CN114920586A - 一种具有立体装饰效果的陶瓷砖及其制备工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种具有立体装饰效果的陶瓷砖及其制备工艺，该制备工艺包括如下步骤：S1.坯用原料布料后压制，得到坯体；S2.在所述坯体表面施加半透明釉，施加渗花墨水，再施加透明保护釉，其中，所述半透明釉的透光率为40‑70％；S3.于1180‑1235℃烧成60‑80min后抛光，得到具有立体装饰效果的陶瓷砖。在坯体表面依次施加透光率为40‑70％的半透明釉、渗花墨水，半透明釉既可以遮盖坯体底色，又不影响渗花的立体感，从上往下看，从侧面看，都可以看到渗花墨水向下渗透的立体装饰效果，之后施加一层透明保护釉，陶瓷砖抛光、磨边后可以较为清晰的从砖坯侧面看到立体花纹。选用磨边渣作为半透明釉制备原料之一，解决了磨边渣的回收使用问题，更为节能环保。

Description

一种具有立体装饰效果的陶瓷砖及其制备工艺
技术领域
本发明涉及陶瓷砖制备技术领域，尤其涉及一种具有立体装饰效果的陶瓷砖及其制备工艺。
背景技术
陶瓷砖生产过程由于需经过抛光或磨边，以获得品貌较佳的成品，在这一过程中将会产生各种废渣，即磨边渣或抛光渣。上述废渣在处理时容易对环境造成污染，同时也影响了陶瓷企业的可持续发展。
目前行业内对废渣的处理方法多是将其作为坯用原料大量混入坯体中使用，但因为不同类型的陶瓷产品的废渣成分相差较大，多种废渣混用时无法确保成分的稳定性，导致瓷砖成品质量较差。而单一种类的废渣产生量较少，无法作为常规原料与生产流程紧密的连续运作，这就影响了生产品质的稳定性与连续性。
目前市面上流行的建筑陶瓷产品主要包括全抛釉瓷砖，其生产工艺流程为：制备坯体-淋底釉层-喷墨装饰-淋保护釉层-烧成-抛光，其中，底釉层通常为锆白釉或添加了部分色料的不透明釉层，通过上述工艺制得的全抛釉产品底釉与保护釉的组合釉层从侧面看几乎没有立体感，从正面看也只是一层装饰层，立体装饰效果不佳。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种具有立体装饰效果的陶瓷砖及其制备工艺，旨在解决现有制备工艺中制得的全抛釉瓷砖立体装饰效果不佳的技术问题。
为实现上述目的，本发明提出一种具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，包括如下步骤：
S1.坯用原料布料后压制，得到坯体；
S2.在所述坯体表面施加半透明釉，施加渗花墨水，再施加透明保护釉，其中，所述半透明釉的透光率为40-70％；
S3.于1180-1235℃烧成60-80min后抛光，得到具有立体装饰效果的陶瓷砖。
本方案采用陶瓷生产中常规的布料技术进行布料，如用布料机对陶瓷粉料(原料)进行布料，其中，用于生产坯体的坯用原料不需要特殊限定，目前陶瓷行业的任意生产坯体的坯用原料均可，之后采用压机对坯用原料进行压制；获得坯体后，首先在坯体表面施加半透明釉，再施加渗花墨水，其中，半透明釉的透光率需控制在40-70％的范围内，如此，通过渗花墨水搭配作为底釉的半透明釉形成配合图案。往往渗花墨水的图案至少包含三种色彩，通过喷墨打印机将对应色彩的渗花墨水打印到半透明釉表面，使渗花墨水渗透至半透明釉中而形成的，本方案选用透光率为40-70％的半透明釉，主要是由于选用透明釉容易显露出坯体的底色，影响产品的美学效果，选用透光率过小的釉料会影响釉层的纵向立体效果，而半透明釉既可以遮盖坯体底色，又不影响渗花的立体感，从上往下看，从侧面看，都可以看到渗花墨水向下渗透的立体装饰效果，之后施加一层透明保护釉，再在对生产完毕的陶瓷砖进行抛光、磨边后可以较为清晰的从砖坯侧面看到立体花纹。
在本方案中，通常采用弹性模块对陶瓷砖进行抛光，之后还可以进行磨边步骤，以获得质量较佳的成品。
优选地，按质量百分比计，所述半透明釉包括如下原料：85-95％的釉用原料和5-15％的磨边渣；按质量份数计，所述釉用原料包括：钾长石30-35份、钠长石5-10份、石英15-25份、白云石3-8份、烧滑石粉3-6份、硅灰石粉5-10份、煅烧氧化锌1-5份和碳酸钡5-10份。
