CN115248523A - 反射模块组件、相机模块及用于相机模块的反射模块 - Google Patents
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Abstract
本公开涉及反射模块组件,其包括:具有内部空间的壳体和容纳在壳体的内部空间中的反射模块,其中,反射模块包括支承配置成改变入射光的路径的反射构件的反射支架、联接到反射支架的至少一个阻尼器以及支承至少一个阻尼器的阻尼器支架,以及其中,至少一个阻尼器通过阻尼器支架联接到反射支架。本公开还涉及相机模块以及用于相机模块的反射模块。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求于2021年4月28日在韩国知识产权局提交的第10-2021-0055075号韩国专利申请和于2022年2月21日在韩国知识产权局提交的第10-2022-0022296号韩国专利申请的优先权的权益,上述韩国专利申请的全部公开内容通过引用并入本文中以用于所有目的。
技术领域
本公开涉及反射模块组件和包括该反射模块组件的相机模块。
背景技术
相机模块可以安装在诸如平板个人计算机(PC)或膝上型计算机以及智能电话的便携式电子设备中,并且可以将自动对焦(AF)功能、光学图像防抖(OIS)功能、变焦功能等添加到用于移动终端的相机模块中。
此外,相机模块可以包括致动器,该致动器直接移动透镜模块或者间接移动包括使光学图像稳定的反射构件的反射模块。此外,致动器可以使用由磁体和线圈产生的驱动力在各个方向上移动或旋转透镜模块或反射模块。
除了由致动器驱动之外,当相机模块在未向致动器施加电力的状态下抖动时,透镜模块或反射模块可能在壳体中旋转或移动。
相机模块可能具有非常窄的内部空间,该内部空间容纳具有较小尺寸的相机模块,并且透镜模块和反射模块因此可能在壳体的内部空间中移动的同时与设置在相机模块中的固定装置碰撞。
具体地,设置在反射模块中的反射构件(例如,棱镜)可能具有相对大的负载,并且当反射构件在移动或旋转的同时与设置在相机模块中的固定装置碰撞时,可能因此发生大的冲击。反射模块可能由于这种冲击而损坏,并且大的冲击声音(例如,噪声或联合噪声)可能反复发生。
上述信息仅作为背景信息来呈现,以帮助理解本公开。关于以上中的任何内容是否可以用作关于本公开的现有技术,没有做出确定,也没有做出断言。
发明内容
提供本发明内容部分旨在以简要的形式介绍对发明构思的选择,而在下面的具体实施方式部分中将进一步描述这些发明构思。本发明内容部分目的不在于确认所要求保护的主题的关键特征或必要特征,也不籍此帮助确定所要求保护的主题的范围。
在一个总的方面,反射模块组件包括具有内部空间的壳体和容纳在壳体的内部空间中的反射模块,其中,反射模块包括支承配置成改变入射光的路径的反射构件的反射支架、联接到反射支架的至少一个阻尼器以及支承至少一个阻尼器的阻尼器支架,以及其中,至少一个阻尼器通过阻尼器支架联接到反射支架。
阻尼间隙可以形成在至少一个阻尼器和反射支架之间。
至少一个阻尼器可以在垂直于反射构件的入射表面的方向上突出。
阻尼器支架可包括第一延伸部分和紧固部分,第一延伸部分跨过反射支架的下表面延伸,紧固部分从第一延伸部分的两个端部中的每一个弯曲并延伸并将阻尼器支架固定到反射支架,并且至少一个阻尼器可包括至少一个第一阻尼器,该至少一个第一阻尼器***第一延伸部分并由第一延伸部分支承。
第一延伸部分可以与反射支架的下表面接触,容纳至少一个第一阻尼器的至少一部分的第一阻尼器凹槽可以设置在反射支架的下表面中,并且可以在第一阻尼器凹槽和至少一个第一阻尼器之间形成第一阻尼间隙。
至少一个第一阻尼器可以包括在第一延伸部分的长度方向上设置在第一延伸部分上的多个第一阻尼器,并且多个第一阻尼器之间的距离可以等于或小于反射构件的宽度。
反射模块的至少一个第一阻尼器可配置成在反射支架朝向壳体的下表面移动时首先与壳体的下表面接触。
壳体还可以包括从壳体的下表面的面对至少一个第一阻尼器的部分朝向反射支架突出的突起。
反射支架还可以包括朝向阻尼器支架突出的紧固突起,并且紧固突起***其中的紧固凹槽可以设置在阻尼器支架的紧固部分中。
阻尼器支架还可以包括第二延伸部分,该第二延伸部分分别从紧固部分的端部在相对方向上沿着反射支架的上表面延伸,并且至少一个阻尼器可以包括至少一个第二阻尼器,该至少一个第二阻尼器***第二延伸部分并由第二延伸部分支承。
第二延伸部分可以以对应于反射构件的宽度或更大的距离彼此间隔开。
容纳至少一个第二阻尼器的至少一部分的第二阻尼器凹槽可以设置在反射支架的上表面中,并且可以在第二阻尼器凹槽和至少一个第二阻尼器之间形成第二阻尼间隙。
反射模块组件还可包括覆盖壳体的上盖,其中,反射模块的至少一个第二阻尼器可配置成在反射支架朝向上盖移动时首先与上盖接触。
阻尼器支架可包括平行于反射构件的出射表面延伸并联接到反射支架的联接部分以及在联接部分的两个端部中的每一个处弯曲的弯曲部分,并且至少一个阻尼器可包括至少一个第三阻尼器,该至少一个第三阻尼器***弯曲部分并由弯曲部分支承。
至少一个第三阻尼器可以设置成面对反射支架的部分表面,并且可以在至少一个第三阻尼器和反射支架的部分表面之间形成第三阻尼间隙。
阻尼器支架可以包括多个阻尼器支架,并且多个阻尼器支架可以联接到反射支架,反射构件***在多个阻尼器支架之间。
相机模块可以包括:反射模块组件、从反射构件发射的光通过的透镜模块组件以及配置成将通过透镜模块组件的光转换为电信号的图像传感器。
透镜模块组件可以包括在光轴方向上设置的至少一个透镜镜筒。
包括在反射模块组件中的至少一个阻尼器可以在与光轴方向相交的方向上从反射支架突出。
在另一个总的方面,用于相机模块的反射模块包括:壳体;反射支架,设置在壳体中并可基于壳体在第一方向上移动;反射构件,设置在反射支架上,配置成改变光的路径;阻尼器支架,联接到反射支架;以及阻尼器,设置在阻尼器支架上,在第一方向上突出。
阻尼器可以突出通过阻尼器支架,并且阻尼器可以与反射支架以阻尼间隙间隔开。
阻尼器支架可配置成在阻尼器接触反射支架之前在沿第一方向施加到阻尼器上的力的作用下弹性弯曲。
根据所附权利要求、附图和下面的具体实施方式,其它特征和方面将变得显而易见。
附图说明
图1是根据示例性实施方式的相机模块的立体图。
图2是根据示例性实施方式的相机模块的分解立体图。
图3是根据示例性实施方式的相机模块中的壳体和反射模块的分解立体图。
图4是根据示例性实施方式的反射模块的分解立体图。
图5是沿图3的线I-I'截取的截面图。
图6是根据示例性实施方式的相机模块中的壳体和反射模块的分解立体图。
