CN114585992B - 书写轨迹处理方法、触控设备、书写***及存储介质 - Google Patents
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- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 13
- 230000004323 axial length Effects 0.000 claims description 8
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 241001422033 Thestylus Species 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
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- G06T11/00—2D [Two Dimensional] image generation
- G06T11/20—Drawing from basic elements, e.g. lines or circles
- G06T11/203—Drawing of straight lines or curves
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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- G06T3/00—Geometric image transformations in the plane of the image
- G06T3/40—Scaling of whole images or parts thereof, e.g. expanding or contracting
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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Abstract
一种书写轨迹处理方法、触控设备、书写***及存储介质,所述书写轨迹处理方法,包括:获得原始书写轨迹的书写数据,其中,所述书写数据包括:多个第一轨迹点以及与所述多个第一轨迹点一一对应的多个第一接触面积;对所述书写数据进行平滑处理,得到平滑后的书写数据,其中,所述平滑后的书写数据包括:多个第二轨迹点以及与所述多个第二轨迹点一一对应的多个第二接触面积;基于所述多个第二接触面积,确定与所述多个第二轨迹点一一对应的多个轨迹线宽;基于所述多个第二轨迹点和所述多个轨迹线宽,显示书写轨迹。
Description
技术领域
本公开实施例涉及但不限于手写显示技术领域,尤其涉及一种书写轨迹处理方法、触控设备、书写***及存储介质。
背景技术
随着信息技术的迅速发展,在智慧教育、商务办公、智能医疗等领域内,触控设备(如电子交互白板)作为一种便捷的工具,对信息的交互与共享产生了极其重要的作用。
目前,随着触控设备的技术进步,书写功能越来越得到重视,用户对书写体验的要求也越来越高。在书写轨迹能够被准确识别的基础上,较差的书写轨迹的处理效果,使得用户很难获得较好的书写体验。
发明内容
以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。
第一方面,本公开实施例提供了一种书写轨迹处理方法,包括:获得原始书写轨迹的书写数据,其中,所述书写数据包括:多个第一轨迹点以及与所述多个第一轨迹点一一对应的多个第一接触面积;对所述书写数据进行平滑处理,得到平滑后的书写数据,其中,所述平滑后的书写数据包括:多个第二轨迹点以及与所述多个第二轨迹点一一对应的多个第二接触面积;基于所述多个第二接触面积,确定与所述多个第二轨迹点一一对应的多个轨迹线宽;基于所述多个第二轨迹点和所述多个轨迹线宽,显示书写轨迹。
第二方面,本公开实施例还提供了一种触控设备,包括:存储器以及存储有可在处理器上运行的计算机程序的存储器,其中,所述处理器执行所述程序时实现上述书写轨迹处理方法的步骤。
第三方面,本公开实施例还提供了一种书写***,包括:用于书写书法字体的触控笔,以及上述触控设备。
