CN115135300A - 包含具有主体基团和/或客体基团的含硅氧烷键的高分子化合物的化妆品 - Google Patents
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Abstract
本公开的目的在于提供具有优异的使用感的化妆品。一种化妆品，其含有由具有主体基团的高分子化合物形成的主体及由具有客体基团的高分子化合物形成的客体、或者由具有主体基团及客体基团的高分子化合物形成的主‑客体，并且，具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者具有主体基团及客体基团的高分子化合物包含硅氧烷键。
Description
技术领域
本公开涉及包含具有主体基团和/或客体基团的含硅氧烷键的高分子化合物的化妆品。
背景技术
通过利用经交联的高分子化合物形成皮膜是已知的。特别是包含经交联的有机硅树脂的皮膜形成剂已被广泛用作为各种涂层剂、化妆品。
专利文献1公开了含有三甲基甲硅烷氧基硅酸等作为皮膜形成剂的化妆品。
另外已知，由具有主体基团的高分子化合物形成的主体及由具有客体基团的高分子化合物形成的客体、或者由具有主体基团及客体基团的高分子化合物形成的主-客体，能够利用其主体基团及客体基团的组合而可逆性地形成键(专利文献2)。
专利文献3公开了含有主体基团的单体、含有客体基团的单体及丙烯酸系单体的水系溶剂溶液的制造方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2019-99576号公报
专利文献2：国际公开第2012/036069号
专利文献3：国际公开第2013/162019号
发明内容
发明所要解决的课题
含有经交联的高分子化合物的现有化妆品存在使用感不足的情况。具体而言，含有经交联的高分子化合物的现有化妆品中，存在如下情况：在应用至肌肤等之后，就密贴感、紧致感、和/或紧绷感而言，具有不理想的使用感。
因此，本公开的目的在于提供具有优异的使用感的化妆品。
本申请的发明人为了解决这样的课题而反复进行了深入研究，以至发明了本申请。
用于解决课题的手段
即，本公开涉及的发明包括下述方式：
<方式1>
一种化妆品，其含有由具有主体基团的高分子化合物形成的主体及由具有客体基团的高分子化合物形成的客体、或者由具有主体基团及客体基团的高分子化合物形成的主-客体，并且，
上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者上述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，包含硅氧烷键。
<方式2>
根据方式1所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物包含硅氧烷键。
<方式3>
根据方式1所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者上述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，在主链中包含硅氧烷键。
<方式4>
根据方式3所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物在主链中包含硅氧烷键。
<方式5>
根据方式1～4中任一项所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物在侧链中具有主体基团，并且
上述具有客体基团的高分子化合物在侧链中具有客体基团。
<方式6>
根据方式1～4中任一项所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物在侧链中具有主体基团，并且
上述具有客体基团的高分子化合物在末端具有客体基团。
<方式7>
根据方式1～4中任一项所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物在末端具有主体基团，并且
上述具有客体基团的高分子化合物在侧链中具有客体基团。
<方式8>
根据方式1～7中任一项所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者上述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，进行了交联。
<方式9>
根据方式1～8中任一项所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者上述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，具有下述的式(1)表示的结构：
[式(1)中，R1～R6各自独立地为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、1价的杂环基、1价的螺环化合物、1价的稠合环化合物、-RR1-COOH表示的基团、或-RR2-C(O)O-RR3表示的基团，这些基团可具有取代基，RR1、RR2、及RR3各自为碳原子数1～10的烷基或亚烷基；X1及X2各自独立地为O、Si(OH)2、Si(R10)2、N(H)、或N(COCH3)，或者为氨基甲酸酯键、脲键，或者为醚键、酰胺键、或酯键，或者为羰基、亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、2价的杂环基、氨基甲酸酯基、脲基、或亚芳基，这些基团可具有取代基；R10为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、或杂环基，这些基团可具有取代基；多个R10各自可以相同也可以不同；X1及X2各自存在多个的情况下，它们可以相同也可以不同；p及q各自独立地表示0以上的整数；RY为主体基团；RZ为客体基团；h、i、j、及k各自表示0以上的整数，它们彼此可以相同也可以不同；至少j或k为1以上的整数；n表示1以上的整数。]。
<方式10>
根据方式9所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物具有上述式(1)表示的结构。
<方式11>
根据方式9或10所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者上述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，在主链中具有上述式(1)表示的结构。
<方式12>
根据方式9或10所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者上述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，具有乙烯基主链、丙烯酸系主链、氨基甲酸酯主链、环氧主链、聚酰亚胺主链、聚酯主链、聚脲主链、或聚碳酸酯主链，并且，在侧链中具有上述式(1)表示的结构。
<方式13>
根据方式1～12中任一项所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者上述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，具有下述的式(2)表示的结构单元：
[式(2)中，R1～R6各自独立地为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、1价的杂环基、1价的螺环化合物、1价的稠合环化合物、-RR1-COOH表示的基团、或-RR2-C(O)O-RR3表示的基团，这些基团可具有取代基，RR1、RR2、及RR3各自为碳原子数1～10的烷基或亚烷基；X1及X2各自独立地为O、Si(OH)2、Si(R10)2、NH、或N(COCH3)，或者为氨基甲酸酯键、脲键，或者为醚键、酰胺键、或酯键，或者为羰基、亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、2价的杂环基、氨基甲酸酯基、脲基、或亚芳基，这些基团可具有取代基；R10为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、或杂环基，这些基团可具有取代基；多个R10各自可以相同也可以不同；X1及X2各自存在多个的情况下，可以相同也可以不同；p及q各自独立地表示0以上的整数；RY为主体基团；RZ为客体基团；h、i、j、及k各自表示0以上的整数，它们彼此可以相同也可以不同，至少j或k为1以上的整数；n表示1以上的整数；Rm1～Rm3各自独立地为氢原子，或者为烷基，Y1为醚键、酰胺键、或酯键，Rm4为亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、或亚芳基，这些基团可具有取代基，Y2为醚键、酰胺键、或酯键、O、Si(OH)2、Si(R10)2、N(H)、或N(COCH3)，a、b、c各自独立地表示0～3的整数；*表示构成高分子化合物的主链的单键。]。
<方式14>
根据方式13所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物具有上述式(2)表示的结构。
<方式15>
根据方式13或14所述的化妆品，上述具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者上述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，还具有下述的式(3)表示的结构单元：
[式(3)中，Rm5～Rm7各自独立地为氢原子，或者为烷基，Y3为醚键、酰胺键、或酯键，Rm8为亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、或亚芳基，这些基团可具有取代基，Y4为氢原子、烷基、羟基、Si(OH)3、Si(R10)3、NH2、C(O)CH3、C(O)NH2、或N(COCH3)，d及e各自独立地表示0～3的整数；*表示构成高分子化合物的主链的单键。]。
