CN114650881B - 用于用修补基面涂料涂覆基底的设备和方法 - Google Patents

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Abstract

一种用修补基面涂料涂覆基底的设备和方法，该方法包括：‑将该基底(110)与基底涂覆设备(100)的头戴式耳机(6)接合以将该基底的上表面定位在该基底涂覆设备的修补基面涂料淋浴喷头下方；‑将隔板(200)布置在该修补基面涂料淋浴喷头与该基底的上表面之间，该隔板包括多个孔洞(202)并且位于该头戴式耳机中以维持该隔板的下面(203)和该基底的上表面之间的第一间隙；‑将修补基面涂料从该修补基面涂料淋浴喷头排出到该隔板的上面(204)上；以及‑至少部分地通过向该基底的下表面施加吸力，使该修补基面涂料穿过该隔板中的孔洞(202)，到达该基底的上表面上并进入该基底中。

Description

用于用修补基面涂料涂覆基底的设备和方法
本公开涉及用于用修补基面涂料涂覆基底的设备和方法。具体地讲，本公开涉及用于净化废气的基底的涂层。
背景技术
用于净化废气的基底通常可包括设置有用于废气的通流的通路的整体式基底。基底可设置有涂层，该涂层可为催化涂层。涂层可作为修补基面涂料施加到基底，该修补基面涂料穿过基底的通路。用于将涂层施加到基底的各种方法是已知的。一种此类方法涉及将修补基面涂料施加到基底的第一面(例如，上面)，并且使基底的相反的第二面(例如，下面)经受至少部分真空以实现修补基面涂料通过通路的移动。涂覆后，可将基底干燥并煅烧。
基底可被构造为流通式基底，其中每个通路在基底的第一面和第二面两者处开口，并且该通路延伸穿过基底的整个长度。因此，通过基底的第一面进入通路的废气穿过同一通路内的基底，直到废气离开基底的第二面。另选地，基底可被构造为过滤器基底，其中一些通路在基底的第一面处被堵塞而其他通路在基底的第二面处被堵塞。在此类构造中，通过基底的第一面进入第一通路的废气沿基底且部分地沿该第一通路流动，并且然后穿过基底的过滤壁进入第二通路。然后废气沿该第二通路通过并离开基底的第二面。此类布置在本领域中已被称为壁流式过滤器。
经涂覆的流通式基底可以包括三元催化剂(TWC)、选择性催化还原(SCR)催化剂、柴油氧化催化剂(DOC)、稀NOx捕集催化剂(LNT)、氨逃逸催化剂(ASC)、组合的选择性催化还原催化剂和氨逃逸催化剂(SCR/ASC)以及被动NOx吸附剂(PNA)。
经涂覆的过滤器基底可以是例如包括氧化催化剂的催化烟灰过滤器(CSF)、包括选择性催化还原(SCR)催化剂的选择性催化还原过滤器(SCRF)、包括NOx吸附剂组合物的稀NOx捕集过滤器(lntf)、包括三元催化剂组合物的汽油微粒过滤器(GPF)或包括选择性催化还原(SCR)催化剂和氨漏失催化剂(ASC)的过滤器基底。
基底可以由陶瓷材料或金属材料制成或构成。例如，基底可以由钛酸铝、堇青石(SiO2-Al2O3-MgO)、碳化硅(SiC)、Fe-Cr-Al合金、Ni-Cr-Al合金或不锈钢合金制成或构成。
基底通常具有沿其纵向长度具有均匀截面形状的基底本体。通常，基底本体可以具有圆形或近圆形形状截面，但是其它截面形状是可能的，例如正方形和矩形。基底本体的上表面可以被定义为在涂覆期间定位的面，并且同样，基底本体的下表面可以定义为在涂覆期间定位的面。通常，上面和下面是平面的并且与基底本体的纵向轴线正交。
一些特殊的基底可以设置有非平面上表面和或下表面。例如，上表面可以设置有用于接收另一部件的凹槽或切口。例如，当基底结合在排放控制***中时，排放控制***的传感器可以在使用中定位在凹槽或切口中。在另一示例中，上表面可以在一部分或整个面上呈凹入或凸出的圆顶形。
当涂覆基底时，通常可能需要实现基本上‘平坦的’修补基面涂料轮廓，即实现修补基面涂料的基本上平坦或垂直于通路的纵向轴线的前导“前部”或“边缘”(标记基底的被涂覆部分和未涂覆部分之间的边界界面)。
已经发现，将修补基面涂料施加到具有非平面的上表面或下表面的基底上存在特定问题。施加到上表面的修补基面涂料可以优先收集或汇集在凹槽或切口内。这可能导致难以在通过真空抽吸到基底本体中时控制精确修补基面涂料的分布，并且特别是难以实现基本上平坦的修补基面涂料轮廓。例如，当修补基面涂料随后被拉穿基底时，可以在基底中获得不均匀的，即非平坦的修补基面涂料轮廓。这可以是由于例如较大体积的修补基面涂料上覆凹槽或切口，并且因此进一步在凹槽或切口下面的区域中吸入基底本体中。不均匀的修补基面涂料轮廓可能产生对基底的操作效率的有害影响。例如，不均匀的轮廓可能导致基底的部分未涂覆(这降低了基底的催化效率)或基底的部分被无意地涂覆超过一次——其中施加多剂量的修补基面涂料(这可以有害地增加基底的背压)。在一些情况下，修补基面涂料可以被完全拉穿基底本体并从下表面露出。这可能导致修补基面涂料的浪费，并且还可能阻挡基底的下面上的通路开口。
另选地或另外地，在充分密封基底本体以防止修补基面涂料沿基底本体的侧面向下损失可能存在问题。在凹槽或切口延伸到基底本体的侧壁的情况下这可能是特定问题。基底的侧壁被修补基面涂料污染还可以导致基底的视觉退化，并且可以使可以设置在基底的侧壁上的视觉识别标记(例如跟踪条形码等)变得模糊。
另选地或另外地，即使一些基底具有平面的上表面，在一些基底的上表面上实现修补基面涂料的均匀扩散可能存在问题。例如，对于给定基底，可能将存在粘度的阈值，低于该阈值，修补基面涂料被过快地吸收到通路中，并且不会完全或均匀跨上表面扩散。这可能导致增加的修补基面涂料量直接进入修补基面涂料递送出口下方的通路，并且因此导致不均匀的修补基面涂料轮廓。
发明内容
在第一方面，本公开提供了一种用修补基面涂料涂覆基底的方法，其中该方法包括以下步骤：
-将该基底与基底涂覆设备的顶部装置接合，以将该基底的上表面定位在该基底涂覆设备的修补基面涂料喷淋头下方；
-将隔板布置在该修补基面涂料喷淋头与该基底的上表面之间，该隔板包括多个孔洞并且位于该顶部装置中以维持该隔板的下面与该基底的上表面之间的第一间隙；
-将修补基面涂料从该修补基面涂料喷淋头排出到该隔板的上面上；
以及
-至少部分地通过向该基底的下表面施加吸力，使该修补基面涂料穿过该隔板中的孔洞，到达该基底的上表面上并进入该基底中。
在第二方面，本公开提供了一种基底涂覆设备，该基底涂覆设备包括：
修补基面涂料源；
修补基面涂料喷淋头，该修补基面涂料喷淋头用于将该修补基面涂料朝着基底的上表面排放；
导管，该导管将该修补基面涂料源流体地连接至该修补基面涂料喷淋头以用于向该修补基面涂料喷淋头供应修补基面涂料；
