CN115039296A - 激光装置和电子器件的制造方法 - Google Patents

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CN115039296A CN202080095399.XA CN202080095399A CN115039296A CN 115039296 A CN115039296 A CN 115039296A CN 202080095399 A CN202080095399 A CN 202080095399A CN 115039296 A CN115039296 A CN 115039296A
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佐佐木阳一
柿崎弘司
沟口计
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Abstract

本公开的一个观点的激光装置具有：腔，其内部被导入***体；一对电极，它们被配置于腔内；电源，其对电极之间施加电压；喷嘴构造体，其具有接受***体的内部通路和与内部通路相通的缝，通过从缝吹出的***体在电极之间产生***体的流动；气体流路，其具有将腔内的***体吸入的吸入口，将从吸入口吸入的***体引导至喷嘴构造体；以及送风装置，其通过气体流路向喷嘴构造体的内部通路输送***体。

Description

激光装置和电子器件的制造方法
技术领域
本公开涉及激光装置和电子器件的制造方法。
背景技术
近年来，在半导体曝光装置中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源放出的光的短波长化得以发展。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长大约为248nm的激光的KrF准分子激光装置、以及输出波长大约为193nm的激光的ArF准分子激光装置。
KrF准分子激光装置和ArF准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽，大约为350～400pm。因此，在利用使KrF和ArF激光这种紫外线透过的材料构成投影透镜时，有时产生色差。其结果，分辨率可能降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此，在气体激光装置的激光谐振器内，为了使谱线宽度窄带化，有时具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(Line Narrow Module：LNM)。下面，将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化气体激光装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：美国专利第6914919号
专利文献2：日本特开2007-208183号公报
发明内容
本公开的1个观点的激光装置具有：腔，其内部被导入***体；一对电极，它们被配置于腔内；电源，其对电极之间施加电压；喷嘴构造体，其具有接受***体的内部通路和与内部通路相通的缝，通过从缝吹出的***体在电极之间产生***体的流动；气体流路，其具有将腔内的***体吸入的吸入口，将从吸入口吸入的***体引导至喷嘴构造体；以及送风装置，其通过气体流路向喷嘴构造体的内部通路输送***体。
本公开的另1个观点的电子器件的制造方法包含以下步骤：通过激光装置生成激光，将激光输出到曝光装置，在曝光装置内在感光基板上曝光激光，以制造电子器件，激光装置具有：腔，其内部被导入***体；一对电极，它们被配置于腔内；电源，其对电极之间施加电压；喷嘴构造体，其具有接受***体的内部通路和与内部通路相通的缝，通过从缝吹出的***体在电极之间产生***体的流动；气体流路，其具有将腔内的***体吸入的吸入口，将从吸入口吸入的***体引导至喷嘴构造体；以及送风装置，其通过气体流路向喷嘴构造体的内部通路输送***体。
附图说明
下面，参照附图将本公开的若干个实施方式作为简单例子进行说明。
图1概略地示出比较例的激光装置的结构例。
图2是图1所示的腔的2-2线处的剖视图。
图3概略地示出实施方式1的激光装置的结构例。
图4是概略地示出腔内的放电部和环的放大图。
图5是图4中的5-5线处的剖视图。
图6是示出环的动作原理的概要图。
图7是从气流的下游侧朝向上游侧观察环时的主视图。
图8例示性地示出实施方式2的激光装置的结构。
图9示意地示出应用了磁耦合方式的马达的配置构造的例子。
图10示意地示出应用了磁轴承方式的马达的配置构造的例子。
图11概略地示出实施方式3的激光装置的结构例。
图12概略地示出实施方式3的腔内的放电部和环的附近的气体的流动。
