CN114804633B - 一种干粒釉、釉面具有钻石光效果的陶瓷砖及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种干粒釉、釉面具有钻石光效果的陶瓷砖及其制备方法，涉及陶瓷材料技术领域。本发明提供的干粒釉，由干粒与悬浮剂混匀制得；通过对干粒的粒径级配百分含量的限定，以及干悬浮剂的配方限定，通过干粒釉悬浮剂的配合，能够有效的改善干粒釉浆料的悬浮性能、釉面平整度和淋釉状态，使干粒釉涂敷时不易沉淀，进而使干粒釉在后期抛光的过程中使抛光更为均匀。

Description

一种干粒釉、釉面具有钻石光效果的陶瓷砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及陶瓷材料技术领域，尤其是涉及一种干粒釉、釉面具有钻石光效果的陶瓷砖及其制备方法。
背景技术
陶瓷釉面砖是目前家庭厨房、卫生间、阳台、客厅等装修场合不可或缺的建筑装饰材料之一，因其具有较高的强度和耐磨度，且易清洁打理、品种多样等多方面优势而深受广大消费者喜爱。目前，市售的陶瓷釉面砖因面釉配方种类的限制以亮光和亚光两种釉面的产品居多，釉面品类可选择性匮乏，同质化现象普遍存在，使用效果单一，已无法满足消费者个性化及多元化的需求。
迄今为止，大规模生产具有或类似于钻石光效果的陶瓷釉面砖的方法主要有两种：第一种方法是通过丝网印刷在普通亮光面釉之上印刷一道闪光花釉，烧成后产品表面呈现闪光效果以达到类似于钻石光效果；另一种方法是利用数码喷墨打印方式在普通亚光面釉之上打印一道亮光墨水，形成图案的局部位置具有亮光效果以达到类似于钻石光效果。然而，这两种方法只能在形成图案的局部位置产生不同于面釉的光泽差异，钻石光质感不明显，仍然保留了原有釉面光泽效果的原貌，要么亚光要么亮光，无实质性变化，并且由于缺少半抛工艺而导致产品手感差。
另外，在生产过程中总结发现，前述两种方式不仅整体效果上存在明显的差距，且生产过程极不稳定，由于上述两种方式印刷釉层薄，受窑炉烧成以及印刷透过量的波动因素影响非常大，生产过程中很易出现光泽减弱或无光的情况，工艺稳定性差。
因此，为满足市场要求，改变行业现状，设计开发一款具有精细纹路图案，而且凹凸立体层次感强，呈现耀眼眩目、晶莹透亮，似亚非亚，似亮非亮的特殊钻石光泽质感的陶瓷砖，进而提升传统釉面砖的装饰效果和产品装饰美感，变得十分必要和迫切。
有鉴于此，特提出本发明。
发明内容
本发明的第一目的在于提供一种干粒釉，所述干粒釉通过对干粒的粒径级配百分含量的限定，以及悬浮剂的配方限定，通过干粒釉悬浮剂的配合，能够有效的改善干粒釉浆料的悬浮性能、釉面平整度和淋釉状态，使干粒釉涂敷时不易沉淀，进而使干粒釉在后期抛光的过程中使抛光更为均匀。
本发明的第二目的在于提供一种釉面具有钻石光效果的陶瓷砖，所述陶瓷砖具有耀眼眩目、晶莹透亮，似亚非亚，似亮非亮的特殊莹光光泽品类。
本发明的第三目的在于提供一种釉面具有钻石光效果陶瓷砖的制备方法。
为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：
本发明提供的一种干粒釉，所述干粒釉由干粒与悬浮剂混匀制得；所述干粒的粒径级配百分含量为：120~180目颗粒10~35%、180~250目颗粒65~90%；按质量份数计，所述悬浮剂的组分包括：丙烯酸酯聚合物10~13份、丙二醇嵌段共聚物6~10份、表面活性剂1~3份、增稠剂0~3份和陶瓷分散剂70~81份。
优选地，按质量份数计，所述悬浮剂包括：丙烯酸酯聚合物12份、丙二醇嵌段共聚物8份、表面活性剂2份、增稠剂1份、陶瓷分散剂75份。