顶部装置，该顶部装置用于接合该基底以将该基底的上表面定位在该修补基面涂料喷淋头下方；和
真空发生器，该真空发生器用于将从该修补基面涂料喷淋头排放的该修补基面涂料抽吸穿过该基底；
其中该顶部装置包括隔板，该隔板包括多个孔洞，该隔板在该基底接合在该顶部装置中时位于该修补基面涂料喷淋头与该基底的上表面之间，以维持该隔板的下面与该基底的上表面之间的第一间隙。
在第三方面，本公开提供了一种基底涂覆***，该基底涂覆***包括以上方面的基底涂覆设备和基底，其中该基底的上表面是非平面的；并且任选地，其中该基底的上表面包括成形部，例如凹槽或切口，该成形部延伸到该基底的侧壁，由此限定该侧壁中的间隙。
在第四方面，本公开提供了一种被构造用于基底涂覆设备的隔板，该隔板包括盘形本体；
该盘形本体在其上面与其下面之间的厚度在5mm与15mm之间，任选地在7.5mm与12.5mm之间，任选地为10mm；
该隔板包括多于500个孔洞，任选地多于1000个孔洞，任选地多于1500个孔洞，任选地多于2000个孔洞；
该孔洞各自具有在1mm至3mm之间的直径，任选地为2mm的直径；
其中被定义为该隔板的上面的由该孔洞构成的总面积的百分比的该隔板的开口面积百分比在35％与55％之间，任选地在40％与50％之间，任选地为约45％。
有利地，在上述方面中的任一方面中，当上表面是非平面时，隔板与其多个孔洞的使用有助于防止修补基面涂料积聚在例如基底的上表面的凹槽或切口中。已经发现这导致对修补基面涂料轮廓的有害影响的减少和修补基面涂料从基底的下表面拉穿的减少。
特别地，在上述方面中的任一方面中，有利的是，可以在修补基面涂料排放到隔板的上面上的一定时间限制内施加吸力。例如，此时间限制可以是5秒，优选地为3秒，更优选地为1秒。这可以有利地限制或防止在施加吸力之前修补基面涂料到达基底的上表面。以这种方式，可以防止或至少基本上减少修补基面涂料在上表面中的任何凹槽或切口中的汇集或积聚，因为可以通过施加的吸力立即将接触基底上表面的修补基面涂料吸入基底本体中。
另外，在上述方面中的任一方面中，维持隔板的下面与基底的上表面之间的第一间隙有利地有助于在将吸力施加到基底的下表面之前或之后通过例如防止隔板与基底的上表面之间的任何毛细管作用最小化和/或防止修补基面涂料在隔板与基底之间桥接。
第一方面至第四方面中的任一方面还可以包括以下特征中的一者或多者：
·隔板可以以固定关系布置在顶部装置中。
·第一间隙可以在2mm与7mm之间，任选地为5mm。因此，可以对第一间隙进行优化，不仅可以最小化或防止修补基面涂料的桥接，而且还对修补基面涂料进行控制和/或限制修补基面涂料的进一步扩散。例如，可以选择修补基面涂料喷淋头的构造以实现修补基面涂料在隔板的上面上的期望初始分布。因此，可能期望第一间隙不要太大，否则修补基面涂料可以经受进一步不需要的干扰，例如，来自单独的流的混合、飞溅、回弹等的干扰。因此，
已经发现在2mm与7mm之间的第一间隙是最有效的。
·隔板可以是盘形的并且其上面与其下面之间的厚度在5mm与15mm之间，任选地在7.5mm与12.5mm之间，任选地为10mm。已经发现，有利的是将隔板的厚度限制在5mm与15mm之间，以使基底涂覆***的额外背压最小化。
·隔板可以位于顶部装置中以维持修补基面涂料喷淋头的下面与隔板的上面之间的第二间隙，该第二间隙在80mm与130mm之间。已经发现在80mm与130mm之间的距离在通过修补基面涂料喷淋头沉积时优化修补基面涂料在隔板的上面上的分布。
·隔板可包括多于500个孔洞，任选地多于1000个孔洞，任选地多于1500个孔洞，任选地多于2000个孔洞。孔洞可以各自具有在1mm至3mm之间的直径，任选地为2mm的直径。被定义为该隔板的上面的由该孔洞构成的总面积的百分比的该隔板的开口面积百分比可以在35％与55％之间，任选地在40％与50％之间，任选地为约45％。有利地，可以对隔板进行优化，以最小化或防止修补基面涂料渗透穿过隔板到达基底的上表面上，直到施加吸力，同时限制***的额外背压并且提供修补基面涂料跨隔板并且因此跨基底的上表面的良好分布。
·顶部装置可以进一步包括顶部装置密封件，并且隔板可以布置在顶部装置中顶部装置密封件上方。
·如上所述，基底的上表面可以是非平面的。
·另外，基底的上表面可以包括成形部，例如凹槽或切口，该成形部延伸到该基底的侧壁，由此限定该侧壁中的间隙。
·基底可以选自流通式基底(例如，整体式流通式基底)或过滤器基底(例如，壁流式过滤器基底)。
·修补基面涂料可以是催化涂层。催化涂层可以选自三元催化剂(TWC)、选择性催化还原(SCR)催化剂、柴油氧化催化剂(DOC)、稀NOx捕集催化剂(LNT)、氨逃逸催化剂(ASC)、组合的选择性催化还原催化剂和氨逃逸催化剂(SCR/ASC)以及被动NOx吸附剂(PNA)。
·修补基面涂料的粘度可以为3cP至9000cP。
在第五方面，本公开提供了一种用修补基面涂料涂覆基底的方法，其中该方法包括以下步骤：
-将该基底与基底涂覆设备的顶部装置接合，以将该基底的上表面定位在该基底涂覆设备的修补基面涂料喷淋头下方；
-将修补基面涂料从该修补基面涂料喷淋头朝着该基底的上表面排出；
-通过向该基底的下表面施加吸力，将该修补基面涂料抽吸穿过该基底；
其中将该基底与该顶部装置接合的步骤包括将该顶部装置的顶部装置密封件与该基底接合，该顶部装置密封件包括围绕该顶部装置延伸的周边部分和从该周边部分向下延伸的悬臂部分，该悬臂部分抵靠该基底的侧壁接合。
在第六方面，本公开提供了一种基底涂覆设备，该基底涂覆设备包括：
修补基面涂料源；
修补基面涂料喷淋头，该修补基面涂料喷淋头用于将该修补基面涂料朝着基底的上表面排放；
导管，该导管将该修补基面涂料源流体地连接至该修补基面涂料喷淋头以用于向该修补基面涂料喷淋头供应修补基面涂料；
顶部装置，该顶部装置用于接合该基底以将该基底的该上表面定位在该修补基面涂料喷淋头下方；和
真空发生器，该真空发生器用于将从该修补基面涂料喷淋头排放的该修补基面涂料抽吸穿过该基底；
其中该顶部装置包括用于抵靠该基底接合的顶部装置密封件，该顶部装置密封件包括围绕该顶部装置延伸的周边部分和从该周边部分向下延伸并且被构造成抵靠该基底的侧壁接合的悬臂部分。
在第七方面，本公开提供了一种用于抵靠基底接合的顶部装置密封件，该顶部装置密封件包括用于围绕顶部装置延伸的周边部分和从该周边部分延伸并且被构造用于抵靠基底的侧壁接合的悬臂部分。
第五方面至第七方面中的任一方面还可以包括以下特征中的一者或多者：