第四方面,本公开实施例还提供了一种计算机可读存储介质,包括存储的程序,其中,在所述程序运行时控制所述存储介质所在的触控设备执行上述书写轨迹处理方法的步骤。
当然,实施本公开的任一产品或方法并不一定要同时达到以上所述的所有优点。本公开的其它特征和优点将在随后的说明书实施例中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本公开而了解。本公开的其他优点可通过在说明书以及附图中所描述的方案来实现和获得。
在阅读并理解了附图和详细描述后,可以明白其他方面。
附图说明
附图用来提供对本公开技术方案的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本公开的实施例一起用于解释本公开的技术方案,并不构成对本公开技术方案的限制。附图中各部件的形状和大小不反映真实比例,目的只是示意说明本公开内容。
图1为本公开实施例中的书写轨迹处理方法的流程示意图;
图2为本公开实施例中的原始书写轨迹的示意图;
图3为本公开实施例中确定两圆外公切点的示意图;
图4为本公开实施例中书写轨迹的显示示意图;
图5为本公开实施例中的书写***的结构示意图;
图6为本公开实施例中的触控设备的结构示意图。
具体实施方式
本文描述了多个实施例,但是该描述是示例性的,而不是限制性的,在本文所描述的实施例包含的范围内可以有更多的实施例和实现方案。尽管在附图中示出了许多可能的特征组合,并在具体实施方式中进行了讨论,但是所公开的特征的许多其它组合方式也是可能的。除非特意加以限制的情况以外,任何实施例的任何特征或元件可以与任何其它实施例中的任何其他特征或元件结合使用,或可以替代任何其它实施例中的任何其他特征或元件。
在描述具有代表性的实施例时,说明书可能已经将方法和/或过程呈现为特定的步骤序列。然而,在该方法或过程不依赖于本文所述步骤的特定顺序的程度上,该方法或过程不应限于所述的特定顺序的步骤。如本领域普通技术人员将理解的,其它的步骤顺序也是可能的。因此,说明书中阐述的步骤的特定顺序不应被解释为对权利要求的限制。此外,针对该方法和/或过程的权利要求不应限于按照所写顺序执行它们的步骤,本领域技术人员可以容易地理解,这些顺序可以变化,并且仍然保持在本公开实施例的精神和范围内。
除非另外定义,本公开实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。
下面将结合本公开实施例中的附图,对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
本公开实施例提供一种书写轨迹处理方法。在实际应用中,该书写轨迹处理可以应用于触控设备中。
在一种示例性实施例中,该触控设备可以为电子交互白板(如会议白板、教学白板等)、平板电脑、智能手机、笔记本电脑、电子板报、电子签名墙等具有触控功能的电子设备。在实际应用中,用户可以用触控笔(如主动式触控笔、被动式触控笔、海绵笔等)在触控设备的工作表面(如触控屏)上进行书写,该触控设备不但可以接收用户书写时在该工作表面上形成的原始书写轨迹,并且还可以基于该原始书写轨迹进行相应的显示。
在一种示例性实施例中,该触控设备可以为红外触控设备。
图1为本公开实施例中的书写轨迹处理方法的流程示意图,如图1所示,该书写轨迹处理方法可以包括:
步骤101:获得原始书写轨迹的书写数据;
其中,书写数据包括:多个第一轨迹点以及与多个第一轨迹点一一对应的多个第一接触面积。
步骤102:对书写数据进行平滑处理,得到平滑后的书写数据;
其中,平滑后的书写数据包括:多个第二轨迹点以及与多个第二轨迹点一一对应的多个第二接触面积。
步骤103:基于多个第二接触面积,确定与多个第二轨迹点一一对应的多个轨迹线宽;
步骤104:基于多个第二轨迹点和多个轨迹线宽,显示书写轨迹。
如此,通过对书写数据进行平滑处理得到平滑后的轨迹点和接触面积,并根据平滑后的接触面积确定轨迹线宽,再通过该平滑后的轨迹点以及与该平滑后的轨迹点所对应的轨迹线宽来显示出书写轨迹,能够消除书写轨迹的锯齿状、毛刺等外观,使得显示出的书写轨迹更为光滑、圆润、自然,实现提高书写轨迹的显示效果,进而,实现提高用户的书写体验。