优选地，所述干粒的粒径级配百分含量为：120~180目颗粒30%、180~250目颗粒70%。
优选地，所述干粒釉中干粒与悬浮剂的质量比为20~30:70~80。
优选地，按质量百分数计，所述干粒的化学组成包括：SiO2 65%～70%、Al2O3 13%～16%、MgO 0.05%～2%、CaO 6%～7%、Na2O 0.8～2.0%、K2O 3.5%～4.5%、ZnO 2.5%～4.5%、BaO0.02%～1%、Fe2O3 0.05%～0.1%、SrO0.8%～1.5%。
另外，本发明提供一种釉面具有钻石光效果的陶瓷砖，所述陶瓷砖包括具有凹凸效果的仿石坯体，以及仿石坯体表面由内至外依次设置的底釉层、面釉层、印花层和干粒釉层；其中，所述具有凹凸效果的仿石坯体由生坯雕刻制备得到；所述干粒釉层由本发明所述的干粒釉制备得到。
本发明还提供所述釉面具有钻石光效果的陶瓷砖的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：
（a）、通过凹凸模具在素坯上进行生坯雕刻，然后素烧，即可制得具有凹凸效果的仿石坯体；
（b）、在步骤（a）所述的具有凹凸效果的仿石坯体表面依次喷淋底釉和面釉，然后喷墨印花打印，依次得到底釉层、面釉层和印花层；
（c）、将干粒釉喷淋至步骤（b）所述的印花层上，随后烧结、半抛光，即可得到所述的釉面具有钻石光效果的陶瓷砖。
优选地，步骤（a）中，所述的素烧温度为1170~1175℃。
优选地，步骤（c）中，所述半抛光后的陶瓷砖光泽度为35~40度。
优选地，步骤（c）中，所述干粒釉的施釉量为500~700g/m2，所述烧结的温度为1110~1130℃。
与现有技术相比，本发明的有益效果为：
本发明提供的干粒釉，由干粒与悬浮剂混匀制得；通过对上述干粒的粒径级配百分含量的限定，以及干悬浮剂的配方限定，通过干粒釉悬浮剂的配合，能够有效的改善干粒釉浆料的悬浮性能、釉面平整度和淋釉状态，使干粒釉涂敷时不易沉淀，进而使干粒釉在后期抛光的过程中使抛光更为均匀。
本发明提供的一种釉面具有钻石光效果的陶瓷砖，所述陶瓷砖包括具有凹凸效果的仿石坯体，以及坯体表面由内至外依次设置的底釉层、面釉层、印花层和干粒釉层；其中，所述干粒釉层主要由上述干粒釉制备得到，所述具有凹凸效果的仿石坯体通过凹凸模具在素坯上进行生坯雕刻制得。本发明通过凹凸模具对生坯进行雕刻，制得的具有凹凸效果的仿石坯体，再与干粒釉的配合，经半抛光后的陶瓷砖，其釉面具有明显的钻石光效果，打破了原有的“非亚即亮，或非亮即亚”的固有光泽模式。在研发构想上进行了创新，开创了一种全新的具有耀眼眩目、晶莹透亮，似亚非亚，似亮非亮的特殊莹光光泽品类。
需要说明的是，本发明所述的凹凸模具的制得，是将天然石材经过长期的雨淋日晒，岁月侵蚀形成的自然表面效果（凹坑、棱角、槽纹等）通过高清扫描设备获取信息，以平面生坯为模具雕刻载体，电脑将获取的素材信息，通过数据走刀方式，完成模具的雕刻加工。整个过程基本无数据信息丢失，进而制得的具有凹凸效果的仿石坯体，其具有仿真度高、素材的原始细节能够完美再现的技术优势。
本发明提供的釉面具有钻石光效果陶瓷砖的制备方法，该制备方法首先制得具有凹凸效果的仿石坯体，然后在具有凹凸效果的仿石坯体表面依次喷淋底釉和面釉、喷墨印花打、喷淋干粒釉，烧结，得到釉面具有钻石光效果陶瓷砖。本发明利用凹凸模具在素坯上进行生坯雕刻，能将凹凸雕刻效果直接在素坯上进行表现，在淋釉、印花、淋干粒釉、烧结工序完成后，再结合半抛光的工艺，制得的陶瓷砖；半抛光的工艺实现陶瓷砖产品亚光的效果，突出干粒的钻石光效果，形成明暗层次感，且避免像全抛光的抛光深度过深，最终影响釉面的防污性能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明试验例3中提供的采用对比例4进行淋釉料后的釉幕状态图；