<方式16>
根据方式9～15中任一项所述的化妆品，在上述式(1)和/或上述式(2)中，
RY表示的主体基团为α-环糊精、β-环糊精、或γ-环糊精，并且，
RZ表示的客体基团为可具有取代基的烷基、或可具有取代基的芳基。
<方式17>
根据方式9～16中任一项所述的化妆品，在上述式(1)和/或上述式(2)中，R1、R2、R3、R4及R5为甲基。
<方式18>
根据方式9～16中任一项所述的化妆品，在上述式(1)和/或上述式(2)中，k＝0，并且，
R1～R3、R5、及R6为烷基。
<方式19>
根据方式9～16中任一项所述的化妆品，在上述式(1)和/或上述式(2)中，k＝0，
R1～R3及R5为甲基，并且
R6为戊基。
<方式20>
根据方式9～19中任一项所述的化妆品，在上述式(1)或(2)中，
(X1)p为-(CH2)3-N(COCH3)-，并且j为1以上的整数，并且/或者
(X2)q为-R11-CO-O-或-R11-CO-NH-，R11为可具有取代基的碳原子数1～12的亚烷基，并且k为1以上的整数。
<方式21>
根据方式1～20中任一项所述的化妆品，上述主体基团和上述客体基团为以下的组合(a)～(c)中的任一种：
(a)上述主体基团为α-环糊精，并且，
上述客体基团为选自由(1)碳原子数4～18的直链烷基、(2)具有羟基的碳原子数4～18的直链烷基、(3)具有羧基的碳原子数4～18的直链烷基、(4)具有氨基的碳原子数4～18的直链烷基、(5)环状烷基、(6)苯基、(7)偶氮苯基、及(8)肉桂酸基组成的组中的至少1种；
(b)上述主体基团为β-环糊精，并且，
上述客体基团为选自由(1′)叔丁基、(2′)金刚烷基、(3′)芳基、(4′)具有羟基的芳基、(5′)具有羧基的芳基、(6′)具有氨基的芳基、(7′)二茂铁基、(8′)偶氮苯基、及(9′)丹磺酰基组成的组中的至少1种；
(c)上述主体基团为γ-环糊精，并且，
上述客体基团为选自由(1″)碳原子数18以下的烷基、(2″)具有羟基的碳原子数18以下的烷基、(3″)具有羧基的碳原子数18以下的烷基、(4″)具有氨基的碳原子数18以下的烷基、(5″)金刚烷基、(6″)具有由碳原子构成的团簇类的基团、(7″)具有芳基的丹磺酰基、(8″)二茂铁基、及(9″)蒽基组成的组中的至少1种。
<方式22>
根据方式1～19中任一项所述的化妆品，其还包含溶剂。
<方式23>
根据方式20所述的化妆品，上述溶剂为挥发性的有机硅、或挥发性的烃化合物。
发明效果
根据本公开，可提供具有优异的使用感的化妆品。
具体实施方式
《化妆品》
本公开涉及的化妆品含有由具有主体基团的高分子化合物形成的主体及由具有客体基团的高分子化合物形成的客体、或者由具有主体基团及客体基团的高分子化合物形成的主-客体，并且，
具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者具有主体基团及客体基团的高分子化合物，包含硅氧烷键。
通过介由共价键使高分子化合物交联来形成皮膜的现有化妆品中，在应用于肌肤等的情况下，有时得不到良好的使用感。
与此相对，本申请的发明人发现，含有具有主体基团和/或客体基团的高分子化合物的化妆品与现有化妆品相比具有优异的使用感。具体而言，发现含有具有主体基团和/或客体基团的含硅氧烷键的高分子化合物的化妆品，就密贴感、紧致感、及紧绷感而言，具有优异的特性。此外，本公开涉及的化妆品的持妆性也优异。
虽然并不意在用理论来限定，但认为：由于本公开涉及的化妆品含有具有主体基团和/或客体基团的高分子化合物，因此，在应用于肌肤等的情况下，高分子化合物彼此藉由主-客体相互作用而键合，形成皮膜(化妆涂膜)。因此，认为本公开涉及的化妆品在紧致感上显示出优异的特性。
另外，虽然并不意在用理论来限定，但认为：藉由主-客体相互作用的键合是基于非共价键的键合，因此，由本公开涉及的化妆品形成的化妆涂膜与利用共价键使高分子间键合从而形成的化妆涂膜相比，弹性较高(杨氏模量小)，结果，就密贴感及紧绷感而言显示出优异的特性。
此外，由于本公开涉及的化妆品使用了具有硅氧烷键的高分子化合物，因此，能够提供化学上特别稳定的化妆品。
另外，含有具有硅氧烷键的高分子化合物的化妆品在烃油、硅油等非极性溶剂中的可溶性较高。具有主体基团和/或客体基团的现有高分子化合物有时在溶剂中的溶解性不充分。与此相对，本公开涉及的化妆品中所含有的高分子化合物具有硅氧烷键，由此，溶解性得以提高。在挥发性的非极性溶剂中的溶解性较高的情况下，变得容易通过涂布将化妆品应用于肌肤等，并且，能比较容易地形成均匀且薄的膜。
本公开涉及的化妆品可以特别合适地用作防晒(遮光)乳液、及防晒霜等紫外线防御化妆品；底妆(base make)、粉底、遮瑕膏、腮红、眼影、睫毛膏、眼线、眉粉、外涂剂、及口红等彩妆化妆品。
<主体基团及客体基团>
所谓“主-客体相互作用”，是指在主体基团与客体基团之间形成的键。主体基团通过将客体基团包合而与客体基团键合。在客体基团的大小适于被摄入主体基团的内部空间中、并且主体基团与客体基团具有疏水性相互作用、氢键、静电相互作用、及配位键合中的至少1种以上所参与的相互作用的情况下，产生主-客体相互作用。
(主体基团)
作为主体基团，可举出例如环糊精(CD)。具体而言，可举出α-环糊精、β-环糊精及γ-环糊精。在使用这些基团作为主体基团的情况下，能够形成稳定的主-客体相互作用。
(客体基团)
客体基团只要是能相对于对应的主体基团成为客体基团的基团，就没有特别限制。作为客体基团，可举出例如，可具有取代基的烷基、及可具有取代基的芳基等。作为客体基团的可具有取代基的烷基及可具有取代基的芳基，具有1～18、优选为3～12、更优选为3～9的碳原子数。另外，作为客体基团，可举出三烷基甲硅烷基(例如三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、及三丙基甲硅烷基、特别是三甲基甲硅烷基)。
客体基团中，作为可具有取代基的烷基，可举出例如，直链、支链或环状的C1～18的烷基。具体而言，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、环戊基、己基、环己基、异己基、十二烷基、十八烷基、金刚烷基等烷基。其中优选为金刚烷基或丁基，特别优选为金刚烷基。该烷基例如可以具有1～3个卤素原子(例如氟、氯、溴等)、羧基、酯基、酰胺基、可被保护的羟基等取代基。也可以是键合有作为有机金属络合物的二茂铁作为取代基的烷基。
客体基团中，作为可具有取代基的芳基，可举出例如单环或2环以上的芳基，具体而言，可举出苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、蒽基、菲基等。该芳基例如可以具有1～3个烷基(例如C1～18烷基等)、卤素原子(例如氟、氯、溴等)、羧基、酯基、酰胺基、具有芳基的偶氮基、可被保护的羟基等取代基。
(主体基团与客体基团的组合)
在本公开涉及的一个实施方式中，化妆品中的主体基团和客体基团为以下的组合(a)～(c)中的任一种：
(a)主体基团为α-环糊精，并且，
客体基团为选自由(1)碳原子数4～18的直链烷基、(2)具有羟基的碳原子数4～18的直链烷基、(3)具有羧基的碳原子数4～18的直链烷基、(4)具有氨基的碳原子数4～18的直链烷基、(5)环状烷基、(6)苯基、(7)偶氮苯基、及(8)肉桂酸基组成的组中的至少1种；
(b)主体基团为β-环糊精，并且，
客体基团为选自由(1′)叔丁基、(2′)金刚烷基、(3′)芳基、(4′)具有羟基的芳基、(5′)具有羧基的芳基、(6′)具有氨基的芳基、(7′)二茂铁基、(8′)偶氮苯基、及(9′)丹磺酰基组成的组中的至少1种；
(c)主体基团为γ-环糊精，并且，
客体基团为选自由(1″)碳原子数18以下的烷基、(2″)具有羟基的碳原子数18以下的烷基、(3″)具有羧基的碳原子数18以下的烷基、(4″)具有氨基的碳原子数18以下的烷基、(5″)金刚烷基、(6″)具有由碳原子构成的团簇类的基团、(7″)具有芳基的丹磺酰基、(8″)二茂铁基、及(9″)蒽基组成的组中的至少1种。
<高分子化合物>
所谓“高分子化合物”，是指由1种以上的单体形成的聚合物，特别是具有分子量分布、且按聚苯乙烯换算的数均分子量为1×103以上(例如，1×103～1×108)的聚合物。高分子化合物可以为嵌段共聚物、无规共聚物、交替共聚物、接枝共聚物中的任意化合物，也可以为其他形态。
本公开涉及的具有主体基团和/或客体基团的高分子化合物可以为由单一的单体形成的聚合物，或者也可以为共聚物、嵌段共聚物、或接枝共聚物。
在本公开涉及的具有主体基团和/或客体基团的高分子化合物中所含有的硅氧烷键中，构成硅氧烷键的硅原子(Si)优选具有氢原子、或RS表示的基团。在此，RS为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、或1价的杂环基，这些基团可具有取代基，RS存在多个的情况下，它们各自可以相同也可以不同。RS特别可以为碳原子数1～12的烷基、或可具有取代基的芳基。RS优选为碳原子数1～12的烷基，更优选为碳原子数1～6的烷基，特别优选为碳原子数1或2的烷基。
优选具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者具有主体基团及客体基团的高分子化合物，包含聚有机硅氧烷主链。在本公开涉及的化妆品中所含有的高分子化合物在主链中包含硅氧烷键的情况、或者包含聚有机硅氧烷主链的情况下，有时化妆品的化学稳定性进一步提高，因此是优选的，另外，对于烃油及硅油等显示出更优异的溶解性，因此是优选的。
本公开涉及的高分子化合物可以在主链或侧链中具有聚有机硅氧烷单元。在本公开涉及的高分子化合物包含聚有机硅氧烷单元的情况下，相对于高分子化合物整体，聚有机硅氧烷单元的比例可以为20重量％以上、30重量％以上、或40重量％以上，并且/或者，可以为100重量％以下、90重量％以下、80重量％以下、70重量％以下、或60重量％以下。在聚有机硅氧烷单元的比例为该范围的情况下，高分子化合物的化学稳定性及溶解性进一步提高。