本方案选用磨边渣作为原料之一，在同一批次的陶瓷砖生产中仅使用一种磨边渣作为原料，同时控制其添加量在5-15％的范围内，制备得到的瓷砖稳定性相对可控，同时合理的利用陶瓷砖生产废料作为半透明釉的制备原料之一，解决了磨边渣的回收使用问题，更为节能环保。需要说明的是，原料中的磨边渣主要是在有釉砖的磨边工序切削中获得，其包含了坯体成分与釉料层成分，有助于提升坯体与(高温)半透明釉的结合稳定性，且由于在原产品的制备过程中磨边渣已经烧结过一次，内部含有的挥发性气体已被分解，不容易起泡，作为坯体和透明保护釉的中间层较为适宜。按质量百分比计，磨边渣的化学组成如下：SiO2 60-65％、Al2O3 16-21％、Fe2O3 1-3％、CaO 2-5％、K2O 2-3％、Na2O 0.5-2％，MgO1-2％，其余还有一些杂质。在其他实施例中，磨边渣的化学组成根据获得磨边渣的陶瓷砖类型不同而不同，在不同批次的陶瓷砖生产中，磨边渣的化学组成可适应性改变。
半透明釉的另一组成部分为釉用原料，这里的釉用原料采用现有陶瓷生产中的任意釉用原料均可，本方案提出一种可直接使用的釉用原料组成：钾长石30-35份、钠长石5-10份、石英15-25份、白云石3-8份、烧滑石粉3-6份、硅灰石粉5-10份、煅烧氧化锌1-5份和碳酸钡5-10份，在其他实施例中，原料的使用可以适应性改变。
在本方案中，半透明釉原料一般不采用抛光废渣，抛光废渣是抛光砖(表无釉)的表面层或抛釉砖的表面釉层，由于未同时包含坯体成分与釉料层成分，不利于坯釉结合性。
优选地，所述步骤S2中，施加半透明釉后进行烘干再施加渗花墨水，烘干时间为1-2min，烘干温度为100-180℃。在施加完半透明釉后，增加一道烘干工序，通过控制上述烘干步骤的参数，烘干半透明釉中的水份，后续施加渗花墨水时有助于提升渗花墨水的渗透深度，从而进一步提升陶瓷砖的立体装饰效果。
优选地，所述半透明釉在1180-1235℃的高温粘度为9000-12000Pa·s。在上述粘度范围内，半透明釉的高温流动性较小，对渗花墨水的垂直渗透产生的影响较小，对陶瓷砖的立体装饰效果有进一步的提升。
优选地，所述半透明釉的厚度为1-2.5mm，比重为1.75-1.85，施釉量为400-1000g/m2。控制半透明釉的厚度为1-2.5mm，施釉量为400-1000g/m2，以此来增强立体纵深感，使渗花墨水能较好的渗入半透明釉料内。
优选地，按质量份数计，所述透明保护釉包括如下原料：钾长石20-25份、钠长石15-20份、纳米二氧化硅10-15份、石英5-10、煅烧高岭土3-6份、水洗高岭土7-9份、白云石3-8份、烧滑石3-5份、硅灰石5-7份、煅烧氧化锌2-3份、碳酸钡5-8份和碳酸锶1-2份；
所述纳米二氧化硅的粒径为300-900nm。
在渗花墨水打印工序完成后，通过淋釉方式在其表面继续布施透明保护釉，对内部喷墨印花形成的图案起到较好的保护作用。其中，透明保护釉的细度控制在600目以下，确保在喷墨印花后的坯体表面能均匀的覆盖，熔融后结构均匀紧密。本方案中透明保护釉原料并非采用常规的二氧化硅，而是采用了纳米级的二氧化硅(粉)作为原料之一，纳米二氧化硅在烧成熔融后可以很好地填充半透明釉料反应形成的细微孔隙，同时提升了陶瓷砖产品表面的防污能力。
优选地，按质量百分比计，所述透明保护釉的化学组成包括如下：SiO2 57.1-65.3％、Al2O3 9.2-14.2％、SrO 0.9-1.7％、K2O 2.1-3.5％、Na2O 1.6-2.9％、CaO 3.9-5.7％、ZnO 1.2-3.3％、BaO 3.1-8.5％、MgO 2.1-3.3％，烧失5.6-8.3％。
上述化学组成为透明保护釉的其中一个实施例，在该范围内，瓷砖产品的质量较佳，在其他实施例中，透明保护釉的原料发生调整时，其化学组成对应改变。
优选地，所述透明保护釉的细度为600目以下，比重为1.75-1.80，施釉量为380-500g/m2。
优选地，在步骤S2前，先在所述坯体表面进行喷水或喷羧甲基纤维素钠溶液。
