CN114516092B - 一种核孔膜蚀刻装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及核孔膜产品加工技术领域,具体是一种核孔膜蚀刻装置,包括底座板,所述底座板上固定安装有蚀刻筒和清洗筒,还包括:控制箱,所述控制箱通过输送管与所述蚀刻筒相连通;以及过滤机构,所述过滤机构位于所述控制箱内;其中,过滤机构包括有导流组件和调节组件,所述调节组件位于所述控制箱上,所述导流组件包括有升降件、固定件、导流件、导流槽和过滤件,本发明核孔膜蚀刻装置,结构新颖,可降低碱液内废渣的含量,保证碱液的浓度不受影响,进而提高了核孔膜蚀刻的质量以及后续的使用,为工作人员提供了便利。

Description

一种核孔膜蚀刻装置
技术领域
本发明涉及核孔膜产品加工技术领域,具体是一种核孔膜蚀刻装置。
背景技术
核孔膜主要是靠离子在塑料薄膜上打孔,再经过特殊的化学液体进行蚀刻,从而形成小孔。核孔膜材料因为具有众多的优点,广泛应用于电子、生物、食品、医疗及化工领域,核孔膜的生产具有重大的经济价值与社会意义。核孔膜的蚀刻是一个复杂的过程,核孔膜蚀刻生产的流程为:将辐照后的核孔膜原膜在设定浓度的碱液里浸泡,再在清水池里进行清洗,最后风干成为标准的核孔膜。
现有的核孔膜蚀刻装置,在蚀刻过程中,碱液浓度对蚀刻的效果起到至关重要的作用,但是在蚀刻过程中,碱液内腐蚀后的残渣越来越多,会影响碱液的浓度,进而影响核孔膜的质量以及后续的使用,给工作人员造成不便,因此,针对以上现状,迫切需要开发一种核孔膜蚀刻装置,以克服当前实际应用中的不足。
发明内容
本发明的目的在于提供一种核孔膜蚀刻装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种核孔膜蚀刻装置,包括底座板,所述底座板上固定安装有蚀刻筒和清洗筒,还包括:
控制箱,所述控制箱通过输送管与所述蚀刻筒相连通;以及
过滤机构,所述过滤机构位于所述控制箱内;
其中,过滤机构包括有导流组件和调节组件,所述调节组件位于所述控制箱上,所述导流组件包括有升降件、固定件、导流件、导流槽和过滤件,所述升降件滑动安装在所述控制箱的内侧壁上,并与调节组件相连接,且所述升降件上还可拆卸安装有导流件,所述导流件上开设有导流槽,所述导流槽与所述输送管相连通,且所述导流槽内还分布安装有过滤件,所述固定件位于所述控制箱的内底壁上,并与所述升降件相配合安装,且所述固定件的中部与所述输送管相连通。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
在对核孔膜的蚀刻过程中,位于蚀刻筒内碱液中的废渣会越来越多,影响蚀刻的效果,因此需要将废渣进行过滤处理,首先,通过设置的输送管,可将蚀刻筒内的浑浊碱液通过压力部件的作用输送至控制箱内,并经导流件进入到导流槽内,其中控制箱的侧壁上开设有活动门,导流件为圆柱体结构,导流槽为螺旋结构,并在导流槽内均匀设有过滤件,过滤件可采用弹性滤网的形式填充在导流槽内,避免发生腐蚀,且固定件上也设有与导流件相同的结构,当升降件与固定件紧紧贴合在一起时,可使导流槽围成一个类似于螺旋管的形式,从而可对碱液内的杂质进行充分过滤,过滤后的碱液可从位于固定件上导流槽中部的通孔进入到输送管内,并经输送管再次回流至蚀刻筒内进行蚀刻工作,其中,升降件与固定件可采用空心的圆柱体结构,当过滤件的过滤效果变差时,通过设置的调节组件工作,可使升降件在控制箱内向上移动,并与固定件分离,从而可通过控制箱上的活动门将位于升降件和固定件上的导流件拆卸下来,以便于对导流槽内的过滤件进行清洗或更换,以便于保证过滤的效果,蚀刻筒的顶部还设有加液口,以便于向蚀刻筒内及时补液,以保证碱液的浓度和体积,提高蚀刻的效果和效率,通过设置的过滤机构,可降低碱液内废渣的含量,保证碱液的浓度不受影响,进而提高了核孔膜蚀刻的质量以及后续的使用,为工作人员提供了便利,值得推广。