图7是根据示例性实施方式的反射模块的分解立体图。
图8是沿图6的线II-II'截取的截面图。
图9是在反射模块***壳体中的状态下沿图6的线III-III'截取的截面图。
图10是根据另一示例性实施方式的相机模块中的壳体和反射模块的分解立体图。
图11是根据另一示例性实施方式的反射模块的分解立体图。
图12是在反射模块***壳体中的状态下沿图10的线IV-IV'截取的截面图。
图13是根据另一示例性实施方式的相机模块中的壳体和反射模块的分解立体图。
图14是图13所示的反射模块的分解立体图。
图15是示出图13的反射模块的设置的示例性截面图。
在整个附图和具体实施方式中,相同的附图标记指代相同的元件。出于清楚、说明和方便的目的,附图可能未按照比例绘制,并且附图中元件的相对尺寸、比例和描绘可能被夸大。
具体实施方式
在下文中,参考附图详细描述了本公开中的示例性实施方式,但是应当注意,示例不限于此。
提供以下具体实施方式以帮助读者获得对本文中所描述的方法、装置和/或***的全面理解。然而,本文中所描述的方法、装置和/或***的各种改变、修改和等同在理解本公开之后将是显而易见的。例如,本文中所描述的操作的顺序仅仅是示例,并且除了必须以特定顺序发生的操作之外,不限于在本文中所阐述的顺序,而是可以改变的,这在理解本公开之后将是显而易见的。另外,为了更加清楚和简洁,可省略对在本领域中公知的特征的描述。
本文中所描述的特征可以以不同的形式实施,而不应被理解为受限于本文中所描述的示例。更确切地,提供本文中所描述的示例仅仅是为了说明在理解本公开之后将显而易见的实现本文中所描述的方法、装置和/或***的许多可能的方式中的一些。
在整个说明书中,当诸如层、区域或基板的元件被描述为位于另一元件“上”、“连接到”或“联接到”另一元件时,该元件可直接位于该另一元件“上”、直接“连接到”或直接“联接到”另一元件,或者可存在介于该元件与该另一元件之间的一个或多个其它元件。相反地,当元件被描述为“直接位于”另一元件“上”、“直接连接到”或“直接联接到”另一元件时,则不存在介于该元件与该另一元件之间的其它元件。
本文中使用的术语仅用于描述各种示例,而不用于限制本公开。除非上下文另有明确指示,否则冠词“一”、“一个”和“该”旨在也包括复数形式。措辞“包括”、“包含”和“具有”说明存在所述特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合,但不排除一个或多个其它特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合的存在或添加。
如本文中所使用的,措辞“和/或”包括相关联的所列项目中的任何一项以及任何两项或更多项的任何组合;同样,“至少一个”包括相关联的所列项目中的任何一项以及任何两项或更多项的任何组合。
尽管在本文中可以使用诸如“第一”、“第二”和“第三”的措辞来描述各种构件、部件、区域、层或部分,但是这些构件、部件、区域、层或部分不受这些措辞的限制。更确切地,这些措辞仅用于将一个构件、部件、区域、层或部分与另一个构件、部件、区域、层或部分区分开。因此,在不背离本文中所描述的示例的教导的情况下,这些示例中提及的第一构件、第一部件、第一区域、第一层或第一部分也可以被称作第二构件、第二部件、第二区域、第二层或第二部分。
诸如“在……之上”、“较上”、“在……之下”、“较下”等的空间相对措辞可以在本文中为了描述便利而使用,以描述如附图中所示的一个元件相对于另一个元件的关系。除了涵盖附图中所描绘的定向之外,这些空间相对措辞旨在还涵盖设备在使用或操作中的不同的定向。例如,如果附图中的设备翻转,则描述为位于另一元件“之上”或相对于另一元件“较上”的元件将位于该另一元件“之下”或相对于该另一元件“较下”。因此,根据设备的空间定向,措辞“在……之上”涵盖“在......之上”和“在......之下”的两个定向。该设备还可以以其它方式定向(例如,旋转90度或在其它定向上),并且本文中使用的空间相对措辞应被相应地解释。
由于制造技术和/或公差,可出现附图中所示形状的变化。因此,本文中描述的示例不限于附图中所示的具体形状,而是包括在制造期间出现的形状变化。
应注意,在本文中,相对于示例使用措辞“可以”,例如关于示例可以包括或实现的内容,意味着存在其中包括或实现这样的特征的至少一个示例,而所有示例不限于此。
可以以在理解本公开之后将显而易见的各种方式组合本文中描述的示例的特征。此外,尽管本文中描述的示例具有多种配置,但是在理解本公开之后将显而易见的其它配置也是可行的。
本发明的一个方面可以提供一种阻尼器结构,该阻尼器结构可以减轻传递到反射模块的冲击。
本公开的另一方面可以提供一种反射模块组件和包括该反射模块组件的相机模块,该反射模块组件可以减小当反射模块与设置在壳体中的另一固定装置碰撞时发生的冲击声(例如,噪声或联合噪声)。
图1是根据示例性实施方式的相机模块10的立体图;以及图2是根据示例性实施方式的相机模块10的分解立体图。
根据示例性实施方式的相机模块10可以包括具有内部空间的壳体20、容纳在壳体20的内部空间中的反射模块100、透镜模块30、图像传感器模块40和覆盖壳体20的上部的上盖21。
反射模块100可以改变入射光的传播方向。从相机模块10的外部对象(未示出)入射的光可以具有通过反射模块100改变到透镜模块30的传播方向。例如,通过开口22在相机模块10的厚度方向(例如,Y轴方向)上入射的光可以通过反射模块100将光的路径改变为在与透镜模块30的光轴方向(例如,Z轴方向)大致一致的方向上,开口22通过打开上盖21的至少部分表面而形成。反射模块100可以包括反射光以便改变光的路径的反射构件120。在根据示例性实施方式的相机模块10中,包括在反射模块100中的反射构件120可以绕旋转轴旋转或在各个方向上移动以执行光学图像防抖功能。
相机模块10可以包括引导反射模块100的运动的引导构件60。引导构件60可邻近反射模块100设置,并引导反射模块100绕某一轴线旋转或在某一方向上移动。例如,引导构件60可包括形成反射模块100的旋转轴的球构件(未示出)或枢轴构件(未示出)或者形成反射模块100的运动路径的轨道构件(未示出)。
透镜模块30可以包括容纳透镜的一个或多个透镜镜筒31、32和33,具有由反射模块100改变的传播方向的光通过透镜。透镜镜筒31、32或33可以在光轴方向(Z轴方向)上移动,或者可以具有调节的距离以执行自动对焦(AF)功能或变焦功能。替代地,相机模块10可以移动每个透镜镜筒31、32或33以执行光学图像防抖功能。
