CN114384719A - 显示装置 - Google Patents

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朴宰徹
吴根灿
金彰洙
金正起
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Abstract

根据实施例的显示装置可以包括：包括像素阵列的第一基板、联接到第一基板的第二基板以及在第一基板与第二基板之间的密封构件。第二基板可以包括：基底基板，包括与像素阵列重叠的显示区域以及在显示区域周围的***区域；第一补偿结构，在***区域中、在基底基板上、与密封构件至少部分地重叠并且包括有机材料；第二补偿结构，在***区域中、在基底基板上、与第一补偿结构间隔开、与密封构件至少部分地重叠并且包括与第一补偿结构的材料相同的材料；以及第一封盖层，覆盖第一补偿结构和第二补偿结构并且包括无机材料。

Description

显示装置
技术领域
本公开的实施例涉及一种显示装置。更具体地，本公开的实施例涉及包括通过密封构件彼此结合的上基板和下基板的显示装置。
背景技术
平板显示装置由于其相对轻和薄的特性，正在取代阴极射线管显示装置作为显示装置。作为这样的平板显示装置的代表性示例，存在液晶显示装置和有机发光二极管显示装置。
平板显示装置可以包括上基板和下基板。下基板可以是包括像素阵列的显示基板。上基板可以是包括颜色转换层的颜色转换基板。平板显示装置可以包括要显示图像的显示区域以及在显示区域周围(例如，围绕显示区域)的***区域。密封构件可以被布置在上基板与下基板之间的***区域中。上基板和下基板可以通过密封构件彼此结合。
发明内容
本公开的实施例的方面涉及具有提高的可靠性的显示装置。
本公开的附加方面和/或特征将在下面的描述中阐述，并且将部分地从描述中显而易见，或者可以通过本公开的实践而习得。
根据实施例的显示装置可以包括：包括像素阵列的第一基板、联接到第一基板(例如，与第一基板结合)的第二基板以及在第一基板与第二基板之间的密封构件。第二基板可以包括：基底基板，包括与像素阵列重叠的显示区域以及在显示区域周围(例如，围绕显示区域)的***区域；在***区域中、在基底基板上、与密封构件至少部分地重叠并且包括(例如，是)有机材料的第一补偿结构；在***区域中、在基底基板上、与第一补偿结构间隔开、与密封构件至少部分地重叠并且包括(例如，是)与第一补偿结构的材料相同的材料的第二补偿结构；以及覆盖第一补偿结构和第二补偿结构并且包括(例如，是)无机材料的第一封盖层。
在实施例中，密封构件的一部分可以在(例如，填充在或完全填充在)第一补偿结构与第二补偿结构之间的第一开口中。
在实施例中，密封构件可以与第一封盖层接触。
在实施例中，第一补偿结构可以在显示区域周围。第二补偿结构可以在第一补偿结构周围(例如，可以围绕第一补偿结构)。
在实施例中，第二补偿结构可以在宽度上小于第一补偿结构。
在实施例中，暴露第一补偿结构的一部分的通孔可以在第二补偿结构中。
在实施例中，第一封盖层可以覆盖第一补偿结构的面对第一基板的下表面，第二补偿结构的面对第一基板的下表面，第一补偿结构的外侧表面和第二补偿结构的内侧表面。
在实施例中，第二基板可以进一步包括在***区域中、在基底基板上、与第二补偿结构间隔开、与密封构件至少部分地重叠并且包括(例如，是)与第一补偿结构的材料相同的材料的第三补偿结构。密封构件的一部分可以在(例如，填充在或完全填充在)第二补偿结构与第三补偿结构之间的第二开口中。
在实施例中，第三补偿结构可以在第二补偿结构周围(例如，可以围绕第二补偿结构)。
在实施例中，第二基板可以进一步包括：在显示区域中、在基底基板上并且包括用于(被配置为)改变入射光的波长以发射具有与入射光的颜色不同的颜色的光的波长转换颗粒的颜色转换层；以及在显示区域中、在基底基板上并且在颜色转换层周围(例如，围绕颜色转换层)的隔墙。第一补偿结构可以包括(例如，是)与隔墙的材料相同的材料。
在实施例中，第二基板可以进一步包括：在***区域中、在基底基板与第一补偿结构之间、在基底基板与第二补偿结构之间并且包括(例如，是)有机材料的功能层；以及覆盖功能层并且包括(例如，是)无机材料的第二封盖层。功能层可以包括：在显示区域周围(例如，围绕显示区域)的第一功能层；以及与第一功能层间隔开并且在第一功能层周围(例如，围绕第一功能层)的第二功能层。
在实施例中，第一补偿结构和第二补偿结构可以接触第二封盖层。
在实施例中，在第一功能层与第二功能层之间的第三开口可以与第二补偿结构重叠。
在实施例中，第二封盖层可以覆盖第一功能层的面对第一基板的下表面，第二功能层的面对第一基板的下表面，第一功能层的外侧表面和第二功能层的内侧表面。
在实施例中，第二封盖层可以暴露第二功能层的外侧表面。
在实施例中，第二基板可以进一步包括在显示区域中并且在基底基板上滤色器层。功能层可以包括(例如，是)与滤色器层的材料相同的材料。
在实施例中，密封构件可以包括与第一补偿结构重叠的第一部分、与第二补偿结构重叠的第二部分以及与第一补偿结构和第二补偿结构之间的第一开口重叠的第三部分。第三部分可以在宽度上小于第一部分或第二部分。
在实施例中，密封构件可包括间隔物颗粒。
根据实施例的显示装置可以包括第一基板、与第一基板结合并且包括补偿结构的第二基板以及在第一基板与补偿结构之间的密封构件。开口可以形成在补偿结构中。因此，可以防止或减少异物渗透到补偿结构的内部。因此，可以提高第一基板与第二基板之间的粘合性，并且可以提高显示装置的可靠性。
应理解，前述概括描述和下面的具体描述两者是说明性的，并且旨在提供所要求保护的本公开的进一步说明。
附图说明
被包括以提供本公开的进一步理解并且被并入本说明书中且构成本说明书的一部分的附图图示了本公开的实施例，并且与描述一起用来解释本公开。
图1是图示根据实施例的显示装置的透视图。
图2是图示图1的显示装置的平面图。
图3是沿图2的线I-I'截取的截面图。
图4是沿图2的线II-II'截取的截面图的主要部分。
图5是图示图4的区域“A”的示例的放大图。
图6是图示在图4的显示装置中包括的补偿结构的示例的平面图。
图7是图示在图4的显示装置中包括的补偿结构的另一示例的平面图。
图8是图示图4的区域“A”的另一示例的放大图。
图9是图示图4的区域“A”的又一示例的放大图。
图10是图示在图4的显示装置中包括的补偿结构的又一示例的平面图。
图11至图16是图示根据实施例的制造显示装置的方法的截面图。
图17是图示根据另一实施例的显示装置的截面图。
图18是图示图17的区域“B”的放大图。
图19至图25是图示根据另一实施例的制造显示装置的方法的截面图。
图26是图示根据实施例的显示装置的截面图。
图27是图示根据另一实施例的显示装置的截面图。
具体实施方式
通过下面结合附图的详细描述，将更清楚地理解例示性的、非限制性的实施例。
如本文中使用的，当描述本公开的实施例时，术语“可以”的使用涉及“本公开的一个或多个实施例”。如本文中使用的，术语“和/或”包括关联列出的项目中的一个或多个的任意和所有组合。
本文中使用的术语仅是为了描述具体实施例的目的，并且不旨在限制本公开。如本文中使用的，单数形式“一”和“该”旨在也包括复数形式，除非上下文另外清楚地指示。如本文中使用的，术语“基本”、“大约”、“近似”和类似术语被用作近似术语而不是程度术语，并且旨在考虑本领域普通技术人员将公认的测量或计算的值的固有偏差。如本文中使用的，考虑讨论中的测量以及与具体量的测量相关联的误差(例如，测量***的限制)，“大约”或“近似”包括所陈述的值并且意味着在由本领域普通技术人员确定的具体值的可接受偏差范围内。例如，“大约”可以意味着在一个或多个标准偏差内，或者在所陈述的值的±30％、±20％、±10％、±5％内。
