照质量份数计算，底釉的原料包括钾长石30份、钠长石10份、水洗高岭土3份、煅烧高岭土10份、石英5份、煅烧氧化铝5份、滑石3份和石灰石2份和硅酸锆5份。
B、喷涂发色保护釉，干燥后形成发色保护釉层；其中，按照质量百分比计算，发色保护釉的化学成分包括SiO2 70％、Al2O3 4％、K2O 5.5％、Na2O 2.4％、CaO 9.4％、MgO2.8％和ZnO 5.6％，余量为其他微量氧化物；
C、按照预设图案打印颜色墨水，形成喷墨印花层；
F、按照预设图案打印喷墨量为50g/m2的精雕墨水，形成精雕墨水层；
D、淋涂高温耐磨透明釉，形成高温耐磨透明釉层；其中，高温耐磨透明釉的淋釉量为600g/m2，按照质量百分比计算，所述高温耐磨透明釉的化学成分包括SiO2 78％、Al2O35％、K2O 1.5％、Na2O 0.5％、CaO 10.5％、MgO 0.2％、BaO 1％和ZnO 3％，余量为其他微量氧化物；
E、干燥后入窑烧制，扫抛后得到抛釉砖三，其釉面效果如图3所示。
性能测试
按照实施例1-3中的制备工艺制备抛釉砖，并确保实施例1-3的步骤中没有提及的工艺参数保证一致。观察上述抛釉砖的釉面效果，并将上述实施例中的抛釉砖进行陶瓷领域常规的耐磨度和莫氏硬度，检验方法分别为：
耐磨度测定：使用《GB/T3810.7-2016陶瓷砖试验方法第7部分：有釉砖表面耐磨性的测定》中的测试方法对制品釉面的耐磨性能进行测试。
莫氏硬度：将样品砖平稳的放在坚硬的支撑物上，饰面朝上。从小到大选用不同莫氏值的标准矿石划试样表面，用矿石新刃口施力均匀垂直地对试样表面进行刻划，注意施力要适度，标准矿石的刃口不应因施力过大破碎而形成双线状或多线状刻划痕迹。以刚好能产生明显划痕的最低硬度值做为检验结果，以试样所有测试值中的最低值为试验结果。
性能测试结果如下表1所示：
表1不同抛釉砖的性能测试结果
从上述性能测试结果可以得知，由本方案的制备工艺制备而成的抛釉砖，其发色良好、透明度高，且耐磨性能至少达到4级2100转，莫氏硬度至少达到4级，具有较高的硬度和耐磨度。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
A、准备陶瓷坯料，将陶瓷坯料进行压制，干燥得到坯体层；
B、喷涂发色保护釉，干燥后形成发色保护釉层；
C、按照预设图案打印颜色墨水，形成喷墨印花层；
D、淋涂高温耐磨透明釉，形成高温耐磨透明釉层；其中，按照质量百分比计算，所述高温耐磨透明釉的化学成分包括SiO255～78％、Al2O35～12％、K2O1.5～4％、Na2O 0.5～5％、CaO 5.5～15.5％、MgO 0～1.2％、BaO 0～2％和ZnO 3～6％，且所述高温耐磨透明釉的淋釉量为300～600g/m2；
E、干燥后入窑烧制，抛光后得到发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖；
步骤B中，按照质量百分比计算，所述发色保护釉的化学成分包括SiO255～70％、Al2O34～9％、K2O 2～5.5％、Na2O 0.5～2.4％、CaO 8～20％、MgO 0.3～3.6％和ZnO 3～8％。
2.根据权利要求1所述的一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，其特征在于：还包括步骤F，且步骤F位于步骤D之前；
步骤F的具体步骤为：按照预设图案打印喷墨量为5～50g/m2的精雕墨水，形成精雕墨水层。
3.根据权利要求1所述的一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，其特征在于：步骤D中，所述高温耐磨透明釉过325目筛，筛余0.3～0.6％，所述高温耐磨透明釉的比重为1.65～1.85g/cm3,流速为25～38s。
4.根据权利要求1所述的一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，其特征在于：步骤D中，按照质量份数计算，所述高温耐磨透明釉的原料包括钾长石15～25份、钠长石5～10份、水洗高岭土6～10份、氧化锌2～5份、石英40～65份、煅烧氧化铝2～5份、滑石0～3份、硅灰石5～15份和透明熔块10～25份。
5.根据权利要求1所述的一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，其特征在于：按照质量份数计算，所述发色保护釉的原料包括钾长石10～22份、水洗高岭土6～10份、氧化锌6～9份、石英30～50份、煅烧氧化铝3～6份、滑石1.5～3份、硅灰石10～18份和透明熔块8～18份。
6.根据权利要求1所述的一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，其特征在于：步骤B中，所述发色保护釉的施釉量为50～150g/m2，比重为1.05～1.2，流速为11～15s。
7.根据权利要求1所述的一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，其特征在于：步骤E中，所述抛光步骤为全抛、半抛或扫抛中的任意一种。
8.根据权利要求1所述的一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺，其特征在于：步骤A的具体步骤为：准备陶瓷坯料，将陶瓷坯料进行压制，干燥后喷水得到坯体层；其中，所述喷水步骤的喷水量为80～150g/m2。
9.一种发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖，其特征在于，由权利要求1～8任意一项所述的发色好、透感强和硬度高的耐磨抛釉砖的制备工艺制备而成，所述耐磨抛釉砖的耐磨性能至少达到4级2100转，莫氏硬度至少达到4级。
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