特别优选具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物均在主链中包含硅氧烷键。在本公开涉及的化妆品中所含有的具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物均在主链中包含硅氧烷键的情况下，本公开涉及的化妆品对于烃油及硅油等的溶解性进一步提高。
在本公开涉及的具有主体基团和/或客体基团的高分子化合物包含硅氧烷键的情况下，作为这样的高分子化合物(以下，也称为“硅氧烷高分子化合物”)，可举出例如，聚有机硅氧烷；聚有机硅氧烷与乙烯基树脂、丙烯酸树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂、聚酯树脂、或聚碳酸酯树脂形成的嵌段共聚物；在乙烯基树脂、丙烯酸树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂、聚酯树脂、或聚碳酸酯树脂上接枝聚有机硅氧烷而成的接枝共聚物。这些树脂和/或聚有机硅氧烷可以具有除主体基团和/或客体基团以外的取代基。另外，在本公开涉及的具有主体基团和/或客体基团的高分子化合物包含硅氧烷键的情况下，作为这样的高分子化合物，可以举出例如，丙烯酸系有机硅树脂、丙烯酸系-有机硅系接枝共聚物、聚降冰片烯与有机硅形成的共聚物、普鲁兰多糖与有机硅形成的共聚物等。
作为聚有机硅氧烷，可举出例如，甲基聚硅氧烷、苯基聚硅氧烷、甲基苯基聚硅氧烷，这些聚硅氧烷可以具有除主体基团和/或客体基团以外的取代基。本公开涉及的高分子化合物特别优选具有甲基聚硅氧烷骨架。
优选具有主体基团的高分子化合物及上述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者上述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，具有下述的式(1)表示的结构：
[式(1)中，R1～R6各自独立地为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、1价的杂环基、1价的螺环化合物、1价的稠合环化合物、-RR1-COOH表示的基团、或-RR2-C(O)O-RR3表示的基团，这些基团可具有取代基，RR1、RR2、及RR3各自为碳原子数1～10的烷基或亚烷基；X1及X2各自独立地为O、Si(OH)2、Si(R10)2、NH、或N(COCH3)，或者为氨基甲酸酯键、脲键，或者为醚键、酰胺键、或酯键，或者为羰基、亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、2价的杂环基、氨基甲酸酯基、脲基、或亚芳基，这些基团可具有取代基；R10为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、或杂环基，这些基团可具有取代基；多个R10各自可以相同也可以不同；X1及X2各自存在多个的情况下，它们可以相同也可以不同；p及q各自独立地表示0以上的整数；RY为主体基团；RZ为客体基团；h、i、j、及k各自表示0以上的整数，它们彼此可以相同也可以不同；至少j或k为1以上的整数；n表示1以上的整数。]。
优选地，在本公开涉及的化妆品中，具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物具有上述的式(1)表示的结构。
在本公开涉及的树脂组合物中所含有的高分子化合物具有上述的式(1)表示的结构的情况下，该高分子化合物可以具有在上述的式(1)表示的结构的两端键合有末端基团的结构。
作为可键合于上述的式(1)表示的结构的末端的末端基团(RE)，可举出碳原子数为1～10的烷基、特别是碳原子数1～6的烷基、或Si(RE1)3-表示的基团，在此，RE1为氢原子，或者为碳原子数为1～10的烷基、或芳基。
在本公开涉及的一个优选实施方式中，具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者具有主体基团及客体基团的高分子化合物，在主链中具有上述的式(1)表示的结构。
本公开涉及的高分子化合物可以为例如，乙烯基树脂、丙烯酸树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂、聚酯树脂、或聚碳酸酯树脂、与具有上述的式(1)表示的结构的聚有机硅氧烷形成的嵌段共聚物。
在本公开涉及的其他的优选实施方式中，化妆品中所含有的高分子化合物具有乙烯基主链、丙烯酸系主链、氨基甲酸酯主链、环氧主链、聚酰亚胺主链、聚酯主链、聚脲主链、或聚碳酸酯主链，并且，在侧链中具有上述式(1)表示的结构。
具体而言，本公开涉及的高分子化合物可以为例如，在乙烯基树脂、丙烯酸树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂、聚脲树脂、聚酰亚胺树脂、聚酯树脂、或聚碳酸酯树脂等上接枝具有上述的式(1)表示的结构的聚有机硅氧烷而成的接枝聚合物。
在本公开涉及的其他的优选实施方式中，具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者具有主体基团及客体基团的高分子化合物，具有下述的式(2)表示的结构单元：
[式(2)中，R1～R6各自独立地为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、1价的杂环基、氨基甲酸酯基、脲基、杂环基、1价的螺环化合物、1价的稠合环化合物、-RR1-COOH表示的基团、或-RR2-C(O)O-RR3表示的基团，这些基团可具有取代基，RR1、RR2、及RR3各自为碳原子数1～10的烷基或亚烷基；X1及X2各自独立地为O、Si(OH)2、Si(R10)2、N(H)、或N(COCH3)，或者为氨基甲酸酯键、脲键，或者为醚键、酰胺键、或酯键，或者为羰基、亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、2价的杂环基、氨基甲酸酯基、脲基、或亚芳基，这些基团可具有取代基；R10为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、或杂环基，这些基团可具有取代基；多个R10各自可以相同也可以不同；X1及X2各自存在多个的情况下，可以相同也可以不同；p及q各自独立地表示0以上的整数；RY为主体基团；RZ为客体基团；h、i、j、及k各自表示0以上的整数，它们彼此可以相同也可以不同，至少j或k为1以上的整数；n表示1以上的整数；Rm1～Rm3各自独立地为氢原子，或者为烷基，Y1为醚键、酰胺键、或酯键，Rm4为亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、或亚芳基，这些基团可具有取代基，Y2为醚键、酰胺键、或酯键、O、Si(OH)2、Si(R10)2、N(H)、或N(COCH3)，a、b、c各自独立地表示0～3的整数；*表示构成高分子化合物的主链的单键。]
在本公开涉及的优选实施方式中，具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者具有主体基团及客体基团的高分子化合物，除了上述的式(2)表示的结构单元之外还具有下述的式(3)表示的结构单元：
[式(3)中，Rm5～Rm7各自独立地为氢原子，或者为烷基，Y3为醚键、酰胺键、或酯键，Rm8为亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、或亚芳基，这些基团可具有取代基，Y4为氢原子、烷基、羟基、Si(OH)3、Si(R10)3、NH2、C(O)CH3、C(O)NH2、或N(COCH3)，d及e各自独立地表示0～3的整数；*表示构成高分子化合物的主链的单键。]。
优选具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物具有上述的式(2)表示的结构单元且任意具有上述的式(3)表示的结构单元。
在具有上述的式(2)表示的结构单元的高分子化合物的末端可以键合有末端基团(RE)。作为末端基团，可举出碳原子数为1～10的烷基、或Si(RE1)3-表示的基团，在此，RE1为氢原子，或者为碳原子数为1～10、1～6、1～3、或1～2的烷基、或芳基。
具有上述的式(2)及(3)表示的结构单元的高分子化合物可以为无规共聚物、嵌段共聚物、交替排列共聚物等，结构单元的排列顺序没有特别限定。
具有上述的式(2)表示的结构单元的高分子化合物中的结构单元的含有比例没有特别限定。例如，相对于构成具有上述的式(2)表示的结构单元的高分子化合物的结构单元(单体单元)整体，上述的式(2)表示的结构单元的含有比例可以为0.01摩尔％以上、0.1摩尔％以上、1.0摩尔％以上、5摩尔％以上、10摩尔％以上、或15摩尔％以上，并且/或者，可以为90摩尔％以下、75摩尔％以下、50摩尔％以下、25摩尔％以下、或20摩尔％以下。
另外，相对于构成具有上述的式(2)及(3)表示的结构单元的高分子化合物的结构单元(单体单元)整体，上述的式(2)表示的结构单元的含有比例可以为0.01摩尔％以上、0.1摩尔％以上、1.0摩尔％以上、5摩尔％以上、10摩尔％以上、或15摩尔％以上，并且/或者，可以为30摩尔％以下、25摩尔％以下、或20摩尔％以下，并且，上述的式(3)表示的结构单元的含有比例可以为70摩尔％以上、75摩尔％以上、或80摩尔％以上，并且/或者，可以为99.99摩尔％以下、99.9摩尔％以下、99摩尔％以下、95摩尔％以下、或90摩尔％以下。
在上述的式(2)中，Rm1～Rm3各自独立地为氢原子，或者为烷基，优选为氢原子、或者碳原子数1～12、1～6或1～3的烷基，特别优选为氢原子。Rm1～Rm3优选彼此相同。
