CN115132075A - 窗 - Google Patents

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CN115132075A
CN115132075A CN202210297871.9A CN202210297871A CN115132075A CN 115132075 A CN115132075 A CN 115132075A CN 202210297871 A CN202210297871 A CN 202210297871A CN 115132075 A CN115132075 A CN 115132075A
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CN
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layer
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curved
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徐铉承
高知贤
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Samsung Display Co Ltd
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Samsung Display Co Ltd
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Abstract

本申请涉及窗。窗包括：基础衬底，包括平面部分和围绕平面部分的至少一部分的弯曲部分；前覆盖层，设置在基础衬底上；平坦覆盖层，与平面部分重叠并设置在基础衬底上；以及弯曲覆盖层，与弯曲部分重叠并设置在基础衬底上。前覆盖层和弯曲覆盖层各自包括无机材料。

Description

窗
相关申请的交叉引用
本申请要求于2021年3月26日在韩国知识产权局提交的第10-2021-0039971号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本文中所述的本公开的实施方式涉及具有改进的耐久性的窗及制造其的方法。
背景技术
已经开发了用于在诸如电视、移动电话、导航***、计算机监视器和游戏控制台的多媒体设备中使用的显示设备。显示设备可以包括用于向用户提供具有信息的图像的显示面板和用于保护显示面板的窗。
当使用各种类型的显示设备时，也需要各种类型的窗。近来，随着正在开发具有弯曲表面的显示设备，对包括弯曲表面的窗的需求已经相应地增加。因此，窗的弯曲表面应该具有抵抗外部冲击的可靠性。
应当理解，该技术部分的背景部分地旨在为理解该技术提供有用的背景。然而，该技术部分的背景也可以包括在本文所公开的主题的相应有效申请日之前不是相关领域的技术人员已知或理解的部分的思想、构思或认识。
发明内容
本公开的实施方式改进了包括弯曲表面的窗的耐久性。
根据实施方式，窗可以包括：基础衬底，包括平面部分和围绕平面部分的至少一部分的弯曲部分；前覆盖层，设置在基础衬底上；平坦覆盖层，与平面部分重叠并设置在基础衬底上；以及弯曲覆盖层，与弯曲部分重叠并设置在基础衬底上。前覆盖层和弯曲覆盖层可以各自包括无机材料。
前覆盖层可以设置在基础衬底和平坦覆盖层之间以及基础衬底和弯曲覆盖层之间。
窗还可以包括设置在基础衬底和前覆盖层之间的抗反射层。
窗还可以包括设置在平坦覆盖层和弯曲覆盖层上的功能层，其中，功能层可以包括抗指纹层和抗静电层中的至少一个。
窗还可以包括与弯曲部分重叠并设置在基础衬底下方的下覆盖层，其中，下覆盖层可以包括无机材料。
窗还可以包括设置在平面部分和下覆盖层下方的涂布层。
前覆盖层可以设置在平坦覆盖层和弯曲覆盖层上。
窗还可以包括设置在基础衬底和平坦覆盖层之间以及基础衬底和弯曲覆盖层之间的抗反射层。
窗还可以包括设置在前覆盖层上的功能层，其中，功能层可以包括抗指纹层和抗静电层中的至少一个。
窗还可以包括与弯曲部分重叠并设置在基础衬底下方的下覆盖层，其中，下覆盖层可以包括无机材料。
平坦覆盖层可以包括具有不同折射率的层，并且平坦覆盖层的层可以交替地设置。
前覆盖层的硬度和弯曲覆盖层的硬度之和可以是约8GPa或更大。
前覆盖层、平坦覆盖层和弯曲覆盖层中的每一个可以具有在约500nm和约5000nm范围内的厚度。
基础衬底可以限定延伸在平面部分和弯曲部分之间的边界表面的第一延伸线和延伸基础衬底的侧表面的第二延伸线，并且由第一延伸线和第二延伸线形成的角度可以是约90度或更小。
弯曲部分的厚度可以随着距平面部分的距离变化而变化。
无机材料可以包括氮化硅、氧化硅和氧化铝中的一种。
附图说明
通过参考附图详细描述本公开的实施方式，本公开的以上和其它目的和特征将变得显而易见。