·周边部分可以包括环形部分，任选地圆形或椭圆形部分，该环形部分完全围绕该顶部装置延伸。
·悬臂部分可以为弧形。
·悬臂部分的弧长可以在侧壁中的间隙的弧长的105％与300％之间，任选地在侧壁中的间隙的弧长的105％与200％之间。
·悬臂部分可以对向在45°与120°之间，任选地在45°与90°之间，任选地在65°与75°之间的中心角度。
·悬臂部分可以以相对于垂直于周边部分的平面以在0°与15°之间的角度延伸；任选地相对于垂直于周边部分的平面以在0°与10°之间的角度延伸；任选地相对于垂直于周边部分的平面以约3°的角度延伸。
·在将基底与顶部装置接合时，顶部装置密封件的悬臂部分可以在基本上径向方向上挠曲。
·悬臂部分的下边缘可以自由地突出，并且因此可以能够在基本上径向方向上挠曲。
·悬臂部分可以接合基底的侧壁的区域，该区域具有比基底的侧壁中的间隙的深度大至少5mm的高度。
·悬臂部分可以在周边部分的下面下方向下延伸至少20mm，任选地在周边部分的下面下方向下延伸至少30mm，任选地在周边部分的面边沿下方向下延伸至少40mm。
·周边部分和悬臂部分可以一体形成或可以是分离的。周边部分和悬臂部分可以由不同的材料形成。
·至少悬臂部分可以由柔性材料形成。
·悬臂部分可以具有在35A和45A之间，任选地为40A的肖氏硬度。
·顶部装置可以包括支撑顶部装置密封件的周边部分的刚性顶部装置框架，并且顶部装置密封件的悬臂部分可以在刚性顶部装置框架的下面下方向下延伸。
·悬臂部分的下边缘可以自由地从刚性顶部装置框架突出。
·基底的上表面可以是非平面的。
·基底的上表面可以包括成形部，例如凹槽或切口，该成形部延伸到基底的侧壁，由此限定该侧壁中的间隙，其中悬臂部分桥接在间隙上，以阻止修补基面涂料泄漏出间隙并沿基底的侧壁泄漏。
·基底可以选自流通式基底(例如，整体式流通式基底)或过滤器基底(例如，壁流式过滤器基底)。
·修补基面涂料可以是催化涂层。催化涂层可以选自三元催化剂(TWC)、选择性催化还原(SCR)催化剂、柴油氧化催化剂(DOC)、稀NOx捕集催化剂(LNT)、氨逃逸催化剂(ASC)、组合的选择性催化还原催化剂和氨逃逸催化剂(SCR/ASC)以及被动NOx吸附剂(PNA)。
第一方面至第四方面的特征可以与第五方面至第七方面的特征组合，并且反之亦然。例如，基底涂覆设备可以设置有根据第二方面的隔板和根据第六方面的顶部装置密封件。
在本说明书中，对粘度的所有提及是指流体的粘度，该粘度是使用装有小样品适配器和连接悬挂主轴的Brookfield旋转粘度计测量的，其中样品温度控制在25℃。此类粘度计可从美国马萨诸塞州米德尔伯勒的博勒飞工程实验室公司(Brookfield EngineeringLaboratories,Inc.)获得。
所有测量均在14s-1的剪切速率下进行。如技术人员将常见的一般知识，根据流体的粘度选择主轴、旋转速度和粘度计型号，以确保％粘度计扭矩具有大于10％的最小测量值和小于100％的最大测量值，在这是不可能的情况下，％粘度计扭矩可以具有大于0％的最小测量值和小于100％的最大测量值。对于本说明书中的粘度测量，使用以下主轴：
使用主轴SC4-18在LV粘度计上以10.6rpm测量3cP至100cP的粘度范围。
使用主轴SC4-28在LV粘度计上以50rpm测量100cP至500cP的粘度范围。
使用主轴SC4-28在RV粘度计上以50rpm测量500cP至9000cP的粘度范围。
附图说明
现在将参考附图仅以举例的方式描述本公开的方面和实施方案，在附图中：
图1为基底涂覆设备的示意性截面视图；
图2为图1的一部分的示意性放大视图；
图3是基底的透视图；
图4是示出基底涂覆设备的一部分中的图3中所示类型的基底的示意图；
图5是用于基底涂覆设备的顶部装置密封件的下方的透视图；
图6为图5的顶部装置密封件的下方的平面视图；
图7为图5的顶部装置密封件的侧正视图；
图8为图5的顶部装置密封件的截面视图；
图9是结合图5中所示类型的顶部装置密封件的基底涂覆设备的一部分的照片；
图10是结合隔板的基底涂覆设备的一部分的截面视图；
图11为图10的隔板的上方的透视图；
图12为图10的隔板的上方的平面视图；
图13为图10的隔板的侧正视图；
图14是用修补基面涂料涂覆之后的基底的侧视图；
图15是用修补基面涂料涂覆之后的基底的一部分的俯视平面图；
图16是在用修补基面涂料涂覆之后的剖切的基底的侧视图；并且
图17是在剖切之前图16的基底的仰视图。
具体实施方式
如本说明书和所附权利要求书中所用，除非上下文另外明确地指明，否则单数形式“一”、“一个”和“所述”包括复数指代。因此，例如，对“催化剂”提及包括两种或更多种催化剂的混合物等。
如本说明书中所使用的，术语“约”还包括特定值。例如，“约45％”包括约45％和还有其含义内的45％。
本领域读者将认识到，除非当前上下文另外教导，否则本公开的一个方面或实施方案的一个或多个特征可以与本公开的任何其它方面或实施方案的一个或多个特征组合。
图1示出可用于用修补基面涂料涂覆基底10的基底涂覆设备1的非限制性示例的示意性截面视图。
基底涂覆设备1可包括沉积器2，该沉积器具有容纳用于激活分配机构的设备的壳体40。如所示，分配机构可包括活塞41，该活塞能够在镗孔42内轴向移动，以将流体朝向位于沉积器2下游的导管35移出出口43。
基底涂覆设备1可进一步包括料斗3，该料斗限定具有出口31的料斗贮存器30，该出口经由隔膜阀32与沉积器2的出口43连接。料斗3可填充有修补基面涂料，该修补基面涂料已在另一个位置处配制并预混。修补基面涂料可被泵送到料斗贮存器30中，或者可在重力下通过合适的导管进料到料斗贮存器30中。
沉积器2的出口43与导管35流体连接，该导管继而可延伸成与定量给料阀4流体连通。修补基面涂料喷淋头5可连接至定量给料阀4的下面，其中修补基面涂料喷淋头5定位在基底10上方。
基底10可位于并定位在顶部装置6和货板***件8之间。包括真空锥7的真空设备可位于基底10之下。
图2示出图1的基底涂覆设备1的放大部分，并且更详细地示出可如何相对于修补基面涂料喷淋头5和顶部装置6定位基底10。
图1和图2示出了基底10，该基底是具有基底本体11的类型，该基底本体沿其纵向长度具有均匀截面形状。通常，基底本体11可具有圆形或接近圆形的截面形状。基底本体11可被定位成在顶部装置6与货板***件8之间延伸，使得基底本体11的上表面12为最上，并且基底本体11的下表面13为最下。上表面12和下表面13是平面的并且与基底本体11的纵向轴线正交。