图13概略地示出实施方式4的激光装置的结构。
图14是概略地示出实施方式4的腔内的第1环、放电部和第2环的放大图。
图15概略地示出实施方式4的变形例的激光装置的结构。
图16概略地示出实施方式5的激光装置中的腔内的放电部和带缝的条的结构例。
图17是图16中的17-17线处的剖视图。
图18概略地示出实施方式6的激光装置的腔内的放电部周边的结构。
图19概略地示出曝光装置的结构例。
具体实施方式
-目录-
1.比较例的激光装置的概要
1.1结构
1.2动作
1.3课题
2.实施方式1
2.1结构
2.1.1整体结构
2.1.2放电部和环的结构
2.2动作
2.2.1环的动作原理
2.2.2具体的数值例
2.3作用/效果
3.实施方式2
3.1结构
3.2动作
3.3作用/效果
4.实施方式3
4.1结构
4.2动作
4.3作用/效果
5.实施方式4
5.1结构
5.2动作
5.3作用/效果
5.4变形例
6.实施方式5
6.1结构
6.2动作
6.3作用/效果
6.4变形例
7.实施方式6
7.1结构
7.2动作
7.3作用/效果
8.电子器件的制造方法
9.其他
下面，参照附图对本公开的实施方式进行详细说明。以下说明的实施方式示出本公开的几个例子，不限定本公开的内容。此外，各实施方式中说明的结构和动作并不一定全都是本公开的结构和动作所必须的。另外，对相同结构要素标注相同参照标号并省略重复说明。
1.比较例的激光装置的概要
1.1结构
图1概略地示出比较例的激光装置10的结构例。图2是图1所示的腔12的2-2线处的剖视图。本公开的比较例是申请人认识到仅申请人知道的方式，不是申请人自己承认的公知例。
激光装置10包含腔12和电源14。腔12包含一对电极16a、16b、电绝缘部件18、电晕管20、横流风扇30、马达32、磁轴承34、散热器38和2个窗口41、42。
腔12与未图示的***体供给装置和***体排气装置连接。在腔12中经由***体供给装置被导入***体。***体例如可以包含作为稀有气体的氩(Ar)或氪(Kr)、作为卤素气体的氟(F2)、作为缓冲气体的氖(Ne)或氦(He)或它们的混合气体。***体供给装置包含未图示的阀和未图示的流量控制阀。***体供给装置与未图示的气瓶连接。***体排气装置也可以包含未图示的阀和排气泵。
腔12被配置于未图示的激光谐振器的光路上。激光谐振器例如构成为包含窄带化模块(LNM)和输出耦合镜。窄带化模块包含光栅、棱镜和使棱镜旋转的旋转台。棱镜被配置成，使得从腔12输出的激光的射束被棱镜放大而以规定的角度入射到光栅。旋转台被配置成，使得在棱镜旋转时，射束相对于光栅的入射角度变化。光栅被进行利特罗配置，以使射束的入射角度和衍射角度成为相同角度。
输出耦合镜可以是被涂敷有多层膜的部分反射镜，该多层膜使在腔12内产生的激光的一部分反射，使另一部分透过。以在激光谐振器的光路上配置有电极16a、16b的放电区域的方式配置腔12。电极16a是阴极电极，电极16b是阳极电极。
电源14例如可以是脉冲功率模块(PPM)。电源14经由电绝缘部件18的馈送通道与电极16a连接。电极16b与被接地的腔12连接。电源14包含用于在电极16a、16b之间产生放电44的未图示的开关和未图示的充电电容器。充电电容器与未图示的充电器连接。开关和充电器与未图示的激光控制装置连接。
电晕管20与电极16b大致平行地延伸设置。电晕管20包含棒状的作为内部导电体的电晕内电极21和覆盖电晕内电极21的外周部的管状的外部电介质22。电晕内电极21与未图示的高压电源的高压侧连接。在外部电介质22的外侧连接有电晕外电极23。外部电介质22经由电晕外电极23成为接地电位。
马达32是横流风扇30的动力源。横流风扇30的旋转轴经由磁轴承34被支承于腔12。
1.2动作
***体通过被配置于腔12内的横流风扇30在腔12内循环。
激光控制装置从未图示的曝光装置的控制装置接收各种目标数据和发光触发信号。目标数据例如是目标脉冲能量Et、目标波长λt、目标谱线宽度Δλt等。以使输出激光的脉冲能量成为目标脉冲能量Et的方式对充电器设定充电电压，与发光触发信号同步地使电源14内的开关进行动作。开关进行动作，由此，能够在电晕内电极21与电晕外电极23之间、以及电极16a、16b之间分别施加高电压。
由此，首先，在包含电晕管20和电晕外电极23的预备电离放电部中产生电晕放电，生成UV(ultraviolet：紫外)光。在对用于进行主放电的电极16a、16b之间的***体照射被生成的UV光时，电极16a、16b之间的***体能够进行预备电离。然后，在电极16a、16b之间产生放电44，由此，***体被激励。从被激励的***体放出的光在由输出耦合镜和窄带化模块形成的激光谐振器内往复，由此成为激光振荡。在激光谐振器内往复的激光通过棱镜和光栅被窄带化，一部分从输出耦合镜出射。通过放电44在腔12内生成包含金属灰尘的放电生成物DP。