图1A是根据本公开的实施方式的显示设备的示意性立体图；
图1B是示出根据本公开的实施方式的显示设备的部分配置的分解示意性立体图；
图2A是根据本公开的实施方式的窗的示意性剖视图；
图2B是根据本公开的实施方式的窗的示意性剖视图；
图3是根据本公开的实施方式的窗的部分配置的示意性剖视图；
图4A是根据本公开的实施方式的窗的示意性剖视图；
图4B是根据本公开的实施方式的窗的示意性剖视图；
图5A是根据本公开的实施方式的窗的示意性剖视图；
图5B是根据本公开的实施方式的窗的示意性剖视图；
图6A是根据本公开的实施方式的窗的示意性剖视图；
图6B是根据本公开的实施方式的窗的示意性剖视图；
图7A是根据本公开的实施方式的窗的部分配置的示意性剖视图；
图7B是根据本公开的实施方式的窗的部分配置的示意性剖视图；
图8是示出根据本公开的实施方式的制造窗的方法的流程图；以及
图9A至图9E是示出根据本公开的实施方式的制造窗的方法的示意性剖视图。
具体实施方式
现在将参考附图在下文中更全面地描述本公开，在附图中示出了实施方式。然而，本公开可以以不同的形式来实现，并且不应被解释为限于在本文中阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式使得本公开将是彻底和完整的，并且将本公开的范围完全传达给本领域技术人员。
在本说明书中，当一个部件(或区域、层、部分等)被称为在另一个部件“上”、在另一个部分“下方”、“连接至”或“联接至”另一个部件时，应当理解，前者可以直接在后者上、直接在后者下方、直接连接至或直接联接至后者，并且前者也可以在后者上、在后者下方、连接至或联接至后者，且具有第三介于中间的部件。
相同的附图标记表示相同的部件。此外，在附图中，为了技术内容的描述的有效性，夸大了部件的厚度、比率和尺寸。
术语“第一”、“第二”等用于描述各种部件，但这些部件不受这些术语的限制。这些术语仅用于区分一个部件和另一个部件。例如，在不脱离本公开的精神或范围的情况下，第一部件可以被命名为第二部件，并且相反，第二部件可以被命名为第一部件。除非另有说明，否则单数形式包括复数形式。
此外，术语“之下”、“下面”、“上”、“上方”被用于描述在附图中示出的部件之间的关系。这些术语是相对的，并参照附图中所示的方向进行描述。
应当理解，术语“包括”、“包含”、“具有”等指定了在说明书中描述的特征、数字、步骤、操作、元件或部件或其组合的存在，而不排除一个或多个其它特征、数字、步骤、操作、元件或部件或其组合的存在或附加可能性。
在说明书和权利要求书中，出于其含义和解释的目的，短语“……中的至少一个”旨在包括“选自……的组中的至少一个”的含义。例如，“A和B中的至少一个”可以理解为是指“A、B或A和B”。
在说明书和权利要求书中，出于其含义和解释的目的，术语“和/或”旨在包括术语“和”以及“或”的任何组合。例如，“A和/或B”可以理解为意指“A、B或A和B”。术语“和”以及“或”可以以结合或分离的意义使用，并且可以理解为等同于“和/或”。
如本文中所使用的，“约”、“基本上”或“近似”包括所述值以及如由本领域普通技术人员在考虑到所讨论的测量和与特定量的测量相关的误差(即，测量***的限制)时所确定的特定值的可接受偏差范围内的平均值。例如，“约”可表示在一个或多个标准偏差内，或在所述值的±30％、±20％、±10％、±5％内。
术语“重叠(overlap)”或“重叠(overlapped)”意味着第一对象可以在第二对象的上方或下方，或者在第二对象的一侧，并且反之亦然。另外，术语“重叠(overlap)”可以包括层、堆叠、面对(face)或面对(facing)、在……之上延伸、覆盖或部分覆盖或本领域普通技术人员将领会和理解的任何其它合适的术语。
除非另有限定，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。将进一步理解的是，术语，诸如在通常使用的词典中限定的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术和公开的上下文中的含义一致的含义，并且将不以理想化的或过分正式的意义来解释，除非在本文中明确地如此限定。
在下文中，将参考附图描述本公开的实施方式。
图1A是根据本公开的实施方式的显示设备100的示意性立体图。图1B是示出根据本公开的实施方式的显示设备100的部分配置的分解示意性立体图。
参照图1A，显示设备100可以是响应于电信号而被激活的设备。例如，显示设备100可以是移动电话、平板、汽车导航***、游戏控制台或可佩戴设备，但不限于此。在图1A和图1B中，示出了显示设备100是移动电话。
显示设备100可以被限定为具有平面区域PA和第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4。平面区域PA可以基本上平行于由第二方向D2和第三方向D3限定的平面。与第二方向D2和第三方向D3两者相交的第一方向D1可以被限定为显示设备100的厚度方向。