顶部装置6可以包括顶部装置密封件15，该顶部装置密封件接合界定基底本体11的上表面12的上边缘。顶部装置密封件15可以包括完全围绕顶部装置6延伸的环形环。
修补基面涂料喷淋头5可位于顶部装置6上方并且可优选地与顶部装置6和基底10对准，使得修补基面涂料喷淋头5的中心纵向轴线x与顶部装置6和基底本体11两者的中心纵向轴线重合，如图2所示。
修补基面涂料喷淋头5可包括喷淋头壳体21，该喷淋头壳体可借助于螺栓26在下侧联接至喷淋头板23。转接器板27也可借助于螺栓28联接至喷淋头壳体21的上侧。
喷淋头壳体21可包括居中定位的孔，该孔限定对喷淋头腔24的入口22，该喷淋头腔限定在喷淋头壳体21与喷淋头板23之间。入口22的轴线可与纵向轴线x重合。转接器板27还可以包括居中定位的孔，该孔可以与纵向轴线x重合，并且尺寸被设定成收纳喷淋头壳体21的中心部分20。定量给料阀4可以被带入并且保持为与喷淋头壳体21的入口22流体连通。
喷淋头板23可设置有喷嘴孔25的阵列。
在使用中，通过活塞向右移动(如图1所观察的)，打开隔膜阀32并将修补基面涂料从料斗贮存器30吸入到镗孔42中。然后关闭隔膜阀32，然后在沉积器2的活塞41向左移动的作用下(如图1所观察的)，使一定剂量的修补基面涂料通过导管35移位。修补基面涂料穿过定量给料阀4和入口22进入喷淋头腔24。修补基面涂料然后穿过喷嘴孔25并且下落成与基底10的上表面12接触。然后将修补基面涂料通过基底10的通路下拉。修补基面涂料穿过基底10的下拉至少部分地通过由真空锥7施加到基底10的下表面13的吸力驱动。
图3示出了基底110，该基底具有基底本体111，该基底本体具有上表面112、下表面113和侧壁108。上边缘107围绕上表面112延伸。所示的基底110通常是圆柱形的，具有单个圆柱形侧壁108。然而，基底110可以采取其它形式，诸如具有椭圆形、正方形或矩形上表面、具有一个或多个例如四个侧壁。
上表面112设置有凹槽或切口114，在下文中简称为“凹槽114”。凹槽114可以采用许多形状或形式并且具有各种长度。凹槽114可以被成形且尺寸设定成完全或部分地接收另一部件，例如排放控制***的传感器。
凹槽114导致上表面112是非平面的。凹槽114可跨上表面112的整个直径延伸。另选地，如图3所示，凹槽114可以跨上表面112的直径的一部分延伸。凹槽114可以在其一端或两端延伸到侧壁108，以在侧壁108中限定一个或多个间隙109，并且在上边缘107中限定一个或多个中断。如图3所示，提供了单个间隙109。
当垂直于其长度剖切时，凹槽114可以具有各种截面形状。图3的凹槽114具有半圆形截面形状。然而，可以根据由凹槽114容纳的部件的形状使用其它形状。间隙109可具有与凹槽114的形状基本上相同的形状。
图4示出了本公开的某些方面，其中根据本公开的基底涂覆设备100的一部分被修改为与基底涂覆设备1相比允许其有利地涂覆具有非平面上表面和或下表面的基底。基底涂覆设备100将仅以举例的方式描述用于涂覆图3的基底110。然而，应当理解，这不是限制性的，并且基底涂覆设备100可以有益地用于其它基底的涂覆。
基底涂覆设备100与图1和图2的基底涂覆设备1相同或基本相同的特征已经用类似的附图标记(例如1和101、10和110)提及，并且将不进一步详细描述。应该参考以上描述。
然而，基底涂覆设备101的顶部装置密封件115与图2所示的基底涂覆设备1的顶部装置密封件15不同。
具体地，如图5至图8所示，顶部装置密封件115包括用于围绕顶部装置106延伸的周边部分116和从周边部分116延伸的悬臂部分117，并且悬臂部分被构造用于抵靠基底110的侧壁108接合。
如图6和图7所示，周边部分优选地包括可以是圆形或椭圆形形状的环形部分，当安装在顶部装置106中时，该环形部分完全围绕顶部装置延伸。周边部分116可以限定被内边缘121包围的中心孔120。内边缘121可以垂直于周边部分116的面。另选地，内边缘121可以根据需要设置有肩部、倒角或锥形部。
悬臂部分117可以位于周边部分116的内边缘121处或附近。悬臂部分117可以是弧形的。在基底110的侧壁108为圆柱形的情况下，这可能是特别有益的。悬臂部分117可以对向在45°与120°之间，任选地在45°与90°之间，任选地在65°与75°之间的中心角度。悬臂部分117另选地或另外地具有在侧壁108中的间隙109的弧长的105％与300％之间，任选地在侧壁108中的间隙109的弧长的105％与200％之间的弧长。
悬臂部分117可以在周边部分116的下面下方向下延伸至少20mm，任选地在周边部分116的下面下方向下延伸至少30mm，任选地在周边部分116的面边沿下方向下延伸至少40mm。
如图6和图8中所见，悬臂部分117在径向方向上可以具有2.5mm至5.0mm的深度。
如图8中最清楚地示出的，悬臂部分117可以相对于垂直于周边部分116的平面以在0°与15°之间的角度α延伸；任选地相对于垂直于周边部分116的平面以在0°与10°之间的角度α延伸；任选地相对于垂直于周边部分116的平面以约3°的角度α延伸。
周边部分116和悬臂部分117优选地一体地形成，但是它们可以单独形成并且然后在顶部装置106内安装在一起。
周边部分116和悬臂部分117可以由不同的材料形成，例如不同的共模制材料。然而，可能优选的是它们由单一材料形成。
至少悬臂部分117可以由柔性材料形成。周边部分116和或悬臂部分117可以由具有在35A和45A之间，任选地为40A的肖氏硬度的材料形成。周边部分116和/或悬臂部分117可以由橡胶、弹性体或其它密封材料形成。合适材料的非限制性示例是硅橡胶和EPDM，例如40肖氏硬质的硅橡胶和40肖氏硬度的EPDM。
如图4所示，顶部装置密封件115安装在顶部装置106中。周边部分116可以完全围绕顶部装置106的周边延伸。悬臂部分117示出为从周边部分116向下延伸。悬臂部分117的下边缘123可从顶部装置的框架自由地突出，并且因此能够在基本上径向方向上挠曲，如图9的照片中最清楚地示出的(图9还示出了隔板200的特征，这将在下面进一步描述)。
在将基底110与顶部装置106接合时(其中基底110可以被提升成与顶部装置106接合)，顶部装置密封件115的悬臂部分117可以在基本上径向方向上挠曲以适应基底110的通路。悬臂部分117的柔性和悬臂部分117的有限弧长都可以在基底提升期间帮助更容易且更可靠地使基底110与顶部装置106接合。因此，基底110与顶部装置106的横向未对准的一些容差可以容忍，并且通过悬臂部分117的挠曲来调整。