透镜模块30可以包括固定到壳体20的固定透镜镜筒31和基于壳体20移动的移动透镜镜筒32和33。透镜模块30可以包括一个或多个移动透镜镜筒32和33。
包括将通过透镜模块的光转换为电信号的图像传感器的图像传感器模块可以设置在透镜模块的后面。图像传感器模块40还可以包括滤光器(未示出),滤光器过滤通过透镜模块30然后入射到滤光器的光。
在根据示例性实施方式的相机模块10中,反射模块100可以设置在透镜模块30的前面,并且图像传感器模块40可以基于壳体20的内部空间中的透镜模块30而设置在透镜模块30的后面。因此,从相机模块10的外部对象入射的入射光可以顺序地通过反射模块100和透镜模块30以入射到图像传感器模块40上。
图像传感器模块40可以电连接到印刷电路板50以将图像信息转换为电信号,然后将该电信号从相机模块10向外传送。
同时,示例性实施方式中的相机模块10可以通过将包括反射模块100的反射模块组件和邻近反射模块组件设置的透镜模块组件彼此联接来形成。例如,反射模块组件可以包括上述反射模块100和具有容纳反射模块100以在其中移动的内部空间的壳体。透镜模块组件可以包括透镜模块30、图像传感器模块40和具有容纳这些部件的内部空间的壳体。反射模块组件的壳体和透镜模块组件的壳体可以彼此一体地形成,或者可以设置为单独的壳体。在后一种情况下,单独的壳体可以彼此联接以完全形成相机模块10的壳体。
为了便于说明,以下说明书将反射模块100描述为包括在相机模块10中的部件。然而,如上所述,根据示例性实施方式的反射模块100可以被视为包括在反射模块组件中,并且以下对反射模块100和容纳反射模块100的壳体20的描述可以同样地应用于根据另一示例性实施方式的反射模块组件。
在示例性实施方式中,反射模块100可以容纳在相机模块10的壳体20中以改变入射光的路径。例如,如图2所示,反射模块100可以容纳在壳体20中以邻近透镜模块30,并且将在相机模块10的高度方向(例如,Y轴方向)上入射的入射光的路径改变为在透镜模块30的光轴方向(例如,Z轴方向)上。
在示例性实施方式中,反射模块100可包括可改变光的路径的反射构件120、支承反射构件120的反射支架110以及移动反射支架110的驱动单元130。
反射模块100的反射构件120可以折射或反射入射光以改变光的传播路径。例如,在第一方向(Y轴方向)上入射到反射构件120上的光的传播路径可以由反射构件120改变为在与第一方向相交的第二方向(Z轴方向)上。反射构件120可以反射或折射入射光。例如,反射构件120可以将从外部对象入射的光的传播路径改变为在透镜模块30的光轴方向(例如,Z轴方向)上。反射构件120可以是反射光的反射镜或棱镜,但是不限于此,并且可以是可改变光的路径的任何物件(然而,为了便于说明,以下描述假定反射构件120具有棱镜的形状)。
反射支架110可以支承待移动的反射构件120。也就是说,反射构件120可以由反射支架110支承并且可以在预定范围内移动。例如,反射支架110可以绕穿过反射支架110的旋转轴(例如,平行于X轴的轴)旋转,或者可以在一定范围内往复运动。因此,由反射支架110支承的反射构件120可以基于反射支架110的运动而旋转或往复运动。
移动反射支架110的驱动单元130可以设置在反射支架110的至少部分表面上。例如,如图2所示,驱动单元130可以在一个方向(例如,X轴方向)上设置在反射支架110的两个端部中的每一个上。驱动单元130可以是包括磁体(例如,图3中的磁体131)和线圈(例如,图3中的线圈132)的电磁致动器,但是不限于此,并且可以是可以使反射支架110在预定范围内移动的任何物件。
同时,示例性实施方式中的反射模块100还可以包括检测反射支架110的运动量的位置检测单元(未示出)。
反射模块100可以通过使用由驱动单元130产生的驱动力旋转或移动壳体20中的反射支架110和由反射支架110支承的反射构件120来执行光学图像防抖功能。
反射支架110可以移动,并且反射支架110因此可能在移动时与邻近反射模块100的另一构件碰撞。例如,当设置在相机模块10的壳体20中时,根据示例性实施方式的反射模块100当在壳体20中移动时可能与壳体20的内壁碰撞。此外,当相机模块10或壳体20在没有向驱动单元130施加电力的状态下向上、向下、向左和向右抖动时,设置在壳体20中的反射模块100可以基于壳体20的内部相对移动,并且与壳体20的内表面不规则地碰撞。可能存在反射模块100由于这种碰撞所引起的冲击而损坏的风险,或者由于碰撞而发生噪声(或联合噪声)。
为了防止如上所述的损坏或噪声的风险,根据示例性实施方式的反射模块100还可以包括阻尼构件。
下文中,说明书参照图3至图5详细描述根据示例性实施方式的反射模块100和包括反射模块100的反射模块组件。
图3是根据示例性实施方式的相机模块10中的壳体20和反射模块100的分解立体图;图4是根据示例性实施方式的反射模块100的分解立体图;以及图5是沿图3的线I-I'截取的截面图。图3至图5中描述的反射模块100包括图1和图2中描述的反射模块100的特征,并且省略了冗余描述。
根据示例性实施方式的反射模块100可以包括可以改变光的路径的反射构件120、支承反射构件120的反射支架110、移动反射支架110的驱动单元130以及可以吸收施加到反射模块100的冲击的阻尼构件140。
反射构件120可以包括入射表面121和出射表面122,并且折射或反射入射到入射表面121上的光,以朝向出射表面122和设置在其后面的透镜模块30改变光的传播路径。
驱动单元130可以包括设置在反射支架110上的磁体131和设置成面对磁体131的线圈132。然而,驱动单元130不限于包括这些部件,并且可以包括可以移动反射模块100的任何物件。
根据示例性实施方式的阻尼构件140可以设置在反射支架110的至少部分表面上,以保护反射模块100免受外部冲击。例如,阻尼构件140可以设置在反射支架110的下表面上,并且当反射支架110安装在壳体20内时,阻尼构件140设置在反射支架110和壳体20之间。因此,当反射模块100在壳体20中旋转或移动时,阻尼构件140可以首先与壳体20的下表面接触,从而吸收冲击以减小传递到反射支架110或反射构件120的冲击的能量。
在示例性实施方式中,阻尼构件140可以包括至少一个第一阻尼器142和将第一阻尼器142固定到反射支架110的阻尼器支架141。
阻尼器支架141可以在支承第一阻尼器142的同时联接到反射支架110,并且用于将第一阻尼器142固定到反射支架110。例如,如图4所示,阻尼器支架141可包括其上设置有第一阻尼器142的第一延伸部分141a以及设置在第一延伸部分141a的两个端部中的每一个处的紧固部分141b。这里,紧固部分141b可以紧固到反射支架110的两个端部中的每一个,以将阻尼器支架141固定到反射支架110。