附图说明
图1为本发明实施例中整体的前视结构示意图。
图2为本发明实施例中整体的后视结构示意图。
图3为本发明实施例中控制箱部分的剖视结构示意图。
图4为本发明实施例中升降件部分的主视剖视结构示意图。
图5为本发明实施例图4中A部分的放大结构示意图。
图6为本发明实施例中导流件部分的仰视结构示意图。
图7为本发明实施例中清洗筒部分的主视剖视结构示意图。
图中:1-底座板,2-蚀刻筒,3-操控面板,4-清洗筒,5-玻璃面,6-中和箱,7-驱动轮,8-放置板,9-伸缩筒,10-定位杆,11-支撑架,12-定位孔,13-加液口,14-控制箱,15-连通口,16-输送管,17-伸缩件,18-连接板,19-检测管,20-旋转轴,21-从动轮,22-滴定管,23-升降杆,24-支撑板,25-驱动杆,26-推拉杆,27-导向件,28-升降件,29-密封圈,30-固定件,31-导流件,32-插接孔,33-插接杆,34-导流槽,35-过滤件,36-敏感元件,37-导流板,38-搅拌叶,39-驱动件,40-隔板,41-转动轴,42-加热圈,43-导流组件,44-调节组件。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
以下结合具体实施例对本发明的具体实现进行详细描述。
请参阅图1-7,本发明实施例提供的一种核孔膜蚀刻装置,包括底座板1,所述底座板1上固定安装有蚀刻筒2和清洗筒4,还包括:
控制箱14,所述控制箱14通过输送管16与所述蚀刻筒2相连通;以及
过滤机构,所述过滤机构位于所述控制箱14内;
其中,过滤机构包括有导流组件43和调节组件44,所述调节组件44位于所述控制箱14上,所述导流组件43包括有升降件28、固定件30、导流件31、导流槽34和过滤件35,所述升降件28滑动安装在所述控制箱14的内侧壁上,并与调节组件44相连接,且所述升降件28上还可拆卸安装有导流件31,所述导流件31上开设有导流槽34,所述导流槽34与所述输送管16相连通,且所述导流槽34内还分布安装有过滤件35,所述固定件30位于所述控制箱14的内底壁上,并与所述升降件28相配合安装,且所述固定件30的中部与所述输送管16相连通。
在对核孔膜的蚀刻过程中,位于蚀刻筒2内碱液中的废渣会越来越多,影响蚀刻的效果,因此需要将废渣进行过滤处理,首先,通过设置的输送管16,可将蚀刻筒2内的浑浊碱液通过压力部件的作用输送至控制箱14内,并经导流件31进入到导流槽34内,其中控制箱14的侧壁上开设有活动门,导流件31为圆柱体结构,导流槽34为螺旋结构,并在导流槽34内均匀设有过滤件35,过滤件35可采用弹性滤网的形式填充在导流槽34内,避免发生腐蚀,且固定件30上也设有与导流件31相同的结构,当升降件28与固定件30紧紧贴合在一起时,可使导流槽34围成一个类似于螺旋管的形式,从而可对碱液内的杂质进行充分过滤,过滤后的碱液可从位于固定件30上导流槽34中部的通孔进入到输送管16内,并经输送管16再次回流至蚀刻筒2内进行蚀刻工作,其中,升降件28与固定件30可采用空心的圆柱体结构,当过滤件35的过滤效果变差时,通过设置的调节组件44工作,可使升降件28在控制箱14内向上移动,并与固定件30分离,从而可通过控制箱14上的活动门将位于升降件28和固定件30上的导流件31拆卸下来,以便于对导流槽34内的过滤件35进行清洗或更换,以便于保证过滤的效果,蚀刻筒2的顶部还设有加液口13,以便于向蚀刻筒2内及时补液,以保证碱液的浓度和体积,提高蚀刻的效果和效率,通过设置的过滤机构,可降低碱液内废渣的含量,保证碱液的浓度不受影响,进而提高了核孔膜蚀刻的质量以及后续的使用,为工作人员提供了便利,值得推广。