图2为本发明试验例3中提供的采用实施例1进行淋釉料后的釉幕状态图；
图3为本发明实施例4所述的釉面具有钻石光效果陶瓷砖的实际产品图；
图4为本发明实施例5所述的釉面具有钻石光效果陶瓷砖实际产品图；
图5为对比例6的釉面具有钻石光效果的陶瓷砖产品图；
图6为对比例7的釉面具有钻石光效果的陶瓷砖产品图。
具体实施方式
下面将结合实施例对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
根据本发明的一个方面，本发明提供的一种干粒釉，所述干粒釉由干粒与悬浮剂混匀制得；所述干粒的粒径级配百分含量为：120~180目颗粒10~35%、180~250目颗粒65~90%；按质量份数计，所述悬浮剂的组分包括：丙烯酸酯聚合物10~13份、丙二醇嵌段共聚物6~10份、表面活性剂1~3份、增稠剂0~3份和陶瓷分散剂70~81份。
更具体地，本发明提供的一种干粒釉，通过对上述干粒的粒径级配百分含量的限定，以及干悬浮剂的配方限定，通过干粒釉悬浮剂的配合，能够有效的改善干粒釉浆料的悬浮性能、釉面平整度和淋釉状态，使干粒釉涂敷时不易沉淀，进而使干粒釉在后期抛光的过程中使抛光更为均匀。
在本发明的一种优选实施方式中，按质量份数计，所述悬浮剂包括：丙烯酸酯聚合物12份、丙二醇嵌段共聚物8份、表面活性剂2份、增稠剂1份、陶瓷分散剂75份。
在本发明的一种优选实施方式中，所述干粒的粒径级配百分含量为：120~180目颗粒30%、180~250目颗粒70%。
在本发明的一种优选实施方式中，所述干粒釉中干粒与悬浮剂的质量比为20~30:70~80。采用上述原料组成的悬浮剂，经试验验证对消除淋釉凹釉及气泡缺陷非常有效，具有较佳的效果。
在本发明的一种优选实施方式中，所述干粒釉中干粒与悬浮剂的质量比为30:70。上述干粒釉中干粒与悬浮剂的质量比为30：70，在该配比条件下，经试验检测，干粒釉具有很好的抗沉淀效果，釉浆在放置24小时后仅轻微分层，没有发生沉淀现象。
在本发明的一种优选实施方式中，按质量百分数计，所述干粒的化学组成包括：SiO2 65%～70%、Al2O3 13%～16%、MgO 0.05%～2%、CaO 6%～7%、Na2O 0.8～2.0%、K2O 3.5%～4.5%、ZnO 2.5%～4.5%、BaO 0.02%～1%、Fe2O3 0.05%～0.1%、SrO0.8%～1.5%；所述干粒中各化学成分的质量百分数之和为100%。本发明通过采用上述特定无机化学组份组成的干粒，其具有较为适宜的物理性能和高温烧结性能，该干粒按上述特定比例与悬浮剂复配后得到的干粒釉具有较佳的亮度和光泽度。
根据本发明的另一个方面，提供一种釉面具有钻石光效果的陶瓷砖，所述陶瓷砖包括具有凹凸效果的仿石坯体，以及仿石坯体表面由内至外依次设置的底釉层、面釉层、印花层和干粒釉层；其中，所述具有凹凸效果的仿石坯体由生坯雕刻制备得到；所述干粒釉层由本发明所述的干粒釉制备得到。
本发明所述具有凹凸效果的仿石坯体通过凹凸模具在素坯上进行生坯雕刻制得。本发明通过凹凸模具对生坯进行雕刻，制得的具有凹凸效果的仿石坯体，再与干粒釉的配合，经半抛光后的陶瓷砖，其釉面具有明显的钻石光效果，打破了原有的“非亚即亮，或非亮即亚”的固有光泽模式。在研发构想上进行了创新，开创了一种全新的具有耀眼眩目、晶莹透亮，似亚非亚，似亮非亮的特殊莹光光泽品类。