第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4可以从平面区域PA弯曲。平面区域PA和第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4可以邻近于彼此，从而实现连续的显示区域。第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4中的每一个可以从平面区域PA弯曲。第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4的曲率可以彼此相同或不同。
第一弯曲区域CA1和第二弯曲区域CA2中的每一个可以在第三方向D3上延伸，并且可以在第二方向D2上间隔开，且平面区域PA插置在它们之间。第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4中的每一个可以在第二方向D2上延伸，并且可以在第三方向D3上间隔开，且平面区域PA插置在它们之间。
图1A示出了包括一个平面区域PA和四个第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4的显示设备100，但是实施方式不限于此。
例如，显示设备100可以包括一个平面区域PA以第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4中的仅一些。例如，可以省略弯曲区域CA1、CA2、CA3或CA4中的一些。
参照图1B，显示设备100可以包括窗WM、粘合层AP和显示面板DP。
窗WM可以包括光学透明绝缘材料，并且窗WM可以包括玻璃或塑料。窗WM可以具有多层结构或单层结构。
窗WM可以包括平面区域PA和分别从平面区域PA延伸并弯曲的第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4。第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4中的每一个可以分别从平面区域PA弯曲。第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4的曲率可以彼此相同或不同。
平面区域PA可以对应于图1A中所描述的平面区域PA。弯曲区域CA1、CA2、CA3和CA4可以分别对应于图1A中描述的弯曲区域CA1、CA2、CA3和CA4。
第一弯曲区域CA1和第二弯曲区域CA2中的每一个可以在第三方向D3上延伸，并且可以在第二方向D2上间隔开，且平面区域PA插置在它们之间。第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4中的每一个可以在第二方向D2上延伸，并且可以在第三方向D3上间隔开，且平面区域PA插置在它们之间。
显示面板DP可以设置在窗WM之下。显示面板DP可以是基本上产生图像的部件。显示面板DP可以是发光显示面板。例如，显示面板DP可以是液晶显示面板、电泳显示面板、微机电***显示面板、电润湿显示面板、有机发光显示面板或无机发光显示面板，并且不特别限于此。
尽管在图1B中未示出，但是显示设备100还可以包括设置在显示面板DP之下的保护(或保护性)构件。保护构件可以设置在显示面板DP之下以保护显示面板DP免受外部冲击。保护构件可以包括多层。例如，保护构件可以包括光阻挡层、散热层、缓冲层和多个粘合层。
光阻挡层可以防止设置在显示面板DP的后表面上的部件可见。光阻挡层可以包括粘合剂和分散在粘合剂中的颜料颗粒。颜料颗粒可以包括炭黑等。
散热层可以有效地散发从显示面板DP产生的热量。散热层可以设置为具有良好散热性能的金属板。例如，散热层可以包括不锈钢、石墨、铜和铝中的至少一种，但不限于此。散热层不仅可以改善散热性能，而且还可以具有电磁波屏蔽性能或电磁波吸收性能。
缓冲层可以是合成树脂泡沫。缓冲层可以包括基体构件和气隙。气隙可以通过分散在基体构件中来限定。根据实施方式的缓冲层可以设置在散热层之下。缓冲层具有弹性并且可以具有多孔结构。
粘合层AP可以设置在显示面板DP上以附接窗WM和显示面板DP。粘合层AP可以是透明粘合剂构件，诸如压敏粘合剂(PSA)膜、光学透明粘合剂(OCA)膜或光学透明粘合剂(OCR)树脂。
尽管在图1B中未示出，但是设置在窗WM下方的粘合层AP和显示面板DP可以包括弯曲以与窗WM的形状对应的部分。例如，粘合层AP和显示面板DP可以被弯曲以与窗WM的第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4的形状对应。
图2A是根据本公开的实施方式的窗WM的示意性剖视图。图2B是根据本公开的实施方式的窗WM的示意性剖视图。图2A和图2B是沿图1B中所示的线I-I'截取的剖视图。