在本发明的一个实施例中,请参阅图3-6,还包括:导向件27,所述导向件27位于所述控制箱14的内侧壁上,并与所述升降件28滑动连接;
插接孔32,所述插接孔32均匀开设于所述升降件28的底部上;
插接杆33,所述插接杆33均匀分布在所述导流件31上,并与所述插接孔32可拆卸连接;以及
密封圈29,所述密封圈29与所述导流件31固定连接。
通过设置的导向件27,其中导向件27可采用滑块与导轨相配合的结构,并均匀分布在控制箱14的内侧壁上,以便于保证升降件28升降时的平稳性以及升降件28的垂直度,避免因发生晃动而与固定件30之间产生缝隙,导致碱液的泄露,从而影响过滤的效果,并通过设置的密封圈29,其中密封圈29的数量可为若干个,且分别交错安装在两套导流件31的端面上,当两套导流件31的端面接触时,可进一步保证导流槽34与外部的密封性,避免碱液发生泄漏,且可根据需要在导流槽34上设置有与其结构相同的密封条,以避免导流槽34内的碱液发生泄漏,在此不做过多赘述,当需要将导流件31从升降件28和固定件30上拆卸清洗或更换时,可由人力拉动导流件31,并使若干个插接杆33与插接孔32分离,其中,插接杆33与插接孔32之间可采用过盈连接,以保证导流件31安装后的稳固性。
在本发明的一个实施例中,请参阅图4,还包括:加热圈42,所述加热圈42均匀分布在所述升降件28和固定件30上开设的空腔内。
在对碱液过滤的过程中,当碱液流动至导流槽34内,可启动加热圈42工作,并可将产生的热量均匀分布在升降件28和固定件30的空腔内底壁上,并通过热传递的作用,可对位于导流槽34内的碱液进行均匀加热,且由于导流槽34内的碱液体积较小,升温较快,并通过与导流槽34的螺旋结构相配合,碱液分散均匀,可使回流至蚀刻筒2内的碱液受热也很均匀,并且保证恒定的温度,从而可进一步提高蚀刻的效果。
在本发明的一个实施例中,请参阅图1-3,所述调节组件44包括:
支撑板24,所述支撑板24与所述控制箱14的内壁相连接;
旋转轴20,所述旋转轴20与所述支撑板24转动连接,且所述旋转轴20贯穿控制箱14的一端上固定安装有手柄;
驱动杆25,所述驱动杆25位于所述旋转轴20上;
驱动轮7和从动轮21,所述驱动轮7和从动轮21均与所述控制箱14转动连接,驱动轮7与所述驱动杆25相配合连接,且所述驱动轮7还与从动轮21固定连接;
推拉杆26,所述推拉杆26与所述从动轮21相配合连接,且所述推拉杆26的一端与所述升降件28相连接;
升降杆23,所述升降杆23的一端与所述推拉杆26相连接,升降杆23的另一端贯穿支撑板24并且与所述支撑板24滑动连接;以及
连通口15,所述连通口15开设于所述控制箱14上,且所述连通口15与所述升降杆23相配合安装。
当需要将导流件31进行拆卸时,首先,打开活动门,并通过人力转动手柄,可使旋转轴20带动驱动杆25转动,并可通过驱动杆25带动驱动轮7在控制箱14内转动,其中,驱动杆25和驱动轮7可采用蜗轮蜗杆相配合的结构,当驱动轮7转动时,可带动从动轮21同步转动,并可带动推拉杆26向上移动,其中从动轮21和推拉杆26可分别采用齿轮和齿条的形式,当推拉杆26向上移动时,可带动升降件28经导向件27在控制箱14上向上滑动,并使升降件28与固定件30分离,从而可将导流件31进行拆卸,同时,当推拉杆26向上移动时,通过支撑板24对升降杆23的限位导向作用,可进一步保证升降件28移动的平稳性,且通过设置的连通口15,当升降杆23持续向上移动时,可穿过连通口15移动至控制箱14的外部,有利于节约控制箱14的空间,降低成本。