在示例性实施方式中,阻尼器支架141的第一延伸部分141a可以在反射支架110的宽度方向(例如,X轴方向)上沿着反射支架110的下表面延伸,并且阻尼器支架141的紧固部分141b可以在反射支架110的高度方向(例如,正Y轴方向)上从第一延伸部分141a的两个端部中的每一个延伸。
在示例性实施方式中,阻尼器支架141的第一延伸部分141a可以跨过反射支架110的容纳反射构件120的一部分的下表面延伸。其上设置有第一阻尼器142的第一延伸部分141a可以设置在反射构件120下方,该反射构件120在反射模块100的部件之中具有相对大的负载,从而当反射模块100与壳体20的下表面碰撞时增加阻尼效果。
具有与阻尼器支架141的形状相对应的形状的***部分110a可以设置在反射支架110中,使得阻尼器支架141的至少一部分可以在厚度方向上***其中。***部分110a可以是具有与阻尼器支架141的厚度相对应的深度的凹槽部分。第一延伸部分141a可以与反射支架110的***部分110a接触。因此,当阻尼器支架141******部分110a时,反射支架110的下表面和阻尼器支架141的外表面可以彼此平直地连接。
在示例性实施方式中,设置在阻尼器支架141上的两个紧固部分141b之间的距离可以等于或小于反射支架110的***部分110a的长度。因此,当阻尼器支架141紧固到反射支架110时,阻尼器支架141的紧固部分141b可以在相对方向上按压反射支架110,以牢固地固定阻尼器支架141。
紧固凹槽141c可以设置在阻尼器支架141的紧固部分141b中,并且响应于此,反射支架110可以包括朝向阻尼器支架141突出以***紧固凹槽141c的紧固突起110c。紧固凹槽141c和紧固突起110c可以相互接合,从而防止阻尼器支架141从反射支架110掉落。相反,紧固突起可以设置在阻尼器支架141的紧固部分141b上,并且反射支架110可以包括紧固凹槽,紧固突起基于反射支架110的侧表面在面对紧固突起的部分中***紧固凹槽。
在示例性实施方式中,阻尼器支架141可以由弹性材料形成。例如,阻尼器支架141可以由具有弹性的金属材料或树脂材料形成,并且因此,阻尼器支架141可以以夹子类型***并紧固到反射支架110。例如,阻尼器支架141可以是由可恒定地保持两个紧固部分141b之间的距离的弹性材料形成的构件,并且可以在高度方向(例如,正Y轴方向)上***并紧固到反射支架110的下表面。
阻尼器支架141可以包括在反射支架110的向下方向(例如,负Y轴方向)上突出的至少一个第一阻尼器142。
在示例性实施方式中,至少一个第一阻尼器142可以通过阻尼器支架141联接到反射支架110。也就是说,第一阻尼器142可以通过连接到阻尼器支架141而固定到反射支架110而不是直接联接到反射支架110。
第一阻尼器142可以固定到阻尼器支架141。例如,可以使用粘合剂将第一阻尼器142固定到阻尼器支架141。替代地,第一阻尼器142可***设置在阻尼器支架141中的通孔(未示出)中。
第一阻尼器142可以在垂直于反射模块100的反射构件120的入射表面121的方向上从阻尼器支架141突出。例如,如图5所示,第一阻尼器142可以在垂直于反射构件120的入射表面121的方向(例如,负Y轴方向)上从反射模块100的下表面突出。
在示例性实施方式中,第一阻尼器142可以在与邻近反射模块100的透镜模块(例如,图2中的透镜模块30)的光轴方向(例如,图2中的Z轴方向)相交的方向(例如,图2中的Y轴方向)上从反射支架110突出。
在示例性实施方式中,一个或多个第一阻尼器142可以设置在阻尼器支架141上。例如,如图4所示,多个第一阻尼器142可以沿长度方向(例如,X轴方向)设置在阻尼器支架141上。当设置两个第一阻尼器142时,第一阻尼器142可以对称地设置在阻尼器支架141上,并且当设置三个或更多个第一阻尼器142时,第一阻尼器142可以设置在反射支架110上,同时彼此间隔开预定距离。当设置多个第一阻尼器142时,第一阻尼器142之间的距离可以等于或小于反射构件120的宽度。因此,多个第一阻尼器142中的至少一个可直接设置在反射构件120的下方。
在示例性实施方式中,容纳第一阻尼器142的至少一部分的第一阻尼器凹槽110b可以设置在反射支架110的下表面上。第一阻尼器凹槽110b可以是在反射支架110的下表面的面对第一阻尼器142的位置处凹入到预定深度的部分。第一阻尼器凹槽110b可以设置在反射支架110的***部分110a的部分表面上。
第一阻尼间隙g1可以形成在第一阻尼器凹槽110b和第一阻尼器142之间作为分离空间。例如,如图5所示,第一阻尼器142的一部分可以容纳在反射支架110的第一阻尼器凹槽110b中,并且第一阻尼间隙g1可以形成在第一阻尼器142和第一阻尼器凹槽110b之间作为分离空间。第一阻尼间隙g1可以是当第一阻尼器142和反射支架110在垂直于入射表面121的方向上彼此间隔开时形成的空间。在根据示例性实施方式的反射模块100中,第一阻尼器142可以通过阻尼器支架141联接到反射支架110而不是直接设置在反射支架110上,并且因此可以容易地形成第一阻尼间隙g1并保持它们之间的距离。
在反射支架110移动时,第一阻尼器142可以首先与相机模块10的另一固定装置或反射模块组件碰撞,从而吸收由碰撞引起的冲击的能量。例如,在反射支架110朝向壳体20的下表面旋转时,第一阻尼器142可以在反射模块100的部件之中首先与壳体20的下表面碰撞。
第一阻尼器142可以由具有预定弹性的材料形成,以吸收施加到反射模块100的冲击,并且可以包括,例如,氨基甲酸乙酯、硅树脂、多孔橡胶、泡沫树脂、环氧树脂或聚合材料。
第一阻尼间隙g1可以形成在第一阻尼器142和反射支架110之间,并且因此当反射支架110与相机模块10或反射模块组件的另一部件碰撞时缓冲施加到第一阻尼器142的冲击,从而进一步减少传递到反射支架110的冲击量。
在示例性实施方式中,阻尼器支架141可以配置成在第一阻尼器142接触反射支架110之前在沿第一阻尼器142从阻尼器支架141突出的方向施加到第一阻尼器142上的力的作用下弹性弯曲,以进一步减少传递到反射支架110的冲击量。
在示例性实施方式中,第一阻尼器142的端部可以具有半球体的形状。然而,第一阻尼器142的端部不限于该形状,并且例如,第一阻尼器142可以具有诸如方形柱、圆形柱、三角形柱和三角棱锥的各种形状中的任一种。