在本说明书中，将放电44产生的电极16a、16b之间的空间称为“放电空间”，将包含电极16a、16b和放电空间的电极16a、16b周边的区域称为“放电部”。此外，在本说明书中，只要没有特别说明，则“电极之间”这样的记载是指电极16a、16b之间。
1.3课题
比较例的激光装置10存在以下这种课题。
[课题1]由放电44产生的疏密波(声波)在横流风扇30的叶片31反射而返回到放电空间，对能量产生调制，因此，能量稳定性恶化。
[课题2]在由横流风扇30产生的气体的流动中产生与叶片31的旋转对应的调制。即，气体的流动不是理想的连续流。在从图2中的横流风扇30朝向放电空间的气体路径中的气流中存在与旋转的叶片31对应的调制。在图2中图示了在叶片31反射后的声波ACW的图像。
[课题3]为了在腔12内整体生成气体的流动，马达32、横流风扇30和磁轴承34大型化。为了使这些要素高速旋转，而振动变大。此外，由于这些要素的大型化而成本升高。
2.实施方式1
2.1结构
2.1.1整体结构
图3概略地示出实施方式1的激光装置100的结构例。关于图3所示的结构，对与图1和图2的比较例不同之处进行说明。图3所示的激光装置100代替横流风扇30而在腔12的内部配置有带缝的环50，该带缝的环50形成***体的流动。环50的具体的构造例使用图4和图5在后面叙述。另外，此后，有时将***体简单地记载为“气体”，将***体的流动记载为“气流”或“风”。
环50是中空的环状(ring状)构造体，环50具有接受气体的内部通路52和成为气体的吹出口的缝54。“环状”是指被理解为“闭合的图形”的形状。“闭合的图形”也可以说是“闭合曲线”。本例的环50具有在正面观察时被理解为大致长方形的形状。环50是在环状的内部通路52接受气体、并从环状的缝54吹出气体的喷嘴构造体。环50的截面形状是如飞机的机翼那样的翼型的形状。
缝54被设置于环50的内周面。从环50的缝54向图3的右方向吹出气体，在放电空间形成气体的流动。
图3中的箭头Gf1表示从环50的缝54吹出的气体的流动。箭头Gf2表示通过来自缝54的气体的吹出而放大的气流中的、未通过环50的气流。箭头Gf3表示通过来自缝54的气体的吹出而放大的气流中的、通过环50的气流。
相对于在放电空间中流动的气体的流动，环50被配置于比放电空间靠上游侧的位置。在腔12的外部设置有气体流路60。此外，在腔12的内部配置有与气体流路60连通的气体流路61。气体流路61与环50连接。气体流路60、61构成使通过放电空间后的气体再次返回到环50的内部通路52而使气体循环的气体循环路径。
气体流路60具有成为气体的吸入口的吸入口60A，吸入口60A与腔12连接。在气体流路60中配置有灰尘过滤器62。灰尘过滤器62捕获金属灰尘。此外，在气体流路60中配置有风扇64和马达65。马达65是使风扇64旋转的动力源。驱动马达65而使风扇64旋转，由此，使气体流路60中的下游侧的压力上升，并且产生气流。通过风扇64的旋转，朝向环50的内部通路52输送气体。
风扇64和马达65也可以被配置于腔12的外部。优选马达65是未暴露于氟气的构造。另外，与马达65的配置构造有关的其他实施方式的例子使用图9和图10在后面叙述。
此外，用于朝向环50的内部通路52输送气体的结构不限于使用风扇64和马达65的例子，也可以如后述图16中例示的那样使用压缩机。
散热器38被配置于气流的路径中。只要是供气体循环的气体路径中即可，散热器38可以被配置于任意位置。例如，散热器38如图3所示被配置于腔12的内部。图3所示的散热器38被配置于电极16a、16b与气体流路60的吸入口60A之间的气体路径。另外，散热器38也可以被配置于气体流路60中。
***体包含氟气，因此，腔12的内壁以及气体流路60、61等与***体接触的部件使用具有氟耐性的材料构成，或者被实施具有氟耐性的表面处理。作为具有氟耐性的材料，例如能够举出镍(Ni)、不锈钢(SUS)、铜(Cu)等。作为具有氟耐性的表面处理，例如能够举出无电解镀镍等氟化钝态处理。
另外，在图3中，在腔12的外部设置气体流路60而构成气体循环路径，但是，不限于该结构，也可以是以使气体在腔12内循环的方式在腔12的内部构成气体循环路径的方式。在腔12的内部构成气体循环路径的方式的例子使用图8在后面叙述。
2.1.2放电部和环的结构
图4是概略地示出腔12内的放电部和环50的放大图。图5是图4中的5-5线处的剖视图。另外，图4是图5中的4-4线处的剖视图。为了便于说明，如图4和图5所示，定义V轴、H轴和Z轴的直角坐标系。V轴方向是电极16a、16b相面对的方向、即电极16a、16b的电极间隔EDv的方向(图4的纵向)。H轴方向是电极16a、16b的长度方向、即电极长度ELh的方向(图5的横向)。Z轴方向是电极16a、16b的短边方向(图4的横向、图5的与纸面正交的方向)。将在电极16a、16b之间流动的气体的行进方向(气流方向)设为Z轴的正侧的朝向。Z轴方向是本公开中的“第1方向”的一例。H轴方向是本公开中的“第2方向”的一例。V轴方向是本公开中的“第3方向”的一例。