将理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”，“连接到”、“耦接(联接)到”或“邻近”另一元件或层时，该元件或层可以直接在另一元件或层上或者直接连接到、耦接(联接)到或邻近另一元件或层，或者可以存在一个或多个居间元件或层。相反，当元件或层被称为“直接”在另一元件或层“上”，“直接连接到”、“直接耦接(联接)到”或者“直接邻近”另一元件或层时，不存在居间元件或层。
图1是图示根据实施例的显示装置的透视图。图2是图示图1的显示装置的平面图。图3是沿图2的线I-I'截取的截面图。
参考图1至图3，根据实施例的显示装置10可以包括显示区域DA和***区域PA。图像可以在显示区域DA中显示。显示区域DA可以包括多个像素区域PXA。***区域PA可以在显示区域DA周围(例如，围绕显示区域DA)。
显示装置10可以包括第一基板100以及与第一基板100结合的第二基板200。例如，第一基板100可以是上基板，并且第二基板200可以是下基板。在一些实施例中，第一基板100和第二基板200可以彼此联接(例如，连接和/或附接)。
第一基板100可以是包括像素阵列的显示基板。像素阵列的每个像素可以包括响应于驱动信号而产生光的发光元件。
第二基板200可以是包括颜色转换层的颜色转换基板。颜色转换层可以被布置在显示区域DA中。颜色转换层可以转换由第一基板100的发光元件产生的光的波长。另外，第二基板200可以进一步包括透射具有设定或特定颜色的光(例如，具有设定或特定波长范围的光(例如，在设定或特定波长范围内的光))的滤色器层。
第一基板100和第二基板200可以通过密封构件300彼此结合。密封构件300可以被布置在第一基板100与第二基板200之间的***区域PA中。例如，密封构件300可以被布置在第一基板100与第二基板200之间，以在显示区域DA周围(例如，围绕显示区域DA)。例如，密封构件300可以在平面图中具有中空的矩形形状(例如，矩形框架形状)。例如，密封构件300可以在平面图中具有在显示区域DA周围(例如，围绕显示区域DA)延伸的线形状。例如，密封构件300可以接触第一基板100的上表面和第二基板200的下表面，并且可以将第一基板100和第二基板200彼此结合。在一些实施例中，密封构件300可以将第一基板100和第二基板200联接(例如，连接或附接)在一起。
盒间隙(cell gap)GP可以形成在第一基板100与第二基板200之间。例如，盒间隙GP可以通过布置在第一基板100与第二基板200之间的密封构件300保持。例如，盒间隙GP可以通过第一基板100、第二基板200和密封构件300封装(例如，在所有侧上封装或围绕)。
图4是沿图2的线II-II'截取的截面图的主要部分。
参考图4，在实施例中，第二基板200(参见图3)可以包括第一基底基板210、滤色器层、遮光层223、功能层230、第一封盖层240、颜色转换层、透射层256、隔墙260、补偿结构270和第二封盖层280。例如，滤色器层、遮光层223、颜色转换层、透射层256和隔墙260可以被布置在第一基底基板210上的显示区域DA(参见图3)中。功能层230和补偿结构270可以被布置在第一基底基板210上的***区域PA中。在下文中，将参考图4描述显示区域DA以及在第二基板200的显示区域DA中包括的像素区域PXA。
请注意，图4仅示出了***区域PA和显示区域DA中的像素区域PXA。
第一基底基板210可以包括显示区域DA和***区域PA。显示区域DA可以与在第一基板100中包括的像素阵列重叠。显示区域DA可以包括像素区域PXA。***区域PA可以在显示区域DA周围(例如，围绕显示区域DA)。
在显示区域DA中包括的像素区域PXA中的每个像素区域PXA可以包括至少一个发光区域和遮光区域BA。由第一基板100的发光元件产生的光可以通过发光区域被发射到外部。例如，发光区域可以包括第一发光区域LA1、第二发光区域LA2和第三发光区域LA3。具有不同颜色的透射光可以分别从第一至第三发光区域LA1、LA2和LA3被发射。遮光区域BA可以在发光区域周围(例如，围绕发光区域)。
当从第一基板100发射的入射光L1入射到第二基板200中时，具有不同颜色的第一至第三透射光L2B、L2R和L2G可以分别从第一至第三发光区域LA1、LA2和LA3被发射。例如，入射光L1可以是蓝光。从第一发光区域LA1发射的第一透射光L2B可以是蓝光。从第二发光区域LA2发射的第二透射光L2R可以是红光。从第三发光区域LA3发射的第三透射光L2G可以是绿光。
滤色器层可以被布置在第一基底基板210上的显示区域DA中。滤色器层可以包括第一至第三滤色器层222、224和226。例如，第一滤色器层222可以与第一发光区域LA1重叠，并且可以透射蓝光。第二滤色器层224可以与第二发光区域LA2重叠，并且可以透射红光。第三滤色器层226可以与第三发光区域LA3重叠，并且可以透射绿光。
遮光层223可以被布置在第一基底基板210上的显示区域DA中。遮光层223可以与遮光区域BA重叠。在实施例中，遮光层223可以包括(例如，是)与第一滤色器层222的材料基本相同的材料。例如，遮光层223可以与第一滤色器层222位于基本相同的层中。例如，第一滤色器层222和遮光层223可以利用(例如，使用)相同的材料基本同时(或并发地)形成。遮光层223可以被完全布置在遮光区域BA中(例如，被布置在整个遮光区域BA中和/或仅被布置在遮光区域BA中)。遮光层223可以防止或减少彼此邻近的发光区域的颜色混合。
第一封盖层240可以被完全布置在第一基底基板210上的显示区域DA和***区域PA中(例如，被布置在整个显示区域DA和***区域PA中和/或仅被布置在显示区域DA和***区域PA中)。例如，第一封盖层240的布置在显示区域DA中的一部分可以覆盖第一至第三滤色器层222、224和226以及遮光层223。第一封盖层240的布置在***区域PA中的另一部分可以覆盖功能层230。
第一封盖层240可以包括(例如，是)诸如氧化硅和/或氮化硅等的无机材料。例如，第一封盖层240可以被布置成沿第一至第三滤色器层222、224和226、遮光层223以及功能层230的轮廓具有基本相同的厚度。
颜色转换层可以被布置在第一基底基板210上的显示区域DA中。颜色转换层可以改变入射光L1的波长以发射具有与入射光L1的颜色不同的颜色的透射光。在实施例中，颜色转换层可以包括第一颜色转换层252和第二颜色转换层254。
第一颜色转换层252可以与第二发光区域LA2重叠。第一颜色转换层252可以包括波长转换颗粒252a和树脂部分252b。
在实施例中，波长转换颗粒252a中的每个波长转换颗粒252a可以包括量子点。量子点可以包括(例如，是或被限定为)纳米晶体半导体材料。量子点可以吸收入射光并发射具有与入射光的波长不同的波长的光。例如，量子点可以具有等于或小于大约100nm的直径。在实施例中，量子点可以具有大约1nm至大约20nm的直径(例如，平均颗粒尺寸)。平均颗粒尺寸可以指例如利用激光衍射颗粒直径分布仪测量的中值尺寸(D50)。例如，波长转换颗粒252a中的每个波长转换颗粒252a可以包括用于吸收蓝光并且发射红光的量子点。
波长转换颗粒252a可以被布置在树脂部分252b中。例如，树脂部分252b可以包括(例如，是)环氧树脂、丙烯酸树脂、酚醛树脂、三聚氰胺树脂、cardo树脂、酰亚胺树脂等。
在实施例中，第一颜色转换层252可以进一步包括散射颗粒252c。散射颗粒252c可以散射入射光L1，而基本不改变入射光L1的波长。因此，可以增加在第一颜色转换层252中行进(例如，行进通过第一颜色转换层252)的光的路径。例如，散射颗粒252c可以包括(例如，是)金属氧化物和/或有机材料。