在本发明的一个实施例中,请参阅图1、图2和图7,还包括:连接板18,所述连接板18的两端分别与所述蚀刻筒2和清洗筒4相连接,且所述连接板18上固定安装有操控面板3;
玻璃面5,所述玻璃面5位于所述清洗筒4上;以及
中和箱6,所述中和箱6位于所述清洗筒4上,且所述中和箱6通过滴定管22与所述清洗筒4相连通。
通过设置的操控面板3,可与整体蚀刻装置的电气设备相连接,以便于对电气设备的手动或自动控制,并通过设置的玻璃面5,以便于工作人员观测清洗筒4内蚀刻后的核孔膜的清洗过程和效果,其中清洗筒4内设有若干个清水喷头,以便于对位于清洗筒4内的核孔膜进行冲洗,在清洗过程中,清水会因为核孔膜上粘附的碱液而变成碱性,此时,通过设置的中和箱6,可经滴定管22向清洗筒4内滴入酸液,以便于中和核孔膜上粘附的碱液,其中滴定管22上设有电磁阀,通过操控面板3进行控制,当核孔膜放置在清洗筒4内后,开始进行滴定,且滴定的方法可采用设置pH检测仪的形式,并可将参数经操控面板3进行显示,以保证中和清洗的效果,也可以采用向清洗筒4内加入甲基红的形式,可通过清洗筒4上设置的检测管19进行添加,当然也可以采用其他形式,只要能实现中和的作用即可,在此不做过多赘述。
在本发明的一个实施例中,请参阅图7,还包括:隔板40,所述隔板40与所述清洗筒4的内侧壁相连接;
驱动件39,所述驱动件39位于所述清洗筒4与隔板40之间;
转动轴41,所述转动轴41贯穿隔板40的一端与所述驱动件39的输出端相连接,且所述转动轴41上固定安装有搅拌叶38;以及
导流板37,所述导流板37位于所述清洗筒4的内侧壁上,并与所述滴定管22相配合安装。
对清洗筒4内的核孔膜清洗时,首先,可对核孔膜进行预冲洗,并将核孔膜放置于预冲洗的水中,然后,在向清洗筒4内滴入酸液或甲基红时,通过设置的导流板37,可使溶液缓慢地滴入至清洗筒4内的碱性水中,避免发生飞溅,并启动驱动件39工作,其中驱动件39可采用低速电机的形式,可带动转动轴41和搅拌叶38转动,从而可对预冲洗的溶液进行搅拌,直至溶液由红色变为无色为止,此时关闭滴定管22,核孔膜上的碱液已被中和清洗掉,最后,可将核孔膜脱离预冲洗溶液,并通过喷头再次对核孔膜进行冲洗,从而可保证核孔膜的清洁效果。
在本发明的一个实施例中,请参阅图1、图2和图7,还包括:伸缩件17,所述伸缩件17位于所述连接板18上;
支撑架11,所述支撑架11与所述伸缩件17的输出端相连接;
放置板8,所述放置板8的数量为两套,两套所述放置板8分别与所述支撑架11的两端相连接,且两套所述放置板8还分别与所述蚀刻筒2和清洗筒4相配合安装;以及
敏感元件36,所述敏感元件36位于所述清洗筒4内,且所述敏感元件36分别与所述放置板8和滴定管22相配合安装。
通过设置的伸缩件17,其中伸缩件17可采用液压缸的形式,伸缩件17启动后可任意改变支撑架11的高度,从而可带动放置板8上升或下移,以便于对放置在放置板8内的核孔膜进行蚀刻和清洗工作,其中放置板8可采用塑料网格筒的形式,并可在内部设有多层结构,以便于同时放置多组核孔膜同时进行蚀刻和清洗工作,且支撑架11可围绕伸缩件17转动连接板180°,当其中一套放置板8内的核孔膜蚀刻结束后,可使伸缩件17工作,并带动位于蚀刻筒2内的放置板8上升一段距离,当放置板8与蚀刻筒2分离时,便可