需要说明的是，本发明所述的凹凸模具的制得，是将天然石材经过长期的雨淋日晒，岁月侵蚀形成的自然表面效果（凹坑、棱角、槽纹等）通过高清扫描设备获取信息，以平面生坯为模具雕刻载体，电脑将获取的素材信息，通过数据走刀方式，完成模具的雕刻加工。整个过程基本无数据信息丢失，进而制得的具有凹凸效果的仿石坯体，其具有仿真度高、素材的原始细节能够完美再现的技术优势。
同时，需要说明的是，本发明所述的凹凸模具利用生坯为雕刻材料，其相对其他材料的模具雕刻载体，釉面砖素坯经济性较佳。此外，通过淋釉后，若效果不满意，可以对表面凹凸深度、结构以及细节等进行随意修改，整个过程操作简单方便、耗时短，材料耗用成本低。而且通过生坯加工坯体模具精细纹理，并通过凹凸模结合半抛光，使瓷砖表面具有亮面和哑面交错共存，形成局部炫光效果；
根据本发明的另一个方面，本发明还提供所述釉面具有钻石光效果的陶瓷砖的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：
（a）、通过凹凸模具在素坯上进行生坯雕刻，然后素烧，即可制得具有凹凸效果的仿石坯体；
（b）、在步骤（a）所述的具有凹凸效果的仿石坯体表面依次喷淋底釉和面釉，然后喷墨印花打印，依次得到底釉层、面釉层和印花层；
（c）、将干粒釉喷淋至步骤（b）所述的印花层上，随后烧结、半抛光，即可得到所述的釉面具有钻石光效果的陶瓷砖。
本发明提供的釉面具有钻石光效果陶瓷砖的制备方法，该制备方法首先制得具有凹凸效果的仿石坯体，然后在具有凹凸效果的仿石坯体表面依次喷淋底釉和面釉、喷墨印花打、喷淋干粒釉，烧结，得到釉面具有钻石光效果陶瓷砖。本发明利用凹凸模具在素坯上进行生坯雕刻，能将凹凸雕刻效果直接在素坯上进行表现，在淋釉、印花、淋干粒釉、烧结工序完成后，再结合半抛光的工艺，制得的陶瓷砖；半抛光的工艺实现陶瓷砖产品亚光的效果，突出干粒的钻石光效果，形成明暗层次感，且避免像全抛光的抛光深度过深，最终影响釉面的防污性能。
需要说明的是，本申请采用直接淋釉法进行制备有利于实现钻石光的抛光效果。现有的沉淀淋釉，会导致淋后陶瓷砖会产生桔皮毛孔等现象，抛光后得不到钻石光效果。气泡淋釉，烧成后有许多针眼，抛光后会导致严重吸污缺陷。
在本发明所述的制备方法中的一种优选实施方式中，步骤（c）中，所述半抛光后的陶瓷砖光泽度为35~40度。半抛光的工艺实现陶瓷砖产品亚光的效果，突出干粒的钻石光效果，形成明暗层次感，且避免像全抛光的抛光深度过深，最终影响釉面的防污性能。
更具体地，所述半抛光的抛光机的磨块分布和参数如下表1-3所示：
表1 抛光机位1
Figure T_220624153936057_057746001
表2 抛光机位2
Figure T_220624153936135_135876002
表3抛光机位3
Figure T_220624153936200_200348003
在本发明所述的制备方法中的一种优选实施方式中，步骤（a）中，所述的素烧温度为1170~1175℃；步骤（c）中，所述干粒釉的施釉量为500~700g/m2，所述烧结的温度为1110~1130℃。
下面将结合实施例对本发明的技术方案进行进一步地说明。
实施例1
本实施例为本发明所述的一种干粒釉，所述干粒釉的干粒化学组成含量为SiO2为66.6%、Al2O3为16%、MgO为2%、CaO为6%、Na2O为0.8%、K2O为3.5%、ZnO为2.5%、BaO为1%、Fe2O3为0.1%、SrO为1.5%。