参照图2A，在实施方式中，窗WM可以包括基础衬底BS、前覆盖层OC、平坦覆盖层FC和弯曲覆盖层BC。
基础衬底BS可以包括平面部分PP和在第二方向D2上从平面部分PP延伸的弯曲部分CP。弯曲部分CP可以弯曲。基础衬底BS的平面部分PP可以限定窗WM的平面区域PA。基础衬底BS的弯曲部分CP可以限定窗WM的弯曲区域CA。
弯曲区域CA可以对应于图1B中描述的第一弯曲区域CA1、第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4中的一个。图2A示出了弯曲区域CA对应于图1B的第一弯曲区域CA1作为示例，但是也可以对应于第二弯曲区域CA2、第三弯曲区域CA3和第四弯曲区域CA4中的一个。
基础衬底BS可以被设置为玻璃衬底或塑料衬底。当基础衬底BS是塑料衬底时，基础衬底BS可以包括聚合物材料。例如，基础衬底BS可以由聚酰亚胺(PI)、聚丙烯酸酯(PA)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚偏二氯乙烯(PVC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚苯乙烯(PS)、乙烯乙烯醇共聚物或其组合形成。
基础衬底BS不限于上述聚合物材料。可以不受限制地使用基础衬底BS，只要它是具有光学透明性的材料以向用户显示由显示设备100(参照图1B)的显示面板DP(参照图1B)提供的图像。
前覆盖层OC可以设置在基础衬底BS的平面部分PP和弯曲部分CP上。前覆盖层OC可以包括与平面区域PA重叠的第一前覆盖层OC1和与弯曲区域CA重叠的第二前覆盖层OC2。
前覆盖层OC可以包括硬质材料。在实施方式中，前覆盖层OC可以包括无机材料。例如，前覆盖层OC可以包括氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)和氧化铝(Al2O3)中的一种。
平坦覆盖层FC可以设置在第一前覆盖层OC1上。平坦覆盖层FC可以与平面区域PA重叠，并且可以不与弯曲区域CA重叠。
根据实施方式，具有不同折射率的层可以交替地设置在平坦覆盖层FC中。平坦覆盖层FC防止进入显示面板DP的前表面的光的反射，从而增加显示设备100的可见度。这个的详细描述将在下面描述。
弯曲覆盖层BC可以设置在第二前覆盖层OC2上。弯曲覆盖层BC可以与弯曲区域CA重叠，并且可以不与平面区域PA重叠。
弯曲覆盖层BC可以包括硬质材料。在实施方式中，弯曲覆盖层BC可以包括无机材料。例如，弯曲覆盖层BC可以包括氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)和氧化铝(Al2O3)中的一种。
由于第一前覆盖层OC1，基础衬底BS的平面部分PP可以具有第一硬度。由于第二前覆盖层OC2和弯曲覆盖层BC，基础衬底BS的弯曲部分CP可以具有比第一硬度高的第二硬度。由于弯曲部分CP的硬度由两个覆盖层确定，所以与平面部分PP不同，弯曲部分CP可以具有比平面部分PP更高的硬度。
因为弯曲部分CP具有曲率，所以与平面部分PP不同，由于在基础衬底BS的边缘附近发生的冲击，可能容易发生裂纹。在本公开中，弯曲部分CP的硬度可以通过设置在弯曲部分CP上的两个覆盖层来增加，从而防止由在边缘附近可能发生的冲击所引起的裂纹。因此，本公开可以提供具有改进的耐久性的窗WM。
在实施方式中，前覆盖层OC的硬度和弯曲覆盖层BC的硬度之和可以是约8GPa或更大。当前覆盖层OC的硬度和弯曲覆盖层BC的硬度之和小于约8GPa时，可能不足以防止基础衬底BS被外部冲击损坏。
例如，前覆盖层OC可以具有约10GPa的硬度，弯曲覆盖层BC可以具有约2GPa的硬度。因此，由于前覆盖层OC和弯曲覆盖层BC在基础衬底BS上具有约12GPa的总硬度，因此可以防止基础衬底BS被外部冲击损坏。当比起平面部分PP的硬度，约2GPa的硬度被加到弯曲部分CP时，靠近容易出现裂纹的边缘的耐久性可以被改善。
在实施方式中，前覆盖层OC和弯曲覆盖层BC中的每一个可以具有在约500nm或更大且约5000nm或更小的范围内的厚度。当前覆盖层OC和弯曲覆盖层BC中的每一个的厚度小于约500nm时，其可能具有不足以防止对基础衬底BS的损坏的硬度。当前覆盖层OC的厚度和弯曲覆盖层BC的厚度中的每一个大于约5000nm时，随着窗WM的厚度增加，窗WM的厚度可能干扰从显示面板DP产生的光被发射到外部。
图2A示出了包括硬质材料的覆盖层以两层的方式设置在弯曲部分CP上，但不限于此，并且覆盖层可以设置成两层或多层。
参照图2B，在实施方式中，窗WM-A可以包括基础衬底BS、平坦覆盖层FC、弯曲覆盖层BC和前覆盖层OC。相同/相似的附图标记用于与图2A中所述的那些元件相同/相似的元件，并且省略了重复描述。
平坦覆盖层FC可以设置在基础衬底BS的平面部分PP上。平坦覆盖层FC可以与平面区域PA重叠，并且可以不与弯曲区域CA重叠。