转动支撑架11,使刚刚蚀刻结束的放置板8转动至清洗筒4的上方,同时,可将原位于清洗筒4上方的放置板8转动至蚀刻筒2的上方,并在放置板8内放置核孔膜,此时,再次启动伸缩件17,并可带动两套放置板8分别进入至蚀刻筒2和清洗筒4内,从而可使蚀刻和清洗工作同时进行,且可避免蚀刻后还要将核孔膜取出再进行清洗,节省了步骤,提高了效率,为工作人员提供了便利,且当放置板8进入清洗筒4内时,会启动敏感元件36工作,其中敏感元件36可采用光电传感器的形式,敏感元件36启动后,会通过控制信号的作用,控制喷水以及驱动件进行搅拌工作,然后进行中和滴定,实现对核孔膜的清洗,也可以采用人工控制的形式,在此不做过多赘述。
在本发明的一个实施例中,请参阅图1和图2,还包括:定位孔12,所述定位孔12开设于所述支撑架11上;
伸缩筒9,所述伸缩筒9分别位于所述蚀刻筒2和清洗筒4上;以及
定位杆10,所述定位杆10的一端与所述伸缩筒9滑动连接,定位杆10的另一端与所述定位孔12可拆卸连接。
通过设置的伸缩筒9,其中伸缩筒9的内部可设有弹簧,且弹簧位于定位杆10的下端,以便于对定位杆10产生弹性的作用,当支撑架11向下运动,并带动两套放置板8分别进入至蚀刻筒2和清洗筒4内时,可使定位孔12与定位杆10接触,并使弹簧处于压缩状态,其中定位杆10的结构与定位孔12的直径配合设定,可使定位杆10顶部的一部分***到定位孔12内,当支撑架11停止下移时,通过弹簧对定位杆10的推力作用,可使定位杆10压紧在定位孔12内,以便于保证蚀刻和清洗工作时支撑架11的稳固性,避免发生晃动或转动的情况。
综上所述,在对核孔膜的蚀刻过程中,位于蚀刻筒2内碱液中的废渣会越来越多,影响蚀刻的效果,因此需要将废渣进行过滤处理,首先,通过设置的输送管16,可将蚀刻筒2内的浑浊碱液通过压力部件的作用输送至控制箱14内,并经导流件31进入到导流槽34内,其中控制箱14的侧壁上开设有活动门,导流件31为圆柱体结构,导流槽34为螺旋结构,并在导流槽34内均匀设有过滤件35,过滤件35可采用弹性滤网的形式填充在导流槽34内,避免发生腐蚀,且固定件30上也设有与导流件31相同的结构,当升降件28与固定件30紧紧贴合在一起时,可使导流槽34围成一个类似于螺旋管的形式,从而可对碱液内的杂质进行充分过滤,过滤后的碱液可从位于固定件30上导流槽34中部的通孔进入到输送管16内,并经输送管16再次回流至蚀刻筒2内进行蚀刻工作,其中,升降件28与固定件30可采用空心的圆柱体结构,当过滤件35的过滤效果变差时,通过设置的调节组件44工作,可使升降件28在控制箱14内向上移动,并与固定件30分离,从而可通过控制箱14上的活动门将位于升降件28和固定件30上的导流件31拆卸下来,以便于对导流槽34内的过滤件35进行清洗或更换,以便于保证过滤的效果,蚀刻筒2的顶部还设有加液口13,以便于向蚀刻筒2内及时补液,以保证碱液的浓度和体积,提高蚀刻的效果和效率,通过设置的过滤机构,可降低碱液内废渣的含量,保证碱液的浓度不受影响,进而提高了核孔膜蚀刻的质量以及后续的使用,为工作人员提供了便利。
需要说明的是,在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“滑动”、“转动”、“固定”、“设有”等术语应做广义理解,例如,可以是焊接连接,也可以是螺栓连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (7)

1.一种核孔膜蚀刻装置,包括底座板,所述底座板上固定安装有蚀刻筒和清洗筒,其特征在于,还包括:
控制箱,所述控制箱通过输送管与所述蚀刻筒相连通;