所述干粒釉的制造方法，步骤如下:
1、选取干粒粒径＞120目或＜250目，且粗颗粒或细粉占比都不宜过高或过分集中。须通过搭配悬浮剂来制备干粒釉浆。
所述干粒的粒径级配百分含量为：120~180目颗粒30%、180~250目颗粒70%。
2、所述悬浮剂配方含量：按质量份数计，所述悬浮剂的组分包括：丙烯酸酯聚合物12份、丙二醇嵌段共聚物8份、表面活性剂2份、增稠剂1份和陶瓷分散剂75份。所述其他助剂包括水和抗沉淀剂，所述水和抗沉淀剂的质量比为60：40。
3、将悬浮剂与干粒混匀制得干粒釉，其中，干粒与悬浮剂配比为30：70，淋干粒釉克数为每平方110克。
实施例2
本实施例为本发明所述的一种干粒釉，所述干粒釉的干粒化学组成含量为SiO265%、Al2O3 16%、MgO 0.05%、CaO 6%、Na2O2.0%、K2O 4.5%、ZnO3.85、BaO 1%、Fe2O3 0.1%、SrO1.5%。
所述干粒釉的制造方法，步骤如下:
1、选取干粒粒径＞120目或＜250目，且粗颗粒或细粉占比都不宜过高或过分集中。须通过搭配悬浮剂来制备干粒釉浆。
所述干粒釉由干粒与悬浮剂混匀制得；所述干粒的粒径级配百分含量为：120~180目颗粒10%、180~250目颗粒90%。
2、所述悬浮剂配方含量：按质量份数计，所述悬浮剂的组分包括：丙烯酸酯聚合物10份、丙二醇嵌段共聚物6份、表面活性剂1份、增稠剂2份和陶瓷分散剂81份。所述其他助剂包括水和抗沉淀剂，所述水和抗沉淀剂的质量比为60：40。
3、将悬浮剂与干粒混匀制得干粒釉，其中，干粒与悬浮剂配比为20：80，淋干粒釉克数为每平方130克。
实施例3
本实施例为本发明所述的一种干粒釉，所述干粒釉的干粒化学组成含量为SiO270%、Al2O3 13%、MgO 0.05%、CaO 7%、Na2O 2.0%、K2O 3.83%、ZnO 2.5%、BaO 0.02%、Fe2O30.1%、SrO1.5%。
所述干粒釉的制造方法，步骤如下:
1、选取干粒粒径＞120目或＜250目，且粗颗粒或细粉占比都不宜过高或过分集中。须通过搭配悬浮剂来制备干粒釉浆。
所述干粒釉由干粒与悬浮剂混匀制得；所述干粒的粒径级配百分含量为：120~180目颗粒35%、180~250目颗粒65%。
2、所述悬浮剂配方含量：按质量份数计，所述悬浮剂的组分包括：丙烯酸酯聚合物13份、丙二醇嵌段共聚物10份、表面活性剂3份、增稠剂1份和陶瓷分散剂70份。所述其他助剂包括水和抗沉淀剂，所述水和抗沉淀剂的质量比为60：40。
3、将悬浮剂与干粒混匀制得干粒釉，其中，干粒与悬浮剂配比为25:75，淋干粒釉克数为每平方120克。
实施例4
本实施例为本发明提供的一种釉面具有钻石光效果的陶瓷砖，所述陶瓷砖包括坯体，以及坯体表面由内至外依次设置的底釉层、面釉层、印花层和干粒釉层；
上述釉面具有钻石光效果的陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
（a）、按照常规陶瓷原料的配方进行称取，通过凹凸模具在素坯上进行生坯雕刻，然后1175℃素烧，即可制得具有凹凸效果的仿石坯体；
（b）、在步骤（a）所述的具有凹凸效果的仿石坯体表面依次喷淋底釉和面釉，然后喷墨印花打印，依次得到底釉层、面釉层和印花层；其中，面釉采取了G200F，所述原料成分XW-1816熔块75份、硅酸锆10份、煅烧高岭土6份、气刀土6份、200目氧化铝1份、石英粉2份、甲基纤维素0.12份、三聚磷酸钠0.35份、水39份，施淋500克每平方；