根据实施方式，具有不同折射率的层可以交替地设置在平坦覆盖层FC中。平坦覆盖层FC可以防止进入显示面板DP(参照图1B)的前表面的光的反射，从而增加显示设备100(参照图1B)的可见性。这个的详细描述将在下面描述。
弯曲覆盖层BC可以设置在基础衬底BS的弯曲部分CP上。弯曲覆盖层BC可以与弯曲区域CA重叠，并且可以不与平面区域PA重叠。前覆盖层OC可以设置在平坦覆盖层FC和弯曲覆盖层BC上。
在实施方式中，弯曲覆盖层BC和前覆盖层OC可以包括硬质材料。弯曲覆盖层BC和前覆盖层OC可以包括无机材料。例如，弯曲覆盖层BC和前覆盖层OC中的每一个可以包括氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)和氧化铝(Al2O3)中的一种。
当在窗WM-A的边缘附近包括弯曲表面时，通过在边缘附近产生的冲击，基础衬底BS可以容易地破裂。在本公开中，由于包括硬质材料的覆盖层以两层的方式设置在弯曲部分CP上，因此可以提高弯曲部分CP的硬度。因此，可以防止由于在边缘附近发生的冲击而引起的裂纹，并改善窗WM-A的耐久性。
图2B示出了包括硬质材料的覆盖层以两层的方式设置在弯曲部分CP上，但实施方式不限于此，并且覆盖层可以设置成两层或多层。
图3是根据本公开的实施方式的窗WM的部分配置的示意性剖视图。图3是示出根据实施方式的平坦覆盖层FC的配置的剖视图。
参照图3，平坦覆盖层FC可以包括多层。根据实施方式，可以顺序地设置第1-1层10a、第1-2层10b、第2-1层11a和第2-2层11b。
A.第1-1层10a和第2-1层11a可以包括具有高折射率的材料。
在实施方式中，用于第1-1层10a和第2-1层11a的材料可以包括氮化硅(SiNx)、氧氮化硅(SiOxNy)、氧氮化铝(AlON)
和氧化铝(AlxOy)中的一种。第1-1层10a和第2-1层11a的折射率可以为约1.85或更高。
B.第1-2层10b和第2-2层11b可以包括具有低折射率的材料。
第1-2层10b和第2-2层11b可以包括二氧化硅(SiO2)、氧化硅(SiO)和氧化镁(MgO)中的一种。第1-2层10b和第2-2层11b的折射率可以是约1.75或更低。
第1-1层10a和第2-1层11a中的每一个可以具有比第1-2层10b和第2-2层11b的折射率更高的折射率。然而，本公开不限于此，并且第1-1层10a和第2-1层11a可以包括具有低折射率的材料，并且第1-2层10b和第2-2层11b可以包括具有高折射率的材料。
示出了包括具有高折射率的材料的层和包括具有低折射率的材料的层交替设置两次。然而，本公开不限于此，并且可以具有交替一次的层结构，或者可以具有交替多于两次的层结构。
当在横截面中观察时，平坦覆盖层FC的厚度可以为约500nm或更大且约5000nm或更小。根据该实施方式，平坦覆盖层FC可以具有与弯曲覆盖层BC相同的宽度。因此，可以不在窗WM的上表面上形成台阶。
在其它实施方式中，平坦覆盖层FC的厚度和弯曲覆盖层BC的厚度可以不同。因此，可以在平坦覆盖层FC和弯曲覆盖层BC之间形成台阶。这是因为用于施加抗反射功能的平坦覆盖层FC的最佳厚度和用于赋予硬度的弯曲覆盖层BC的最佳厚度是不同的。
图4A是根据本公开的实施方式的窗WM-B的示意性剖视图。图4B是根据本公开的实施方式的窗WM-C的示意性剖视图。图5A是根据本公开的实施方式的窗WM-D的示意性剖视图。图5B是根据本公开的实施方式的窗WM-E的示意性剖视图。图4A至图5B是沿图1B中所示的线I-I'截取的剖视图。相同/相似的附图标记用于与图1A至图3中所述的那些配置相同/相似的配置，并且省略了重复描述。
参照图4A，窗WM-B可以包括基础衬底BS、前覆盖层OC、平坦覆盖层FC和弯曲覆盖层BC。在实施方式中，窗WM-B还可以包括抗反射层RL。
抗反射层RL可以设置在基础衬底BS的平面部分PP和弯曲部分CP上。抗反射层RL可以具有与图3中所描述的平坦覆盖层FC相同/相似的配置。
抗反射层RL可以包括与平面区域PA重叠的第一抗反射层RL1和与弯曲区域CA重叠的第二抗反射层RL2。根据实施方式，第一抗反射层RL1减少平面区域PA中的反射，并且第二抗反射层RL2可以减少弯曲区域CA中的反射。
前覆盖层OC可以设置在第一抗反射层RL1和第二抗反射层RL2上。前覆盖层OC可以包括与平面区域PA重叠的第一前覆盖层OC1和与弯曲区域CA重叠的第二前覆盖层OC2。
平坦覆盖层FC可以与平面区域PA重叠并且可以设置在第一前覆盖层OC1上。弯曲覆盖层BC可以与弯曲区域CA重叠，并且可以设置在第二前覆盖层OC2上。
在本公开中，前覆盖层OC和弯曲覆盖层BC可以包括硬质材料。前覆盖层OC和弯曲覆盖层BC可以包括无机材料。
根据实施方式，窗WM-B可以以两层的方式在弯曲部分CP上具有由硬质材料制成的覆盖层。因此，弯曲部分CP可以具有更大的硬度，并且可以防止由于侧面冲击(从侧面产生的冲击)而导致的基础衬底BS中的裂纹。