在上述的式(2)中，Rm4优选为碳原子数1～12、1～6或1～3的亚烷基，或者为碳原子数6～12的亚芳基，特别优选为碳原子数1～12、1～6或1～3的亚烷基。
在上述的式(2)中，Y2优选为醚键、酰胺键、酯键、N(H)、或N(COCH3)，特别优选为醚键、酰胺键、或酯键。
在上述的式(2)中，a、b、c优选各自独立地为0～2的整数，特别优选为0或1。
在上述的式(3)中，Rm5～Rm7各自独立地为氢原子，或者为烷基，优选为氢原子、或者碳原子数1～12、1～6或1～3的烷基，特别优选为氢原子。Rm1～Rm3优选彼此相同。
在上述的式(3)中，Rm8优选为碳原子数1～12、1～6或1～3的亚烷基，或者为碳原子数6～12的亚芳基，特别优选为碳原子数1～12、1～6或1～3的亚烷基。
在上述的式(3)中，Y4优选为碳原子数1～12、1～6或1～3的烷基、C(O)CH3、C(O)NH2、或N(COCH3)。
在上述的式(2)中，d、e优选各自独立地为0～2的整数，特别优选为0或1。
在一个优选实施方式中，上述的式(2)中的Rm1、Rm2、Rm3、Rm4、Y1、a、及b分别与上述的(3)中的Rm5、Rm6、Rm7、Rm8、Y3、d、及e相同。
在上述的式(1)和/或式(2)中，RY表示的主体基团优选为α-环糊精、β-环糊精、或γ-环糊精。RZ表示的客体基团优选为可具有取代基的烷基、或可具有取代基的芳基。
R1～R5各自独立地优选为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、或芳基氧基，更优选为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、或芳基、芳基氧基，特别优选为烷基、环烷基、或芳基，最优选为烷基。作为R1～R5的烷基具有优选为1～10、更优选为1～6、特别优选为1～3、最优选为1～2的碳原子。
在上述的式(1)和/或式(2)中，关于RY及RZ，可以参照本公开中的与上述主体基团及客体基团相关的记载。
在上述的式(1)和/或式(2)中，R1、R2、R3、R4及R5优选为甲基或苯基，特别优选为甲基。在R1、R2、R3、R4及R5为甲基的情况下，在烃化合物或有机硅等非极性溶剂中的溶解性进一步提高。
为了使合成变得更容易，在上述的式(1)和/或式(2)中，优选R6为-RR1-COOH表示的基团、或-RR2-COO-RR3表示的基团，这些基团可具有取代基，RR1、RR2、及RR3各自为碳原子数1～10的烷基或亚烷基。RR1、RR2、及RR3各自可以为碳原子数1～8、碳原子数1～6、或碳原子数1～3的烷基或亚烷基。
特别地，在上述的式(1)和/或式(2)中，R1～R5可以为甲基，并且/或者，R6可以为-RR1-COOH表示的基团或-RR2-COO-RR3表示的基团。
本公开涉及的化妆品有时由于基于主-客体相互作用的自修复性而带来被改善的持妆性等优异的物性。虽然并不意在用理论来限定，但认为：例如在使用了本公开涉及的化妆品作为化妆涂膜的情况下，高分子化合物彼此藉由主-客体相互作用而可逆性地再键合，由此，填补化妆涂膜的损伤(包括无法目视到的微小损伤)，结果，化妆品的持妆性进一步提高。
在本公开涉及的一个优选实施方式中，在上述的式(1)和/或上述的式(2)中，k＝0，并且，R1～R3、R5、及R6为烷基。在该情况下，有时可得到显示出特别优异的持妆性的化妆品，因此是优选的。虽然并不意在用理论来限定，但认为：在构成具有主体基团的高分子化合物的主链或侧链的Si原子用烷基进行了修饰的情况下，与用具有较高的极性的取代基进行了修饰的情况相比，具有主体基团的高分子化合物与具有客体基团的高分子化合物的相容性提高，其结果是，可促进基于主-客体相互作用的键合(再键合)，因此，化妆品的自修复性进一步提高。
特别地，在上述的式(1)和/或上述的式(2)中，
k＝0，R1～R3及R5为甲基，并且，R6为碳原子数2以上的烷基，更优选为碳原子数4以上的烷基，进一步优选为碳原子数4～30、碳原子数4～24、碳原子数4～18、碳原子数4～12、或碳原子数4～8的烷基，特别是戊基。在该情况下，能够得到具有特别优异的自修复性的化妆品。
为了使合成变得更容易，在上述的式(1)和/或式(2)中，p和/或q各自优选为1～3，更优选为1或2。
X1及X2各自独立地优选为Si(OH)2、N(H)、或N(COCH3)，或者为酰胺键、或酯键，或者为羰基、亚烷基、亚环烷基、或亚芳基，更优选为N(H)或N(COCH3)，或者为酰胺键、或酯键，或者为亚烷基。
R10优选为氢原子，或者为烷基、环烷基、羧基、醛基、芳基，更优选为氢原子，或者为烷基、环烷基、芳基，特别优选为氢原子，或者为烷基。作为烷基的R10具有优选为1～10、更优选为1～6、特别优选为1～3的碳原子数。
为了使合成变得更容易，在上述的式(1)和/或式(2)中，X1优选为碳原子数1～10的亚烷基、N(COCH3)、酰胺键、或羰基。作为亚烷基的X1具有优选为1～6、更优选为1～4、特别优选为1～2的碳原子数。
在上述的式(1)和/或式(2)中，优选(X1)p为RP1-N(COCH3)或(CH2)2-N(COCH3)。另外，在上述的式(1)和/或式(2)中，特别优选-(X1)p-RY由-RP1-N(COCH3)-RY表示。RP1为可具有取代基的亚烷基，具有优选为1～10、更优选为1～6、特别优选为1～3的碳原子数。RP1优选不具有取代基。特别优选地，在上述的式(1)和/或式(2)中，(X1)p为(CH2)3-N(COCH3)。
为了使合成变得更容易，在上述的式(1)和/或式(2)中，X2优选为可具有取代基的碳原子数1～12的亚烷基、酰胺键、或羰基。作为亚烷基的X2具有优选为1～8、更优选为1～6、特别优选为1～3的碳原子数。
在上述的式(1)和/或式(2)中，(X2)q特别优选为-R11-CO-O-或-R11-CO-N(H)-。另外，在上述的式(1)和/或式(2)中，特别优选-(X2)q-RZ由-R11-CO-O-RZ、或-CO-N(H)-RZ表示。R11为可具有取代基的碳原子数1～12的亚烷基，具有优选为1～10、更优选为1～6、特别优选为2～4、最优选为3的碳原子数。R11优选不具有取代基。
在上述的式(1)和/或式(2)中，特别优选地，
(X1)p为-(CH2)3-N(COCH3)-，并且j为1以上的整数，并且/或者
(X2)q为-R11-CO-O-或-R11-CO-N(H)-，R11为可具有取代基的碳原子数1～12的亚烷基、特别是碳原子数3～6的亚烷基，并且k为1以上的整数。
为了使合成变得更容易，在上述的式(1)和/或式(2)中，X1及X2中的至少任一者由Si(R10)2表示的情况下，R10优选为氢原子、甲基、或苯基，特别优选为氢原子或甲基，最优选为甲基。
n可以为5以上、10以上、20以上、或50以上的整数，并且/或者，可以为1000以下、500以下、250以下、200以下、150以下、或100以下的整数。
关于上述的式(1)～(3)，作为烷基，可举出例如，可具有取代基的烷基、直链、支链或环状的C1～18的烷基。具体而言，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、环戊基、己基、环己基、异己基、十二烷基、十八烷基、金刚烷基等烷基。作为亚烷基，可以举出例如，直链、支链或环状的C1～18的亚烷基、亚甲基、亚乙基、亚正丙基、亚异丙基、亚正丁基、亚异丁基。
关于上述的式(1)～(3)，作为芳基，可举出可具有取代基的芳基，具体而言，可举出例如单环或2环以上的芳基，具体而言，可举出苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、蒽基、菲基等。作为亚芳基，可举出单环或2环的亚芳基、亚苯基等。
关于上述的式(1)～(3)，作为链烯基，可举出直链或支链状的碳原子数2～20的链烯基，例如乙烯基、1-丙烯-1-基、2-丙烯-1-基、异丙烯基、2-丁烯-1-基、4-戊烯-1-基、及5-己烯-1-基。
关于上述的式(1)～(3)，作为烷氧基，可举出碳原子数1～10的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基、戊基氧基、己基氧基。
关于上述的式(1)～(3)，作为取代基，可举出甲基及乙基等烷基，卤素原子、羧基、酯基、酰胺基、以及羟基。
(构成聚有机硅氧烷结构的各结构单元的存在比率)
在上述的式(1)或式(2)中，关于分别用h、i、j、及k进行了下标的各结构单元，可以将相对于构成上述的式(1)或式(2)表示的结构的结构单元全部的合计而言的各结构单元的存在比率Ph、Pi、Pj、及Pk分别如下所述地定义。
Ph＝100×h/(h+i+j+k)
Pi＝100×i/(h+i+j+k)
Pj＝100×j/(h+i+j+k)
Pk＝100×k/(h+i+j+k)
Ph、Pi、Pj、及Pk表示分别用h、i、j、及k进行了下标的各结构单元的摩尔数相对于构成上述的式(1)或式(2)表示的结构的全部结构单元的合计摩尔数的比例。
Ph的值可以为70mol％～100mol％，优选为90mol％～100mol％，更优选为95mol％～98mol％，进一步优选为96mol％～97mol％。
Pi的值可以为0mol％～30mol％，优选为0mol％～20mol％，更优选为0.5mol％～10mol％，进一步优选为1mol％～5mol％。
Pj的值可以为0.01mol％～25mol％、0.01mol％～10mol％、0.1mol％～5mol％、或0.1mol％～2mol％。优选Pj的值为0.1mol％～0.9mol％、0.2mol％～0.8mol％、0.3mol％～0.7mol％、或0.4mol％～0.6mol％，在该情况下，膜状或薄膜状的化妆品能具有特别良好的弹性。
Pk的值可以为0.01mol％～25mol％、0.01mol％～10mol％、0.1mol％～5mol％、或0.5mol％～3mol％。
Ph、Pi、Pj、及Pk的值可以由为了制造分别用h、i、j、及k进行了下标的各结构单元而使用的原料的投入量、及与高分子化合物有关的1H-NMR测定数据算出。