半透明釉施加的釉层较厚，因此需要提前将坯体表层的气体排除，否则在后续生产过程容易起泡而冲破半透明釉层，在本方案中除去可以喷水，还可以喷羧甲基纤维素钠溶液，其中按质量比甲基与水的比例为0.6-1.2：100，主要作用是提前将坯体表面湿润，形成一定的胶性液体阻隔效果，防止半透明釉的水份过快渗入坯体内部，减小后续的起泡现象。
本发明还提出一种具有立体装饰效果的陶瓷砖，由上述任一项所述的具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺所制得。参照上述实施例，由于具有立体装饰效果的陶瓷砖采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有效果，在此不再一一赘述。
与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下有益效果：
1.在坯体表面施加半透明釉，再施加渗花墨水，其中，半透明釉的透光率需控制为40-70％，渗花墨水渗透至半透明釉中形成立体效果，半透明釉既可以遮盖坯体底色，又不影响渗花的立体感，从上往下看，从侧面看，都可以看到渗花墨水向下渗透的立体装饰效果，之后施加一层透明保护釉，陶瓷砖抛光、磨边后可以较为清晰的从砖坯侧面看到立体花纹。
2.选用磨边渣作为半透明釉的原料之一，解决了磨边渣的回收使用问题，更为节能环保。磨边渣包含了坯体成分与釉料层成分，有助于提升坯体与高温半透明釉的结合稳定性，且由于在原产品的制备过程中磨边渣已经烧结过一次，内部含有的挥发性气体已被分解，不容易起泡，作为坯体和透明保护釉的中间层较为适宜。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅为本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本申请提供的具有立体装饰效果的陶瓷砖的结构示意图。
附图中：1-坯体，2-半透明釉，3-渗花墨水，4-透明保护釉。
本申请目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。
一种具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，包括如下步骤：
S1.坯用原料布料后压制，得到坯体1；
S2.在坯体1表面进行喷水或喷羧甲基纤维素钠溶液，然后在坯体1表面施加半透明釉2，于100-180℃下烘干1-2min，施加渗花墨水3，再施加透明保护釉4，其中，半透明釉2的透光率为40-70％；
按质量百分比计，半透明釉2包括如下原料：85-95％的釉用原料和5-15％的磨边渣；
按质量份数计，釉用原料包括：钾长石30-35份、钠长石5-10份、石英15-25份、白云石3-8份、烧滑石粉3-6份、硅灰石粉5-10份、煅烧氧化锌1-5份和碳酸钡5-10份；
半透明釉2在1180-1235℃的高温粘度为9000-12000Pa·s，半透明釉2的厚度为1-2.5mm，比重为1.75-1.85，施釉量为400-1000g/m2；
按质量份数计，透明保护釉4包括如下原料：钾长石20-25份、钠长石15-20份、纳米二氧化硅10-15份、石英5-10、煅烧高岭土3-6份、水洗高岭土7-9份、白云石3-8份、烧滑石3-5份、硅灰石5-7份、煅烧氧化锌2-3份、碳酸钡5-8份和碳酸锶1-2份，纳米二氧化硅的粒径为300-900nm；
按质量百分比计，透明保护釉4的化学组成包括如下：SiO2 57.1-65.3％、Al2O39.2-14.2％、SrO 0.9-1.7％、K2O 2.1-3.5％、Na2O 1.6-2.9％、CaO 3.9-5.7％、ZnO 1.2-3.3％、BaO 3.1-8.5％、MgO 2.1-3.3％，烧失5.6-8.3％。
透明保护釉4的细度为600目以下，比重为1.75-1.80，施釉量为380-500g/m2；
S3.于最高烧成温度1180-1235℃烧成60-80min后抛光，得到具有立体装饰效果的陶瓷砖。
以下结合具体实施例对本发明的技术方案作进一步详细说明，应当理解，以下实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
实施例1