另外地或另选地，悬臂部分117相对于垂直于周边部分116的平面以在0°与15°之间的角度α倾斜还可以帮助在基底提升期间使基底110与顶部装置106更容易且更可靠地接合。因此，基底110与顶部装置106的横向未对准的一些容差可以容忍，并且通过悬臂部分117的倾斜来调整。
在图4中，示出了具有凹槽114的基底110接合在顶部装置106中。周边部分116可以抵靠基底110的上边缘107密封地接合。这种接合可以通过周边部分116的内边缘121进行。
悬臂部分117可以接合基底110的侧壁108的区域。如图4所示，优选地，悬臂部分117桥接在间隙109上，以阻止修补基面涂料泄漏出间隙109并沿基底的侧壁108泄漏。悬臂部分117的高度可以比基底110的侧壁108中的间隙109的深度大至少5mm。
如上所述，悬臂部分117可以具有在侧壁108中的间隙109的弧长的105％与300％之间，任选地在侧壁108中的间隙109的弧长的105％与200％之间的弧长。以这种方式，可以实现基底110的一些角度未对准的容差，即，因为悬臂部分117仍将足够长以桥接在间隙109上在并完全密封间隙。
在基底涂覆设备101的操作期间，使用真空锥将吸力施加到基底110的下表面。有利地，悬臂部分117的柔性和/或相对薄度允许悬臂部分通过吸力“吸成”与侧壁108更紧密的接合。这增加了悬臂部分117与基底110之间的密封件的可靠性。
在图4所示的设备的操作期间，如同基底涂覆设备1一样，修补基面涂料穿过定量给料阀104和入口122进入喷淋头腔124。修补基面涂料然后穿过喷嘴孔125并且下落成与基底110的上表面112接触。然后将修补基面涂料向下抽吸穿过基底110的通路。修补基面涂料穿过基底110的下拉至少部分地通过由真空锥7施加到基底110的下表面113的吸力驱动。在此过程期间，一些修补基面涂料可以在凹槽114中积聚或汇集。修补基面涂料可以沿着凹槽114运行。然而，由悬臂部分117在间隙109上提供的密封防止或基本上减少修补基面涂料从间隙109出来并沿侧壁108的任何泄漏。
图10示出了本公开的某些方面，其中基底涂覆设备设置有插置在修补基面涂料喷淋头与基底的上表面之间的隔板200。隔板200将在下文作为图4到图9中所示的基底涂覆设备101的一部分仅以举例的方式描述。隔板200可以用于其它基底涂覆设备中。然而，当使用隔板200与具有如刚刚描述的悬臂部分117的顶部装置密封件115组合时，可以实现特别有益的效果。
如图11至图13中最清楚地示出的，隔板200包括本体205，该本体包括多个孔洞202。本体205可以是盘形的并且可以具有上面204和下面203。图12的本体205为圆形形状。然而，隔板200可以是其它形状并且可以适于适合特定顶部装置的尺寸和形状。
隔板200可以在上面204与下面203之间具有在5mm与15mm之间，任选地在7.5mm与12.5mm之间，任选地为10mm的厚度。
隔板200可以包括多于500个孔洞202，任选地多于1000个孔洞202，任选地多于1500个孔洞202，任选地多于2000个孔洞202。孔洞202可以各自具有1mm至3mm之间的直径，任选地为2mm的直径。孔洞202可以以规则图案布置，或者可以随机布置。
隔板200的开口面积百分比(被定义为隔板200的上面204的由孔洞202构成的总面积的百分比)可以在35％与55％之间，任选地在40％与50％之间，任选地为约45％。
当基底110接合在顶部装置106中时，隔板200可以位于修补基面涂料喷淋头105和基底110的上表面112之间，以维持隔板200的下面203与基底110的上表面112之间的第一间隙。第一间隙可以在2mm与7mm之间，任选地为5mm。
另外地或另选地，隔板200可以位于顶部装置106中以维持修补基面涂料喷淋头105的下面与隔板的上面204之间的第二间隙。第二间隙可以在80mm与130mm之间。
优选地，隔板200固定地定位在顶部装置106中，以相对于顶部装置106的壳体保持静止。
隔板200可以由金属、塑料或其它刚性材料形成。合适材料的非限制性示例包括聚氯乙烯(PVC)、乙醛、尼龙66和Accura25。
如图10所示，优选地，隔板200布置在顶部装置106中顶部装置密封件115上方。
在使用中，结合隔板200的基底涂覆设备101可以用于用修补基面涂料涂覆基底110的方法中，其中该方法包括以下步骤：
-将基底110与顶部装置106接合，以将基底110的上表面112定位在基底涂覆设备101的修补基面涂料喷淋头105下方；
-将隔板200布置在修补基面涂料喷淋头105与基底110的上表面112之间，隔板200位于顶部装置106中以维持隔板200的下面203与基底110的上表面112之间的第一间隙；
-将修补基面涂料从修补基面涂料喷淋头105排出到隔板200的上面204上；以及
-至少部分地通过向基底110的下表面113施加吸力，使修补基面涂料穿过隔板200中的孔洞202，到达基底110的上表面112上并进入基底110。
实施例
图14示出了基底110的侧视图，该基底使用图1和图2中所示类型的基底涂覆设备1将修补基面涂料施加到其上，即，不使用根据本公开的顶部装置密封件115或隔板200。可以看出，在涂覆期间，修补基面涂料150已经从基底中的凹槽114的端部处的间隙109泄漏出，并沿基底110的侧壁108泄漏。这种泄漏在这种情况下导致在修补基面涂料的浪费、基底110的侧壁108的污染并且还可以致使可以设置在基底的侧壁108上的视觉识别标计151的变得模糊。
图15示出了基底110的俯视平面图，该基底使用图1和图2中所示类型的基底涂覆设备1将修补基面涂料施加到其上，即，不使用根据本公开的顶部装置密封件115或隔板200。可以看出，在涂覆过程中，过量的修补基面涂料150已经累积在凹槽114的部分中，过量的修补基面涂料未通过真空充分抽取到通路中。这可能导致修补基面涂料的浪费并阻挡一些通路，从而导致使用中的背压增加。
图16和图17分别示出了在用修补基面涂料涂覆之后剖切的基底110的侧视图和在涂覆之后但在剖切之前基底110的仰视图。使用图1和图2中所示类型的基底涂覆设备1施加修补基面涂料，即，不使用根据本公开的顶部装置密封件115或隔板200。如在图16中可以看出，所产生的修补基面涂料轮廓非常不均匀，其中轮廓的第一部分152a比第二部分152b在基底110上更高。实际上，在此示例中，轮廓的第二部分152b中的修补基面涂料已经一路到达基底110的下表面113，从而导致修补基面涂料的‘拉穿’。这在图17中也是可见的，其中‘拉穿’的区域由较暗的贴片示出。应注意，修补基面涂料轮廓的第二部分152b与凹槽114对准，即修补基面涂料已经被‘拉穿’凹槽114正下方的通路。这可能导致修补基面涂料的浪费，并且还可能阻挡基底110的下表面113上的通路开口。
执行了图14至图17的比较示例，其中使用本公开的包括顶部装置密封件115和隔板200的基底涂覆设备100施加修补基面涂料。在用修补基面涂料涂覆之后对基底进行剖切并分析侧视图和端视图。发现使用本公开的包括顶部装置密封件115和隔板200的基底涂覆设备100产生明显比图16中所示更均匀的修补基面涂料轮廓，并且完全防止了图17中所示类型的修补基面涂料的“拉穿”。特别地，本公开的基底涂覆设备100的使用使得能够获得满足预定涂层深度要求的跨轮廓的平均涂层深度。在图15中所示类型的基底的凹槽中没有修补基面涂料的滞留，并且基底的通道未被修补基面涂料阻挡。不同于图14中所示的示例，在基底的侧面也没有或没有显著量的修补基面涂料。
本公开的其他方面和实施方案在以下条款中阐述：
条款A1.一种用修补基面涂料涂覆基底的方法，其中该方法包括以下步骤：
-将该基底与基底涂覆设备的顶部装置接合，以将该基底的上表面定位在该基底涂覆设备的修补基面涂料喷淋头下方；
-将隔板布置在该修补基面涂料喷淋头与该基底的上表面之间，该隔板包括多个孔洞并且位于该顶部装置中以维持该隔板的下面与该基底的上表面之间的第一间隙；
-将修补基面涂料从该修补基面涂料喷淋头排出到该隔板的上面上；
以及
-至少部分地通过向该基底的下表面施加吸力，使该修补基面涂料穿过该隔板中的孔洞，到达该基底的上表面上并进入该基底中。
条款A2.根据条款A1所述的方法，其中该隔板以固定关系布置在该顶部装置中。
条款A3.根据条款A1或条款A2所述的方法，其中该第一间隙在2mm与7mm之间，任选地为5mm。
条款A4.根据前述条款中任一项所述的方法，其中该隔板是盘形的并且在其上面与其下面之间的厚度在5mm与15mm之间，任选地在7.5mm与12.5mm之间，任选地为10mm。
条款A5.根据前述条款中任一项所述的方法，其中该隔板位于该顶部装置中以维持该修补基面涂料喷淋头的下面与该隔板的上面之间的第二间隙，该第二间隙在80mm与130mm之间。
条款A6.根据前述条款中任一项所述的方法，其中该隔板包括多于500个孔洞，任选地多于1000个孔洞，任选地多于1500个孔洞，任选地多于2000个孔洞。
条款A7.根据前述条款中任一项所述的方法，其中该孔洞各自具有在1mm至3mm之间的直径，任选地为2mm的直径。
条款A8.根据前述条款中任一项所述的方法，其中被定义为该隔板的上面的由该孔洞构成的总面积的百分比的该隔板的开口面积百分比在35％与55％之间，任选地在40％与50％之间，任选地为约45％。
条款A9.根据前述条款中任一项所述的方法，其中该顶部装置进一步包括顶部装置密封件，并且该隔板布置在该顶部装置中该顶部装置密封件上方。
条款A10.根据前述条款中任一项所述的方法，其中该基底的上表面是非平面的。
条款A11.根据前述条款中任一项所述的方法，其中该基底的上表面包括成形部，例如凹槽或切口，该成形部延伸到该基底的侧壁，由此限定该侧壁中的间隙。
条款A12.根据前述条款中任一项所述的方法，其中该基底选自流通式基底(例如，整体式流通式基底)或过滤器基底(例如，壁流式过滤器基底)。
条款A13.根据前述条款中任一项所述的方法，其中该修补基面涂料包括选自以下的催化涂层：三元催化剂(TWC)、选择性催化还原(SCR)催化剂、柴油氧化催化剂(DOC)、稀NOx捕集催化剂(LNT)、氨逃逸催化剂(ASC)、组合的选择性催化还原催化剂和氨逃逸催化剂(SCR/ASC)以及被动NOx吸附剂(PNA)。
条款A14.根据前述条款中任一项所述的方法，其中该修补基面涂料的粘度为3cP至9000cP，任选地3cP至54cP，任选地32cP至576cP，任选地23cP至422cP，任选地250cP至4500cP，任选地500cP至9000cP。
条款A15.根据前述条款中任一项所述的方法，该方法进一步包括根据条款B1到B14中任一项所述的步骤。
条款A16.一种基底涂覆设备，该基底涂覆设备包括：
修补基面涂料源；
修补基面涂料喷淋头，该修补基面涂料喷淋头用于将该修补基面涂料朝着基底的上表面排放；
导管，该导管将该修补基面涂料源流体地连接至该修补基面涂料喷淋头以用于向该修补基面涂料喷淋头供应修补基面涂料；
顶部装置，该顶部装置用于接合该基底以将该基底的上表面定位在该修补基面涂料喷淋头下方；和
真空发生器，该真空发生器用于将从该修补基面涂料喷淋头排放的该修补基面涂料抽吸穿过该基底；
其中该顶部装置包括隔板，该隔板包括多个孔洞，该隔板在该基底接合在该顶部装置中时位于该修补基面涂料喷淋头与该基底的上表面之间，以维持该隔板的下面与该基底的上表面之间的第一间隙。
条款A17.根据条款A16所述的基底涂覆设备，其中该隔板固定地定位在该顶部装置中，以相对于该顶部装置的壳体保持静止。
条款A18.根据条款A16或条款A17所述的基底涂覆设备，其中该第一间隙在2mm与7mm之间，任选地为5mm。
条款A19.根据条款A16至A18中任一项所述的基底涂覆设备，其中该隔板是盘形的并且在其上面与其下面之间的厚度在5mm与15mm之间，任选地在7.5mm与12.5mm之间，任选地为10mm。
条款A20.根据条款A16到A19中任一项所述的基底涂覆设备，其中该隔板位于该顶部装置中以维持该修补基面涂料喷淋头的下面与该隔板的上面之间的第二间隙，该第二间隙在80mm与130mm之间。
条款A21.根据条款A16到A20中任一项所述的基底涂覆设备，其中该隔板包括多于500个孔洞，任选地多于1000个孔洞，任选地多于1500个孔洞，任选地多于2000个孔洞。
条款A22.根据条款A16到A21中任一项所述的基底涂覆设备，其中该孔洞各自具有在1mm至3mm之间的直径，任选地为2mm的直径。
条款A23.根据条款A16到A22中任一项所述的基底涂覆设备，其中被定义为该隔板的上面的由该孔洞构成的总面积的百分比的该隔板的开口面积百分比在35％与55％之间，任选地在40％与50％之间，任选地为约45％。
条款A24.根据条款A16到A23中任一项所述的基底涂覆设备，其中该顶部装置进一步包括顶部装置密封件，并且该隔板布置在该顶部装置中该顶部装置密封件上方。
条款A25.根据条款A16到A24中任一项所述的基底涂覆设备，该基底涂覆设备进一步包括根据条款B16至B29中任一项所述的设备。
条款A26.一种基底涂覆***，该基底涂覆***包括根据条款A16到A25中任一项所述的基底涂覆设备和基底，其中该基底的上表面是非平面的；并且任选地，其中该基底的上表面包括成形部，例如凹槽或切口，该成形部延伸到该基底的侧壁，由此限定该侧壁中的间隙。
条款A27.根据条款A26所述的基底涂覆***，该基底涂覆***进一步包括条款B31或B32的特征。
条款A28.一种被构造用于基底涂覆设备的隔板，该隔板包括盘形本体；
该盘形本体在其上面与其下面之间的厚度在5mm与15mm之间，任选地在7.5mm与12.5mm之间，任选地为10mm；
该隔板包括多于500个孔洞，任选地多于1000个孔洞，任选地多于1500个孔洞，任选地多于2000个孔洞；
该孔洞各自具有在1mm至3mm之间的直径，任选地为2mm的直径；
其中被定义为该隔板的上面的由该孔洞构成的总面积的百分比的该隔板的开口面积百分比在35％与55％之间，任选地在40％与50％之间，任选地为约45％。
条款B1.一种用修补基面涂料涂覆基底的方法，其中该方法包括以下步骤：
-将该基底与基底涂覆设备的顶部装置接合，以将该基底的上表面定位在该基底涂覆设备的修补基面涂料喷淋头下方；
-将修补基面涂料从该修补基面涂料喷淋头朝着该基底的上表面排出；
-通过向该基底的下表面施加吸力，将该修补基面涂料抽吸穿过该基底；
其中将该基底与该顶部装置接合的步骤包括将该顶部装置的顶部装置密封件与该基底接合，该顶部装置密封件包括围绕该顶部装置延伸的周边部分和从该周边部分向下延伸的悬臂部分，该悬臂部分抵靠该基底的侧壁接合。
条款B2.根据条款B1所述的方法，其中该周边部分包括环形部分，任选地圆形或椭圆形部分，该环形部分完全围绕该顶部装置延伸。
条款B3.根据条款B1或条款B2所述的方法，其中该基底的上表面是非平面的。
条款B4.根据条款B1至B3中任一项所述的方法，其中该悬臂部分为弧形。
条款B5.根据条款B1到B4中任一项所述的方法，其中该基底的上表面包括成形部，例如凹槽或切口，该成形部延伸到该基底的侧壁，由此限定该侧壁中的间隙，其中该悬臂部分在桥接该间隙上以阻止该修补基面涂料泄漏出该间隙并沿着该基底的侧壁泄漏。
条款B6.根据条款B5所述的方法，其中该悬臂部分的弧长在该侧壁中的间隙的弧长的105％与300％之间，任选地在该侧壁中的间隙的弧长在105％与200％之间。
条款B7.根据条款B1到B6中任一项所述的方法，其中该悬臂部分对向在45°与120°之间、任选地在45°与90°之间，任选地在65°与75°之间的中心角度。
条款B8.根据条款B1到B7中任一项所述的方法，其中该悬臂部分相对于垂直于该周边部分的平面以在0°与15°之间的角度延伸；任选地相对于垂直于该周边部分的平面以在0°与10°之间的角度延伸；任选地相对于垂直于该周边部分的平面以约3°的角度延伸。
条款B9.根据条款B1到B8中任一项所述的方法，其中在将该基底与该顶部装置接合时，该顶部装置密封件的悬臂部分在基本上径向方向上挠曲。
条款B10.根据条款B1到B9中任一项所述的方法，其中该悬臂部分的下边缘自由突出并且因此能够在基本上径向方向上挠曲。
条款B11.根据条款B1至B10中任一项所述的方法，其中该悬臂部分接合该基底的侧壁的区域，该区域具有比该基底的侧壁中的间隙的深度大至少5mm的高度。
条款B12.根据条款B1至B11中任一项所述的方法，其中该悬臂部分在该周边部分的下面下方向下延伸至少20mm，任选地在该周边部分的下面下方向下延伸至少30mm，任选地在该周边部分的面边沿下方向下延伸至少40mm。
条款B13.根据条款B1到B12中任一项所述的方法，其中该基底选自流通式基底(例如，整体式流通式基底)或过滤器基底(例如，壁流式过滤器基底)。
条款B14.根据条款B1到B13中任一项所述的方法，其中该修补基面涂料包括选自以下的催化涂层：三元催化剂(TWC)、选择性催化还原(SCR)催化剂、柴油氧化催化剂(DOC)、稀NOx捕集催化剂(LNT)、氨逃逸催化剂(ASC)、组合的选择性催化还原催化剂和氨逃逸催化剂(SCR/ASC)以及被动NOx吸附剂(PNA)。
条款B15.根据条款B1到B14中任一项所述的方法，该方法进一步包括根据条款A1到A14中任一项所述的步骤。
条款B16.一种基底涂覆设备，该基底涂覆设备包括：
修补基面涂料源；
修补基面涂料喷淋头，该修补基面涂料喷淋头用于将该修补基面涂料朝着基底的上表面排放；
导管，该导管将该修补基面涂料源流体地连接至该修补基面涂料喷淋头以用于向该修补基面涂料喷淋头供应修补基面涂料；
顶部装置，该顶部装置用于接合该基底以将该基底的该上表面定位在该修补基面涂料喷淋头下方；和
真空发生器，该真空发生器用于将从该修补基面涂料喷淋头排放的该修补基面涂料抽吸穿过该基底；
其中该顶部装置包括用于抵靠该基底接合的顶部装置密封件，该顶部装置密封件包括围绕该顶部装置延伸的周边部分和从该周边部分向下延伸并且被构造成抵靠该基底的侧壁接合的悬臂部分。
条款B17.根据条款B16所述的基底涂覆设备，其中该周边部分包括环形部分，任选地圆形或椭圆形部分，该环形部分完全围绕该顶部装置延伸。
条款B18.根据条款B16或条款B17所述的基底涂覆设备，其中该悬臂部分接合该基底的侧壁的区域，该区域具有比该基底的侧壁中的间隙的深度大至少5mm的高度。
条款B19.根据条款B16至B18中任一项所述的基底涂覆设备，其中该悬臂部分在该周边部分的下面下方向下延伸至少20mm，任选地在该周边部分的下面下方向下延伸至少30mm，任选地在该周边部分的面边沿下方向下延伸至少40mm。
条款B20.根据条款B16至B19中任一项所述的基底涂覆设备，其中该悬臂部分相对于垂直于该周边部分的平面以在0°与15°之间的角度延伸；任选地相对于垂直于该周边部分的平面以在0°与10°之间的角度延伸；任选地相对于垂直于该周边部分的平面以约3°的角度延伸。
条款B21.根据条款B16至B20中任一项所述的基底涂覆设备，其中该顶部装置包括支撑该顶部装置密封件的周边部分的刚性顶部装置框架，并且该顶部装置密封件的该悬臂部分在该刚性顶部装置框架的下面下方延伸。
条款B22.根据条款B16至B21中任一项所述的基底涂覆设备，其中该悬臂部分的下边缘从该刚性顶部装置框架自由突出。
条款B23.根据条款B16至B22中任一项所述的基底涂覆设备，其中该悬臂部分为弧形。
条款B24.根据条款B16至B23中任一项所述的基底涂覆设备，其中该悬臂部分对向在45°与120°之间、任选地在45°与90°之间、任选地在65°与75°之间的中心角度。