参照图4B，窗WM-C可以包括前覆盖层OC、平坦覆盖层FC和弯曲覆盖层BC。根据实施方式，窗WM-C还可以包括功能层FL。
前覆盖层OC可以设置在基础衬底BS的平面部分PP和弯曲部分CP上。前覆盖层OC可以包括与平面区域PA重叠的第一前覆盖层OC1和与弯曲区域CA重叠的第二前覆盖层OC2。
平坦覆盖层FC可以与平面区域PA重叠并且可以设置在第一前覆盖层OC1上。弯曲覆盖层BC可以与弯曲区域CA重叠，并且可以设置在第二前覆盖层OC2上。
功能层FL可以设置在平坦覆盖层FC和弯曲覆盖层BC上。功能层FL可以包括抗指纹层和抗静电层中的至少一个。
抗指纹层可以通过涂布含有抗指纹材料的溶液来形成。抗指纹材料可以由金属氧化物(诸如氧化钛)、硅基化合物和氟基化合物中的至少一种形成，但实施方式中的抗指纹材料不限于此。涂布方法可以是湿涂布方法或干涂布方法，但不限于此。
抗静电层可以包括去除静电的材料。抗静电材料可以包括金属化合物和离子液体材料中的至少一种。金属化合物可以包括五氧化二锑(Sb2O5)或二氧化锡(SnO2)。离子液体材料可以包括铵(NH4+)、磷(PH4+)、咪唑、吡啶或锂离子(Li+)。
参照图5A，窗WM-D可以包括基础衬底BS、平坦覆盖层FC、弯曲覆盖层BC和前覆盖层OC。在实施方式中，窗WM-D还可以包括抗反射层RL。
抗反射层RL可以设置在基础衬底BS的平面部分PP和弯曲部分CP上。抗反射层RL可以具有与图3中所描述的平坦覆盖层FC相同/相似的配置。
抗反射层RL可以包括与平面区域PA重叠的第一抗反射层RL1和与弯曲区域CA重叠的第二抗反射层RL2。根据实施方式，第一抗反射层RL1可以减小平面区域PA中的反射，并且第二抗反射层RL2可以减小弯曲区域CA中的反射。
平坦覆盖层FC可以与平面区域PA重叠并且可以设置在第一抗反射层RL1上。弯曲覆盖层BC可以与弯曲区域CA重叠，并且可以设置在第二抗反射层RL2上。前覆盖层OC可以设置在平坦覆盖层FC和弯曲覆盖层BC上。
在实施方式中，弯曲覆盖层BC和前覆盖层OC可以各自包括硬质材料。弯曲覆盖层BC和前覆盖层OC可以包括无机材料。根据实施方式，由硬质材料制成的覆盖层可以以两层的方式设置在弯曲部分CP上。因此，可以增加弯曲部分CP的硬度，并且可以防止由于侧面冲击(从侧面产生的冲击)而导致的基础衬底BS中的裂纹。
参照图5B，窗WM-E可以包括平坦覆盖层FC、弯曲覆盖层BC和前覆盖层OC。根据实施方式，窗WM-E还可以包括功能层FL。
平坦覆盖层FC可以设置在基础衬底BS的平面部分PP上。弯曲覆盖层BC可以设置在基础衬底BS的弯曲部分CP上。前覆盖层OC可以设置在平坦覆盖层FC和弯曲覆盖层BC上。
功能层FL可以设置在前覆盖层OC上。功能层FL可以包括抗指纹层和抗静电层中的至少一个。抗指纹层和抗静电层的材料与图4B中描述的功能层FL的那些材料相同(或基本上相似)。
图6A是根据本公开的实施方式的窗WM-F的示意性剖视图。图6B是根据本公开的实施方式的窗WM-G的示意性剖视图。图6A和图6B是沿图1B中所示的线I-I'截取的剖视图。相同/相似的附图标记用于与图1至图5B中的相同/相似的配置，并且省略了重复描述。
参照图6A，窗WM-F可以包括基础衬底BS、前覆盖层OC、平坦覆盖层FC和弯曲覆盖层BC。根据实施方式，窗WM-F还可以包括下覆盖层DC。
前覆盖层OC可以设置在基础衬底BS的平面部分PP和弯曲部分CP上。平坦覆盖层FC可以与平面区域PA重叠并且可以设置在第一前覆盖层OC1上。弯曲覆盖层BC可以与弯曲区域CA重叠，并且可以设置在第二前覆盖层OC2上。
根据实施方式，下覆盖层DC可以设置在基础衬底BS之下，以与弯曲区域CA重叠。下覆盖层DC可以包括硬质材料。在实施方式中，下覆盖层DC可以包括无机材料。例如，下覆盖层DC可以包括氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)和氧化铝(Al2O3)中的一种。
根据本公开，由于包括硬质材料的覆盖层以两层的方式设置在基础衬底BS的弯曲部分CP上，因此施加到弯曲部分CP的下部分的压缩应力可以增加。由于增加的压缩应力，窗WM-F的层可以在弯曲部分CP的边缘处分离。
在实施方式中，由于包括硬质材料的下覆盖层DC可以设置在弯曲部分CP之下，因此下覆盖层DC可以补偿施加到弯曲部分CP的下部分的压缩应力。因此，下覆盖层DC可以防止弯曲部分CP的边缘分离。
下覆盖层DC可以具有约500nm或更大且约5000nm或更小的厚度。当下覆盖层DC的厚度小于约500nm时，它可能不具有足够的硬度来补偿施加到弯曲部分CP的下部分的压缩应力。当下覆盖层DC的厚度超过约5000nm时，随着窗WM-F的厚度增加，窗WM-F的厚度可能干扰从显示面板DP(参照图1B)产生的光被发射到外部。
图6A示出了在弯曲部分CP之下作为单层的包括硬质材料的下覆盖层DC，但是实施方式不限于此，并且下覆盖层DC可以包括多层。