(主体基团及客体基团的位置)
在本公开涉及的化妆品的一个实施方式中，
化妆品中所含有的具有主体基团的高分子化合物，在侧链中具有主体基团，并且
化妆品中所含有的具有客体基团的高分子化合物，在侧链中具有客体基团。
在本公开涉及的化妆品的其他实施方式中，
化妆品中所含有的具有主体基团的高分子化合物，在侧链中具有主体基团，并且
化妆品中所含有的具有客体基团的高分子化合物，在末端具有客体基团。
在本公开涉及的化妆品的又一实施方式中，
化妆品中所含有的具有主体基团的高分子化合物，在末端具有主体基团，并且
化妆品中所含有的具有客体基团的高分子化合物，在侧链中具有客体基团。
(不包含硅氧烷键的高分子化合物)
在本公开涉及的一个实施方式中，化妆品中所包含的具有主体基团的高分子化合物或具有客体基团的高分子化合物不包含硅氧烷键。在该实施方式中，作为不包含硅氧烷键的高分子化合物(以下，也称为“非硅氧烷高分子化合物”。)，可举出例如，选自乙烯基化合物、丙烯酸系化合物、烯烃、苯乙烯、丙烯酸酯、及甲基丙烯酸酯中的至少1种单体的聚合物及共聚物、以及包含这些聚合物及共聚物的嵌段共聚物，可举出例如，乙烯基树脂、丙烯酸树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂、聚酯树脂、或聚碳酸酯树脂。这些树脂可以具有除主体基团和/或客体基团以外的取代基。关于具有客体基团和/或主体基团、并且不包含硅氧烷键的高分子化合物，可以参照专利文献2的记载。
(化妆品中所包含的高分子化合物的组合)
例如，本公开涉及的化妆品可以具有下述(i)～(iv)中的至少任一者的高分子化合物：
(i)具有主体基团的非硅氧烷高分子化合物、及具有客体基团的硅氧烷高分子化合物；
(ii)具有主体基团的硅氧烷高分子化合物、及具有客体基团的非硅氧烷高分子化合物；
(iii)具有主体基团的硅氧烷高分子化合物、及具有客体基团的硅氧烷高分子化合物；
(iv)具有主体基团及客体基团的硅氧烷高分子化合物。
(主体和客体的比例)
在化妆品包含具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物的情况下，化妆品中的各高分子化合物的含有比例没有特别限定。例如，相对于具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物的合计，具有主体基团的高分子化合物的含量可以为10～90质量％，并且具有客体基团的高分子化合物的含量可以为90质量％～10质量％。
化妆品中所含有的主体基团的量和客体基团的比例没有特别限定。优选地，化妆品中所含有的主体基团与客体基团的摩尔比可以为0.1∶1～1∶0.1。或者，在化妆品中，相对于具有主体基团的高分子化合物100质量份，可以含有1质量份以上、10质量份以上、或20质量份以上的具有客体基团的高分子化合物，并且/或者，可以含有1000质量份以下、250质量份以下、或100质量份以下的具有客体基团的高分子化合物。
《高分子化合物的制造》
<高分子化合物的制造：具有主体基团的非硅氧烷高分子化合物>
不包含硅氧烷键的、具有主体基团的高分子化合物(具有主体基团的非硅氧烷高分子化合物)可以利用已知的方法制造，例如，可以利用专利文献2中记载的方法制造。
<高分子化合物的制造：具有客体基团的非硅氧烷高分子化合物>
不包含硅氧烷键的、具有客体基团的高分子化合物(具有客体基团的非硅氧烷高分子化合物)可以利用已知的方法制造，例如，可以利用专利文献2中记载的方法制造。
<高分子化合物的制造：具有主体基团并且具有硅氧烷键的高分子化合物的制造>
具有主体基团的硅氧烷高分子化合物，例如可以利用具有下述工序的方法制造：
(i)高分子提供工序，提供具有硅氧烷键的高分子化合物(硅氧烷高分子化合物)；
(ii)主体基团前体提供工序，提供主体基团前体化合物；
(iii)主体基团加成反应工序，使硅氧烷高分子化合物及主体基团前体化合物在金属催化剂的存在下反应，得到具有主体基团的硅氧烷高分子化合物。
(高分子提供工序)
在高分子提供工序中，提供具有硅氧烷键的高分子化合物(硅氧烷高分子化合物)。具有硅氧烷键的高分子化合物优选为聚有机硅氧烷。具有硅氧烷键的高分子化合物优选具有适合与主体基团前体化合物反应的结构，例如，具有与Si直接键合的氢原子。
由高分子提供工序所提供的硅氧烷高分子化合物，例如可以为含有SiH的有机硅，具体而言，例如可以为具有下述的式(4)表示的结构的高分子：
[式(4)中，X表示1以上的整数；n表示1以上的整数]。
在上述式(4)中，X可以为2以上、5以上、10以上、或20以上，并且/或者，可以为95以下、90以下、75以下、或50以下。在上述式(3)中，n可以为5以上、10以上、或50以上，并且/或者，可以为1000以下、500以下、250以下、100以下、或75以下。
(主体基团前体提供工序)
在主体基团前体提供工序中，提供主体基团前体化合物。主体基团前体化合物优选具有用于与具有硅氧烷键的高分子化合物键合的连接体结构。作为主体基团前体化合物，可举出例如，具有连接体结构的环糊精。作为连接体结构，可举出例如乙烯基，特别可举出下述的式(XL)表示的基团。
C(H)2＝C(H)-C(H)2-N(COCH3)-*···(XL)
[式(XL)中，*表示与环糊精之间的单键。]
(主体基团加成反应工序)
在主体基团加成反应工序中，使硅氧烷高分子化合物及主体前体化合物在金属催化剂的存在下反应，得到具有主体基团的硅氧烷高分子化合物。例如，可以使具有与主链的Si直接键合的氢原子的硅氧烷高分子化合物、和具有乙烯基作为连接体结构的环糊精在金属催化剂的存在下反应，由此得到环糊精介由连接体结构与主链的Si原子键合而成的硅氧烷高分子化合物。
优选地，在主体基团加成反应之后，对高分子化合物中直接键合于Si原子的氢原子进行取代。由此，所得到的树脂材料的化学稳定性进一步提高。作为可在该取代中使用的化合物，可举出丙烯酸酯、或碳原子数2以上的烯烃。在使用了碳原子数2以上的烯烃的情况下，所得到的化妆品的自修复性特别优异，因此是优选的。碳原子数2以上的烯烃中，更优选的化合物为碳原子数5以上的烯烃，进一步优选的化合物为碳原子数5～30、碳原子数5～24、碳原子数5～18、碳原子数5～12、或碳原子数5～8的烯烃，特别是1-戊烯。
(金属催化剂)
作为上述的主体基团加成反应工序中所使用的金属催化剂，可举出铂(Pt)。
<高分子化合物的制造：具有客体基团并且具有硅氧烷键的高分子化合物的制造>
具有客体基团的硅氧烷高分子化合物，例如可以利用具有下述工序的方法制造：
(i)高分子提供工序，提供具有硅氧烷键的高分子化合物(硅氧烷高分子化合物)；
(ii)客体基团前体提供工序，提供客体基团前体化合物；
(iii)反应工序，使硅氧烷高分子化合物及客体基团前体化合物在溶剂中反应，得到具有客体基团的硅氧烷高分子化合物。
(高分子提供工序)
在高分子提供工序中，提供具有羧基且具有硅氧烷键的高分子化合物。具有硅氧烷键的高分子化合物优选为聚有机硅氧烷。由高分子提供工序所提供的具有硅氧烷键的高分子化合物优选具有适合用于与客体基团前体化合物反应而产生具有客体基团的硅氧烷高分子化合物的结构，例如，具有介由碳原子数1～12的亚烷基而与主链的Si键合的羧基。
(客体基团前体提供工序)
在客体基团前体提供工序中，提供客体基团前体化合物。客体基团前体化合物优选具有用于与具有硅氧烷键的高分子化合物键合的连接体结构。作为客体基团前体化合物，具体而言，可举出例如，具有连接体结构的金刚烷基。作为连接体结构，可举出例如氨基。
(反应工序)
在反应工序中，使硅氧烷高分子化合物及客体基团前体化合物在溶剂中反应，得到具有客体基团的硅氧烷高分子化合物。例如，可以在缩合剂的存在下，使具有介由烷基而与主链的Si键合的羧基的硅氧烷高分子化合物、和具有氨基作为连接体结构的金刚烷基在溶剂中反应，由此得到具有客体基团的硅氧烷高分子化合物。需要说明的是，在该情况下，具有客体基团的硅氧烷高分子化合物具有金刚烷基介由连接体结构而与构成硅氧烷高分子化合物的主链的Si原子键合的结构。作为缩合剂，可以举出例如，1-羟基苯并***(HOBt；东京化成工业株式会社，H0468，Cas：80029-43-2)及N,N′-二环己基碳二亚胺(DCC；ナカライテスク株式会社，11913-52，Cas：538-75-0)。
<高分子化合物的制造：具有主体基团及客体基团的硅氧烷高分子化合物>
具有主体基团及客体基团的硅氧烷高分子化合物，例如可以如下得到：使由上述方法制得的具有主体基团的硅氧烷高分子化合物、及由上述方法制得的具有客体基团的硅氧烷高分子化合物聚合，从而形成嵌段共聚物。
<高分子化合物的制造：具有主体基团和/或客体基团并且具有硅氧烷键的高分子化合物的制造>
具有主体基团和/或客体基团并且具有硅氧烷键的高分子化合物，例如也可以使下述的式(5)表示的单体与式(6)表示的单体进行聚合反应来制造。
聚合反应的方式没有特别限定，可以使用已知的方法。
关于上述的式(5)及式(6)中的各符号，可以参照针对上述的式(2)及式(3)中的各符号的记述。需要说明的是，RE表示末端基团。关于RE，也可以参照上述的记载。
(交联)
在本公开涉及的化妆品的一个实施方式中，具有主体基团的高分子化合物及具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者具有主体基团及客体基团的高分子化合物进行了交联。交联可以是除主-客体相互作用以外的、例如利用共价键进行的交联(例如硅氧烷交联)。
例如，具有主体基团的高分子化合物可以通过交联而形成主体，并且/或者，具有客体基团的高分子化合物可以通过交联而形成客体。
作为使高分子化合物交联的方法及交联剂，可以根据高分子化合物的种类而使用已知的方法及交联剂。交联例如可以通过光照射来形成。作为交联剂，可举出例如，N,N′-亚甲基双丙烯酰胺(MBAAm)、及乙二醇二甲基丙烯酸酯(EDMA)。
《化妆品的制造》