在实际应用中,上述书写轨迹处理方法可以应用于各种需要在触控设备上进行手写输入的场景中。例如,以触控设备为机场电子签名墙为例,上述书写轨迹处理方法能够为机场的电子签名墙提供一种有趣的交互方式,对旅客的签名做处理,给出更有质感的呈现;以触控设备为电子交互白板为例,上述书写轨迹处理方法可以为智慧教室提供一种新型板报方式,该书写轨迹处理方法可以对学生或老师的板书、板报字体做处理,给出更清晰的呈现。
下面以示例性实例分别对各个步骤进行说明。
首先,对步骤101进行说明。
在一种示例性实施例中,步骤101中获取的原始书写轨迹的书写数据可以包括一个笔画的书写数据,或者,可以包括多个笔画的书写数据。这里,本公开实施例不做限定。
在一种示例性实施例中,触控设备可以按照预设采样时间对用户在触控设备的工作表面上输入的原始书写轨迹进行采样,如此,就可以得到该原始书写轨迹对应的第一轨迹点以及第一接触面积。例如,可以通过稀疏采点的方式对原始书写轨迹进行采样来得到多个第一轨迹点以及与该多个第一轨迹点一一对应的多个第一接触面积,该多个第一轨迹点的数量可以根据实际情况确定。
在一种示例性实施例中,步骤101可以包括:
步骤1011:在用户输入原始书写轨迹的过程中,通过用于获取触摸事件的坐标的接口,获取多个第一轨迹点,并通过用于获取触摸事件的触摸椭圆区域参数的接口,获取与多个第一轨迹点一一对应的多个触摸椭圆区域参数,其中,每个触摸椭圆区域参数包括:长轴长和短轴长;
步骤1012:基于多个触摸椭圆区域参数,计算出多个第一接触面积。
举例来说,以触控设备所使用的***为安卓(Android)***为例,该用于获取触摸事件(touchEvent)的坐标的接口可以包括:用于获取横坐标(X坐标)的getX()接口、以及用于获取纵坐标(Y坐标)的getY()接口;该用于获取触摸事件的触摸椭圆区域参数的接口可以包括:用于获取按压椭圆区域长轴长的getTouchMajor()接口、以及用于获取按压椭圆区域短轴长的getTouchMinor()接口。
在执行步骤1012获取到每个椭圆区域的长轴长和短轴长之后,可以通过如下公式(1)计算出每个椭圆区域的面积,如此,就可以计算出第一接触面积。
S=πab/4 公式(1)
在公式(1)中,S表示椭圆区域的面积(即第一接触面积),a表示长轴长,b表示短轴长,π表示圆周率(Pi)。
在一种示例性实施例中,原始书写轨迹可以包括但不限于:楷书字体、行书字体、草书字体、隶书字体、篆书字体等各种风格的书法字体。
在一种示例性实施例中,原始书写轨迹可以为软笔书法字体(如毛笔字体)。
在一种示例性实施例中,以原始书写轨迹为书法字体为例,步骤101可以包括:
步骤1013:在用户通过用于书写书法字体的触控笔在触控设备上输入原始书写轨迹的过程中,获得书写数据。如此,在获得书写数据之后,通过步骤104就能够实现所显示出的书写轨迹更具有质感,丰富了书写笔迹的表现形式,提升了用户对书写轨迹的直观感受,进而,能够大大提升用户使用用于书写书法字体的触控笔的书写体验。
在一种示例性实施例中,以原始书写轨迹为软笔书法字体(如毛笔字体)为例,若触控设备为红外触控设备,那么,用于书写书法字体的触控笔可以为海绵笔。如此,当原始书写轨迹为软笔书法字体(如毛笔字体)时,在获得书写数据之后,通过步骤104就能够实现所显示出的书写轨迹具有美观的笔锋效果,使得书写笔迹更具有质感,丰富了书写笔迹的表现形式,提升了用户对书写轨迹的直观感受,进而,能够大大提升用户使用海绵笔的书写体验。
其次,对步骤102进行说明。
在一种示例性实施例中,步骤102可以包括:
步骤1021:基于多个第一轨迹点,通过贝塞尔曲线进行平滑处理,得到多个第二轨迹点;
步骤1022:通过贝塞尔曲线对多个第一接触面积进行平滑处理,得到多个第二接触面积。
在一种示例性实施例中,贝塞尔曲线可以为二阶贝塞尔曲线或三阶贝塞尔曲线等。
举例来说,二阶贝塞尔曲线可以由如下公式(2)表示。
B(t)=(1-t)2P0+2t(1-t)P1+t2P2,t∈[0,1] 公式(2)
在公式(2)中,B(t)表示第二轨迹点,P0表示贝塞尔曲线的起点参数,P2表示贝塞尔曲线的终点参数,P1表示贝塞尔曲线的控制点参数,t为变量。
经过贝塞尔曲线平滑后,第二轨迹点除了可以包括第一轨迹点(可能是部分或者全部)之外,还可以包括插值点。这里,插值点是指采用贝塞尔曲线对第一轨迹点进行平滑处理得到的点,可以使后续显示出的书写轨迹更加平滑和美观。第二轨迹点中插值点的数量可以根据实际情况确定。
在一种示例性实施例中,步骤1021可以包括:
步骤10211:计算每两个相邻第一轨迹点的中点;