参照图6B，窗WM-G可以包括基础衬底BS、前覆盖层OC、平坦覆盖层FC和弯曲覆盖层BC。根据实施方式，窗WM-G还可以包括下覆盖层DC和涂布层CT。图6B中所示的窗WM-G还包括在图6A中所示的窗WM-F上的涂布层CT。
涂布层CT可以设置在基础衬底BS的平面部分PP和下覆盖层DC之下。涂布层CT可以覆盖基础衬底BS的平面部分PP的下表面P-B、下覆盖层DC的下表面D-B、以及下覆盖层DC的邻近于平面部分PP的侧表面D-S。
根据实施方式，可以通过下覆盖层DC的邻近于平面部分PP的侧表面D-S形成台阶。涂布层CT通过覆盖下覆盖层DC的邻近于平面部分PP的侧表面D-S来去除台阶。因此，涂布层CT可以有助于将(设置在窗WM-G之下的)其它层附接到窗WM-G。
图6A和图6B的实施方式也可以应用于图2B中描述的窗WM-A。窗WM-A还可以包括设置在基础衬底BS之下的下覆盖层DC，以与弯曲区域CA重叠。在窗WM-A的弯曲区域CA中，可以顺序设置下覆盖层DC、基础衬底BS、弯曲覆盖层BC和前覆盖层OC。涂布层CT还可以包括在基础衬底BS的平面部分PP和下覆盖层DC之下。
图7A是根据本公开的实施方式的窗WM的部分配置的示意性剖视图。图7B是根据本公开的实施方式的窗WM的部分配置的示意性剖视图。图7A和图7B是示出根据实施方式的基础衬底BS的剖视图。
参照图7A，基础衬底BS的弯曲部分CP的一端可以被限定为平面部分PP和弯曲部分CP之间的边界表面(在下文中，称为边界表面)。在图7A中，边界表面由虚线示出。弯曲部分CP的另一端可以被限定为面向边界表面的侧表面B-S。
基础衬底BS可以限定延伸边界表面的虚拟的第一延伸表面S1。基础衬底BS可以限定延伸侧表面B-S的虚拟的第二延伸表面S2。
根据实施方式，由第一延伸表面S1和第二延伸表面S2形成的角度q可以是约90度或更小。当角度q超过约90度时，基础衬底BS的下表面的一部分可以彼此面对。因此，当角度q超过约90度时，可能难以形成覆盖基础衬底BS上的平面部分PP和弯曲部分CP的整个表面的覆盖层。
参照图7B，基础衬底BS-1的弯曲部分CP的一端可以被限定为平面部分PP和弯曲部分CP之间的边界表面(在下文中，称为边界表面)。在该附图中，边界表面由虚线示出。弯曲部分CP的另一端可以被限定为面向边界表面的侧表面B-S。
根据实施方式的基础衬底BS-1的弯曲部分CP可以在横截面上具有随着距平面部分PP的距离变化而变化的厚度。
邻近于边界表面的弯曲部分CP的厚度可以被限定为第一厚度T1。邻近于侧表面B-S的弯曲部分CP的厚度可以被限定为第二厚度T2。根据实施方式，第一厚度T1可以大于第二厚度T2。然而，本公开不限于此，并且第一厚度T1可以小于第二厚度T2。
图8是示出根据本公开的实施方式的制造窗的方法的流程图。图9A至图9E是示出根据本公开的实施方式的制造窗WM的方法的剖视图。相同/相似的附图标记用于与图1A至图7中相同/相似的配置，并且省略了重复描述。
参照图8，根据实施方式的制造窗的方法包括：在S100中提供基础衬底，在S200中形成前覆盖层，在S300中形成平坦覆盖层，以及在S400中形成弯曲覆盖层。在下文中，将参考图9A至图9E对每个操作进行详细描述。
参照图9A，制造窗的方法可以包括在沉积衬底EP上提供基础衬底BS。基础衬底BS可以包括在第二方向D2上延伸的平面部分PP以及弯曲的弯曲部分CP1和CP2。
弯曲部分CP1和CP2可以围绕平面部分PP的至少一部分。根据实施方式，弯曲部分CP1和CP2可以包括从平面部分PP的一端延伸的第一弯曲部分CP1和从平面部分PP的另一端延伸的第二弯曲部分CP2。然而，本公开不限于此，并且弯曲部分可以仅延伸到平面部分PP的一端。
参照图9B，制造窗的方法可以包括在基础衬底BS的平面部分PP、第一弯曲部分CP1和第二弯曲部分CP2上形成前覆盖层OC。
前覆盖层OC可以通过使用沉积源ES的沉积工艺来提供。例如，前覆盖层OC可以通过溅射或电子束蒸发来提供。
前覆盖层OC可以包括设置在平面部分PP上的第一前覆盖层OC1、设置在第一弯曲部分CP1上的第2-1前覆盖层OC2A、以及设置在第二弯曲部分CP2上的第2-2前覆盖层OC2B。
在实施方式中，前覆盖层OC可以包括硬质材料。前覆盖层OC可以包括无机材料。因此，前覆盖层OC可以防止来自外部冲击的对基础衬底BS的损坏。
此后，参考图9C，制造窗的方法可以包括在前覆盖层OC上形成平坦覆盖层FC。
平坦覆盖层FC可以通过使用沉积源ES的沉积工艺来提供。例如，平坦覆盖层FC可以通过溅射或电子束蒸发来提供。
在平坦覆盖层FC的沉积中，可以使用包括第一开口MS-OP1的第一掩模MS1。第一开口MS-OP1可以与基础衬底BS的平面部分PP重叠。因此，平坦覆盖层FC可以设置在第一前覆盖层OC1上，以与平面部分PP重叠。
在平坦覆盖层FC中，如图3中所描述的，可以交替地设置具有不同折射率的层。因此，可以降低进入显示设备100(参照图1)的外部光的反射率，并且可以提高显示设备100的可见性。