本公开涉及的化妆品，例如可以如下进行调制，分别独立地制造具有主体基团的高分子化合物、和具有客体基团的高分子化合物，将所得到的具有主体基团的高分子化合物、和具有客体基团的高分子化合物分别混合。在将具有主体基团的高分子化合物、和具有客体基团的高分子化合物混合时，例如，可以将两者均以固体状态混合，也可以在一者或两者为液体的状态下混合，或者，也可以在将一者或两者制成溶液的状态下混合。也可以为向一种高分子化合物的溶液中以固体状态添加另一种高分子化合物的方法。
使具有主体基团的高分子化合物和具有客体基团的高分子化合物混合的条件没有特别限定。例如，可以在混合时的温度、混合时间、混合手段等适宜的条件下进行。
在本公开涉及的化妆品的一个实施方式中，化妆品在室温下为糊状。作为化妆品中所含有的高分子化合物，选择在室温下为糊状的高分子化合物，由此可得到糊状的化妆品。或者，可以通过使高分子化合物溶解于溶剂而得到液体状的化妆品。在室温下为液体状或糊状的化妆品比较容易成膜，因此是特别优选的。
在室温下为液体状的高分子化合物，可以举出例如，在主链中具有聚有机硅氧烷的高分子化合物，特别是二甲基聚硅氧烷。
在制造化妆品时使高分子化合物溶解的溶剂没有特别限定，可举出例如，硅油、烃油剂。作为硅油，优选为选自八甲基环四硅氧烷、十甲基环戊硅氧烷、十二甲基环己硅氧烷、二甲基聚硅氧烷、辛基聚甲基硅氧烷中的1种或2种以上，更优选为选自十甲基环戊硅氧烷、二甲基聚硅氧烷中的1种或2种以上，进一步优选为聚合度10以下的二甲基聚硅氧烷。作为烃油剂，可以举出甲苯、及异十二烷，优选为异十二烷。
本公开涉及的化妆品中所包含的高分子化合物可以通过主-客体相互作用而彼此键合，也可以未通过主-客体相互作用而彼此键合。
化妆品可以形成为膜状。若化妆品为膜状，则可以作为应用于肌肤等上的化妆涂膜来使用。化妆品为膜状的情况下的厚度没有特别限制，可以根据用途而设定为适宜的厚度。例如，化妆品可以调节成1nm～1cm，从成膜性良好这样的方面考虑，可以调节成1μm～100μm。
(成型)
将化妆品成型为化妆涂膜的方法没有特别限定。例如，可以调制高分子化合物的溶液或分散液，涂布该溶液或分散液，由此将化妆品形成为化妆涂膜。
化妆品的制造方法例如可包括下述工序：
使具有主体基团的高分子化合物溶解于溶剂中从而制作主体溶液；以及
向该主体溶液中加入具有客体基团的高分子化合物，由此制作化妆品A。
在上述的方法中，替代性地，也可以使具有客体基团的高分子化合物溶解于溶剂中从而制作客体溶液，并且，向该客体溶液中加入具有主体基团的高分子化合物，由此制作化妆品A。
将以上述那样的方式制得的化妆品A制成化妆涂膜的工序，例如可以包括下述操作：
将化妆品A用手指涂布于对象物，并且使其干燥，从而形成化妆涂膜。
在本公开的其他实施方式中，化妆品的制造方法例如可包括下述工序：
将糊状或液体状的具有主体基团的高分子化合物、和糊状或液体状的具有客体基团的高分子化合物混合，从而制成化妆品B。
将以上述那样的方式制得的化妆品B制成化妆涂膜的工序，例如可以包括下述操作：
将上述的化妆品B涂布于对象物，从而形成化妆涂膜。
需要说明的是，在上述的化妆品B的制造方法中，具有主体基团的高分子化合物或具有客体基团的高分子化合物中的任一者可以为糊状或液体状。
《溶剂》
本公开涉及的化妆品可以除了上述的成分以外还含有溶剂。通过还含有溶剂，能够提供对肌肤等的涂布性特别优异的化妆品。
作为本公开涉及的化妆品中可含有的溶剂，没有特别限定，可举出例如，水、醇类、有机硅类、烃化合物、酯化合物、醚类、及蜡。
作为醇类，可举出甘油、丁二醇(BG)、丙二醇(PG)、二丙二醇(DPG)、聚乙二醇(PEG)、乙醇、及油醇。
作为有机硅类，可举出十二甲基环己硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环戊硅氧烷、二甲基聚硅氧烷、辛基聚甲基硅氧烷、甲基聚硅氧烷、甲基苯基聚硅氧烷、环戊硅氧烷、氨基乙基氨基丙基甲基硅氧烷·二甲基硅氧烷共聚物、氨基丙基聚二甲基硅氧烷、甲基聚三甲基硅氧烷、三(三甲基甲硅烷基)甲基硅烷、四(三甲基甲硅烷基)硅烷、氨端聚二甲基硅氧烷、环聚二甲基硅氧烷、苯基聚三甲基硅氧烷。它们之中，更优选为选自十甲基环戊硅氧烷、二甲基聚硅氧烷中的1种或2种以上，进一步优选为聚合度10以下的二甲基聚硅氧烷。
作为烃化合物，可以举出氢化聚异丁烯、凡士林、矿物油、角鲨烷、石蜡、异构链烷烃、苯甲酸烷基酯、聚异丁烯、异十二烷、异十三烷、异十六烷轻质异构链烷烃，优选为异十二烷。
作为酯化合物，可举出棕榈酸异丙酯、棕榈酸乙基己酯、肉豆蔻酸异丙酯、肉豆蔻酸辛基十二烷基酯。
作为醚类，可举出乙基全氟丁基醚。
本公开涉及的化妆品还具有溶剂的情况下，溶剂特别优选为挥发性的。本公开涉及的化妆品含有挥发性的溶剂的情况下，在将化妆品应用于肌肤等时，溶剂挥发从而使化妆品变为膜状，因此，能够容易地形成化妆涂膜。
作为挥发性的溶剂，除了上述的醇类以外，还可举出二甲基聚硅氧烷、甲基聚三甲基硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环戊硅氧烷、十二甲基环己硅氧烷、三(三甲基甲硅烷基)甲基硅烷、四(三甲基甲硅烷基)硅烷等有机硅类，异十二烷、异十三烷、异十六烷、轻质异构链烷烃、氢化聚异丁烯等烃化合物，乙基全氟丁基醚等醚类。
《其他添加物》
本公开涉及的化妆品可以以不损害本发明的效果的程度含有除上述成分以外的各主成分，例如，可以为了赋予各种效果而适宜地含有低级醇、高级醇、球状粉末、皮膜形成剂、清凉剂、油性成分、表面活性剂、水性成分、水溶性高分子、紫外线吸收剂、保湿剂、防褐色剂、抗氧化剂、消泡剂、美容成分、防腐剂、金属离子封闭剂、血液循环促进剂、各种提取液、无机颜料、有机颜料、矿物、有机染料等色料、色素、增稠剂、pH调节剂、凉感剂、止汗剂、杀菌剂、皮肤活化剂、香料等。
低级醇作为使用性调节剂、防腐助剂而在化妆品中广泛使用。作为低级醇，可举出例如，乙醇、及异丙醇。
作为球状粉末，可举出球状硅酸酐等无机粉末、球状聚甲基丙烯酸甲酯、球状纤维素、球状尼龙、球状聚乙烯、球状有机硅粉末。
在追加包含皮膜形成剂的情况下，作为皮膜形成剂，可举出聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙酸乙烯酯、聚丙烯酸烷基酯等胶乳类、糊精、烷基纤维素、硝化纤维素等纤维素衍生物等。
作为清凉剂，可举出薄荷醇衍生物、樟脑衍生物、精油类。
实施例
以下，利用实施例对本公开涉及的发明进行具体说明。
《测定法》
下文所示的测定及评价利用以下方法来进行。
<1H-NMR>
使用日本电子ECA500作为设备，记录了核磁共振(NMR)波谱。在25℃下进行了测量。使用氘代氯仿作为溶剂。相对于7.26ppm(氯仿)处的残留溶剂峰，以ppm(百万分率)记录了NMR化学位移。
<IR>
利用日本分光FT/IR 6100光谱仪，在500cm-1～4000cm-1的范围内测量了傅里叶变换红外光谱。
<MALDI-TOF MAS>
使用Bruker autoflex maX LRF作为设备，测量了MALDI-TOF MS谱。
<元素分析>
基于差示热导法，使用元素分析装置(ヤナコ制，CHNコーダー)进行了元素分析。
《化合物的制造》
<制造例1：化合物1的制造>
按照下述方法制得化合物1：
按照Tetrahedron Letters(四面体通讯),Vol.25,No.31,3331-3334,1984中记载的方法，制得化合物0(β环糊精-OTs；C-6monotosylate d-β-CD)。将30.0g(23.28mmol)的化合物0溶解于300g(5.25mol)的烯丙胺中，然后进行一夜回流。然后，利用蒸发器使该反应溶液进行减压干燥，得到干固物。将所得到的干固物加入600mL的乙腈中，使其溶解。然后，通过抽滤来回收溶液中的沉淀，加入至600mL的乙腈中并使其溶解。然后，通过抽滤来回收溶液中的沉淀，在100℃的真空烘箱中经一夜进行减压干燥，得到化合物1。
通过MALDI-TOFMS、1H-NMR、及元素分析，确认了所得到的化合物1的合成。
<制造例2：主体基团前体化合物2>
按照下述方法制得主体前体化合物2：
准备20g(17.0mmol)由上述方法得到的化合物1，向其中加入300mL(300g,3.8mol)的干燥吡啶、及170mL(184g,1.8mol)的乙酸酐，在70℃下搅拌一夜。然后，一边对反应溶液进行冰冷却一边滴加甲醇60mL。然后，利用蒸发器使反应溶液进行减压干燥，得到干固物。将所得到的干固物溶解于100mL的丙酮中，滴加至2L水中。然后，通过抽滤来回收溶液中的沉淀，然后溶解于100mL的丙酮中，将所得到的溶液滴加至1.5L水中。然后，通过抽滤来回收溶液中的沉淀，在70℃的真空烘箱进行1天的减压干燥，得到主体前体化合物2。
通过MALDI-TOFMS、1H-NMR、及元素分析，确认了主体前体化合物2的合成。
<制造例3：具有主体基团的高分子化合物H1的制造>
利用下述方法制得具有主体基团的高分子化合物H1：
将1.8g(0.9mmol)的主体前体化合物2溶解于400ml甲苯中，进行氮置换，在105℃下进行了搅拌。经1小时通过滴加而向其中加入使12.0g(14.4mmol)的甲基氢聚硅氧烷(methyl hydrogen polysiloxane；动态粘度20mm2/s，有效氢量7.5mol％)及165μL的卡斯特铂溶液溶解于400mL甲苯而得到的溶液。需要说明的是，卡斯特铂溶液是使用铂(0)-1,3-二乙烯基四甲基二硅氧烷络合物(Platinum(0)-1,3-DivinyltetramethyldisiloxaneComplex(以Pt计为19.0％-21.5％)，TCI制，P2075，Cas：68478-92-2产品代码：P2075)调整而成的。所使用的Pt的重量为28.5mg。在自滴加结束起4小时后，利用注射器加入4.8g(48mmol)的丙烯酸乙酯(Etylacrylate；东京化成工业株式会社制，Cas：140-88-5)。将所得到的反应液中的10g溶解于114ml异十二烷(マルカゾールR，丸善石油化学株式会社)中。通过将溶解残留的未反应CD(0.499g)萃取至乙酸乙酯中从而将其除去，得到已溶解于异十二烷中的、具有主体基团的高分子化合物H1。