第一颜色转换层252可以改变入射光L1(例如，蓝色入射光)的波长，以发射第二透射光L2R(例如，红色透射光)。蓝色入射光L1的在第一颜色转换层252中没有改变颜色的剩余部分可以被第二滤色器层224阻挡。因此，第二发光区域LA2可以选择性地发射红色透射光L2R。
第二颜色转换层254可以与第三发光区域LA3重叠。第二颜色转换层254可以包括波长转换颗粒254a、树脂部分254b和散射颗粒254c。树脂部分254b可以包括(例如，是)与第一颜色转换层252的树脂部分252b的材料基本相同的材料。散射颗粒254c可以包括(例如，是)与第一颜色转换层252的散射颗粒252c的材料基本相同的材料。
在实施例中，波长转换颗粒254a中的每个波长转换颗粒254a可以包括用于吸收蓝光并且发射绿光的量子点。第二颜色转换层254可以改变入射光L1(例如，蓝色入射光)的波长，以发射第三透射光L2G(例如，绿色透射光)。蓝色入射光L1的在第二颜色转换层254中没有改变颜色的剩余部分可以被第三滤色器层226阻挡。因此，第三发光区域LA3可以选择性地发射绿色透射光L2G。
透射层256可以与第一发光区域LA1重叠。在一些实施例中，透射层256不转换入射光L1，并且可以发射与入射光L1基本相同(例如，具有与入射光L1的波长基本相同的波长)的第一透射光L2B。例如，透射层256可以吸收蓝光并且发射蓝光。透射层256可以包括树脂部分256b和散射颗粒256c。树脂部分256b可以包括(例如，是)与第一颜色转换层252的树脂部分252b的材料基本相同的材料。散射颗粒256c可以包括(例如，是)与第一颜色转换层252的散射颗粒252c的材料基本相同的材料。
隔墙260可以被布置在第一基底基板210上的显示区域DA中。隔墙260可以在第一颜色转换层252、第二颜色转换层254和透射层256的侧表面周围(例如，围绕第一颜色转换层252、第二颜色转换层254和透射层256的侧表面)。在一些实施例中，隔墙260可以具有与第一颜色转换层252、第二颜色转换层254和透射层256分别对应的开口。第一颜色转换层252、第二颜色转换层254和透射层256中的每个可以在隔墙260的对应开口中。隔墙260可以形成用于接收用于形成第一颜色转换层252、第二颜色转换层254和透射层256的墨水成分的空间(例如，开口)。因此，隔墙260可以在平面图中具有网格形状或矩阵形状。
例如，隔墙260可以包括(例如，是)诸如光刻胶、环氧树脂、酚醛树脂、丙烯酸树脂和/或硅树脂等的有机材料。隔墙260可以进一步包括(例如，是)遮光材料。例如，隔墙260的至少一部分可以包括(例如，是)诸如颜料、染料和/或炭黑等的遮光材料。隔墙260可以与遮光区域BA完全重叠(例如，与整个遮光区域BA重叠和/或仅与遮光区域BA重叠)。
第二封盖层280可以被完全布置在第一基底基板210上的显示区域DA和***区域PA中(例如，被布置在整个显示区域DA和***区域PA中和/或仅被布置在显示区域DA和***区域PA中)。例如，第二封盖层280的布置在显示区域DA中的一部分可以覆盖第一颜色转换层252和第二颜色转换层254、透射层256以及隔墙260。第二封盖层280的布置在***区域PA中的另一部分可以覆盖补偿结构270。在一些实施例中，第二封盖层280的布置在***区域PA中的另一部分可以进一步覆盖第一封盖层240的至少一部分(例如，第一封盖层240的由第一开口OP1暴露的部分)。
第二封盖层280可以包括(例如，是)诸如氧化硅和/或氮化硅等的无机材料。例如，第二封盖层280可以被布置成沿第一颜色转换层252和第二颜色转换层254、透射层256、隔墙260以及补偿结构270的轮廓具有基本相同的厚度。
填充构件320可以被布置在第一基板100与第二基板200之间。填充构件320可以包括(例如，是)诸如硅树脂和/或环氧树脂等的有机材料。另外，填充构件320可以包括(例如，是)用于匹配折射率的适当的和/或合适的材料。例如，填充构件320的折射率可以匹配第一基板100的折射率和/或第二封盖层280的折射率(例如，与第一基板100的折射率和/或第二封盖层280的折射率基本相同)。
图5是图示图4的区域“A”的示例的放大图。图6是图示在图4的显示装置中包括的补偿结构的示例的平面图。
在下文中，将参考图4至图6描述第二基板200的***区域PA。
参考图4至图6，功能层230可以被布置在第一基底基板210上的***区域PA中。功能层230可以包括(例如，是)有机材料。例如，功能层230可以包括(例如，是)具有低反射率的材料，并且可以防止或减少从外部入射到第一基底基板210中(例如，入射到功能层230的面对第一基底基板210的表面上)的外部光的反射。在一些实施例中，功能层230可以包括(例如，是)与滤色器层的材料基本相同的材料。在一些实施例中，功能层230可以包括(例如，是)与一个或多个(例如，两个)滤色器层(例如，第一滤色器层222和第二滤色器层224)的材料基本相同的材料。此外，功能层230可以与补偿结构270一起补偿第一基板100与第一基底基板210之间的台阶差。这将在稍后更详细地描述。可选地，功能层230可以被省略。
功能层230可以具有单层或多层结构。例如，如图4中图示的，功能层230可以包括上功能层232和下功能层234。上功能层232可以包括(例如，是)与第一滤色器层222的材料基本相同的材料。下功能层234可以包括(例如，是)与第二滤色器层224的材料基本相同的材料。然而，实施例不限于此，并且功能层230可以具有单层结构或者三层或更多层的多层结构。例如，功能层230可以进一步包括具有比第一基底基板210的折射率小的折射率的低折射率层。在一些实施例中，低折射率层可以是功能层230的直接接触第一基底基板210的最上层。
第一封盖层240的布置在***区域PA中的一部分可以覆盖功能层230。例如，第一封盖层240可以被布置成沿功能层230的轮廓具有基本相同的厚度。第一封盖层240可以防止或减少诸如氧气和/或水分等的异物渗透到功能层230中。
补偿结构270可以被布置在第一基底基板210上的***区域PA中。例如，补偿结构270可以被布置在功能层230和第一封盖层240之下。例如，功能层230可以被布置在第一基底基板210与补偿结构270之间。例如，补偿结构270的上表面可以直接接触第一封盖层240的下表面。
密封构件300可以与补偿结构270重叠(例如，在平面图中重叠)。补偿结构270可以补偿第一基板100与第一基底基板210之间的台阶差。在一些实施例中，在第一基底基板210上，第一颜色转换层252和第二颜色转换层254、透射层256以及隔墙260可以仅被布置在显示区域DA中，并且不被布置在***区域PA中。因此，台阶差可能出现在第一基板100与第一基底基板210之间的显示区域DA与***区域PA之间。补偿结构270可以补偿台阶差，使得布置在第一基板100与第二基板200之间的***区域PA中的密封构件300的厚度(例如，在上和下方向上的厚度)和宽度(例如，在左和右方向上的宽度)可以减小。在一些实施例中，密封构件300的宽度可以指沿平面图中的水平方向的宽度，该水平方向与密封构件300的延伸方向(例如，主延伸方向)正交(例如，垂直)。因此，可以减小显示装置10的***区域PA的宽度。
补偿结构270可以包括(例如，是)有机材料。例如，补偿结构270可以包括(例如，是)与隔墙260的材料基本相同的材料。例如，补偿结构270可以包括(例如，是)诸如光刻胶、环氧树脂、酚醛树脂、丙烯酸树脂和/或硅树脂等的有机材料。补偿结构270可以进一步包括(例如，是)遮光材料。
补偿结构270可以包括第一补偿结构271以及与第一补偿结构271间隔开(例如，在平面图中与第一补偿结构271间隔开)的第二补偿结构272。第一开口OP1可以形成在第一补偿结构271与第二补偿结构272之间。第二补偿结构272可以包括(例如，是)与第一补偿结构271的材料基本相同的材料。