此后，参照图9D，制造窗的方法可以包括在前覆盖层OC上形成弯曲覆盖层BC。
弯曲覆盖层BC可以通过使用沉积源ES的沉积工艺来提供。例如，弯曲覆盖层BC可以通过溅射或电子束蒸发来提供。
在弯曲覆盖层BC的沉积中，可以使用包括第2-1开口MS-OP2A和第2-2开口MS-OP2B的第二掩模MS2。第2-1开口MS-OP2A可以与第一弯曲部分CP1的至少一部分重叠。第2-2开口MS-OP2B可以与第二弯曲部分CP2的至少一部分重叠。
第一弯曲覆盖层BC1可以通过第2-1开口MS-OP2A设置在第2-1前覆盖层OC2A上。第二弯曲覆盖层BC2可以通过第2-2开口MS-OP2B设置在第2-2前覆盖层OC2B上。
因此，弯曲覆盖层BC可以包括与第一弯曲部分CP1重叠的第一弯曲覆盖层BC1和与第二弯曲部分CP2重叠的第二弯曲覆盖层BC2。
在实施方式中，弯曲覆盖层BC可以包括硬质材料。弯曲覆盖层BC可以包括无机材料。因此，弯曲覆盖层BC可以防止来自侧表面上的冲击的对基础衬底BS的损坏。
参照图9E，可以通过实施方式的制造工艺来提供窗WM，在窗WM中，前覆盖层OC、平坦覆盖层FC和弯曲覆盖层BC设置在基础衬底BS上。
包括无机材料的第2-1前覆盖层OC2A和第一弯曲覆盖层BC1可以设置在第一弯曲部分CP1上。包括无机材料的第2-2前覆盖层OC2B和第二弯曲覆盖层BC2可以设置在第二弯曲部分CP2上。无机材料可以包括硬质材料。
在实施方式中，包括硬质材料的覆盖层可以以两层的方式设置在弯曲部分CP1和CP2上，从而增加弯曲部分CP1和CP2的硬度。因此，可以防止由于侧面上发生的冲击而引起的裂纹，从而制造具有改进的耐久性的窗WM。
根据本公开的窗可以在基础衬底的平面部分和弯曲部分上具有不同的覆盖层的布置。还可以设置在弯曲部分上的硬质覆盖层，并且因此可以提高弯曲部分的硬度。因此，可以防止由于窗上的侧面冲击而造成的损坏，并且可以提供具有改进的耐久性和可靠性的窗。
虽然已经参考其实施方式描述了本公开，但是对于本领域的普通技术人员显而易见的是，在不脱离如所附权利要求中阐述的本公开的精神和范围的情况下，可以对其进行各种改变和修改。
因此，所公开的主题不应限于本文所描述的任何单个实施方式，并且本公开的范围应根据所附权利要求来确定。

Claims (16)

1.窗，包括：
基础衬底，包括：
平面部分；以及
弯曲部分，包围所述平面部分的至少一部分；
前覆盖层，设置在所述基础衬底上；
平坦覆盖层，与所述平面部分重叠并设置在所述基础衬底上；以及
弯曲覆盖层，与所述弯曲部分重叠并且设置在所述基础衬底上，
其中，所述前覆盖层和所述弯曲覆盖层各自包括无机材料。
2.根据权利要求1所述的窗，其中，所述前覆盖层设置在所述基础衬底和所述平坦覆盖层之间以及所述基础衬底和所述弯曲覆盖层之间。
3.根据权利要求2所述的窗，还包括：
抗反射层，设置在所述基础衬底和所述前覆盖层之间。
4.根据权利要求2所述的窗，还包括：
功能层，设置在所述平坦覆盖层和所述弯曲覆盖层上，
其中，所述功能层包括抗指纹层和抗静电层中的至少一种。
5.根据权利要求2所述的窗，还包括：
下覆盖层，与所述弯曲部分重叠并设置在所述基础衬底下方，
其中，所述下覆盖层包括无机材料。
6.根据权利要求5所述的窗，还包括：
涂布层，设置在所述平面部分和所述下覆盖层下方。
7.根据权利要求1所述的窗，其中，所述前覆盖层设置在所述平坦覆盖层和所述弯曲覆盖层上。
8.根据权利要求7所述的窗，还包括：
抗反射层，设置在所述基础衬底与所述平坦覆盖层之间以及所述基础衬底与所述弯曲覆盖层之间。
9.根据权利要求7所述的窗，还包括：
功能层，设置在所述前覆盖层上，
其中，所述功能层包括抗指纹层和抗静电层中的至少一种。
10.根据权利要求7所述的窗，还包括：
下覆盖层，与所述弯曲部分重叠并设置在所述基础衬底下方；
其中，所述下覆盖层包括无机材料。
11.根据权利要求1所述的窗，其中，
所述平坦覆盖层包括具有不同折射率的层，以及
所述平坦覆盖层的所述层交替设置。
12.根据权利要求1所述的窗，其中，所述前覆盖层的硬度与所述弯曲覆盖层的硬度之和为8GPa或更大。
13.根据权利要求1所述的窗，其中，所述前覆盖层、所述平坦覆盖层和所述弯曲覆盖层中的每一个具有在500nm至5000nm范围内的厚度。
14.根据权利要求1所述的窗，其中，
所述基础衬底限定延伸在所述平面部分和所述弯曲部分之间的边界表面的第一延伸线和延伸所述基础衬底的侧表面的第二延伸线，以及
由所述第一延伸线和所述第二延伸线形成的角度为90度或更小。
15.根据权利要求1所述的窗，其中，所述弯曲部分的厚度随着距所述平面部分的距离变化而变化。
16.根据权利要求1所述的窗，其中，所述无机材料包括氮化硅、氧化硅和氧化铝中的一种。
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