过滤机构,所述过滤机构位于所述控制箱内;
其中,过滤机构包括有导流组件和调节组件,所述调节组件位于所述控制箱上,所述导流组件包括有升降件、固定件、导流件、导流槽和过滤件,所述升降件滑动安装在所述控制箱的内侧壁上,并与调节组件相连接,且所述升降件上还可拆卸安装有导流件,所述导流件上开设有导流槽,所述导流槽与所述输送管相连通,且所述导流槽内还分布安装有过滤件,所述固定件位于所述控制箱的内底壁上,并与所述升降件相配合安装,且所述固定件的中部与所述输送管相连通;
还包括:导向件,所述导向件位于所述控制箱的内侧壁上,并与所述升降件滑动连接;
插接孔,所述插接孔均匀开设于所述升降件的底部上;
插接杆,所述插接杆均匀分布在所述导流件上,并与所述插接孔可拆卸连接;以及
密封圈,所述密封圈与所述导流件固定连接;
其中,导流件为圆柱体结构,导流槽为螺旋结构,并在导流槽内均匀设有过滤件,过滤件采用弹性滤网的形式填充在导流槽内,避免发生腐蚀,且固定件上也设有与导流件相同的结构,当升降件与固定件紧紧贴合在一起时,对碱液内的杂质进行充分过滤,过滤后的碱液从位于固定件上导流槽中部的通孔进入到输送管内。
2.根据权利要求1所述的核孔膜蚀刻装置,其特征在于,还包括:加热圈,所述加热圈均匀分布在所述升降件和固定件上开设的空腔内。
3.根据权利要求2所述的核孔膜蚀刻装置,其特征在于,所述调节组件包括:
支撑板,所述支撑板与所述控制箱的内壁相连接;
旋转轴,所述旋转轴与所述支撑板转动连接,且所述旋转轴贯穿控制箱的一端上固定安装有手柄;
驱动杆,所述驱动杆位于所述旋转轴上;
驱动轮和从动轮,所述驱动轮和从动轮均与所述控制箱转动连接,驱动轮与所述驱动杆相配合连接,且所述驱动轮还与从动轮固定连接;
推拉杆,所述推拉杆与所述从动轮相配合连接,且所述推拉杆的一端与所述升降件相连接;
升降杆,所述升降杆的一端与所述推拉杆相连接,升降杆的另一端贯穿支撑板并且与所述支撑板滑动连接;以及
连通口,所述连通口开设于所述控制箱上,且所述连通口与所述升降杆相配合安装。
4.根据权利要求1-3任一项所述的核孔膜蚀刻装置,其特征在于,还包括:连接板,所述连接板的两端分别与所述蚀刻筒和清洗筒相连接,且所述连接板上固定安装有操控面板;
玻璃面,所述玻璃面位于所述清洗筒上;以及
中和箱,所述中和箱位于所述清洗筒上,且所述中和箱通过滴定管与所述清洗筒相连通。
5.根据权利要求4所述的核孔膜蚀刻装置,其特征在于,还包括:隔板,所述隔板与所述清洗筒的内侧壁相连接;
驱动件,所述驱动件位于所述清洗筒与隔板之间;
转动轴,所述转动轴贯穿隔板的一端与所述驱动件的输出端相连接,且所述转动轴上固定安装有搅拌叶;以及
导流板,所述导流板位于所述清洗筒的内侧壁上,并与所述滴定管相配合安装。
6.根据权利要求5所述的核孔膜蚀刻装置,其特征在于,还包括:伸缩件,所述伸缩件位于所述连接板上;
支撑架,所述支撑架与所述伸缩件的输出端相连接;
放置板,所述放置板的数量为两套,两套所述放置板分别与所述支撑架的两端相连接,且两套所述放置板还分别与所述蚀刻筒和清洗筒相配合安装;以及
敏感元件,所述敏感元件位于所述清洗筒内,且所述敏感元件分别与所述放置板和滴定管相配合安装。
7.根据权利要求6所述的核孔膜蚀刻装置,其特征在于,还包括:定位孔,所述定位孔开设于所述支撑架上;
伸缩筒,所述伸缩筒分别位于所述蚀刻筒和清洗筒上;以及
定位杆,所述定位杆的一端与所述伸缩筒滑动连接,定位杆的另一端与所述定位孔可拆卸连接。
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