根据示例性实施方式的反射模块100可以包括设置在与第一阻尼器142的位置不同的位置处的第二阻尼器(例如,图7至9中的第二阻尼器143)。第二阻尼器可以设置在阻尼器支架上,以吸收在各个方向中的任一方向上出现的冲击。下文中,说明书参照图6至图9描述包括第二阻尼器的反射模块。
图6是根据示例性实施方式的相机模块10中的壳体20和反射模块100的分解立体图;图7是根据示例性实施方式的反射模块100的分解立体图;图8是沿图6的线II-II'截取的截面图;以及图9是在反射模块100***壳体20的状态下沿图6的线III-III'截取的截面图。参照图6至图9描述的反射模块100可以包括上面参照图3至图5描述的反射模块100的特征。也就是说,反射模块100可以包括反射构件120和支承反射构件120的反射支架110,并且反射支架110可以联接到上面设置有第一阻尼器142的阻尼器支架141。
根据示例性实施方式,设置在反射模块100上的阻尼构件140可以包括至少一个第二阻尼器143和将第二阻尼器143固定到反射支架110的阻尼器支架141。
阻尼器支架141可以包括在反射支架110的向上方向(例如,正Y轴方向)上突出的至少一个第二阻尼器143。第二阻尼器143可以在不同的方向上从与上述第一阻尼器142的位置不同的位置突出,并且因此吸收在与第一阻尼器142吸收的冲击的方向不同的方向上发生的冲击。
在示例性实施方式中,至少一个第二阻尼器143可以通过阻尼器支架141联接到反射支架110。也就是说,第二阻尼器143可以通过连接到阻尼器支架141而固定到反射支架110而不是直接联接到反射支架110。也就是说,阻尼器支架141可以在支承第二阻尼器143的同时联接到反射支架110,并且用于将第二阻尼器143固定到反射支架110。
在示例性实施方式中,阻尼器支架141可以包括第二延伸部分141d,该第二延伸部分141d分别从紧固部分141b的端部在相对方向上沿着反射支架110的上表面延伸,并且第二阻尼器143可以固定到第二延伸部分141d。
在示例性实施方式中,阻尼器支架141的第二延伸部分141d可以分别从两个紧固部分141b的端部在反射支架110的宽度方向(例如,X轴方向)上沿着反射支架110的上表面延伸。分别从两个紧固部分141b的端部在相对方向上延伸的第二延伸部分141d可以以对应于反射构件120的宽度或更大的距离彼此间隔开。因此,反射构件120的设置在第二延伸部分141d之间的入射表面121可以不被第二延伸部分141d覆盖。
第二阻尼器143可以固定到阻尼器支架141的第二延伸部分141d。例如,可以使用粘合剂将第二阻尼器143固定到阻尼器支架141。替代地,第二阻尼器143可***设置在阻尼器支架141的第二延伸部分141d中的通孔(未示出)中。
第二阻尼器143可以在垂直于反射模块100的反射构件120的入射表面121的方向上从阻尼器支架141突出。例如,如图7所示,第二阻尼器143可以在垂直于反射构件120的入射表面121的方向(例如,正Y轴方向)上从反射模块100的上表面突出。在这种情况下,第二阻尼器143可以在与第一阻尼器142相对的方向上从反射支架110突出。
在示例性实施方式中,第二阻尼器143可以在与邻近反射模块100的透镜模块(例如,图2中的透镜模块30)的光轴方向(例如,图2中的Z轴方向)相交的方向(例如,图2中的Y轴方向)上从反射支架110突出。
在示例性实施方式中,一个或多个第二阻尼器143可以设置在阻尼器支架141上。当设置两个第二阻尼器143时,第二阻尼器143可以对称地设置在阻尼器支架141上。
在示例性实施方式中,容纳第二阻尼器143的至少一部分的第二阻尼器凹槽110d可以设置在反射支架110的上表面中。第二阻尼器凹槽110d可以是在反射支架110的上表面的面对第二阻尼器143的位置处凹入到预定深度的部分。
第二阻尼间隙g2可以形成在第二阻尼器凹槽110d和第二阻尼器143之间作为分离空间。例如,如图8所示,第二阻尼器143的一部分可以容纳在反射支架110的第二阻尼器凹槽110d中,并且第二阻尼间隙g2可以形成在第二阻尼器143和第二阻尼器凹槽110d之间作为分离空间。第二阻尼间隙g2可以是当第二阻尼器143和反射支架110在垂直于入射表面121的方向上彼此间隔开时形成的空间。在根据示例性实施方式的反射模块100中,第二阻尼器143可以通过阻尼器支架141联接到反射支架110而不是直接设置在反射支架110上,因此可以容易地形成第二阻尼间隙g2并保持它们之间的距离。
当反射模块100在向上方向(例如,正Y轴方向)上移动时,第二阻尼器143可以首先与相机模块10的另一固定装置或反射模块组件碰撞,从而吸收由碰撞引起的冲击的能量。例如,第二阻尼器143可以在反射模块100的部件之中首先与相机模块10的上盖21碰撞。第二阻尼器143可以由具有预定弹性的材料形成以吸收施加到反射模块100的冲击,并且可以包括例如与第一阻尼器142的材料相同的材料。
第二阻尼间隙g2可形成在第二阻尼器143和反射支架110之间,并且因此缓冲在反射支架110与相机模块10的另一部件碰撞时施加到第二阻尼器143的冲击,从而进一步减少传递到反射支架110的冲击量。
在示例性实施方式中,第二阻尼器143的端部可以具有半球体的形状。然而,第二阻尼器143的端部不限于该形状,并且可以具有例如像第一阻尼器142那样的各种形状中的任一种。
参照图9,说明书描述了根据示例性实施方式的反射模块100的旋转。
根据示例性实施方式的反射模块100可以容纳在壳体20的内部空间中,并基于壳体20移动。例如,如图9所示,反射模块100可由引导构件60支承以朝向壳体20的上部或下部旋转或线性移动。形成反射模块100的旋转轴的多个球构件61和62可以设置在引导构件60和壳体20之间,或者设置在引导构件60和反射支架110之间。例如,如图9所示,第一球构件61可形成第一旋转轴,并且第二球构件62可形成大致垂直于第一旋转轴的第二旋转轴。
根据示例性实施方式的反射模块100可以使用反射构件120的入射表面121接收相机模块10外部的光以改变光的传播路径。反射模块100可以通过移动或旋转反射构件120来改变入射表面121的角度,并且包括第一阻尼器142和/或第二阻尼器143,以便保护反射构件120免受在该移动或旋转期间发生的冲击。
根据示例性实施方式的第一阻尼器142和第二阻尼器143可以在垂直于反射构件120的入射表面121的方向上突出。例如,如图9所示,第一阻尼器142可以在垂直于反射构件120的入射表面121的方向上朝向相机模块10的下表面(例如,负Y轴方向)突出,并且第二阻尼器143可以在垂直于反射构件120的入射表面121的方向上朝向相机模块10的上表面(例如,正Y轴方向)突出。