第一补偿结构271的至少一部分、第二补偿结构272的至少一部分和第一开口OP1可以与密封构件300重叠。例如，密封构件300可以连续地与第一补偿结构271、第一开口OP1和第二补偿结构272重叠。例如，如图4中图示的，密封构件300的一部分可以填充在(例如，完全填充在)第一开口OP1中。例如，密封构件300的突出部分可以(例如，在截面图中)在第一补偿结构271与第二补偿结构272之间突出。例如，密封构件300的突出部分可以从密封构件300的上表面(例如，密封构件300的面对第一基底基板210的表面)向上突出，以在第一补偿结构271与第二补偿结构272之间。
例如，如图6中图示的，第一补偿结构271可以被布置在第一基底基板210上的***区域PA中。第一补偿结构271可以在显示区域DA周围(例如，围绕显示区域DA)。例如，第一补偿结构271可以在平面图中具有中空的矩形形状(例如，矩形框架形状)。例如，第一补偿结构271可以在平面图中具有在显示区域DA周围(例如，围绕显示区域DA)延伸的线形状。
第二补偿结构272可以被布置在第一基底基板210上的***区域PA中。第二补偿结构272可以与第一补偿结构271间隔开(例如，在平面图中与第一补偿结构271间隔开)，并且可以在平面图中在第一补偿结构271周围(例如，围绕第一补偿结构271)。例如，第二补偿结构272可以在平面图中具有中空的矩形形状(例如，矩形框架形状)。在一些实施例中，第二补偿结构272的宽度(例如，在左和右方向上的宽度)可以小于第一补偿结构271的宽度。在一些实施例中，第一补偿结构271和第二补偿结构272的宽度可以指沿平面图中的水平方向的宽度，该水平方向分别与第一补偿结构271和第二补偿结构272的延伸方向(例如，主延伸方向)正交(例如，垂直)。在一些实施例中，第二补偿结构272可以在平面图中具有在第一补偿结构271周围(例如，围绕第一补偿结构271)延伸的线形状。
第一开口OP1可以形成在第一补偿结构271与第二补偿结构272之间。第一开口OP1可以位于***区域PA中。第一开口OP1可以与显示区域DA间隔开(例如，在平面图中与显示区域DA间隔开)，并且可以在平面图中在显示区域DA周围(例如，围绕显示区域DA)。例如，第一开口OP1可以在平面图中具有中空的矩形形状(例如，矩形框架形状)。在一些实施例中，第一开口OP1可以在平面图中在第一补偿结构271与第二补偿结构272之间。例如，第一开口OP1可以在平面图中具有在第一补偿结构271周围(例如，围绕第一补偿结构271)延伸的线形状，并且第二补偿结构272可以在平面图中具有在第一开口OP1周围(例如，围绕第一开口OP1)延伸的线形状。
第二封盖层280的布置在***区域PA中的一部分可以覆盖补偿结构270。例如，第二封盖层280可以连续地覆盖第一补偿结构271和第二补偿结构272。例如，第二封盖层280可以被布置成沿第一补偿结构271和第二补偿结构272的轮廓具有基本相同的厚度。
例如，如图5中图示的，第二封盖层280可以覆盖第一补偿结构271的面对第一基板100的下表面271a、第二补偿结构272的面对第一基板100的下表面272a以及第一封盖层240的与第一开口OP1重叠(例如，由第一开口OP1暴露)的下表面。第二封盖层280可以进一步覆盖第一补偿结构271的与第二补偿结构272邻近的外侧表面271b(例如，在平面图中，第一补偿结构271的背离显示区域DA的侧表面)。第二封盖层280可以进一步覆盖第二补偿结构272的与第一补偿结构271邻近的内侧表面272c(例如，在平面图中，第二补偿结构272的面对显示区域DA的侧表面)和第二补偿结构272的与内侧表面272c相对的外侧表面272b(例如，在平面图中，第二补偿结构272的背离显示区域DA的侧表面)。例如，第二封盖层280可以覆盖形成第一开口OP1的补偿结构270的侧表面。第二封盖层280可以防止或减少诸如氧气和/或水分等异物从外部渗透到第一补偿结构271和第二补偿结构272中。
如以上描述的，密封构件300可以与第一补偿结构271的至少一部分、第二补偿结构272的至少一部分和第一开口OP1重叠。例如，如图5中图示的，密封构件300可以包括与第一补偿结构271重叠的第一部分301、与第二补偿结构272重叠的第二部分302以及与第一开口OP1重叠的第三部分303。例如，第三部分303的宽度(例如，在左和右方向上的宽度)可以小于第一部分301的宽度或第二部分302的宽度。在一些实施例中，第一部分301的宽度、第二部分302的宽度和第三部分303的宽度可以指沿平面图中的水平方向的宽度，该水平方向分别与第一部分301、第二部分302和第三部分303的延伸方向(例如，主延伸方向)正交(例如，垂直)。
在实施例中，密封构件300可以直接接触第二封盖层280的下表面和第一基板100的上表面。例如，密封构件300可以包括(例如，是)玻璃料。再比如，密封构件300可以包括(例如，是)可光固化的材料。可选地，密封构件300可以进一步包括(例如，是)用于防止或阻止水分渗透的材料。
在一些实施例中，第二封盖层280可以暴露第一补偿结构271的侧表面的一部分和/或第二补偿结构272的侧表面的一部分。例如，越靠近第一基底基板210，第一补偿结构271的外侧表面271b、第二补偿结构272的外侧表面272b和/或第二补偿结构272的内侧表面272c可能不被第二封盖层280充分覆盖。例如，与图5中图示的示例不同，第二封盖层280可能暴露第一补偿结构271和第二补偿结构272的与第一基底基板210邻近的部分A1、A2和A3。例如，第二封盖层280可能暴露第一补偿结构271的外侧表面271b的一部分、第二补偿结构272的外侧表面272b的一部分和/或第二补偿结构272的内侧表面272c的与补偿结构270正上方的层(例如，第一封盖层240)接触的部分。在此情况下，诸如水分的异物可能通过被暴露的部分A1、A2和A3从外部渗透到第一补偿结构271的内部和/或第二补偿结构272的内部。
在相关技术显示装置(相关技术的显示装置)中，开口(例如，与第一开口OP1相当的开口)不形成在补偿结构中。因此，当补偿结构的外侧表面的一部分被暴露时，诸如水分的异物可能从外部渗透到补偿结构的内部。因此，封盖层(例如，与第二封盖层280相当的封盖层)和/或密封构件可能从补偿结构完全剥离(例如，从整个补偿结构剥离)。因此，可能减少上基板与下基板之间的粘合性。
然而，如图5中图示的，根据实施例的显示装置10可以包括第一补偿结构271以及与第一补偿结构271间隔开的第二补偿结构272。第一开口OP1可以形成在第一补偿结构271与第二补偿结构272之间。因此，即使第二补偿结构272的部分A1被第二封盖层280暴露，并且诸如水分的异物从外部渗透到第二补偿结构272的内部，异物也不会直接渗透到第一补偿结构271的内部。例如，为了使异物渗透到第一补偿结构271的内部，异物必须进一步穿过第二补偿结构272的与被暴露的部分A1相对的被暴露的部分A2、用密封构件300的一部分填充(例如，完全填充)的第一开口OP1以及第一补偿结构271的被暴露的部分A3。另外，如以上描述的，第一补偿结构271的宽度可以大于第二补偿结构272的宽度。因此，可以防止或减少异物渗透到具有相对大宽度的第一补偿结构271的内部。因此，能够防止或减少第二封盖层280和/或密封构件300从具有相对大宽度的第一补偿结构271剥离。因此，可以提高第一基板100与第二基板200之间的粘合性，并且可以提高显示装置10的可靠性。
图7是图示在图4的显示装置中包括的补偿结构的另一示例的平面图。