一种具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，包括如下步骤：
S1.坯用原料布料后压制，得到坯体1；
S2.在坯体1表面喷水，然后在坯体1表面施加半透明釉2，施加渗花墨水3，再施加透明保护釉4，其中，半透明釉2的透光率为43％；
按质量百分比计，半透明釉2(釉用原料)包括如下原料：钾长石30份、钠长石10份、石英23份、白云石8份、烧滑石粉6份、硅灰石粉9份、煅烧氧化锌4份和碳酸钡10份；
半透明釉2在1215℃的高温粘度为12600Pa·s，半透明釉2的厚度为2mm，比重为1.75，施釉量为800g/m2；
按质量份数计，透明保护釉4包括如下原料：钾长石21份、钠长石17份、二氧化硅粉10份、石英粉9、煅烧高岭土5份、水洗高岭土7份、白云石粉7份、烧滑石粉5份、硅灰石粉7份、煅烧氧化锌3份、碳酸钡8份和碳酸锶1份；
按质量百分比计，透明保护釉4的化学组成包括如下：SiO2 58.9％、Al2O3 11.2％、SrO 0.7％、K2O 2.3％、Na2O 2.2％、CaO 5.5％、ZnO 2.9％、BaO 6.3％、MgO 3.1％，烧失6.9％；
透明保护釉4的细度为600目以下，比重为1.80，施釉量为500g/m2；
S3.于1215℃烧成76min后抛光、磨边，得到具有立体装饰效果的陶瓷砖。
实施例2
一种具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，包括如下步骤：
S1.坯用原料布料后压制，得到坯体1；
S2.在坯体1表面喷羧甲基纤维素钠溶液，然后在坯体1表面施加半透明釉2，施加渗花墨水3，再施加透明保护釉4，其中，半透明釉2的透光率为70％；
按质量百分比计，半透明釉2包括如下原料：钾长石20份、霞石12份、钠长石10份、石英15份、白云石6份、烧滑石粉5份、硅灰石粉10份、煅烧氧化锌5份和碳酸钡10份、煅烧高岭土7份；
半透明釉2在1180℃的高温粘度为10000Pa·s，半透明釉2的厚度为1.1mm，比重为1.85，施釉量为420g/m2；
按质量份数计，透明保护釉4包括如下原料：钾长石25份、钠长石15份、二氧化硅粉11份、石英粉10、煅烧高岭土3份、水洗高岭土9份、白云石粉8份、烧滑石粉3份、硅灰石粉6份、煅烧氧化锌2份、碳酸钡6份和碳酸锶2份；
按质量百分比计，透明保护釉4的化学组成包括如下：SiO2 60.8％、Al2O3 11.9％、SrO 1.4％、K2O 2.7％、Na2O 2.1％、CaO 5.2％、ZnO 1.9％、BaO 4.7％、MgO 2.1％，烧失7.2％；
透明保护釉4的细度为600目以下，比重为1.75，施釉量为380g/m2；
S3.于1180℃烧成60min后抛光，得到具有立体装饰效果的陶瓷砖。
实施例3
一种具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，包括如下步骤：
S1.坯用原料布料后压制，得到坯体1；
S2.在坯体1表面喷羧甲基纤维素钠溶液，然后在坯体1表面施加半透明釉2，施加渗花墨水3，再施加透明保护釉4，其中，半透明釉2的透光率为56％；
按质量百分比计，半透明釉2(釉用原料)包括如下原料：钾长石35份、钠长石10份、石英16份、白云石8份、烧滑石粉6份、硅灰石粉10份、煅烧氧化锌5份和碳酸钡10份；
半透明釉2在1200℃的高温粘度为11500Pa·s，半透明釉2的厚度为2.5mm，比重为1.8，施釉量为1000g/m2；
按质量份数计，透明保护釉4包括如下原料：钾长石23份、钠长石20份、二氧化硅粉15份、石英粉7、煅烧高岭土6份、水洗高岭土8份、白云石粉3份、烧滑石粉4份、硅灰石粉5份、煅烧氧化锌3份、碳酸钡5份和碳酸锶1份；
按质量百分比计，透明保护釉4的化学组成包括如下：SiO2 64.6％、Al2O3 12.8％、SrO 0.7％、K2O 2.5％、Na2O 2.6％、CaO 3.3％、ZnO 2.9％、BaO 3.9％、MgO 1.9％，烧失4.8％；
透明保护釉4的细度为600目以下，比重为1.78，施釉量为420g/m2；