如图4所示，相对于气体的流动，环50被配置于比电极16a、16b靠上游侧的位置。关于环50，沿着环50的内周面具有环状的缝54。如图5所示，在从Z轴方向观察的情况下，环50具有大致长方形的横长形状。“大致长方形”包含长方形的四角的部分被变更为圆弧状的曲线的形状(圆角长方形)。大致长方形的环状的缝54中的相当于上边的缝部分54U和相当于下边的缝部分54D与H轴方向平行地配置。缝54的开口宽度(缝宽度)例如可以是数毫米左右。
优选环50中的H轴方向的缝长度SLh与H轴方向的放电长度DLh相同或比H轴方向的放电长度DLh长。即，优选满足SLh≥DLh。放电长度DLh是放电空间的H轴方向长度。电极间隔EDv是放电空间的V方向长度。环50例如由陶瓷、树脂等绝缘材料(电介质)构成。
此外，如图5所示，缝54被配置成进入电极间隔EDv的内侧。即，缝54被配置于在Z轴方向上延长放电空间而成的空间内。环50的V轴方向的缝高度SHv被设定成得到后述的必要风量和必要流速。缝高度SHv相对于电极间隔EDv没有特别限定，但是，优选缝高度SHv比电极间隔EDv小。
另外，环50的形状不限于图5这样的大致长方形的形状，也可以是将短边部分设为圆弧状的曲线的长圆等形状。
2.2动作
2.2.1环的动作原理
图6是示出环50的动作原理的概要图。图7是从气流的下游侧朝向上游侧观察环50时的主视图。如图6和图7所示，从缝54吹出的气体沿着环50的内壁流动。通过该气体的流动，环50的内侧的压力降低，因此，一起取入环50的外侧的气体，并且形成气流。由此，与从缝54吹出的气体的量相比，向环50的下游侧流动的风的流量增大。
在将从缝54吹出的气体的风量设为Qs、将放大后的风量设为Qa的情况下，放大后的风量Qa用下面的式(1)表示。
Qa＝A×Qs (1)
将式(1)中的比例常数A称为放大率。
进而，放大后的风量Qa是在环50的内侧通过的风量Qi、从环50的外侧卷入的风量Qo、从缝54吹出的风量Qs之和，用下面的式(2)表示。
Qa＝Qi+Qo+Qs (2)
根据式(1)和式(2)，放大率A用下面的式(3)表示。
A＝(Qi+Qo+Qs)/Qs (3)
另外，将从缝54吹出的风量Qs称为“缝吹出量”。
2.2.2具体的数值例
为了在准分子激光装置中以高重复频率进行激光振荡，需要在电极16a、16b之间生成具有由以下的式(4)表示的风速(气体流速)V(m/s)以上的气流。
V＝f×w (4)
式(4)中的f是重复频率。f的单位是赫兹[Hz]。w是气流方向的放电宽度。w的单位是米[m]。
式(4)相当于CR(Clearance Ratio：间隙比)值为1的情况下的计算。另外，CR值是表示在脉冲之间几次更换放电空间的气体的值。即，每单位时间通过放电空间的风量Qa[m3/s]成为下式(5)。
Qa＝f×w×放电长度DLh×电极间隔EDv (5)
这里，关于重复频率f[Hz]、放电宽度w[m]、放电长度DLh[m]、电极间隔EDv[m]，在分别例示性地示出具体值时，例如如下所述。
f＝6000[Hz]、w＝0.003[m]、DLh＝0.55[m]、EDv＝0.016[m]。在将这些例示的值代入式(4)和式(5)时，如下那样计算必要最低流速Vmin和必要最低流量Qamin。
必要最低流速Vmin＝6000[Hz]×0.003[m]＝18[m/s]
必要最低流量Qamin＝6000[Hz]×0.003[m]×0.55[m]×0.016[m]＝0.1584[m3/s]
以满足必要最低流量Qamin且放大率A成为最大的方式，决定缝高度SHv、缝长度SLh、马达65的容量、风扇64的转速等参数以及环50的形状和环50的配置。
2.3作用/效果
根据实施方式1的激光装置100，与比较例的激光装置10相比，风扇64位于从放电部看不到的位置，因此，能够抑制由于声波而引起的能量稳定性的恶化。
此外，使用风扇64和马达65强制地形成气体的流动的风量可以仅为缝吹出量Qs。图1和图2中说明的比较例的激光装置10的结构需要使与Qi+Qo+Qs(＝A×Qa)相当的风量循环的横流风扇30和马达32，与此相对，在基于实施方式1的结构的送风方式中，形成必要最低流量的1/A的缝吹出量Qs即可，因此，能够实现包含风扇64和马达65的结构的小型化和低成本化。
3.实施方式2
3.1结构
图8概略地示出实施方式2的激光装置102的结构例。关于图8所示的结构，对与图3不同之处进行说明。在图3中，说明了在腔12的外部具有气体流路60的方式，但是，图8所示的激光装置102成为如下方式：不在腔12的外部设置气体流路60，在腔12的内部构成气体循环路径，气体在腔12内循环。
即，被配置于腔12的内部的气体流路61具有将腔12内的气体吸入的吸入口61A，在该气体流路61的吸入口61A附近配置有灰尘过滤器62。