在示例性实施方式中,当反射模块100在壳体20中移动时,第一阻尼器142和第二阻尼器143可以首先与相机模块10的上表面或下表面接触。例如,当反射模块100朝向壳体20的下表面移动时,第一阻尼器142可以首先与壳体20的下表面接触。替代地,当反射模块100朝向壳体20的上部移动时,第二阻尼器143可以首先与上盖21接触。
在示例性实施方式中,在壳体20的高度方向上朝向第一阻尼器142突出的突起23可以设置在壳体20的下表面上。一个或多个突起23可以设置成与第一阻尼器142的数量相对应。
在示例性实施方式中,突起23可以由与第一阻尼器142相同的材料形成。也就是说,突起23可以包括弹性材料,例如,氨基甲酸乙酯、硅树脂、多孔橡胶、发泡树脂、环氧树脂或聚合材料。然而,突起23不限于这种材料,并且例如,突起23可以由与壳体20的材料相同的材料形成。
突起23可设置成面对第一阻尼器142。因此,当反射模块100朝向壳体20的下表面移动或旋转时,反射模块100的第一阻尼器142可以首先与设置在壳体20的下表面上的突起23碰撞,从而吸收冲击。根据示例性实施方式的壳体20的突起23可以用作限制反射模块100的最大旋转半径的止挡件。
由于第一阻尼器142可以与突起23接触,因此即使当反射支架110移动地更靠近壳体20的下表面时,也可以确保反射支架110和壳体20的下表面之间的足够的自由空间。因此,可以防止反射支架110和反射构件120与壳体20的下表面直接碰撞。
图6至图9示出反射模块100包括第一阻尼器142和第二阻尼器143两者。然而,可以省略任何一个阻尼器。例如,反射模块100可以仅包括第二阻尼器143。
在下文中,说明书参照图10至图12描述了根据另一示例性实施方式的反射模块200。图10是根据另一示例实施方式的相机模块10中的壳体20和反射模块200的分解立体图;图11是根据另一示例性实施方式的反射模块200的分解立体图;以及图12是在反射模块200***壳体20的状态下沿图10的线IV-IV'截取的截面图。
在参照图10至图12描述的反射模块200中,除阻尼构件240之外的特征可以与参照图1至图9描述的反射模块100的特征相同。例如,根据本示例性实施方式的反射模块200可以改变入射光的传播路径,使得由反射构件220的入射表面221接收的入射光由反射构件220的出射表面222发出。根据本示例性实施方式的反射模块200可以包括驱动单元230,驱动单元230包括磁体231和线圈232,并且反射支架210可以包括安置部分211,磁体231安置在该安置部分211中。例如,如图10和图11所示,安置部分211可以围绕磁体231的除了磁体231面对线圈232的表面之外的其余部分。此外,根据本示例性实施方式的反射模块200可以包括在类似于上述图3至图9中的反射模块100的反射模块组件中。
根据本示例性实施方式的反射模块200可以包括反射构件220和支承反射构件220的反射支架210,并且反射支架210可以具有安装在其上的阻尼构件240,以吸收施加到反射模块200的冲击。
阻尼构件240可以设置在反射支架210的至少部分表面上,以保护反射模块200免受外部冲击。
在本示例性实施方式中,阻尼构件240可以包括至少一个第三阻尼器242和将第三阻尼器242固定到反射支架210的阻尼器支架241。
阻尼器支架241可以包括在反射模块200的高度方向(例如,Y轴方向)上突出的至少一个第三阻尼器242。例如,多个第三阻尼器242可以分别朝向反射模块200的上部和下部突出,并且因此吸收施加到反射模块200的上表面或下表面的冲击。
阻尼器支架241可以在支承第三阻尼器242的同时联接到反射支架210,并且用于将第三阻尼器242固定到反射支架210。例如,如图11和图12所示,阻尼器支架241可以包括平行于反射构件220的出射表面222延伸并联接到反射支架210的联接部分241a和在联接部分241a的两个端部中的每一个处弯曲并沿着反射支架210的上表面或下表面延伸的弯曲部分241b。第三阻尼器242可以联接并固定到弯曲部分241b。例如,可以使用粘合剂将第三阻尼器242固定到阻尼器支架241的弯曲部分241b。替代地,第三阻尼器242可***设置在阻尼器支架241的弯曲部分241b中的通孔(未示出)中或联接到弯曲部分241b。
图10至图12示出了阻尼器支架241的联接部分241a在反射支架210的高度方向(例如,Y轴方向)上延伸,这仅是一个示例,并且阻尼器支架241不限于这种形状。例如,阻尼器支架241的联接部分241a可以在横向于反射支架210的方向(例如,X轴方向)上延伸。
在本示例性实施方式中,阻尼器支架241可以由弹性材料形成。例如,阻尼器支架241可以由具有弹性的金属材料或树脂材料形成,并且因此,阻尼器支架241可以以夹子类型***并紧固到反射支架210。例如,阻尼器支架241可以是由可恒定地保持两个紧固部分之间的距离的弹性材料形成的构件,并且可以在与反射构件220的出射表面222的方向水平的方向(例如,Z轴方向)上***并紧固到反射支架210。
在本示例性实施方式中,反射模块200可以包括多个阻尼器支架241。例如,如图10和图11所示,反射模块200可以包括两个或更多个阻尼器支架241,并且两个或更多个阻尼器支架241可以联接到反射支架210并且反射构件220***其间,以在反射构件220的两侧彼此平行。
阻尼器支架241可以包括朝向反射支架210的上表面或下表面突出的至少一个第三阻尼器242。在本示例性实施方式中,至少一个第三阻尼器242可以通过阻尼器支架241联接到反射支架210。也就是说,第三阻尼器242可以通过连接到阻尼器支架241而固定到反射支架210而不是直接联接到反射支架210。
第三阻尼器242可以在垂直于反射模块200的反射构件220的入射表面221的方向上从反射支架210突出。例如,如图12所示,第三阻尼器242可以在垂直于反射构件220的入射表面221的方向(例如,Y轴方向)上从反射模块200的上表面或下表面突出。
在本示例性实施方式中,第三阻尼器242可以在与邻近反射模块200的透镜模块(例如,图2中的透镜模块30)的光轴方向(例如,图2中的Z轴方向)相交的方向(例如,图2中的Y轴方向)上从反射支架210突出。
在本示例性实施方式中,一个或多个第三阻尼器242可以设置在阻尼器支架241上。例如,如图12所示,两个第三阻尼器242可以分别设置在反射支架210的上表面和下表面上。