（c）、将干粒釉喷淋至步骤（b）所述的印花层上，干粒施釉量为700g/m2，随后1130℃烧结、半抛光，即可得到所述的釉面具有钻石光效果的陶瓷砖；所述干粒釉的制备同实施例1；
其中，步骤（a）所述的凹凸模具的制得，是将天然石材经过长期的雨淋日晒，岁月侵蚀形成的自然表面效果（凹坑、棱角、槽纹等）通过高清扫描设备获取信息，以平面生坯为模具雕刻载体，电脑将获取的素材信息，通过数据走刀方式，完成模具的雕刻加工；
步骤（c）所述半抛光的抛光机的磨块分布和参数如本申请说明书中的表1-3所示。
实施例5
本实施例为本发明提供的一种釉面具有钻石光效果的陶瓷砖，其制备方法同实施例4，除干粒釉的制备同实施例2以及素烧温度1170℃，烧结温度1110℃，干粒施釉量为500g/m2外。
对比例1
本对比例为一种干粒釉，除干粒粒径级配百分含量不同于实施例1外，其余均同实施例1。
该对比例的干粒粒径级配百分含量：120~180目颗粒40%、180~250目颗粒60%。
对比例2
本对比例为一种干粒釉，除干粒粒径级配百分含量不同于实施例1外，其余均同实施例1。
该对比例的干粒粒径级配百分含量：120~180目颗粒5%、180~250目颗粒95%。
对比例3
本对比例为一种干粒釉，除干粒粒径级配百分含量不同于实施例1外，其余均同实施例1。
该对比例的干粒粒径级配百分含量：120~180目颗粒40%、180~250目颗粒20%、＞250目40%。
对比例4
本对比例为一种干粒釉，除悬浮剂的配方不同于实施例1外，其余均同实施例1。
所述悬浮剂配方含量：按质量份数计，所述悬浮剂的组分包括：丙烯酸酯聚合物7份、丙二醇嵌段共聚物5份、表面活性剂2份、增稠剂1份和陶瓷分散剂75份。
对比例5
本对比例为一种干粒釉，除悬浮剂的配方不同于实施例1外，其余均同实施例1。
所述悬浮剂配方含量：按质量份数计，所述悬浮剂的组分包括：丙烯酸酯聚合物16份、丙二醇嵌段共聚物17份、表面活性剂3份、增稠剂1份和陶瓷分散剂58份。
对比例6
本对比例为一种釉面具有钻石光效果的陶瓷砖，其制备方法同实施例4，除半抛光的磨块分布和参数不同外；所述半抛光的抛光机的磨块分布和参数如下表4-6所示：
表4 抛光机位1
Figure T_220624153936262_262815004
表5 抛光机位2
Figure T_220624153936325_325327005
表6 抛光机位3
Figure T_220624153936374_374654006
对比例7
本对比例为一种釉面具有钻石光效果的陶瓷砖，其制备方法同实施例4，除半抛光的磨块分布和参数不同外；所述半抛光的抛光机的磨块分布和参数如下表7-9所示：
表7 抛光机位1
Figure T_220624153936437_437131007
表8 抛光机位2
Figure T_220624153936500_500585008
表9 抛光机位3
Figure T_220624153936556_556736009
试验例1
本试验例验证不同的干粒釉中干粒粒径级配百分含量的不同，对干粒釉的釉浆悬浮性、釉面平整度以及施釉状态的影响。
将实施例1-3和对比例1-3的干粒釉陈腐8小时看沉淀效果；随后以400g/m2的施釉量在具有凹凸效果的仿石坯体淋釉，看釉幕状况，烧成后看釉面效果，及抛光后是否体现钻石光效果，具体检测结果如下表10所示。
表10 不同干粒粒径级配百分含量对干粒釉悬浮性的影响
样品 悬浮性能 釉面平整度 淋釉状态
实施例1 正常 平整度好 釉幕稳定
实施例2 正常 平整度好 釉幕稳定
实施例3 正常 平整度好 釉幕稳定