条款B25.根据条款B16至B24中任一项所述的基底涂覆设备，其中该悬臂部分在径向方向上具有在2.5mm至5.0mm之间的深度。
条款B26.根据条款B16至B25中任一项所述的基底涂覆设备，其中该周边部分和该悬臂部分一体地形成。
条款B27.根据条款B15到B24中任一项所述的基底涂覆设备，其中该周边部分和该悬臂部分是分离的。
条款B28.根据条款B16至B27中任一项所述的基底涂覆设备，其中该周边部分和该悬臂部分由不同材料形成。
条款B29.根据条款B16至B28中任一项所述的基底涂覆设备，其中该悬臂部分具有在35A和45A之间，任选地为40A的肖氏硬度。
条款B30.根据条款B16至B29中任一项所述的基底涂覆设备，该基底涂覆设备进一步包括根据条款A16到A24中任一项所述的设备。
条款B31.一种基底涂覆***，该基底涂覆***包括根据条款B16至B30中任一项所述的基底涂覆设备和基底，其中该基底的上表面是非平面的。
条款B32.根据条款B31所述的基底涂覆***，其中该基底的上表面包括成形部，例如凹槽或切口，该成形部延伸到该基底的侧壁，由此限定该侧壁中的间隙。
条款B33.根据条款B31或B32所述的基底涂覆***，该基底涂覆***进一步包括条款A26或A27的特征。
条款B34.一种用于抵靠基底接合的顶部装置密封件，该顶部装置密封件包括用于围绕顶部装置延伸的周边部分和从该周边部分延伸并且被构造用于抵靠基底的侧壁接合的悬臂部分。
条款B35.根据条款B34所述的顶部装置密封件，其中该悬臂部分为弧形。
条款B36.根据条款B34或条款B35所述的顶部装置密封件，其中该悬臂部分对向在45°与120°之间、任选地在45°与90°之间、任选地在65°与75°之间的中心角度。
条款B37.根据条款B34到B36中任一项所述的顶部装置密封件，其中该悬臂部分在径向方向上具有在2.5mm至5.0mm之间的深度。
条款B38.根据条款B34到B37中任一项所述的顶部装置密封件，其中该周边部分和该悬臂部分一体地形成。
条款B39.根据条款B34到B37中任一项所述的顶部装置密封件，其中该周边部分和该悬臂部分是分离的。
条款B40.根据条款B34到B39中任一项所述的顶部装置密封件，其中该周边部分和该悬臂部分由不同材料形成。
条款B41.根据条款B34到B40中任一项所述的顶部装置密封件，其中该悬臂部分具有在35A和45A之间，任选地为40A的肖氏硬度。

Claims (15)

1.一种用修补基面涂料涂覆基底的方法，其中所述方法包括以下步骤：
-将所述基底与基底涂覆设备的顶部装置接合，以将所述基底的上表面定位在所述基底涂覆设备的修补基面涂料喷淋头下方；
-将隔板布置在所述修补基面涂料喷淋头与所述基底的所述上表面之间，所述隔板包括多个孔洞并且位于所述顶部装置中以维持所述隔板的下面与所述基底的所述上表面之间的第一间隙；
-将修补基面涂料从所述修补基面涂料喷淋头排出到所述隔板的上面上；以及
-至少部分地通过向所述基底的下表面施加吸力，使所述修补基面涂料穿过所述隔板中的所述孔洞，到达所述基底的所述上表面上并进入所述基底中。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述隔板以固定关系布置在所述顶部装置中。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述第一间隙在2mm与7mm之间。
4.根据权利要求1所述的方法，其中所述隔板是盘形的并且其上面与其下面之间的厚度在7.5mm与12.5mm之间。
5.根据权利要求1所述的方法，其中所述隔板位于所述顶部装置中以维持所述修补基面涂料喷淋头的下面与所述隔板的所述上面之间的第二间隙，所述第二间隙在80mm与130mm之间。
6.根据权利要求1所述的方法，其中所述隔板的开口面积百分比在40％与50％之间，所述隔板的开口面积百分比被定义为所述隔板的所述上面的由所述孔洞构成的总面积的百分比。
7.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底的所述上表面包括成形部，所述成形部延伸到所述基底的侧壁，由此限定所述侧壁中的间隙。
8.一种基底涂覆设备，所述基底涂覆设备包括：
修补基面涂料源；
修补基面涂料喷淋头，所述修补基面涂料喷淋头用于将修补基面涂料朝着基底的上表面排放；
导管，所述导管将所述修补基面涂料源流体连接至所述修补基面涂料喷淋头以用于向所述修补基面涂料喷淋头供应修补基面涂料；
顶部装置，所述顶部装置用于接合所述基底以将所述基底的上表面定位在所述修补基面涂料喷淋头下方；和
真空发生器，所述真空发生器用于将从所述修补基面涂料喷淋头排放的所述修补基面涂料抽吸穿过所述基底；
其中所述顶部装置包括隔板，所述隔板包括多个孔洞，所述隔板在所述基底接合在所述顶部装置中时位于所述修补基面涂料喷淋头与所述基底的上表面之间，以维持所述隔板的下面与所述基底的上表面之间的第一间隙。
9.根据权利要求8所述的基底涂覆设备，其中所述隔板固定地定位在所述顶部装置中，以相对于所述顶部装置的壳体保持静止。
10.根据权利要求8或权利要求9所述的基底涂覆设备，其中所述第一间隙在2mm与7mm之间。
11.根据权利要求8至9中任一项所述的基底涂覆设备，其中所述隔板的开口面积百分比在40％与50％之间，所述隔板的开口面积百分比被定义为所述隔板的所述上面的由所述孔洞构成的总面积的百分比。
12.根据权利要求8至9中任一项所述的基底涂覆设备，其中所述顶部装置进一步包括顶部装置密封件，并且所述隔板布置在所述顶部装置中所述顶部装置密封件上方。
13.一种基底涂覆***，所述基底涂覆***包括根据权利要求8至12中任一项所述的基底涂覆设备和基底，其中所述基底的所述上表面是非平面的。
14.根据权利要求13所述的基底涂覆***，其中所述基底的所述上表面包括成形部，所述成形部延伸到所述基底的侧壁，由此限定所述侧壁中的间隙。
15.一种被构造用于基底涂覆设备的隔板，其中所述基底涂覆设备是根据权利要求8-12中任一项所述的基底涂覆设备，所述隔板包括盘形本体；
所述盘形本体在其上面与其下面之间的厚度在7.5mm与12.5mm之间；
所述隔板包括多于1000个孔洞；
所述孔洞各自具有在1mm至3mm之间的直径；
其中所述隔板的开口面积百分比在40％与50％之间，所述隔板的开口面积百分比被定义为所述隔板的所述上面的由所述孔洞构成的总面积的百分比。
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