S3.于1200℃烧成70min后抛光，得到具有立体装饰效果的陶瓷砖。
注：按质量百分比计，上述实施例1-3制作坯体1的坯用原料化学组成包括：SiO263.2％、Al2O3 22.1％、K2O 3.4％、Na2O 3.6％、CaO 0.6％、MgO 0.9％，烧失6.2％。
对比例1
本对比例的各项参数均与实施例1保持一致，区别仅在于：将半透明釉2替换为常规的底釉，按质量百分比计，底釉包括如下原料：钾长石25份、钠长石15份、石英25份、煅烧高岭土16份、水洗高岭土6、氧化铝8份、硅酸锆5份；常规底釉的透光率通常为0.3-1.2％，本对比例为1％。
对比例2
本对比例的各项参数均与实施例2保持一致，区别仅在于：按质量百分比计，半透明釉2原料配比调整为：钾长石15份、霞石15份、钠长石35份、石英10份、白云石2份、烧滑石粉1份、硅灰石粉7份、煅烧氧化锌10份和碳酸钡5份；半透明釉的透光率为80％，透出了坯体的底色。
对比例3
本对比例的各项参数均与实施例2保持一致，区别仅在于：将半透明釉2替换为常规的底釉，按质量百分比计，底釉包括如下原料：钾长石20份、霞石12份、钠长石10份、石英15份、白云石6份、烧滑石粉5份、硅灰石粉10份、煅烧氧化锌5份和碳酸钡10份、煅烧高岭土7份；底釉的透光率为27％。
将实施例1-3及对比例1-3进行性能测试，其中立体装饰效果直接由肉眼观测获得，具体测试结果如下表：
性能测试结果
检测项目 立体装饰效果 防污性能 抗折强度/Mpa 光泽度
实施例1 良好 4级 41.4 53
实施例2 良好 4级 41.2 58
实施例3 优异 4级 41.3 55
对比例1 差 4级 41.2 50
对比例2 一般 4级 41.7 53
对比例3 差 4级 41.6 52
立体装饰效果由肉眼直接观测得出，测试结果中优异>良好>一般>差。
从上表的测试结果可以看出，由于渗花墨水3向半透明釉2中渗入，且半透明釉料2的透光率控制在40-80％的范围内，使得本发明的具有立体装饰效果的陶瓷砖整体立体装饰效果较佳，光泽度可以控制在50-57的范围内。
实施例4
本实施例的各项参数均与实施例2保持一致，区别仅在于：按质量百分比计，半透明釉2包括如下原料：88％的釉用原料和12％的磨边渣，釉用原料与实施例1一致，即按质量百分比计，釉用原料包括：钾长石30份、钠长石10份、石英23份、白云石8份、烧滑石粉6份、硅灰石粉9份、煅烧氧化锌4份和碳酸钡10份。此时，半透明釉2的透光率为67％，半透明釉2在1215℃的高温粘度为10800Pa·s。
对比例4
本对比例的各项参数均与实施例2保持一致，区别仅在于：按质量百分比计，半透明釉2包括如下原料：88％的釉用原料(组分同上)和12％的抛光渣。
对比例5
本对比例的各项参数均与实施例2保持一致，区别仅在于：按质量百分比计，半透明釉2包括如下原料：88％的釉用原料(组分同上)、6％的抛光渣和6％的磨边渣。
将实施例4及对比例4-5进行性能测试，其中立体装饰效果直接由肉眼观测获得，具体测试结果如下表：
性能测试结果
检测项目 立体装饰效果 防污性能 抗折强度/Mpa
实施例2 良好 4级 41.2
实施例4 良好 4级 41.6
对比例4 一般 3级 40.5
对比例5 一般 3级 40.2
从上表的测试结果可以看出，半透明釉2中的部分原料被磨边渣替换后，陶瓷砖对应的抗折强度和防污性能并不会随之降低，同时还具有较好的立体装饰效果。而引入抛光渣后，陶瓷砖的立体装饰效果、强度和防污性能均有不同程度的降低。
实施例5
本实施例的各项参数均与实施例4保持一致，区别仅在于：半透明釉2的施釉量为800g/m2，厚度为2mm。
实施例6
本实施例的各项参数均与实施例4保持一致，区别仅在于：施加半透明釉2后进行烘干再施加渗花墨水3，烘干时间为1min，烘干温度为150℃。
实施例7
本实施例的各项参数均与实施例5保持一致，区别仅在于：将透明保护釉4中的原料二氧化硅粉(原始粒径为0.02-0.15mm)调整为纳米二氧化硅粉，纳米二氧化硅粉的尺寸为500nm。
将实施例5-7进行性能测试，具体测试结果如下表所示：
性能测试结果
检测项目 立体装饰效果 防污性能 抗折强度/Mpa 光泽度