对比例1 已沉淀 流平性差，桔皮 釉幕易堵塞、断流
对比例2 易触变 平整度好 釉幕易结团、断流
对比例3 易触变 平整度好 釉幕易结团、断流
由表10的结果可知，在本发明所述的干粒粒径级配百分含量范围内，即120~180目颗粒10~35%、180~250目颗粒65~90%，干粒釉悬浮性能正常，釉面平整度好，釉幕稳定。对比例1中的120~180目颗粒含量多，达到40%，颗粒太大，最终导致已沉淀，悬浮性能差；对比例2中的180~250目颗粒含量多，达到95%，最终导致易触变，悬浮性能差；对比例3含有＞250目颗粒，也是颗粒太细，最终导致易触变，悬浮性能差。
试验例2
为表明本发明悬浮剂的原料组成能够有效的避免釉料的淋釉气泡和凹釉状况，本发明现采用实施例1-3以及对比例4~5制得的干粒釉进行性能检测，具体方法如下：
将实施例1以及对比例4~5制得的干粒釉以400g/m2的施釉量在具有凹凸效果的仿石坯体淋釉，然后直接在中试备用线淋釉看釉幕状态（凹釉、气泡）具体检测结果如下表11。
表11
样品 淋釉气泡\凹釉状况
实施例1 基本无凹釉、气泡，釉浆流平性优
实施例2 基本无凹釉、气泡，釉浆流平性优
实施例3 基本无凹釉、气泡，釉浆流平性优
对比例 4 凹釉、气泡多
对比例 5 零散凹釉、气泡存在
如表11、图1和图2所示，所述图1为采用对比例4进行淋釉料后的釉幕状态图。图2为采用实施例1进行淋釉料后的釉幕状态图。通过图1、2试验结果中悬浮剂的试验对比可知，对比例4进行淋釉料后的釉幕状态具有较多的气泡和凹釉；而本发明实施例1中悬浮剂的组成对消除淋釉凹釉及气泡缺陷非常有效，淋釉工艺过程顺畅。同时，经试验对比可知，在本发明悬浮剂的如下组成范围“丙烯酸酯聚合物10~13份、丙二醇嵌段共聚物6~10份、表面活性剂1~3份、增稠剂0~3份和陶瓷分散剂70~81份”内的技术方案，淋釉的状况较佳，基本无凹釉、气泡，釉浆流平性优。
试验例3
本试验例对实施例1-3和对比例6所述的砂釉面具有钻石光效果的陶瓷砖进行各常规物理性能检测，检测方法和检测结果如表12所示。
检测方法：
防污性能：GB/T3810.14-2016；
耐磨：GB/T3810.7-2016；
耐酸碱：GB/T3810.13-2016；
表12陶瓷砖性能检测
项目 防污性能（级别） 耐磨度（级别） 耐酸碱（级别） 光泽度 （度）
实施例 1 5 4 GLA 36
实施例 2 5 4 GLA 35
实施例 3 5 4 GL A 40
对比例 6 3 4 GL A 90
对比例 7 4 3 GL A 85
由表12的结果显示，对比例6为半抛光的陶瓷砖，抛光机的磨块分布和参数，抛光机位1的目数小，出现了抛穿的现象（如图5所示），其防污性能比本发明所述的釉面具有钻石光效果陶瓷砖差，且对比例6的光泽度高，即光泽度过亮。
对比例7为半抛光的陶瓷砖，抛光机的磨块分布和参数，抛光机位1的目数大，出现了抛白的现象，即没有抛光到位（如图6所示），其防污性能比本发明所述的釉面具有钻石光效果陶瓷砖差，且对比例7的光泽度高，即光泽度过亮。
图3为本发明实施例4所述的釉面具有钻石光效果陶瓷砖的实际产品图。经过抛光后的产品在微观下进行观察，结合微观结构图和元素分析综合分析可以得到白色部分为抛光的局部区域，光滑的地方为钻石光效果区域。
图4为本发明实施例5所述的釉面具有钻石光效果陶瓷砖实际产品的凹凸效果图。由图4可知，本发明陶瓷砖具有精细的纹路图案，而且凹凸立体层次感强，能够呈现耀眼眩目、晶莹透亮，似亚非亚，似亮非亮的特殊钻石光泽质感。