风扇64在气体流路61内被配置于灰尘过滤器62与环50之间。马达65也可以被配置于气体流路61内，但是，如图9和图10所示，优选是被配置于腔12的外部而未暴露于氟气的构造。
图9示意地示出应用了磁耦合方式的马达65的配置构造的例子。图9所示的构造是所谓的输入输出型的磁耦合，在马达65的轴配置有圆筒状的驱动侧磁铁68，在其外侧配置有圆筒状的被动侧磁铁74。在驱动侧磁铁68与被动侧磁铁74之间配置有隔壁70。隔壁70以马达65和驱动侧磁铁68未暴露于包含氟气的***体LG的方式覆盖被动侧磁铁74的周围。马达65隔开该隔壁70被配置于腔12的外部。在被动侧磁铁74固定有旋转板76，旋转板76的轴77被轴承78支承为旋转自如。风扇64与旋转板76的轴77连结。
图10示意地示出应用了磁轴承方式的马达65的配置构造的例子。如图10所示，马达65包含转子81和定子82，马达65的轴66旋转自如地被支承于磁轴承90。磁轴承90包含内圈磁铁91和外圈磁铁92。内圈磁铁91被固定于轴66。
包含转子81和内圈磁铁91的轴66的周围被隔壁70覆盖，成为定子82和外圈磁铁92未暴露于氟气的构造。风扇64与轴66连结。
3.2动作
实施方式2的激光装置102在驱动马达65而使风扇64旋转时，腔12内的***体LG从气体流路61的吸入口61A被吸入到气体流路61内，***体LG通过气体流路61被输送到环50的内部通路52，从缝54吹出。基于环50的送风动作与图6相同。如图8所示，通过放电空间后的***体LG通过散热器38，其一部分再次流入吸入口61A。这样，***体LG在腔12内循环。其他动作与实施方式1相同。
3.3作用/效果
根据实施方式2，与实施方式1同样，能够抑制由于声波而引起的能量稳定性的恶化。此外，根据实施方式2，与比较例相比，能够实现小型化和低成本化。进而，实施方式2与实施方式1相比，不需要在腔12的外部设置气体流路60，能够进一步小型化。
4.实施方式3
4.1结构
图11概略地示出实施方式3的激光装置103的结构例。关于图11所示的结构，对与图3不同之处进行说明。
在图3中，将环50配置于比电极16a、16b靠气流的上游侧的位置，但是，在图11所示的激光装置103中，环150被配置于比电极16a、16b靠气流的下游侧的位置。环150的构造可以与图3中说明的环50相同。环150是本公开中的“喷嘴构造体”的一例。
4.2动作
图11所示的结构利用朝向环150的气体的吸入而在电极16a、16b之间生成气流。图12概略地示出实施方式3中的放电部和环150的附近的气体的流动。如图12所示，从环150的缝54吹出气体，由此，在缝54出来的气流卷入周围的气体而被放大A倍。从环150的外侧卷入的风量Qo中的一部分通过电极16a、16b之间，另一部分不通过电极16a、16b之间。
通过电极16a、16b之间的气体的风量比缝吹出量Qs大。另一方面，与实施方式1的结构进行比较时，从环150的外侧卷入的风量Qo中的、通过电极16a、16b之间的风量减少，因此，与实施方式1相比，电极16a、16b之间的流速降低。
4.3作用/效果
根据实施方式3，与实施方式1、实施方式2相比，气流的放大效率稍微降低，但是，与比较例相比，能够抑制由于声波而引起的能量稳定性的恶化，实现小型化和低成本化。
5.实施方式4
5.1结构
图13概略地示出实施方式4的激光装置104的结构。关于图13所示的结构，对与图3不同之处进行说明。图13所示的实施方式4的激光装置104相对于在电极16a、16b之间通过的气体的流动，在电极16a、16b的上游侧和下游侧双方配置有环151、152。将相对于气体的流动被配置于比电极16a、16b靠上游侧的位置的环151称为“第1环151”，将被配置于比电极16a、16b靠下游侧的位置的环152称为“第2环152”。
气体流路60的比风扇64靠下游侧的部分分支成2个路径，分支后的一个路径即第1分支气体流路63A与第1环151连接，分支后的另一个路径即第2分支气体流路63B与第2环152连接。
图14是概略地示出实施方式4的腔12内的第1环151、放电部和第2环152的放大图。第1环151和第2环152的构造可以与图3～图7中说明的环50相同。
第2环152具有内部通路56和缝58。第1环151是本公开中的“第1喷嘴构造体”的一例，第2环152是本公开中的“第2喷嘴构造体”的一例。
第1环151的缝54中的上边的缝部分54U(参照图5)是本公开中的“第3缝”的一例，下边的缝部分54D(参照图5)是本公开中的“第4缝”的一例。同样，第2环152的缝58中的上边的缝部分是本公开中的“第5缝”的一例，下边的缝部分是本公开中的“第6缝”的一例。如图14所示，优选第2环152的缝58的缝高度构成为比第1环151的缝54的缝高度大。
5.2动作
如图14所示，在以缝吹出量Qs1从第1环151的缝54吹出气体时，卷入周围的气体而使风量被放大，被放大的风量Qa1向第1环151的下游侧流动，该放大后的风量Qa1成为第2环152的吸入。