实施例4 良好 4级 41.6 52
实施例5 优异 4级 41.7 53
实施例6 优异 4级 41.8 53
实施例7 优异 5级 43.9 55
从上表的测试结果可以看出，半透明釉2的施加厚度增加时，陶瓷砖的立体装饰效果有所改善；同样的，在施加渗花墨水3前增加烘干工序后，也可以改善陶瓷砖的立体装饰效果。除此之外，当透明保护釉4的原料由常规的二氧化硅粉更换为粒度较小的纳米二氧化硅粉时，陶瓷砖的防污性能和抗折强度有所提升。
以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：
S1.坯用原料布料后压制，得到坯体；
S2.在所述坯体表面施加半透明釉，施加渗花墨水，再施加透明保护釉，其中，所述半透明釉的透光率为40-70％；
S3.于1180-1235℃烧成60-80min后抛光，得到具有立体装饰效果的陶瓷砖。
2.根据权利要求1所述的具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，其特征在于，按质量百分比计，所述半透明釉包括如下原料：85-95％的釉用原料和5-15％的磨边渣；
按质量份数计，所述釉用原料包括：钾长石30-35份、钠长石5-10份、石英15-25份、白云石3-8份、烧滑石粉3-6份、硅灰石粉5-10份、煅烧氧化锌1-5份和碳酸钡5-10份。
3.根据权利要求1所述的具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，其特征在于，所述步骤S2中，施加半透明釉后进行烘干再施加渗花墨水，烘干时间为1-2min，烘干温度为100-180℃。
4.根据权利要求1或2所述的具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，其特征在于，所述半透明釉在1180-1235℃的高温粘度为9000-12000Pa·s。
5.根据权利要求1所述的具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，其特征在于，所述半透明釉的厚度为1-2.5mm，比重为1.75-1.85，施釉量为400-1000g/m2。
6.根据权利要求1所述的具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，其特征在于，按质量份数计，所述透明保护釉包括如下原料：钾长石20-25份、钠长石15-20份、纳米二氧化硅10-15份、石英5-10、煅烧高岭土3-6份、水洗高岭土7-9份、白云石3-8份、烧滑石3-5份、硅灰石5-7份、煅烧氧化锌2-3份、碳酸钡5-8份和碳酸锶1-2份；
所述纳米二氧化硅的粒径为300-900nm。
7.根据权利要求1或6所述的具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，其特征在于，按质量百分比计，所述透明保护釉的化学组成包括如下：SiO257.1-65.3％、Al2O3 9.2-14.2％、SrO 0.9-1.7％、K2O 2.1-3.5％、Na2O 1.6-2.9％、CaO 3.9-5.7％、ZnO 1.2-3.3％、BaO3.1-8.5％、MgO 2.1-3.3％，烧失5.6-8.3％。
8.根据权利要求1所述的具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，其特征在于，所述透明保护釉的细度为600目以下，比重为1.75-1.80，施釉量为380-500g/m2。
9.根据权利要求1所述的具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺，其特征在于，在步骤S2前，先在所述坯体表面进行喷水或喷羧甲基纤维素钠溶液。
10.一种具有立体装饰效果的陶瓷砖，其特征在于，通过权利要求1-9任一项所述的具有立体装饰效果的陶瓷砖制备工艺所制得。
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