对于所得到的高分子化合物H1，进行利用1H-NMR的分析、及利用IR光谱的分析，确认得到了目标物。
关于所得到的高分子化合物H1，利用1H-NMR测得的主体基团导入率为0.32mol％。
<制造例4：具有主体基团的高分子化合物H2的制造>
除使用了0.6g(0.3mmol)的主体前体化合物2、4.0g(4.8mmol)的甲基氢聚硅氧烷、及55μL的卡斯特铂溶液以外，与上述的具有主体基团的高分子化合物H1的制造同样地操作，制得具有主体基团的高分子化合物H2。
关于具有主体基团的高分子化合物H2，利用1H-NMR测得的主体基团导入率为0.31mol％。
<制造例5：具有主体基团的高分子化合物H3的制造>
使用4.0g(4.8mmol)的主体前体化合物2、4.0g(4.8mmol)的甲基氢聚硅氧烷、及55μL的卡斯特铂溶液，调整溶剂量从而使主链有机硅浓度为34.3mmol，除此以外，与上述的具有主体基团的高分子化合物H1的制造同样地操作，制得具有主体基团的高分子化合物H3。
关于具有主体基团的高分子化合物H3，利用1H-NMR测得的主体基团导入率为0.20mol％。
<制造例6：具有主体基团的高分子化合物H4的制造>
除使用了2.4g(1.2mmol)的主体前体化合物2、16.0g(19.2mmol)的甲基氢聚硅氧烷、及220μL的卡斯特铂溶液以外，与上述的具有主体基团的高分子化合物H1的制造同样地操作，制得具有主体基团的高分子化合物H4。
关于具有主体基团的高分子化合物H4，利用1H-NMR测得的主体基团导入率为0.37mol％。
<制造例7：具有主体基团的高分子化合物H5的制造>
除使用了0.6g(0.3mmol)的主体前体化合物2、2.0g(2.4mmol)的甲基氢聚硅氧烷、及55μL的卡斯特铂溶液以外，与上述的具有主体基团的高分子化合物H1的制造同样地操作，制得具有主体基团的高分子化合物H5。
关于具有主体基团的高分子化合物H5，利用1H-NMR测得的主体基团导入率为1.0mol％。
<制造例8：具有主体基团的高分子化合物H6的制造>
除使用了0.6g(0.3mmol)的主体前体化合物2、4.0g(4.8mmol)的甲基氢聚硅氧烷、及55μL的卡斯特铂溶液以外，与上述的具有主体基团的高分子化合物H1的制造同样地操作，制得具有主体基团的高分子化合物H6。
关于具有主体基团的高分子化合物H6，利用1H-NMR测得的主体基团导入率为0.5mol％。
<制造例9：具有主体基团的高分子化合物H7的制造>
利用下述方法制得具有主体基团的高分子化合物H7：
将1.8g(0.9mmol)的主体前体化合物2溶解于900ml甲苯中，进行氮置换，在105℃下进行了搅拌。经30分钟通过滴加而向其中加入使12.0g(11.48mmol)的甲基氢聚硅氧烷及165.0μL的卡斯特铂溶液溶解于250mL的甲苯而得到的溶液。需要说明的是，卡斯特铂溶液是使用铂(0)-1,3-二乙烯基四甲基二硅氧烷络合物(Platinum(0)-1,3-Divinyltetramethyldisiloxane Complex(以Pt计为19.0％-21.5％)，TCI制，P2075，Cas：68478-92-2产品代码：P2075)调整而成的。所使用的Pt的重量为28.2mg，反应溶液中的试剂浓度为[Pt]＝0.09mM。在自滴加结束起4小时后，加入2.0g(29.0mmol)的1-戊烯(东京化成工业社制)。经一夜进行回流，利用蒸发器将甲苯蒸馏除去后，溶解于己烷中，利用离心分离器除去沉淀物，得到已溶解于己烷中的具有主体基团的高分子化合物H7。
对于所得到的高分子化合物H7，进行利用1H-NMR的分析、及利用IR光谱的分析，确认得到了目标物。
关于所得到的高分子化合物H7，利用1H-NMR测得的主体基团导入率为0.47mol％。
<制造例10：具有主体基团的高分子化合物H8的制造>
除使用了3.6g(1.8mmol)的主体前体化合物2的主体前体化合物以外，与上述的具有主体基团的高分子化合物H7的制造同样地操作，制得具有主体基团的高分子化合物H8。高分子化合物H8的主体基团导入率为0.63mol％。
<制造例11：具有客体基团的高分子化合物G1的制造>
[式中，x及y为0以上的整数，x+y＝100。]
利用下述方法制得高分子化合物G1：
使10.0g(1.3mol)的侧链型羧基改性硅油(信越シリコーン公司制，X-22-3701E，羧基当量＝4,000g/mol)溶解于100mL的甲苯中，得到溶液1。然后，向该溶液1中加入68.24mg(0.5mol)的HOBt，得到溶液2。然后，将已溶解于50mL甲苯中的104.19mg(0.5mol)的DCC加入该溶液2中，得到溶液3。然后，使65.26mg(0.5mmol)的N-辛基胺(ナカライテスク(株)，25512-72，Cas：111-86-4)分散于50mL的甲苯中，加入溶液3中，得到溶液4。将该溶液4搅拌一夜，得到透明的上清液和白色沉淀。通过过滤将该白色沉淀除去，得到透明的滤液。利用饱和碳酸氢钠水溶液对该透明的滤液进行清洗，并且利用无水硫酸钠进行了脱水。利用蒸发器将甲苯除去，得到无色透明的油。在85℃下使该无色透明的油进行一夜真空干燥，得到具有客体基团的高分子化合物G1。
对于所得到的高分子化合物G1，通过1H-NMR波谱(500MHz)测量而进行了分析。
关于所得到的高分子化合物G1，利用1H-NMR测得的客体基团导入率为0.46mol％。
<制造例12：具有客体基团的高分子化合物G1’的制造>
利用与制造例11同样的方法，得到高分子化合物G1’。高分子化合物G1’中的客体基团导入率为0.51mol％。
[式中，x及y为0以上的整数，x+y＝100。]
<制造例13：具有客体基团的高分子化合物G2的制造>
除代替10000mg(1.3mol)的侧链型羧基改性硅油、及N-辛基胺而使用了95.7mg(0.63mmol)的1-金刚烷基胺(富士フイルムワコーケミカル社制)以外，与上述的具有客体基团的高分子化合物G1的制造同样地操作，制得具有客体基团的高分子化合物G2。
关于具有客体基团的高分子化合物G2，利用1H-NMR测得的客体基团导入率为1.3mol％。
<制造例14：高分子化合物A2的制造>
使用甲基氢聚硅氧烷及卡斯特铂溶液、以及1-戊烯(东京化成工业社制)，制得高分子化合物A2。
<制造例15：具有主体基团的高分子化合物CH-4的制造>
按照Macromolecules(大分子)2019,52(7),2659-2668中记载的方法，制得具有聚丙烯酸乙酯主链、并且具有γ-环糊精作为主体基团的高分子化合物CH-4。需要说明的是，以所得到的高分子化合物中具有主体基团的单元成为1.0mol％的方式进行了制造。
《实施例1》
使如上述制造例7那样制得的具有主体基团的高分子化合物H5、和如上述制造例11那样制得的具有客体基团的高分子化合物G1溶解于异十二烷中，并且以下述表1中所示的量添加表1中所示的追加化合物，由此制得实施例1涉及的化妆品。
具有聚甲基硅氧烷主链的高分子化合物H5及高分子化合物G1对于作为溶剂而使用的异十二烷显示出良好的溶解性。
将实施例1涉及的化妆品用手指涂布于脸颊，形成了化妆涂膜。然后，对下述项目进行了评价：
(a)紧绷感
(b)密贴感
(c)紧致感
(d)持妆性。
<紧绷感>
紧绷感根据下述的3级基准进行了评价判定：
(判定)：(评价基准)
〇：无紧绷感。
△：稍微有紧绷感。
×：有紧绷感。
<密贴感>
密贴感根据下述的3级基准进行了评价判定：
(判定)：(评价基准)
◎：密贴感特别优异
〇：有密贴感
×：无密贴感
<紧致感>
紧致感根据下述的3级基准进行了评价判定：
(判定)：(评价基准)
〇：有紧致感。
△：稍微有紧致感。
×：无紧致感。
<持妆性>
对于持妆性的良好程度，根据下述的3级基准进行了评价判定：
(判定)：(评价基准)
〇：优异
△：一般
×：差
将对实施例1进行评价的结果示于表2。
《实施例2》
使如上述制造例7那样制得的具有主体基团的高分子化合物H5、和如上述制造例13那样制得的具有客体基团的高分子化合物G2溶解于异十二烷中，并且以下述表1中所示的量添加表1中所示的追加化合物，由此制得实施例2涉及的化妆品。
聚甲基硅氧烷主链高分子化合物H5和高分子化合物G2对于作为溶剂而使用的异十二烷显示出良好的溶解性。
对于实施例2涉及的化妆品，与实施例1同样地操作，进行了使用感的评价。将结果示于表2。
《实施例3》
使如上述制造例9那样制得的具有主体基团的高分子化合物H7、和如上述制造例11那样制得的具有客体基团的高分子化合物G1溶解于异十二烷中，并且以下述表1中所示的量添加表1中所示的追加化合物，由此制得实施例3涉及的化妆品。
聚甲基硅氧烷主链高分子化合物H7及高分子化合物G1对于作为溶剂而使用的异十二烷显示出良好的溶解性。
对于实施例3涉及的化妆品，与实施例1同样地操作，进行了使用感的评价。将结果示于表2。
《比较例1》
除代替高分子化合物H5及高分子化合物G1的异十二烷溶液而使用了三甲基甲硅烷氧基硅酸(MOMENTIVE社制，SR1000)以外，与实施例1同样地操作，制得比较例1涉及的化妆品。
对于比较例1涉及的化妆品，与实施例1同样地操作，进行了使用感的评价。将结果示于表2。
《比较例2》
除代替高分子化合物H5及高分子化合物G1的异十二烷溶液而使用了有机硅树脂(硅氧烷交联物，Silform Flexible Resin(商品名)(MOMENTIVE社制)以外，与实施例1同样地操作，制得比较例2涉及的化妆品。
对于比较例2涉及的化妆品，与实施例1同样地操作，进行了使用感的评价。将结果示于表2。
表2
《实施例4》
使用上述的制造例15涉及的具有主体基团的高分子化合物CH-4、和与上述比较例2中所使用的硅氧烷交联物相同的硅氧烷交联物，与实施例1同样地操作，进行了化妆品的制造及评价。将结果示于下述的表3。
《实施例5》
使用上述的制造例15涉及的具有主体基团的高分子化合物CH-4、和上述的制造例13涉及的具有客体基团的高分子化合物G2，与实施例1同样地操作，进行了化妆品的制造及评价。将结果示于下述的表3。
表3
Claims (23)