放大后的风量Qa1是在第1环151的内侧通过的风量Qi1、从第1环151的外侧卷入的风量Qo1、从缝54吹出的风量Qs1之和，用下面的式(6)表示。
Qa1＝Qi1+Qo1+Qs1 (6)
5.3作用/效果
在腔12内设置环50的情况下，数10mm的电极间隔EDv、其他构造物造成较大的压力损失，有时不能在电极16a、16b之间得到必要的流量，有时不能得到理想状态的放大率A。
为了解决该问题，考虑采用在较低的放大率下提高风扇64和马达65的转速来使用的方法、或者采用图14所示的这种结构。
在图14所示的实施方式4中，构成为在电极16a、16b的上游和下游配置有第1环151和第2环152，第1环151的排出成为第2环152的吸入。即，第1环151和第2环152的动作降低了电极16a、16b之间的压力损失，因此，气体流动顺畅，导致电极16a、16b之间的气体流量的增大和气体流速的增加。
5.4变形例
图15概略地示出实施方式4的变形例的激光装置105的结构。关于图15所示的结构，对与图13不同之处进行说明。
激光装置105具有与第1环151连接的第1气体流路160和与第2环152连接的第2气体流路170，在各个流路内配置有灰尘过滤器162、172、风扇164、174和马达165、175。第1气体流路160和第2气体流路170分别可以是从主管路60B分支的分支管路(支管)。主管路60B的吸入口60A与腔12的气体出口12B连接。主管路60B可以解释为第1气体流路160的一部分，也可以解释为第2气体流路170的一部分。
包含第1气体流路160、灰尘过滤器162、风扇164和马达165的结构可以与图3所示的包含气体流路60、灰尘过滤器62、风扇64和马达65的结构相同。此外，包含第2气体流路170、灰尘过滤器172、风扇174和马达175的结构可以与图11所示的包含气体流路60、灰尘过滤器62、风扇64和马达65的结构相同。
6.实施方式5
6.1结构
图16概略地示出实施方式5的激光装置中的腔内的放电部和带缝的条180、190的结构例。图17是图16中的17-17线处的剖视图。关于图16和图17所示的实施方式5的结构，对与实施方式1不同之处进行说明。
在实施方式5中，代替环50而具有带缝的条180、190。一对条180、190是对应于图4和图5中说明的环50中与电极16a、16b平行地配置的长边部分的要素的结构。条180、190分别是中空的条状(棒状)构造体。即，条180具有接受气体的内部通路183和作为气体的吹出口发挥功能的缝184。条180被配置于作为阴极电极的电极16a的附近。条190具有接受气体的内部通路193和作为气体的吹出口发挥功能的缝194。条190被配置于作为阳极电极的电极16b的附近。
2个条180、190与电极16a、16b平行地配置，条180、190以相互的缝184、194彼此相面对的方式对置配置。条180、190分别是本公开中的“喷嘴构造体”的一例。缝184是本公开中的“第1缝”的一例，缝194是本公开中的“第2缝”的一例。
此外，在实施方式5中，代替包含风扇64和马达65的送风机而使用压缩机210、220。压缩机210、220可以是涡轮压缩机。压缩机210、220分别是本公开中的“送风装置”的一例。
压缩机210经由气体流路212与条180连接。同样，压缩机220经由气体流路222与条190连接。气体流路212、222分别被设计成使压力以最大限度上升，因此，优选散热器214、224和灰尘过滤器216、226配置于压缩机210、220的一次侧。
6.2动作
压缩机210、220生成压力，通过该压力从缝184、194吹出气体。从缝184、194吹出的气体通过电极16a、16b之间，通过未图示的气体路径返回到压缩机210、220的一次侧。
6.3作用/效果
根据实施方式5，通过使用压送气体的压缩机210、220，与风扇、鼓风机等送风机相比，能够较高地设定缝184、194的部分处的压力。因此，能够从缝184、194吹出更多的气体，其结果，能够使较多的气体高速地在电极16a、16b之间流动。
6.4变形例
还可以构成为代替条180、190而使用环50。该情况下，能够省略压缩机210、220中的任意一方。此外，向条180、190输送气体的装置不限于压缩机210、220，也可以是风扇、鼓风机等送风机。
7.实施方式6
7.1结构
图18概略地示出实施方式6的激光装置的腔内的放电部周边的结构。在实施方式6的激光装置中，在电极16a、16b各自的上游侧的侧面部配置有带缝的条240、250，在电极16a、16b各自的下游侧的侧面部配置有带缝的条260、270。
在条240的内部配置有电晕内电极281。同样，在条250、260、270各自的内部配置有电晕内电极282、283、284。与各条240、250、260、270有关的其他结构可以与图16中说明的条180、190相同。条240、250、260、270分别为电介质制。