图5为对比例6的釉面具有钻石光效果的陶瓷砖，出现了抛穿的现象。
图6为对比例7的釉面具有钻石光效果的陶瓷砖，出现了抛白的现象。
综上，本发明釉面具有钻石光效果陶瓷砖，其釉面具有明显的钻石光效果，打破了原有的“非亚即亮，或非亮即亚”的固有光泽模式。在研发构想上进行了创新，开创了一种全新的具有耀眼眩目、晶莹透亮，似亚非亚，似亮非亮的特殊莹光光泽品类。本项目能够改变现有陶瓷釉面砖釉面品种单一，而花色类型繁多且同质化现象的问题，为陶瓷釉面砖行业提供一种新型釉面砖产品，丰富了釉面砖种类，满足了消费者个性化和多元化的需求。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (8)

1.一种干粒釉，其特征在于，所述干粒釉由干粒与悬浮剂混匀制得；
所述干粒釉中干粒与悬浮剂的质量比为20~30:70~80；
所述干粒的粒径级配百分含量为：120~180目颗粒10~35%、180~250目颗粒65~90%；
按质量份数计，所述悬浮剂的组分包括：丙烯酸酯聚合物10~13份、丙二醇嵌段共聚物6~10份、表面活性剂1~3份、增稠剂0~3份和陶瓷分散剂70~81份。
2.根据权利要求1所述的干粒釉，其特征在于，按质量份数计，所述悬浮剂的组分包括：丙烯酸酯聚合物12份、丙二醇嵌段共聚物8份、表面活性剂2份、增稠剂1份和陶瓷分散剂75份。
3.根据权利要求1所述的干粒釉，其特征在于，所述干粒的粒径级配百分含量为：120~180目颗粒30%、180~250目颗粒70%。
4.根据权利要求1所述的干粒釉，其特征在于，按质量百分数计，所述干粒的化学组成包括：SiO2 65%～70%、Al2O3 13%～16%、MgO 0.05%～2%、CaO 6%～7%、Na2O 0.8～2.0%、K2O3.5%～4.5%、ZnO 2.5%～4.5%、BaO 0.02%～1%、Fe2O3 0.05%～0.1%、SrO0.8%～1.5%。
5.一种釉面具有钻石光效果的陶瓷砖，其特征在于，所述陶瓷砖包括具有凹凸效果的仿石坯体，以及仿石坯体表面由内至外依次设置的底釉层、面釉层、印花层和干粒釉层；
其中，所述具有凹凸效果的仿石坯体由生坯雕刻制备得到;
所述干粒釉层由权利要求1~4任一项所述的干粒釉制备得到，具体为：将干粒釉喷淋至印花层上，随后烧结、半抛光，即可得到具有所述干粒釉层的钻石光效果陶瓷砖；
所述半抛光后的陶瓷砖光泽度为35~40度。
6.一种釉面具有钻石光效果的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述釉面具有钻石光效果的陶瓷砖为权利要求5所述的陶瓷砖，所述制备方法包括如下步骤：
（a）、通过凹凸模具在素坯上进行生坯雕刻，然后素烧，即可制得具有凹凸效果的仿石坯体；
（b）、在步骤（a）所述的具有凹凸效果的仿石坯体表面依次喷淋底釉和面釉，然后喷墨印花打印，依次得到底釉层、面釉层和印花层；
（c）、将干粒釉喷淋至步骤（b）所述的印花层上，随后烧结、半抛光，即可得到所述釉面具有钻石光效果的陶瓷砖。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤（a）中，素烧温度为1170~1175℃。
8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤（c）中，所述干粒釉的施釉量为500~700g/m2，所述烧结的温度为1110~1130℃。
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