1.一种化妆品，其含有由具有主体基团的高分子化合物形成的主体及由具有客体基团的高分子化合物形成的客体、或者由具有主体基团及客体基团的高分子化合物形成的主-客体，并且，
所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者所述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，包含硅氧烷键。
2.根据权利要求1所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物包含硅氧烷键。
3.根据权利要求1所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者所述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，在主链中包含硅氧烷键。
4.根据权利要求3所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物在主链中包含硅氧烷键。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物在侧链中具有主体基团，并且
所述具有客体基团的高分子化合物在侧链中具有客体基团。
6.根据权利要求1～4中任一项所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物在侧链中具有主体基团，并且
所述具有客体基团的高分子化合物在末端具有客体基团。
7.根据权利要求1～4中任一项所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物在末端具有主体基团，并且
所述具有客体基团的高分子化合物在侧链中具有客体基团。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者所述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，进行了交联。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者所述具有主体基团及客体基团的高分子化合物具有下述的式(1)表示的结构：
式(1)中，R1～R6各自独立地为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、1价的杂环基、1价的螺环化合物、1价的稠合环化合物、-RR1-COOH表示的基团、或-RR2-C(O)O-RR3表示的基团，这些基团可具有取代基，RR1、RR2、及RR3各自为碳原子数1～10的烷基或亚烷基；X1及X2各自独立地为O、Si(OH)2、Si(R10)2、N(H)、或N(COCH3)，或者为氨基甲酸酯键、脲键，或者为醚键、酰胺键、或酯键，或者为羰基、亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、2价的杂环基、氨基甲酸酯基、脲基、或亚芳基，这些基团可具有取代基；R10为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、或杂环基，这些基团可具有取代基；多个R10各自可以相同也可以不同；X1及X2各自存在多个的情况下，它们可以相同也可以不同；p及q各自独立地表示0以上的整数；RY为主体基团；RZ为客体基团；h、i、j、及k各自表示0以上的整数，它们彼此可以相同也可以不同；至少j或k为1以上的整数；n表示1以上的整数。
10.根据权利要求9所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物具有所述式(1)表示的结构。
11.根据权利要求9或10所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者所述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，在主链中具有所述式(1)表示的结构。
12.根据权利要求9或10所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者所述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，具有乙烯基主链、丙烯酸系主链、氨基甲酸酯主链、环氧主链、聚酰亚胺主链、聚酯主链、聚脲主链、或聚碳酸酯主链，并且，在侧链中具有所述式(1)表示的结构。
13.根据权利要求1～12中任一项所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者所述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，具有下述的式(2)表示的结构单元：
式(2)中，R1～R6各自独立地为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、1价的杂环基、1价的螺环化合物、1价的稠合环化合物、-RR1-COOH表示的基团、或-RR2-C(O)O-RR3表示的基团，这些基团可具有取代基，RR1、RR2、及RR3各自为碳原子数1～10的烷基或亚烷基；X1及X2各自独立地为O、Si(OH)2、Si(R10)2、NH、或N(COCH3)，或者为氨基甲酸酯键、脲键，或者为醚键、酰胺键、或酯键，或者为羰基、亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、2价的杂环基、氨基甲酸酯基、脲基、或亚芳基，这些基团可具有取代基；R10为氢原子，或者为烷基、环烷基、链烯基、烷氧基、环烷氧基、羟基、羧基、醛基、芳基、芳基氧基、或杂环基，这些基团可具有取代基；多个R10各自可以相同也可以不同；X1及X2各自存在多个的情况下，可以相同也可以不同；p及q各自独立地表示0以上的整数；RY为主体基团；RZ为客体基团；h、i、j、及k各自表示0以上的整数，它们彼此可以相同也可以不同，至少j或k为1以上的整数；n表示1以上的整数；Rm1～Rm3各自独立地为氢原子，或者为烷基，Y1为醚键、酰胺键、或酯键，Rm4为亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、或亚芳基，这些基团可具有取代基，Y2为醚键、酰胺键、或酯键、O、Si(OH)2、Si(R10)2、N(H)、或N(COCH3)，a、b、c各自独立地表示0～3的整数；＊表示构成高分子化合物的主链的单键。
14.根据权利要求13所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物具有所述式(2)表示的结构。
15.根据权利要求13或14所述的化妆品，所述具有主体基团的高分子化合物及所述具有客体基团的高分子化合物中的至少任一者、或者所述具有主体基团及客体基团的高分子化合物，还具有下述的式(3)表示的结构单元：
式(3)中，Rm5～Rm7各自独立地为氢原子，或者为烷基，Y3为醚键、酰胺键、或酯键，Rm8为亚烷基、亚环烷基、亚烯基、亚烷氧基、或亚芳基，这些基团可具有取代基，Y4为氢原子、烷基、羟基、Si(OH)3、Si(R10)3、NH2、C(O)CH3、C(O)NH2、或N(COCH3)，d及e各自独立地表示0～3的整数；＊表示构成高分子化合物的主链的单键。
16.根据权利要求9～15中任一项所述的化妆品，在所述式(1)和/或所述式(2)中，
RY表示的主体基团为α-环糊精、β-环糊精、或γ-环糊精，并且，
RZ表示的客体基团为可具有取代基的烷基、或可具有取代基的芳基。
17.根据权利要求9～16中任一项所述的化妆品，在所述式(1)和/或所述式(2)中，
R1、R2、R3、R4及R5为甲基。
18.根据权利要求9～16中任一项所述的化妆品，在所述式(1)和/或所述式(2)中，
k＝0，并且，
R1～R3、R5、及R6为烷基。
19.根据权利要求9～16中任一项所述的化妆品，在所述式(1)和/或所述式(2)中，
k＝0，
R1～R3及R5为甲基，并且
R6为戊基。
20.根据权利要求9～19中任一项所述的化妆品，在所述式(1)或(2)中，(X1)p为-(CH2)3-N(COCH3)-，并且j为1以上的整数，并且/或者
(X2)q为-R11-CO-O-或-R11-CO-NH-，R11为可具有取代基的碳原子数1～12的亚烷基，并且k为1以上的整数。
21.根据权利要求1～20中任一项所述的化妆品，所述主体基团和所述客体基团为以下的组合(a)～(c)中的任一种：
(a)所述主体基团为α-环糊精，并且，
所述客体基团为选自由(1)碳原子数4～18的直链烷基、(2)具有羟基的碳原子数4～18的直链烷基、(3)具有羧基的碳原子数4～18的直链烷基、(4)具有氨基的碳原子数4～18的直链烷基、(5)环状烷基、(6)苯基、(7)偶氮苯基、及(8)肉桂酸基组成的组中的至少1种；
(b)所述主体基团为β-环糊精，并且，
所述客体基团为选自由(1′)叔丁基、(2′)金刚烷基、(3′)芳基、(4′)具有羟基的芳基、(5′)具有羧基的芳基、(6′)具有氨基的芳基、(7′)二茂铁基、(8′)偶氮苯基、及(9′)丹磺酰基组成的组中的至少1种；
(c)所述主体基团为γ-环糊精，并且，
所述客体基团为选自由(1″)碳原子数18以下的烷基、(2″)具有羟基的碳原子数18以下的烷基、(3″)具有羧基的碳原子数18以下的烷基、(4″)具有氨基的碳原子数18以下的烷基、(5″)金刚烷基、(6″)具有由碳原子构成的团簇类的基团、(7″)具有芳基的丹磺酰基、(8″)二茂铁基、及(9″)蒽基组成的组中的至少1种。
22.根据权利要求1～19中任一项所述的化妆品，其还包含溶剂。
23.根据权利要求20所述的化妆品，所述溶剂为挥发性的有机硅、或挥发性的烃化合物。
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