步骤10212:通过贝塞尔曲线对由多个第一轨迹点和每两个相邻第一轨迹点的中点所组成的点序列进行平滑处理,得到多个第二轨迹点。
下面以贝塞尔曲线为二阶贝塞尔曲线为例,对如何得到第二轨迹点进行说明。在实际应用中,根据所设置的贝塞尔曲线的参数(包括:起点参数、控制点参数、终点参数)的不同,步骤10212可以存在但不限于以下两种实现方式:
第一种实现方式:原始书写轨迹可以包括:起笔部分和除该起笔部分以外的其它部分,对该起笔部分所对应的轨迹点与该其它部分所对应的轨迹点采用不同的方式设定贝塞尔曲线的参数。
在一种示例性实施例中,以通过二阶贝塞尔曲线对起笔部分进行平滑处理时控制点与终点相同为例,步骤10212可以包括:以第1个第一轨迹点作为贝塞尔曲线的起点参数、第1个第一轨迹点与第2个第一轨迹点的中点作为贝塞尔曲线的控制点参数、第1个第一轨迹点与第2个第一轨迹点的中点作为贝塞尔曲线的终点参数,采用如公式(2)所示的贝塞尔曲线公式,计算得到第二轨迹点中的部分点;依次以第i个第一轨迹点与第i+1个第一轨迹点的中点作为贝塞尔曲线的起点参数、第i+1个第一轨迹点作为贝塞尔曲线的控制点参数、第i+1个第一轨迹点与第i+2个第一轨迹点的中点作为贝塞尔曲线的终点参数,采用如公式(2)所示的贝塞尔曲线公式,计算得到第二轨迹点中除部分点之外的其它点,其中,i为大于或者等于1的正整数。
举例来说,以如图2所示的原始书写轨迹为例,该原始书写轨迹可以包括:第1个第一轨迹点为点21、第2个第一轨迹点为点23、第3个第一轨迹点为点25、第4个第一轨迹点为点27和第5个第一轨迹点为点29,其中,第1个第一轨迹点与第2个第一轨迹点之间的中点为点22、第2个第一轨迹点与第3个第一轨迹点之间的中点为点24、第3个第一轨迹点与第4个第一轨迹点之间的中点为点26、第4个第一轨迹点与第5个第一轨迹点之间的中点为点28,那么,通过第一种实现方式对该原始书写轨迹进行平滑处理的过程可以包括:首先,通过贝塞尔曲线对点21与点22进行平滑处理(其中,点21为贝塞尔曲线的起点参数、点22既为终点参数又为控制点参数),然后,通过贝塞尔曲线对点22、点23、点24进行平滑处理,再通过贝塞尔曲线对点24、点25、点26进行平滑处理,以此类推,直至将原始书写轨迹对应的点序列平滑完毕,如此,就通过贝塞尔曲线计算出所需的第二轨迹点。
第二种实现方式:原始书写轨迹可以包括:起笔部分和除该起笔部分以外的其它部分,该起笔部分所对应的轨迹点与该其它部分所对应的轨迹点采用相同方式设定贝塞尔曲线的参数。
在一种示例性实施例中,步骤10212可以包括:依次以第j个第一轨迹点作为贝塞尔曲线的起点参数、第j个第一轨迹点与第j+1个第一轨迹点的中点作为贝塞尔曲线的控制点参数、第j+1个第一轨迹点贝塞尔曲线的终点参数,计算出第二轨迹点,其中,j为大于或者等于1的正整数。
又举例来说,仍然以如图2所示的原始书写轨迹为例,那么,通过第二种实现方式对该原始书写轨迹进行平滑处理的过程可以包括:首先,通过贝塞尔曲线对点21、点22、点23进行平滑处理,然后,通过贝塞尔曲线对点23、点24、点25进行平滑处理,再通过贝塞尔曲线对点25、点26、点27进行平滑处理,以此类推,直至将原始书写轨迹对应的点序列平滑完毕,如此,就通过贝塞尔曲线计算出所需的第二轨迹点。
然后,对步骤103进行说明。
在一种示例性实施例中,步骤103可以包括:
步骤1031:以预设的缩放系数对多个第二接触面积进行缩放处理,得到多个轨迹线宽。如此,采用以预设的缩放系数对多个第二接触面积进行缩放处理的方式,来实现将触控笔与触控设备的触控屏的接触面积转化为原始书写笔迹对应的轨迹线宽,相比于通过模型计算线宽的方法,可精确高效地确定轨迹线宽,并且具有计算量小、处理速度快的优点。
在一种示例性实施例中,对多个第二接触面积进行缩放处理可以为以缩小处理、放大处理中的一种或多种。
在实际应用中,根据所设置的预设的缩放系数的不同,步骤1031可以存在但不限于以下实现方式:
在一种示例性实施例中,以预设的缩放系数包括:预设的第一系数和预设的第二系数为例,那么,步骤1031可以包括:
步骤10311:将多个第二接触面积以预设的第一系数进行缩放处理,得到多个处理后的第二接触面积;
步骤10312:将多个处理后的第二接触面积以预设的第二系数进行缩放处理,得到多个轨迹线宽。