参考图7，在实施例中，至少一个通孔TH可以形成在第二补偿结构272中。例如，通孔TH可以被形成为沿与第二补偿结构272延伸的方向正交(例如，垂直)的方向贯穿第二补偿结构272。例如，通孔TH可以在第二补偿结构272中提供延伸穿过第二补偿结构272的宽度的通道。通孔TH可以暴露第一补偿结构271的一部分。通孔TH可以联接(例如，连接)第一开口OP1和第二补偿结构272的外部。在一些实施例中，在布置密封构件300以与第一补偿结构271、第二补偿结构272和第一开口OP1重叠的工艺中，诸如空气和/或水分的异物可能位于第一开口OP1中。例如，当密封构件300沿***区域PA扩散时，诸如空气的异物可能残留在第一开口OP1中。通孔TH可以将残留在第一开口OP1中的异物排出到第二补偿结构272的外部。在实施例中，通孔TH可以根据需要被提供为多个。
图8是图示图4的区域“A”的另一示例的放大图。
参考图4、图5和图8，在实施例中，密封构件300可以包括间隔物颗粒310。例如，间隔物颗粒310中的每个间隔物颗粒310可以包括(例如，是)诸如氧化硅和/或氮化硅等的无机材料。间隔物颗粒310中的每个间隔物颗粒310的尺寸(例如，宽度、直径和/或体积)或平均尺寸可以基于要形成的盒间隙GP的尺寸而变化。如以上描述的，密封构件300的第三部分303的宽度可以小于第一部分301的宽度或第二部分302的宽度。因此，可以充分保持第一基板100与第二基板200之间的盒间隙GP。
图9是图示图4的区域“A”的又一示例的放大图。图10是图示在图4的显示装置中包括的补偿结构的又一示例的平面图。例如，图10可以是图9的补偿结构270的平面图。
参考图9和图10，在实施例中，补偿结构270可以进一步包括与第一补偿结构271和第二补偿结构272间隔开的第三补偿结构273。
第三补偿结构273可以被布置在第一基底基板210上的***区域PA中。第三补偿结构273可以与第二补偿结构272间隔开，并且可以在平面图中在第二补偿结构272周围(例如，围绕第二补偿结构272)。例如，第三补偿结构273可以在平面图中具有中空的矩形形状(例如，矩形框架形状)。例如，第三补偿结构273可以在平面图中具有在第二补偿结构272周围(例如，围绕第二补偿结构272)延伸的线形状。例如，第三补偿结构273的宽度(例如，在左和右方向上的宽度)可以小于第一补偿结构271的宽度。在一些实施例中，第三补偿结构273的宽度可以指沿平面图中的水平方向的宽度，该水平方向与第三补偿结构273的延伸方向(例如，主延伸方向)正交(例如，垂直)。
第二开口OP2可以形成在第二补偿结构272与第三补偿结构273之间。第二开口OP2可以与第一开口OP1间隔开(例如，在平面图中与第一开口OP1间隔开)，并且可以在平面图中在第一开口OP1周围(例如，围绕第一开口OP1)。例如，第二开口OP2可以在平面图中具有中空的矩形形状(例如，矩形框架形状)。例如，第二开口OP2可以具有在第二补偿结构272周围(例如，围绕第二补偿结构272)延伸的线形状。当进一步包括与第二补偿结构272间隔开的第三补偿结构273(进一步形成第二开口OP2)时，可以进一步减少从外部渗透到第一补偿结构271的内部的异物。
第三补偿结构273的至少一部分和第二开口OP2可以与密封构件300重叠。例如，密封构件300可以连续地与第一补偿结构271、第一开口OP1、第二补偿结构272、第二开口OP2和第三补偿结构273重叠。例如，密封构件300的部分可以分别填充在(例如，完全填充在)第一开口OP1和第二开口OP2中。例如，密封构件300的突出部分可以在第二开口OP2中在第二补偿结构272与第三补偿结构273之间延伸。第三补偿结构273可以包括(例如，是)与第一补偿结构271和第二补偿结构272的材料基本相同的材料。
图11至图16是图示根据实施例的制造显示装置的方法的截面图。例如，图11至图16可以图示制造根据参考图4至图6描述的实施例的显示装置10的方法。因此，可以不提供重复的描述。
参考图11，第一滤色器层222、遮光层223和上功能层232可以形成在第一基底基板210上。第一滤色器层222可以形成在第一基底基板210上的显示区域DA(参见图3)中。更具体地，第一滤色器层222可以被形成为与在每个像素区域PXA中包括的第一发光区域LA1重叠。例如，第一滤色器层222可以由包括(例如，是)蓝色颜料的有机聚合物材料形成。
遮光层223可以形成在第一基底基板210上的显示区域DA中。更具体地，遮光层223可以被形成为与在每个像素区域PXA中包括的遮光区域BA重叠。例如，遮光层223可以由包括(例如，是)蓝色颜料的有机聚合物材料形成。
上功能层232可以形成在第一基底基板210上的***区域PA中。例如，上功能层232可以由包括(例如，是)蓝色颜料的有机聚合物材料形成。
在实施例中，第一滤色器层222、遮光层223和上功能层232可以基本同时(或并发地)形成。例如，有机层可以由包括(例如，是)蓝色颜料的有机聚合物材料形成，并且有机层可以通过光刻等被图案化，以基本同时(或并发地)形成第一滤色器层222、遮光层223和上功能层232。
参考图12，第二滤色器层224和下功能层234可以形成在第一基底基板210上。第二滤色器层224可以形成在第一基底基板210上的显示区域DA中。更具体地，第二滤色器层224可以被形成为与在每个像素区域PXA中包括的第二发光区域LA2重叠。例如，第二滤色器层224可以由包括(例如，是)红色颜料的有机聚合物材料形成。
下功能层234可以形成在第一基底基板210上的***区域PA中。例如，下功能层234可以由包括(例如，是)红色颜料的有机聚合物材料形成。
在实施例中，第二滤色器层224和下功能层234可以基本同时(或并发地)形成。例如，有机层可以由包括(例如，是)红色颜料的有机聚合物材料形成，并且有机层可以通过光刻等被图案化，以基本同时(或并发地)形成第二滤色器层224和下功能层234。
随后，第三滤色器层226可以形成在第一基底基板210上，但是本公开不限于此。例如，第三滤色器层226可以在形成第二滤色器层224和下功能层234之前形成。第三滤色器层226可以形成在第一基底基板210上的显示区域DA中。更具体地，第三滤色器层226可以被形成为与在每个像素区域PXA中包括的第三发光区域LA3重叠。例如，第三滤色器层226可以由包括(例如，是)绿色颜料的有机聚合物材料形成。另外，在一些实施例中，包括(例如，是)与第三滤色器层226的材料基本相同的材料的功能层可以进一步形成在第一基底基板210上的***区域PA中。
参考图13，第一封盖层240可以形成在第一基底基板210上。在第一基底基板210上，第一封盖层240可以完全形成在显示区域DA和***区域PA中(例如，形成在整个显示区域DA和***区域PA中和/或仅形成在显示区域DA和***区域PA中)。
第一封盖层240可以包括(例如，是)诸如氧化硅和/或氮化硅等的无机材料。第一封盖层240可以覆盖第一至第三滤色器层222、224、226、遮光层223和功能层230。例如，第一封盖层240可以被形成为沿第一至第三滤色器层222、224、226、遮光层223以及功能层230的轮廓具有基本相同的厚度。
参考图14，隔墙260、第一补偿结构271和第二补偿结构272可以形成在第一基底基板210上。隔墙260可以形成在第一基底基板210上的显示区域DA中。更具体地，隔墙260可以形成在第一基底基板210上，以与在每个像素区域PXA中包括的遮光区域BA完全重叠(例如，与整个在每个像素区域PXA中包括的遮光区域BA重叠和/或仅与在每个像素区域PXA中包括的遮光区域BA重叠)。例如，隔墙260可以由包括(例如，是)黑色颜料的有机聚合物材料形成。
隔墙260可以被形成为暴露每个像素区域PXA中的第一至第三发光区域LA1、LA2和LA3中的每个。例如，分别与第一至第三发光区域LA1、LA2和LA3中的每个重叠的第四至第六开口OP4、OP5和OP6可以形成在隔墙260中。