在电极16a、16b各自的上游侧的侧面安装有电晕外电极291、292。同样，在电极16a、16b各自的下游侧的侧面安装有电晕外电极293、294。
关于条240，电介质制的条240夹在电晕外电极291和条240内部的电晕内电极281之间。其他条250、260、270也同样，条250夹在电晕外电极292和电晕内电极282之间，条260夹在电晕外电极293和电晕内电极283之间，条270夹在电晕外电极294和电晕内电极284之间。另外，在图18中，示出使用电晕外电极291、292、293、294的结构，但是，也可以不设置电晕外电极291、292、293、294，以与对应的各电极16a、16b接触的方式分别配置电介质制的条240、250、260、270。
此外，在图18中，记载了分别具有4个电晕外电极和电晕内电极的情况，但是不限于此，电晕外电极和电晕内电极分别也可以是1个～3个。进而，图18所示的条240、250、260、270的结构能够置换为图13和图14中说明的环151、152的结构。
7.2动作
被配置于电极16a、16b的上游侧的条240和条250发挥与图14中说明的上游侧的环151相同的作用。被配置于电极16a、16b的下游侧的条260和条270发挥与图14中说明的下游侧的环152相同的作用。
条240、250、260、270从各个缝244、254、264、274吹出气体，卷入周围的气体，并使气流增大。
电晕内电极281、282、283、284从外部被施加电压，使得在电晕内电极281、282、283、284与各自对置的电晕外电极291、292、293、294之间得到规定的电位差。作为施加电压的单元，可以使用分压电容器对阴极和阳极的电极16a、16b之间进行分压。在内外电极之间的电位差成为一定以上时，产生电晕放电(电介质阻挡放电)，该放电光对电极16a、16b之间进行照射，使气体电离。
条240、250、260、270分别是本公开中的“喷嘴构造体”的一例。条240的缝244和条260的缝264分别是本公开中的“第1缝”的一例，条250的缝254和条270的缝274分别是本公开中的“第2缝”的一例。各个条240和条250或它们的组合是本公开中的“第1喷嘴构造体”的一例，各个条260和条270或它们的组合是本公开中的“第2喷嘴构造体”的一例。
条240的缝244是本公开的“第3缝”的一例，条250的缝254是本公开的“第4缝”的一例。条260的缝264是本公开的“第5缝”的一例，条270的缝274是本公开的“第6缝”的一例。
7.3作用/效果
根据实施方式6，形成向电极16a、16b之间供给的气体的流动的条240、250、260、270或代替这些条的环能够兼作为电晕预备电离的单元，能够进行紧凑的装置的设计。此外，根据实施方式6，电晕发光不会被条240、250、260、270、环遮挡，因此，能够强力地进行预备电离。
8.电子器件的制造方法
图19概略地示出曝光装置400的结构例。曝光装置400包含照明光学***444和投影光学***450。照明光学***444通过从激光装置100入射的激光对被配置于掩模版台RT的未图示的掩模版的掩模版图案进行照明。投影光学***450对透过掩模版后的激光进行缩小投影，使其在被配置于工件台WT上的未图示的工件上成像。工件是被涂布了抗蚀剂的半导体晶片等感光基板。
曝光装置400使掩模版台RT和工件台WT同步地平行移动，由此在工件上曝光反映了掩模版图案的激光。在通过以上这种曝光工序在半导体晶片上转印掩模版图案后，经过多个工序，由此能够制造半导体器件。半导体器件是本公开中的“电子器件”的一例。
图19中的激光装置100可以是作为实施方式2～6说明的激光装置等。
9.其他
上述说明不是限制，而是简单的例示。因此，本领域技术人员明白能够在不脱离权利要求书的情况下对本公开的实施方式施加变更。此外，本领域技术人员还明白组合本公开的实施方式进行使用。
只要没有明确记载，则本说明书和权利要求书整体所使用的用语应该解释为“非限定性”用语。例如，“包含”、“所有”、“具有”、“具备”等用语应该解释为“不将被记载的结构要素以外的结构要素的存在除外”。此外，修饰词“一个”应该解释为意味着“至少一个”或“一个或一个以上”。此外，“A、B和C中的至少一方”这样的用语应该解释为“A”、“B”、“C”、“A+B”、“A+C”、“B+C”或“A+B+C”。进而，应该解释为还包含它们和“A”、“B”、“C”以外的部分的组合。

Claims (20)

1.一种激光装置，其具有：
腔，其内部被导入***体；
一对电极，它们被配置于所述腔内；
电源，其对所述电极之间施加电压；
喷嘴构造体，其具有接受所述***体的内部通路和与所述内部通路相通的缝，通过从所述缝吹出的所述***体在所述电极之间产生所述***体的流动；
气体流路，其具有将所述腔内的所述***体吸入的吸入口，将从所述吸入口吸入的所述***体引导至所述喷嘴构造体；以及
送风装置，其通过所述气体流路向所述喷嘴构造体的所述内部通路输送所述***体。
2.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述缝的至少一部分被配置于如下的空间内，该空间是在所述电极的短边方向即第1方向上延长所述电极之间的放电空间而成的。
3.根据权利要求2所述的激光装置，其中，
所述缝的至少一部分与所述电极的长度方向即第2方向平行。
4.根据权利要求3所述的激光装置，其中，
所述缝具有第1缝和第2缝，
所述第1缝和所述第2缝被配置成在所述一对电极相面对的方向即第3方向上分开，所述第1缝与所述第2缝在所述第3方向上的间隔比所述电极的间隔小。
5.根据权利要求3所述的激光装置，其中，
所述缝在所述第2方向上的长度比所述电极在所述第2方向上的长度大。
6.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
相对于在所述电极之间流动的所述***体的流动，所述喷嘴构造体被配置于比所述电极靠上游侧的位置。
7.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
相对于在所述电极之间流动的所述***体的流动，所述喷嘴构造体被配置于比所述电极靠下游侧的位置。
8.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述喷嘴构造体具有第1喷嘴构造体和第2喷嘴构造体，
相对于在所述电极之间流动的所述***体的流动，所述第1喷嘴构造体被配置于比所述电极靠上游侧的位置，
相对于在所述电极之间流动的所述***体的流动，所述第2喷嘴构造体被配置于比所述电极靠下游侧的位置。
9.根据权利要求8所述的激光装置，其中，
所述第1喷嘴构造体具有作为所述缝的第3缝和第4缝，
所述第2喷嘴构造体具有作为所述缝的第5缝和第6缝，
所述第3缝和所述第4缝被配置成在所述一对电极相面对的方向即第3方向上分开，
所述第5缝和所述第6缝被配置成在所述第3方向上分开，
所述第5缝与所述第6缝在所述第3方向上的间隔比所述第3缝与所述第4缝在所述第3方向上的间隔大。
10.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述喷嘴构造体为环状，所述缝被设置于所述环状的所述喷嘴构造体的内周面。
11.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述喷嘴构造体为条状。
12.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述激光装置还具有灰尘过滤器，该灰尘过滤器被配置于所述***体流动的路径上。
13.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述激光装置还具有：
电晕外电极，其与所述电极和所述喷嘴构造体连接；以及
电晕内电极，其被配置于所述喷嘴构造体的内部。
14.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述喷嘴构造体由绝缘材料构成。
15.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述送风装置包含风扇和使所述风扇旋转的马达。
16.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述送风装置包含压缩机。
17.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述***体包含氟。
18.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述气体流路的至少一部分被设置于所述腔的外部。
19.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
所述气体流路被设置于所述腔内，
所述***体在所述腔内循环。
20.一种电子器件的制造方法，其包含以下步骤：
通过激光装置生成激光，
将所述激光输出到曝光装置，
在所述曝光装置内在感光基板上曝光所述激光，以制造电子器件，
所述激光装置具有：
腔，其内部被导入***体；
一对电极，它们被配置于所述腔内；
电源，其对所述电极之间施加电压；
喷嘴构造体，其具有接受所述***体的内部通路和与所述内部通路相通的缝，通过从所述缝吹出的所述***体在所述电极之间产生所述***体的流动；
气体流路，其具有将所述腔内的所述***体吸入的吸入口，将从所述吸入口吸入的所述***体引导至所述喷嘴构造体；以及
送风装置，其通过所述气体流路向所述喷嘴构造体的所述内部通路输送所述***体。
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