如此,采用对接触面积先基于预设的第一系数进行缩放处理,再基于预设的第二系数进行缩放处理的方式,来实现将触控笔与触控设备的触控屏的接触面积转化为原始书写笔迹对应的轨迹线宽,相比于通过模型计算线宽的方法,可更为精确高效地确定轨迹线宽。
举例来说,以用户通过触控笔(如海绵笔)在触控设备上进行书写,触控设备执行步骤102计算得到第二接触面积为例,可以通过如下公式(3),将触控笔与触控设备的触控屏的接触面积转化为原始书写笔迹对应的轨迹线宽。
Sa′=k2*Sa/k1 公式(3)
在公式(3)中,Sa表示第二接触面积,Sa′表示轨迹线宽,k1表示预设的第一系数,k2表示预设的第二系数。
在一种示例性实施例中,k1∈(0,1000)∈N。其中,N为自然数集合。
在一种示例性实施例中,k2∈(0,10)∈N。其中,N为自然数集合。
在一种示例性实施例中,可以设置缩放系数的取值范围为:k1∈(0,1000)∈N,且k2∈(0,10)∈N。如此,采用先基于预设的第一系数进行缩小,再基于预设的第二系数进行放大的方式,来实现将触控笔与触控设备的触控屏的接触面积转化为原始书写笔迹对应的轨迹线宽,可精确地确定轨迹线宽,进而,基于该轨迹线宽来显示书写轨迹,能够更为提高书写轨迹的效果。
当然,除了上述列出的预设的缩放系数的数量和取值范围,预设的缩放系数的数量和取值范围还可以为其它,本公开对此不做限定。
最后,对步骤104进行说明。
在一种示例性实施例中,步骤104可以包括:
步骤1041:基于每两个相邻的第二轨迹点及其对应的每两个相邻的轨迹线宽,计算出每两个相邻的圆形之间的外公切点;
其中,一个圆形以一个第二轨迹点作为圆心,并以该第二轨迹点所对应的轨迹线宽作为直径。
步骤1042:以外公切点作为书写轨迹的外轮廓点,绘制出书写轨迹。
举例来说,如图3所示,根据两个相邻的圆形各自对应的圆心和直径,通过两个圆之间的外公切点的计算,可以计算得到该两个相邻的圆形之间的外公切点包括:第一切点31、第二切点32、第三切点33和第四切点34。
在本文中,获取到的第一轨迹点、计算出的第二轨迹点、公切点包括点的坐标数据。
举例来说,以原始书写轨迹为汉字“贾”的最后一个笔画为例,根据该原始书写轨迹对应的外公切点,可以绘制出如图4所示的书写轨迹。
由上述内容可知,本公开实施例所提供的书写轨迹处理方法,在获得原始书写轨迹的书写数据之后,其中,书写数据包括:多个第一轨迹点以及与多个第一轨迹点一一对应的多个第一接触面积,可以对书写数据进行平滑处理,得到平滑后的书写数据,其中,平滑后的书写数据包括:多个第二轨迹点以及与多个第二轨迹点一一对应的多个第二接触面积;然后,基于多个第二接触面积,确定与多个第二轨迹点一一对应的多个轨迹线宽;最后,基于多个第二轨迹点和多个轨迹线宽,显示书写轨迹。如此,通过对书写数据进行平滑处理得到平滑后的轨迹点和接触面积,并根据平滑后的接触面积确定轨迹线宽,再通过多个平滑后的轨迹点以及与该多个平滑后的轨迹点所对应的轨迹线宽来显示出书写轨迹,能够消除书写轨迹的锯齿状、毛刺等外观,使得显示出的书写轨迹更为光滑、圆润、自然,实现提高书写轨迹的显示效果,进而,实现提高用户的书写体验。在一种示例性实施例中,当用户使用用于书写书法字体(如软笔书法字体)的触控笔来书写出该原始书写轨迹时,所显示出的书写轨迹不但更为光滑、圆润、自然,而且还具有美观的笔锋效果,能够更为提高用户的书写体验,使得用户获得畅快的书写体验。
本公开实施例提供一种书写***。图5为本公开实施例中的书写***的结构示意图,如图5所示,该书写***可以包括:用于书写书法字体的触控笔51,以及如上述一个或多个实施例中的触控设备52。
在一种示例性实施例中,触控设备可以为红外触控设备。
在一种示例性实施例中,以原始书写轨迹为软笔书法字体为例,用于书写书法字体的触控笔可以为海绵笔。
在一种示例性实施例中,触控设备的操作***可以为安卓***,如图5所示,触控设备52可以包括:应用层521和底层522,触控设备的应用层521与底层522(如算法层)配合实现更为光滑、圆润、自然的书写笔迹呈现。其中,应用层521主要用于:在获取到用户输入的书写轨迹的轨迹点及其对应的接触面积时,通过数据处理请求,将轨迹点及其对应的接触面积传到底层522做处理,以使底层522对轨迹点及其对应的接触面积处理后,将处理结果返回给应用层521;底层522主要用于:根据应用层521传送的轨迹点及其对应的接触面积进行笔迹平滑,并且实现基于接触面积的笔迹美化效果。