第一补偿结构271和第二补偿结构272可以形成在第一基底基板210上的***区域PA中。例如，第一补偿结构271可以被形成为在平面图中在显示区域DA周围(例如，围绕显示区域DA)。第二补偿结构272可以被形成为与第一补偿结构271间隔开并且在平面图中在第一补偿结构271周围(例如，围绕第一补偿结构271)。因此，第一开口OP1可以形成在第一补偿结构271与第二补偿结构272之间。第一补偿结构271和第二补偿结构272中的每个可以被形成为具有基本平坦的上表面(例如，如图14中所示的第一补偿结构271和第二补偿结构272中的每个的上表面，例如，背离第一基底基板210的表面)。例如，第一补偿结构271和第二补偿结构272可以由包括(例如，是)黑色颜料的有机聚合物材料形成。
在实施例中，隔墙260、第一补偿结构271和第二补偿结构272可以基本同时(或并发地)形成。例如，有机层可以由包括(例如，是)黑色颜料的有机聚合物材料形成，并且有机层可以通过光刻等被图案化，以基本同时(或并发地)形成隔墙260、第一补偿结构271和第二补偿结构272。
随后，第一颜色转换层252、第二颜色转换层254和透射层256可以形成在第一基底基板210上。第一颜色转换层252、第二颜色转换层254和透射层256可以形成在第一基底基板210上的显示区域DA中。更具体地，第一颜色转换层252可以被形成为与每个像素区域PXA中的第二发光区域LA2重叠，第二颜色转换层254可以被形成为与每个像素区域PXA中的第三发光区域LA3重叠，并且透射层256可以被形成为与每个像素区域PXA中的第一发光区域LA1重叠。
在实施例中，第一颜色转换层252、第二颜色转换层254和透射层256可以通过喷墨工艺形成。例如，包括(例如，是)对应的成分(例如，对应的波长转换颗粒)的墨水可以被提供在形成在显示区域DA中的第四至第六开口OP4、OP5和OP6中。可以利用(例如，使用)喷墨打印设备来提供墨水。喷墨打印设备可以包括包含多个喷嘴410的头。喷墨打印设备可以通过多个喷嘴410将墨水提供到第四至第六开口OP4、OP5和OP6内部。因此，第四至第六开口OP4、OP5和OP6可以用对应的成分来填充。第四至第六开口OP4、OP5和OP6中的成分可以被固化以形成第一颜色转换层252、第二颜色转换层254和透射层256。例如，成分可以被热和/或光固化。
参考图15，第二封盖层280可以形成在第一基底基板210上。在第一基底基板210上，第二封盖层280可以完全形成在显示区域DA和***区域PA中(例如，形成在整个显示区域DA和***区域PA中和/或仅形成在显示区域DA和***区域PA中)。
第二封盖层280可以包括(例如，是)诸如氧化硅和/或氮化硅等的无机材料。第二封盖层280可以覆盖第一颜色转换层252和第二颜色转换层254、透射层256、隔墙260、第一补偿结构271和第二补偿结构272。例如，第二封盖层280可以被形成为沿第一颜色转换层252和第二颜色转换层254、透射层256、隔墙260、第一补偿结构271和第二补偿结构272的轮廓具有基本相同的厚度。在一些实施例中，第二封盖层280可以进一步形成在第一开口OP1中，例如，在由第一开口OP1暴露的第一封盖层240的表面上以及在形成第一开口OP1的补偿结构270的侧表面的部分或全部上。
参考图16，第一基板100和第二基板200可以通过密封构件300彼此结合。密封构件300可以被布置在第一基板100与第二基板200之间的***区域PA中。例如，密封构件300可以与第一补偿结构271的至少一部分、第二补偿结构272的至少一部分和第一开口OP1重叠。密封构件300的一部分可以填充在第一开口OP1中。
填充构件320可以被布置在第一基板100与第二基板200之间。填充构件320可以包括(例如，是)诸如硅树脂和/或环氧树脂等的有机材料。另外，填充构件320可以包括(例如，是)用于匹配折射率的适当的和/或合适的材料。例如，填充构件320的折射率可以匹配第一基板100的折射率和/或第二封盖层280的折射率(例如，与第一基板100的折射率和/或第二封盖层280的折射率基本相同)。
图17是图示根据另一实施例的显示装置的截面图。图18是图示图17的区域“B”的放大图。
参考图17和图18，根据另一实施例的显示装置11可以包括第一基板100、第二基板2000和密封构件300。第二基板2000可以包括第一基底基板210、第一至第三滤色器层222、224和226、遮光层223、功能层2300、第一封盖层240、第一颜色转换层252和第二颜色转换层254、透射层256、隔墙260、补偿结构270和第二封盖层280。根据另一实施例的显示装置11可以与根据参考图4至图6描述的实施例的显示装置10基本相同或相似，除了功能层2300之外。因此，可以不提供重复的描述。
功能层2300可以被布置在第一基底基板210上的***区域PA中。功能层2300可以包括(例如，是)有机材料，并且可以防止或减少从外部入射到第一基底基板210中的外部光的反射。
功能层2300可以具有单层或多层结构。例如，功能层2300可以包括上功能层2320和下功能层2340。上功能层2320可以包括(例如，是)与第一滤色器层222的材料基本相同的材料。下功能层2340可以包括(例如，是)与第二滤色器层224的材料基本相同的材料。然而，实施例不限于此，并且功能层2300可以具有单层结构或者三层或更多层的多层结构。
上功能层2320可以包括第一上功能层2321以及与第一上功能层2321间隔开(例如，在平面图中与第一上功能层2321间隔开)的第二上功能层2322。第三开口OP3可以形成在第一上功能层2321与第二上功能层2322之间。第一上功能层2321可以被布置在第一基底基板210上的***区域PA中。第一上功能层2321可以在显示区域DA(参见图3)周围(例如，围绕显示区域DA)。例如，第一上功能层2321可以在平面图中具有中空的矩形形状(例如，矩形框架形状)。例如，第一上功能层2321可以具有在显示区域DA周围(例如，围绕显示区域DA)延伸的线形状。
第二上功能层2322可以被布置在第一基底基板210上的***区域PA中。第二上功能层2322可以与第一上功能层2321间隔开，并且可以在平面图中在第一上功能层2321周围(例如，围绕第一上功能层2321)。例如，第二上功能层2322可以在平面图中具有中空的矩形形状(例如，矩形框架形状)。例如，第二上功能层2322可以具有在第一上功能层2321周围(例如，围绕第一上功能层2321)延伸的线形状。例如，第二上功能层2322的宽度(例如，在左和右方向上的宽度)可以小于第一上功能层2321的宽度。在一些实施例中，第一上功能层2321和第二上功能层2322的宽度可以指沿平面图中的水平方向的宽度，该水平方向分别与第一上功能层2321和第二上功能层2322的延伸方向(例如，主延伸方向)正交(例如，垂直)。
第三开口OP3可以形成在第一上功能层2321与第二上功能层2322之间。第三开口OP3可以位于***区域PA中。第三开口OP3可以与显示区域DA间隔开，并且可以在平面图中在显示区域DA周围(例如，围绕显示区域DA)。例如，第三开口OP3可以在平面图中具有中空的矩形形状(例如，矩形框架形状)。例如，第三开口OP3可以具有在第一上功能层2321周围(例如，围绕第一上功能层2321)延伸的线形状。例如，如图18中图示的，第三开口OP3可以与第二补偿结构272重叠。再比如，第三开口OP3可以与第一开口OP1和/或第一补偿结构271重叠。
下功能层2340可以包括第一下功能层2341以及与第一下功能层2341间隔开(例如，在平面图中与第一下功能层2341间隔开)的第二下功能层2342。第一下功能层2341可以与第一上功能层2321重叠，并且第二下功能层2342可以与第二上功能层2322重叠。例如，下功能层2340可以在平面图中具有与上功能层2320基本相同或相似的形状。下功能层2340可以暴露第三开口OP3。第一上功能层2321和第一下功能层2341可以被称为第一功能层，并且第二上功能层2322和第二下功能层2342可以被称为第二功能层。
第一封盖层240的布置在***区域PA中的一部分可以覆盖功能层2300。例如，第一封盖层240可以被布置成沿功能层2300的轮廓具有基本相同的厚度。
例如，如图18中图示的，第一封盖层240可以覆盖第一下功能层2341的面对第一基板100的下表面2341a、第二下功能层2342的面对第一基板100的下表面2342a以及第一基底基板210的与第三开口OP3重叠的下表面。
在实施例中，第一封盖层240可以暴露第二功能层2322和2342的外侧表面2322b和2342b(例如，第二功能层2322和2342的在平面图中背离显示区域DA的侧表面)。例如，在显示装置11的制造工艺中，当沿位于***区域PA中的切割线(例如，图24的切割线SL)切割第二基板2000的外部时，第一封盖层240可能暴露第二功能层2322和2342的外侧表面2322b和2342b。在此情况下，诸如水分的异物可能通过外侧表面2322b和2342b从外部渗透到第二功能层2322和2342的内部。
第一封盖层240可以完全覆盖第三开口OP3的内侧表面(例如，覆盖第三开口OP3的整个内侧表面和/或仅覆盖第三开口OP3的内侧表面)。例如，第一封盖层240可以覆盖第一功能层2321和2341的与第二功能层2322和2342邻近的外侧表面2321b和2341b(例如，第一功能层2321和2341的在平面图中背离显示区域DA的侧表面)。第一封盖层240可以进一步覆盖第二功能层2322和2342的与第一功能层2321和2341邻近的内侧表面2322c和2342c(例如，第二功能层2322和2342的在平面图中面对显示区域DA的侧表面)。因此，第一封盖层240可以防止或减少异物从第二功能层2322和2342的内部渗透到第一功能层2321和2341的内部。
图19至图25是图示根据另一实施例的制造显示装置的方法的截面图。例如，图19至图25可以图示制造根据参考图17和图18描述的另一实施例的显示装置11的方法。可以不提供关于根据参考图11至图16描述的实施例的制造显示装置10的方法的重复描述。
参考图19，第一滤色器层222、遮光层223、第一上功能层2321和第二上功能层2322可以形成在第一基底基板210上。第一上功能层2321和第二上功能层2322可以形成在第一基底基板210上的***区域PA中。例如，第一上功能层2321可以被形成为在平面图中在显示区域DA(参见图3)周围(例如，围绕显示区域DA)。第二上功能层2322可以被形成为与第一上功能层2321间隔开，并且在平面图中在第一上功能层2321周围(例如，围绕第一上功能层2321)。因此，第三开口OP3可以形成在第一上功能层2321与第二上功能层2322之间。在实施例中，第一滤色器层222、遮光层223、第一上功能层2321和第二上功能层2322可以基本同时(或并发地)形成。
参考图20，第二滤色器层224、第一下功能层2341和第二下功能层2342可以形成在第一基底基板210上。第一下功能层2341和第二下功能层2342可以形成在第一基底基板210上的***区域PA中。例如，第一下功能层2341可以被形成为与第一上功能层2321重叠，并且第二下功能层2342可以被形成为与第二上功能层2322重叠。第一下功能层2341和第二下功能层2342可以暴露第三开口OP3。在实施例中，第二滤色器层224、第一下功能层2341和第二下功能层2342可以基本同时(或并发地)形成。第三滤色器层226也可以形成在第一基底基板210上。
参考图21，第一封盖层240可以形成在第一基底基板210上。在第一基底基板210上，第一封盖层240可以完全形成在显示区域DA和***区域PA中(例如，形成在整个显示区域DA和***区域PA中和/或仅形成在显示区域DA和***区域PA中)。第一封盖层240可以覆盖第一至第三滤色器层222、224、226、遮光层223、第一上功能层2321、第二上功能层2322、第一下功能层2341和第二下功能层2342。例如，第一封盖层240可以被形成为沿第一至第三滤色器层222、224、226、遮光层223、第一上功能层2321、第二上功能层2322、第一下功能层2341和第二下功能层2342的轮廓具有基本相同的厚度。
参考图22，隔墙260、第一补偿结构271和第二补偿结构272、第一颜色转换层252和第二颜色转换层254以及透射层256可以形成在第一基底基板210上。第一开口OP1可以形成在第一补偿结构271与第二补偿结构272之间。第二补偿结构272的一部分可以位于第三开口OP3中。例如，第二补偿结构272的突出部分可以在第一下功能层2341与第二下功能层2342之间延伸，并且突出部分还可以在第一上功能层2321和第二上功能层2322之间延伸。第一补偿结构271和第二补偿结构272中的每个可以被形成为具有基本平坦的上表面(例如，如图22中所示的第一补偿结构271和第二补偿结构272中的每个的上表面，例如，背离第一基底基板210的表面)。
参考图23，第二封盖层280可以形成在第一基底基板210上。在第一基底基板210上，第二封盖层280可以完全形成在显示区域DA和***区域PA中(例如，形成在整个显示区域DA和***区域PA中和/或仅形成在显示区域DA和***区域PA中)。第二封盖层280可以覆盖第一颜色转换层252和第二颜色转换层254、透射层256、隔墙260、第一补偿结构271和第二补偿结构272。第二封盖层280还可以覆盖第一开口OP1，例如，覆盖第一封盖层240的由第一开口OP1暴露的部分以及补偿结构270的形成第一开口OP1的侧面。例如，第二封盖层280可以被形成为沿第一颜色转换层252和第二颜色转换层254、透射层256、隔墙260、第一补偿结构271和第二补偿结构272的轮廓具有基本相同的厚度。
参考图24，第一基板100和第二基板2000可以通过密封构件300结合。密封构件300可以被布置在第一基板100与第二基板2000之间的***区域PA中。例如，密封构件300可以与第一补偿结构271的至少一部分、第二补偿结构272的至少一部分和第一开口OP1重叠。密封构件300的一部分可以填充在第一开口OP1中。
参考图24和图25，结合的第一基板100和第二基板2000可以沿切割线SL被切割。例如，切割线SL可以位于***区域PA中。切割线SL可以是在显示区域DA周围(例如，围绕显示区域DA)并且在平面图中与显示区域DA间隔开的矩形。当沿切割线SL切割结合的第一基板100和第二基板2000时，可以减小显示装置11的***区域PA的宽度。
图26是图示根据实施例的显示装置的截面图。
参考图26，在实施例中，显示装置可以包括第一基板100和第二基板200。
第一基板100可以包括布置在第二基底基板110上的驱动元件TR1、TR2和TR3。驱动元件TR1、TR2和TR3可以电耦接(例如，连接)到发光元件(例如，相应的发光元件)。例如，发光元件可以是有机发光二极管。再比如，发光元件可以是纳米发光二极管。然而，实施例不限于此。
在实施例中，驱动元件TR1、TR2和TR3中的每个可以包括至少一个薄膜晶体管。例如，薄膜晶体管的沟道层可以包括(例如，是)非晶硅、多晶硅和/或金属氧化物半导体等。
驱动元件TR1、TR2和TR3中的每个可以被绝缘结构120覆盖。绝缘结构120可以包括无机绝缘层和有机绝缘层的组合。绝缘结构120可以具有暴露驱动元件TR1、TR2和TR3的开口(例如，接触孔)，发光元件可以通过该开口电耦接(例如，连接)到相应的驱动元件TR1、TR2和TR3。
在一些实施例中，发光元件(例如，有机发光二极管)可以包括第一电极EL1、第二电极EL2以及布置在第一电极EL1与第二电极EL2之间的发射层OL。
第一电极EL1可以用作阳极。例如，根据显示装置的发射类型(例如，发射种类)，第一电极EL1可以被形成为透射电极或反射电极。
像素限定层PDL可以被布置在绝缘结构120上。像素限定层PDL可以具有暴露第一电极EL1的至少一部分的开口。例如，像素限定层PDL可以覆盖第一电极EL1的一部分(例如，侧部)，并且可以暴露第一电极EL1的另一部分(例如，中心部分)。例如，像素限定层PDL可以包括(例如，是)有机绝缘材料。发射层OL的至少一部分可以被布置在像素限定层PDL的开口中。在实施例中，发射层OL可以在显示区域DA(参见图1)中的多个像素之上连续地延伸。例如，发射层OL可以是公共层。在另一实施例中，发射层OL可以与邻近像素的发射层分离。
发射层OL可以包括一个或多个功能层，诸如空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层和/或电子注入层。在一些实施例中，发射层OL可以包括(例如，是)低分子量有机化合物和/或高分子量有机化合物。
在实施例中，发射层OL可以产生蓝光。然而，实施例不限于此。例如，发射层OL可以产生红光和/或绿光等。在另一实施例中，发射层OL可以在不同的像素中产生具有不同颜色的光。
根据显示装置的发射类型(例如，发射种类)，第二电极EL2可以被形成为透射电极或反射电极。例如，第二电极EL2可以包括(例如，是)金属、金属合金、金属氮化物、金属氟化物、导电金属氧化物或它们的组合。例如，第二电极EL2可以在显示区域DA中的多个像素之上连续地延伸。
第一基板100可以进一步包括覆盖像素阵列的封装层130。封装层130可以连续地延伸以覆盖显示区域DA(例如，整个显示区域DA)。
例如，封装层130可以包括有机薄膜和无机薄膜的堆叠结构。例如，如图26中图示的，封装层130可以包括第一无机薄膜132、布置在第一无机薄膜132上的有机薄膜134以及布置在有机薄膜134上的第二无机薄膜136。然而，实施例不限于此。例如，封装层130可以具有包括至少两个有机薄膜和至少三个无机薄膜的结构。
例如，有机薄膜134可以包括(例如，是)诸如聚丙烯酸酯和/或环氧树脂等的固化树脂。例如，固化树脂可以由单体的交联反应来形成。例如，第一无机薄膜132和第二无机薄膜136中的每个可以包括(例如，是)无机材料，诸如氧化硅、氮化硅、碳化硅、氧化铝、氧化钽、氧化铪、氧化锆和/或氧化钛等。
根据图26的实施例的第二基板200可以与根据参考图4至图6描述的实施例的第二基板200基本相同或相似。因此，可以不提供重复的描述。
图27是图示根据另一实施例的显示装置的截面图。
参考图27，在另一实施例中，显示装置可以包括显示面板和背光组件600。显示面板可以包括第一基板100和第二基板202。
第一基板100可以包括像素阵列。液晶层500可以***在第一基板100与第二基板202之间。
每个像素可以包括驱动元件TR1、TR2和TR3以及电耦接(例如，连接)到驱动元件TR1、TR2和TR3的像素电极PE。第二基板202可以包括公共电极CE。然而，实施例不限于此。例如，公共电极CE可以包括在第一基板100中。
第一取向层AL1可以被布置在像素电极PE上。第二取向层AL2可以被布置在公共电极CE上。第一取向层AL1和第二取向层AL2可以包括(例如，是)诸如聚酰亚胺等的聚合物，并且可以通过摩擦和/或光致取向来处理以具有设定或预定倾斜角度等。
第二基板202可以与先前说明的颜色转换基板具有基本相同的配置，除了进一步包括公共电极CE和第二取向层AL2之外。
第二基板202可以与根据参考图4至图6描述的实施例的第二基板200基本相同或相似，除了进一步包括公共电极CE和第二取向层AL2之外。因此，可以不提供重复的描述。
响应于驱动元件TR1、TR2和TR3的操作，像素电压可以被施加到像素电极PE。公共电压可以被施加到公共电极CE。液晶层500中的液晶分子的取向可以通过由像素电压与公共电压之间的差形成的电场来调节。结果，可以控制由背光组件600提供的入射光L1的透射率。
尽管本文中已经描述了特定实施例和实现方式，但是其它实施例和修改将从本描述中显而易见。因此，本公开不限于这样的实施例，而是受限于随附权利要求、随附权利要求的等同物以及如对本领域普通技术人员来说将是显而易见的各种适当的明显的修改和等同布置的更广范围。

Claims (10)

1.一种显示装置，包括：
第一基板，包括像素阵列；
第二基板，联接到所述第一基板；以及
密封构件，在所述第一基板与所述第二基板之间，并且
其中所述第二基板包括：
基底基板，包括与所述像素阵列重叠的显示区域以及在所述显示区域周围的***区域；
第一补偿结构，在所述***区域中、在所述基底基板上、与所述密封构件至少部分地重叠并且包括有机材料；
第二补偿结构，在所述***区域中、在所述基底基板上、与所述第一补偿结构间隔开、与所述密封构件至少部分地重叠并且包括与所述第一补偿结构的材料相同的材料；以及
第一封盖层，覆盖所述第一补偿结构和所述第二补偿结构并且包括无机材料。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述密封构件的一部分在所述第一补偿结构与所述第二补偿结构之间的第一开口中。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一补偿结构在所述显示区域周围，并且
其中所述第二补偿结构在所述第一补偿结构周围。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述第二补偿结构在宽度上小于所述第一补偿结构。
5.根据权利要求3所述的显示装置，其中，暴露所述第一补偿结构的一部分的通孔在所述第二补偿结构中。
6.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述第二基板进一步包括：
第三补偿结构，在所述***区域中、在所述基底基板上、与所述第二补偿结构间隔开、与所述密封构件至少部分地重叠并且包括与所述第一补偿结构的所述材料相同的材料；并且
其中所述密封构件的一部分在所述第二补偿结构与所述第三补偿结构之间的第二开口中。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的显示装置，其中，所述第二基板进一步包括：
颜色转换层，在所述显示区域中、在所述基底基板上并且包括用于改变入射光的波长以发射具有与所述入射光的颜色不同的颜色的光的波长转换颗粒；以及
隔墙，在所述显示区域中、在所述基底基板上并且在所述颜色转换层周围，并且
其中所述第一补偿结构的所述材料与所述隔墙的材料相同。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的显示装置，其中，所述第二基板进一步包括：
功能层，在所述***区域中、在所述基底基板与所述第一补偿结构之间、在所述基底基板与所述第二补偿结构之间并且包括有机材料；以及
第二封盖层，覆盖所述功能层并且包括无机材料，并且
其中所述功能层包括：
第一功能层，在所述显示区域周围；以及
第二功能层，与所述第一功能层间隔开并且在所述第一功能层周围。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，在所述第一功能层与所述第二功能层之间的第三开口与所述第二补偿结构重叠。
10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述密封构件包括：
第一部分，与所述第一补偿结构重叠；
第二部分，与所述第二补偿结构重叠；以及
第三部分，与所述第一补偿结构和所述第二补偿结构之间的第一开口重叠，并且
其中所述第三部分在宽度上小于所述第一部分或所述第二部分。
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