第三阻尼器242可以设置成面对反射支架210的部分表面。在本示例性实施方式中,容纳第三阻尼器242的至少一部分的第三阻尼器凹槽210a可以设置在反射支架210的部分表面中。第三阻尼间隙g3可以形成在第三阻尼器凹槽210a和第三阻尼器242之间作为分离空间。例如,如图12所示,第三阻尼器242的一部分可以容纳在反射支架210的第三阻尼器凹槽210a中,并且第三阻尼间隙g3可以形成在第三阻尼器242和第三阻尼器凹槽210a之间作为分离空间。第三阻尼间隙g3可以是当第三阻尼器242和反射支架210在垂直于入射表面221的方向上彼此间隔开时形成的空间。在根据本示例性实施方式的反射模块200中,第三阻尼器242可以通过阻尼器支架241联接到反射支架210,而不是直接设置在反射支架210上,并且因此可以容易地形成第三阻尼间隙g3并保持它们之间的距离。
当反射支架210移动时,第三阻尼器242可以首先与相机模块10的另一固定装置或反射模块组件碰撞,从而吸收由碰撞引起的冲击的能量。例如,当反射支架210朝向壳体20的下表面旋转时,第三阻尼器242在反射模块200的部件之中可以首先与壳体20的下表面碰撞。
第三阻尼器242可以由具有预定弹性的材料形成,以吸收施加到反射模块200的冲击,并且可以包括,例如,氨基甲酸乙酯、硅树脂、多孔橡胶、泡沫树脂、环氧树脂或聚合材料。
第三阻尼间隙g3可以形成在第三阻尼器242和反射支架210之间,并且因此当反射支架210与相机模块10的另一部件碰撞时缓冲施加到第三阻尼器242的冲击,从而进一步减少传递到反射支架210的冲击量。
在本示例性实施方式中,第三阻尼器242可以具有立方体形状。然而,第三阻尼器242不限于该形状,并且例如可以具有诸如方形柱、圆形柱或多面体的各种形状中的任一种,或者可以具有更突出的表面以增加阻尼效果。
根据本示例性实施方式的反射模块200可以容纳在壳体20的内部空间中,并基于壳体20移动。例如,如图12所示,反射模块200可由引导构件60支承以朝向壳体20的上表面或下表面旋转。
根据本示例性实施方式的反射模块200可以移动或旋转反射支架210以执行自动对焦功能或光学图像防抖功能,并且包括第三阻尼器242以保护反射构件220免受在该移动或旋转期间由于与壳体20的内表面碰撞而引起的冲击。例如,如图12所示,第三阻尼器242可以在垂直于反射构件220的入射表面221的方向(例如,Y轴方向)上从反射支架210突出。
在本示例性实施方式中,当反射模块200在壳体20中移动时,第三阻尼器242可以首先与相机模块10的上表面或下表面接触。例如,当反射模块200朝向壳体20的下表面移动时,第三阻尼器242可以首先与壳体20的下表面接触,并且当反射模块200朝向壳体20的上部移动时,第三阻尼器242可以首先与上盖21接触。因此,施加到反射模块200的外部冲击可以由第三阻尼器242和第三阻尼间隙g3吸收,并且可以防止反射构件220或反射支架210由于冲击而损坏或变形。此外,冲击的大部分能量可以由第三阻尼器242和第三阻尼间隙g3吸收,从而即使在反射模块200与壳体20的内壁碰撞时也能够抑制冲击声或联合噪声的发生。
在另一示例性实施方式中,阻尼构件可以是其中安置磁体的安置部分的至少一部分。在下文中,说明书参照图13至图15描述了包括阻尼构件340的反射模块300,该阻尼构件340是安置部分311的至少一部分。
图13是根据该另一示例性实施方式的相机模块10中的壳体20和反射模块300的分解立体图;图14是图13所示的反射模块300的分解立体图;以及图15是示出图13的反射模块300的设置的示例性截面图。参照图13至图15描述的反射模块300可以包括上面参照图10至图12描述的反射模块200的特征,并且省略了冗余描述。
在本示例性实施方式中,反射模块300可以包括阻尼构件340,该阻尼构件340可以吸收施加到反射构件320、反射支架310和反射模块300的冲击。
阻尼构件340可以包括至少一个第三阻尼器342和将第三阻尼器342固定到反射支架310的阻尼器支架341。阻尼器支架341可以在支承第三阻尼器342的同时联接到反射支架310,并且用于将第三阻尼器342固定到反射支架310。当反射支架310移动时,第三阻尼器342可以首先与壳体20或相机模块10的另一固定装置碰撞,从而吸收由碰撞引起的施加到反射模块300的冲击的能量。例如,如图15所示,第三阻尼器342可以朝向透镜模块30设置在阻尼器支架341上,并且可以具有比阻尼器支架341朝向壳体20的上部或下部突出更多的至少一部分。因此,当反射模块300旋转时,第三阻尼器342可以首先与位于反射支架310的三侧方向上的固定装置(例如,壳体20的上表面或下表面或反射模块300和透镜模块30之间的固定装置)碰撞,从而吸收碰撞能量。
在本示例性实施方式中,阻尼器支架341可以紧固到反射支架310。例如,如图14所示,阻尼器支架341可以在从透镜模块30到反射模块300的方向(例如,图14中的Z轴方向)上***并联接到反射支架310。
为了将阻尼器支架341紧固到反射模块300,反射支架310和阻尼器支架341可以选择性地包括紧固突起310a和310b或紧固凹槽341a和341b。例如,如图14所示,反射支架310可以包括一个或多个紧固突起310a和310b,并且阻尼器支架341可以包括一个或多个紧固凹槽341a和341b,紧固突起310a和310b***该紧固凹槽341a和341b中。以这种方式,阻尼器支架341和反射支架310可以精确且稳定地彼此联接。
在本示例性实施方式中,反射模块300还可以包括旋转反射支架310的驱动单元330。例如,驱动单元330可以包括线圈332和磁体331,并且线圈332或磁体331可以设置在壳体20或反射支架310上。反射支架310可以包括其中安置线圈332或磁体331的安置部分311。
在本示例性实施方式中,阻尼器支架341可以***反射支架310中,以成为其中安置驱动单元330的磁体331或线圈332的安置部分311的至少一部分。例如,如图14所示,反射支架310的安置部分311可以具有至少一个开口侧表面(例如,安置部分311的面对透镜模块30的部分),并且阻尼器支架341可以在联接到反射支架310时覆盖安置部分311的一个开口侧表面。因此,安置在安置部分311中的磁体331的至少一个侧表面可以直接面对阻尼器支架341。由于这种结构,可以省略与反射支架310的安置部分311的一个开口侧表面相对应的部分,并且因此反射支架310可以具有较小的重量。此外,参照图15,驱动单元330的磁体331可以设置得更靠近设置在反射模块300外部的阻尼器支架341。因此,磁体331可以尽可能远离引导构件60和形成反射支架310的旋转轴的球构件61设置,以产生大的旋转扭矩。可以使用轻量反射支架310和大的旋转扭矩来精确且快速地控制根据本示例性实施方式的反射模块300的旋转量。
如上所述,根据示例性实施方式,可以最小化当反射模块与和其相邻的固定装置碰撞时发生的冲击。
根据示例性实施方式,可以通过减轻由反射模块接收的冲击来增加反射模块的结构可靠性。
根据示例性实施方式,可以减小当反射模块与和其相邻的固定装置碰撞时发生的冲击声,从而防止噪声(或联合噪声)的发生。
虽然上文已经示出和描述了具体的示例,但是在理解本公开之后将显而易见的是,在不背离权利要求及其等同方案的精神和范围的情况下,可对这些示例作出形式和细节上的各种改变。本文中描述的示例应仅以描述性的意义进行理解,而不是出于限制的目的。每个示例中的特征或方面的描述应理解为可适用于其它示例中的类似特征或方面。如果所描述的技术以不同的顺序执行,和/或如果所描述的***、架构、设备或电路中的部件以不同的方式组合和/或由其它部件或其等同物替换或补充,则仍可实现适当的结果。因此,本公开的范围不由具体实施方式限定,而是由权利要求及其等同方案限定,并且在权利要求及其等同方案的范围内的所有变型都应被理解为包括在本公开中。
Claims (22)
1.反射模块组件,包括:
壳体,具有内部空间;以及
反射模块,容纳在所述壳体的所述内部空间中,
其中,所述反射模块包括反射支架、驱动单元、至少一个阻尼器以及阻尼器支架,所述反射支架支承配置成改变入射光的路径的反射构件,所述驱动单元配置成移动所述反射支架,所述至少一个阻尼器联接到所述反射支架,所述阻尼器支架支承所述至少一个阻尼器,以及
其中,所述至少一个阻尼器通过所述阻尼器支架联接到所述反射支架。
2.根据权利要求1所述的反射模块组件,其中,在所述至少一个阻尼器和所述反射支架之间形成阻尼间隙。
3.根据权利要求2所述的反射模块组件,其中,所述至少一个阻尼器在垂直于所述反射构件的入射表面的方向上突出。
4.根据权利要求1所述的反射模块组件,其中,所述阻尼器支架包括第一延伸部分和紧固部分,所述第一延伸部分跨过所述反射支架的下表面延伸,所述紧固部分从所述第一延伸部分的两个端部中的每一个弯曲并延伸,并将所述阻尼器支架固定到所述反射支架,以及
其中,所述至少一个阻尼器包括至少一个第一阻尼器,所述至少一个第一阻尼器***所述第一延伸部分并由所述第一延伸部分支承。
5.根据权利要求4所述的反射模块组件,其中,所述第一延伸部分与所述反射支架的所述下表面接触,
其中,容纳所述至少一个第一阻尼器的至少一部分的第一阻尼器凹槽设置在所述反射支架的所述下表面中,以及
其中,在所述第一阻尼器凹槽和所述至少一个第一阻尼器之间形成第一阻尼间隙。
6.根据权利要求4所述的反射模块组件,其中,所述至少一个第一阻尼器包括在所述第一延伸部分的长度方向上设置在所述第一延伸部分上的多个第一阻尼器,以及
其中,所述多个第一阻尼器之间的距离等于或小于所述反射构件的宽度。
7.根据权利要求4所述的反射模块组件,其中,所述反射模块的所述至少一个第一阻尼器配置成在所述反射支架朝向所述壳体的下表面移动时首先与所述壳体的所述下表面接触。
8.根据权利要求7所述的反射模块组件,其中,所述壳体还包括突起,所述突起从所述壳体的所述下表面的面对所述至少一个第一阻尼器的一部分朝向所述反射支架突出。
9.根据权利要求4所述的反射模块组件,其中,所述反射支架还包括紧固突起,所述紧固突起朝向所述阻尼器支架突出,以及
其中,所述阻尼器支架的所述紧固部分中设置有紧固凹槽,所述紧固突起***所述紧固凹槽中。
10.根据权利要求4所述的反射模块组件,其中,所述阻尼器支架还包括第二延伸部分,所述第二延伸部分分别从所述紧固部分的端部在相对方向上沿着所述反射支架的上表面延伸,以及
其中,所述至少一个阻尼器包括至少一个第二阻尼器,所述至少一个第二阻尼器***所述第二延伸部分并由所述第二延伸部分支承。
11.根据权利要求10所述的反射模块组件,其中,所述第二延伸部分以对应于所述反射构件的宽度或更大的距离彼此间隔开。
12.根据权利要求10所述的反射模块组件,其中,容纳所述至少一个第二阻尼器的至少一部分的第二阻尼器凹槽设置在所述反射支架的所述上表面中,以及
其中,在所述第二阻尼器凹槽和所述至少一个第二阻尼器之间形成第二阻尼间隙。
13.根据权利要求10所述的反射模块组件,还包括覆盖所述壳体的上盖,
其中,所述反射模块的所述至少一个第二阻尼器配置成在所述反射支架朝向所述上盖移动时首先与所述上盖接触。
14.根据权利要求1所述的反射模块组件,其中,所述阻尼器支架包括联接部分和弯曲部分,所述联接部分平行于所述反射构件的出射表面延伸并联接到所述反射支架,所述弯曲部分在所述联接部分的两个端部中的每一个处弯曲,以及
其中,所述至少一个阻尼器包括至少一个第三阻尼器,所述至少一个第三阻尼器***所述弯曲部分并由所述弯曲部分支承。
15.根据权利要求14所述的反射模块组件,其中,所述至少一个第三阻尼器设置成面对所述反射支架的部分表面,以及
其中,在所述至少一个第三阻尼器和所述反射支架的所述部分表面之间形成第三阻尼间隙。
16.根据权利要求14所述的反射模块组件,其中,所述阻尼器支架包括多个阻尼器支架,以及
其中,所述多个阻尼器支架联接到所述反射支架,并且所述反射构件***在所述多个阻尼器支架之间。
17.相机模块,包括:
根据权利要求1所述的反射模块组件;
透镜模块组件,从所述反射构件发出的光通过所述透镜模块组件;以及
图像传感器,配置成将通过所述透镜模块组件的光转换为电信号。
18.根据权利要求17所述的相机模块,其中,所述透镜模块组件包括在光轴方向上设置的至少一个透镜镜筒。
19.根据权利要求18所述的相机模块,其中,包括在所述反射模块组件中的所述至少一个阻尼器在与所述光轴方向相交的方向上从所述反射支架突出。
20.用于相机模块的反射模块,包括:
壳体;
反射支架,设置在所述壳体中并且能够基于所述壳体在第一方向上移动;
反射构件,设置在所述反射支架上,并且配置成改变光的路径;
驱动单元,配置成移动所述反射支架;
阻尼器支架,联接到所述反射支架;以及
阻尼器,设置在所述阻尼器支架上,并且在所述第一方向上突出。
21.根据权利要求20所述的反射模块,其中,所述阻尼器突出通过所述阻尼器支架,并且所述阻尼器与所述反射支架以阻尼间隙间隔开。
22.根据权利要求21所述的反射模块,其中,所述阻尼器支架配置成在所述阻尼器接触所述反射支架之前在沿所述第一方向施加到所述阻尼器上的力的作用下弹性弯曲。
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