举例来说,应用层可以通过触摸事件中的getX()接口和getY()接口分别获取原始书写轨迹中的第一轨迹点的横坐标和纵坐标,并通过触摸事件中getTouchMajor()接口和getTouchMinor()接口分别获取按压椭圆区域的长轴长和短轴长。然后,通过椭圆的面积公式,基于按压椭圆区域的长轴长和短轴长计算出第一接触面积,如此,应用层就获得了原始书写轨迹的书写数据,其中,该书写数据可以包括:多个第一轨迹点以及与多个第一轨迹点一一对应的多个第一接触面积。接下来,应用层可以通过数据处理请求,将原始书写轨迹的书写数据传到算法层。这样,算法层可以进行通过贝塞尔曲线对书写数据进行平滑处理,得到平滑后的书写数据,其中,平滑后的书写数据包括:多个第二轨迹点以及与多个第二轨迹点一一对应的多个第二接触面积,并且算法层可以基于多个第二接触面积,确定与多个第二轨迹点一一对应的多个轨迹线宽(如预设的缩放系数包括:预设的第一系数和预设的第二系数,给第二接触面积先除以预设的第一系数进行缩放处理,再给处理后的第二接触面积乘以预设的第二系数进行缩放处理,得到与第二接触面积对应的轨迹点的轨迹线宽)。然后,算法层可以根据多个第二轨迹点以及与多个第二轨迹点一一对应的多个轨迹线宽来实时计算书写轨迹模拟模型,即计算两两相邻“圆”之间的多边形连接的坐标点(即两两相邻圆之间的外公切点)。最后,算法层将计算出的每两个相邻的圆形之间的外公切点(其中任一圆形以一个第二轨迹点作为圆心,并以该第二轨迹点所对应的轨迹线宽作为直径)返回给应用层。最后,应用层根据每两个相邻的圆形之间的外公切点,可以显示出具有平滑、自然、美观效果的书写笔迹。
以上***实施例的描述,与上述方法实施例的描述是类似的,具有同方法实施例相似的有益效果。对于本公开***实施例中未披露的技术细节,请参照本公开方法实施例的描述而理解。在此不再赘述。
本公开实施例还提供一种触控设备,包括:存储器以及存储有可在处理器上运行的计算机程序的存储器,其中,处理器执行程序时实现上述一个或多个实施例中的书写轨迹处理方法的步骤。
在一种示例性实施例中,如图6所示,该触控设备60可以包括:至少一个处理器601;以及与处理器601连接的至少一个存储器602、总线603;其中,处理器601、存储器602通过总线603完成相互间的通信;处理器601用于调用存储器602中的程序指令,以执行上述一个或多个实施例中的书写轨迹处理方法的步骤。
在实际应用中,上述处理器可以是中央处理单元(Central Processing Unit,CPU)、其他通用处理器、数字信号处理器(Digital Signal Processor,DSP)、现场可编程门阵列(Field Programmable Gate Array,FPGA)或者其他可编程逻辑器件、分立门或者晶体管逻辑器件、分立硬件组件、专用集成电路等。通用处理器可以是微处理器(MicroProcessor Unit,MPU)或者该处理器也可以是任何常规的处理器等。
存储器可能包括计算机可读存储介质中的非永久性存储器,随机存储器(RandomAccess Memory,RAM)和/或非易失性内存等形式,如只读存储器(Read Only Memory,ROM)或闪存(Flash RAM),存储器包括至少一个存储芯片。
总线除包括数据总线之外,还可以包括电源总线、控制总线和状态信号总线等。但是为了清楚说明起见,在图6中将各种总线都标为总线603。
在实现过程中,触控设备所执行的处理可以通过处理器中的硬件的集成逻辑电路或者软件形式的指令完成。即本公开实施例的方法步骤可以体现为硬件处理器执行完成,或者用处理器中的硬件及软件模块组合执行完成。软件模块可以位于随机存储器,闪存、只读存储器,可编程只读存储器或者电可擦写可编程存储器、寄存器等存储介质中。该存储介质位于存储器,处理器读取存储器中的信息,结合其硬件完成上述方法的步骤。为避免重复,这里不再详细描述。
本公开实施例还提供一种计算机可读存储介质,包括存储的程序,其中,在程序运行时控制存储介质所在的触控设备执行上述一个或多个实施例中的书写轨迹处理方法的步骤。
在实际应用中,上述计算机可读存储介质可以如:ROM/RAM、磁碟、光盘等。
以上触控设备或计算机可读存储介质实施例的描述,与上述方法实施例的描述是类似的,具有同方法实施例相似的有益效果。对于本公开触控设备或计算机可读存储介质实施例中未披露的技术细节,请参照本公开方法实施例的描述而理解。在此不再赘述。
在本公开实施例的描述中,需要理解的是,术语“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本公开和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本公开的限制。
在本公开实施例的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据理解上述术语在本公开中的含义。
本领域普通技术人员可以理解,上文中所公开方法中的全部或某些步骤、***、装置中的功能模块/单元可以被实施为软件、固件、硬件及其适当的组合。在硬件实施方式中,在以上描述中提及的功能模块/单元之间的划分不一定对应于物理组件的划分;例如,一个物理组件可以具有多个功能,或者一个功能或步骤可以由若干物理组件合作执行。某些组件或所有组件可以被实施为由处理器,如数字信号处理器或微处理器执行的软件,或者被实施为硬件,或者被实施为集成电路,如专用集成电路。这样的软件可以分布在计算机可读介质上,计算机可读介质可以包括计算机存储介质(或非暂时性介质)和通信介质(或暂时性介质)。如本领域普通技术人员公知的,术语计算机存储介质包括在用于存储信息(诸如计算机可读指令、数据结构、程序模块或其他数据)的任何方法或技术中实施的易失性和非易失性、可移除和不可移除介质。计算机存储介质包括但不限于RAM、ROM、EEPROM、闪存或其他存储器技术、CD-ROM、数字多功能盘(DVD)或其他光盘存储、磁盒、磁带、磁盘存储或其他磁存储装置、或者可以用于存储期望的信息并且可以被计算机访问的任何其他的介质。此外,本领域普通技术人员公知的是,通信介质通常包含计算机可读指令、数据结构、程序模块或者诸如载波或其他传输机制之类的调制数据信号中的其他数据,并且可包括任何信息递送介质。
虽然本公开所揭露的实施方式如上,但所述的内容仅为便于理解本公开而采用的实施方式,并非用以限定本公开。任何本公开所属领域内的技术人员,在不脱离本公开所揭露的精神和范围的前提下,可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化,但本公开的保护范围,仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。
Claims (11)
1.一种书写轨迹处理方法,包括:
获得原始书写轨迹的书写数据,其中,所述书写数据包括:多个第一轨迹点以及与所述多个第一轨迹点一一对应的多个第一接触面积;
对所述书写数据进行平滑处理,得到平滑后的书写数据,其中,所述平滑后的书写数据包括:多个第二轨迹点以及与所述多个第二轨迹点一一对应的多个第二接触面积;
基于所述多个第二接触面积,确定与所述多个第二轨迹点一一对应的多个轨迹线宽;
基于所述多个第二轨迹点和所述多个轨迹线宽,显示书写轨迹;
其中,所述基于所述多个第二接触面积,确定与所述多个第二轨迹点一一对应的多个轨迹线宽,包括:以预设的缩放系数对所述多个第二接触面积进行缩放处理,得到所述多个轨迹线宽;
其中,所述以预设的缩放系数对所述多个第二接触面积进行缩放处理,得到所述多个轨迹线宽,包括:采用以下公式计算得到所述多个轨迹线宽:
Sa′=k2*Sa/k1;其中,Sa表示第二接触面积,Sa′表示轨迹线宽,所述预设的缩放系数包括:预设的第一系数和预设的第二系数,k1表示预设的第一系数,k2表示预设的第二系数;
其中,所述获得原始书写轨迹的书写数据,包括:在用户输入所述原始书写轨迹的过程中,通过用于获取触摸事件的坐标的接口,获取所述多个第一轨迹点,并通过用于获取触摸事件的触摸椭圆区域参数的接口,获取与所述多个第一轨迹点一一对应的多个触摸椭圆区域参数,其中,每个触摸椭圆区域参数包括:长轴长和短轴长;基于多个触摸椭圆区域参数,计算出所述多个第一接触面积;
其中,采用以下公式,基于每个触摸椭圆区域参数,计算得到每个椭圆区域的面积作为每个第一接触面积:
S=πab/4;其中,S表示椭圆区域的面积,a表示长轴长,b表示短轴长,π表示圆周率。
2.根据权利要求1所述的书写轨迹处理方法,其中,所述基于所述多个第二轨迹点和所述多个轨迹线宽,显示书写轨迹,包括:
基于每两个相邻的第二轨迹点及其对应的每两个相邻的轨迹线宽,计算出每两个相邻的圆形之间的外公切点;其中,任一圆形以一个第二轨迹点作为圆心,并以所述第二轨迹点所对应的轨迹线宽作为直径;
以所述外公切点作为所述书写轨迹的外轮廓点,绘制出所述书写轨迹。
3.根据权利要求1所述的书写轨迹处理方法,其中,所述预设的第一系数为大于0,且小于1000的整数。
4.根据权利要求1或3所述的书写轨迹处理方法,其中,所述预设的第二系数为大于0,且小于10的整数。
5.根据权利要求1所述的书写轨迹处理方法,其中,所述对所述书写数据进行平滑处理,得到平滑后的书写数据,包括:
基于所述多个第一轨迹点,通过贝塞尔曲线进行平滑处理,得到多个第二轨迹点;
通过贝塞尔曲线对所述多个第一接触面积进行平滑处理,得到所述多个第二接触面积。
6.根据权利要求5所述的书写轨迹处理方法,其中,所述基于所述多个第一轨迹点,通过贝塞尔曲线进行平滑处理,得到多个第二轨迹点,包括:
计算每两个相邻第一轨迹点的中点;
通过贝塞尔曲线对由所述多个第一轨迹点和所述每两个相邻第一轨迹点的中点所组成的点序列进行平滑处理,得到所述多个第二轨迹点。
7.根据权利要求6所述的书写轨迹处理方法,其中,所述通过贝塞尔曲线对由所述多个第一轨迹点和所述每两个相邻第一轨迹点的中点所组成的点序列进行平滑处理,得到所述多个第二轨迹点,包括:
以第1个第一轨迹点作为贝塞尔曲线的起点参数、第1个第一轨迹点与第2个第一轨迹点的中点作为贝塞尔曲线的控制点参数、第1个第一轨迹点与第2个第一轨迹点的中点作为贝塞尔曲线的终点参数,采用贝塞尔曲线公式,计算得到所述第二轨迹点中的部分点;
依次以第i个第一轨迹点与第i+1个第一轨迹点的中点作为贝塞尔曲线的起点参数、第i+1个第一轨迹点作为贝塞尔曲线的控制点参数、第i+1个第一轨迹点与第i+2个第一轨迹点的中点作为贝塞尔曲线的终点参数,采用所述贝塞尔曲线公式,计算得到所述第二轨迹点中除所述部分点之外的其它点,其中,i为大于或者等于1的正整数;
其中,所述贝塞尔曲线公式为:B(t)=(1-t)2P0+2t(1-t)P1+t2P2,B(t)表示第二轨迹点,P0表示贝塞尔曲线的起点参数,P2表示贝塞尔曲线的终点参数,P1表示贝塞尔曲线的控制点参数,t为变量,t∈[0,1]。
8.根据权利要求1所述的书写轨迹处理方法,其中,所述获得原始书写轨迹的书写数据,包括:
在用户通过用于书写书法字体的触控笔在触控设备上输入所述原始书写轨迹的过程中,获得所述书写数据。
9.一种触控设备,包括:处理器以及存储有可在处理器上运行的计算机程序的存储器,其中,所述处理器执行所述程序时实现如权利要求1至8任一项所述的书写轨迹处理方法的步骤。
10.一种书写***,包括:用于书写书法字体的触控笔,以及如权利要求9所述的触控设备。
11.一种计算机可读存储介质,包括存储的程序,其中,在所述程序运行时控制所述存储介质所在的触控设备执行如权利要求1至8任一项所述的书写轨迹处理方法的步骤。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/CN2020/119096 WO2022067585A1 (zh) | 2020-09-29 | 2020-09-29 | 书写轨迹处理方法、触控设备、书写***及存储介质 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114585992A CN114585992A (zh) | 2022-06-03 |
CN114585992B true CN114585992B (zh) | 2024-06-11 |
Family
ID=80950917
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202080002199.5A Active CN114585992B (zh) | 2020-09-29 | 2020-09-29 | 书写轨迹处理方法、触控设备、书写***及存储介质 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11900568B2 (zh) |
CN (1) | CN114585992B (zh) |
WO (1) | WO2022067585A1 (zh) |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |