CN114342563A - 喷嘴装置 - Google Patents

Abstract

一种装置包括：管；具有第一本体壁和第二本体壁的本体；以及具有第一支撑部分和第二支撑部分的支撑结构。第一本体壁在第一方向上延伸，第二本体壁在不同于第一方向的第二方向上延伸，管的第一部分穿过第二本体壁中的开口，第一支撑部分被配置为附接到第一本体壁，并且管的第二部分被配置为：当第一支撑部分附接到第一本体壁时，穿过第二支撑部分。管的内部和本体的内部被配置为接纳熔融靶材料，并且靶材料在处于等离子体状态时发射极紫外(EUV)光。

Description

喷嘴装置

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年9月6日提交的题为“NOZZLE APPARATUS”的美国申请号62/897,082以及于2020年3月12日提交的题为“NOZZLE APPARATUS”的美国申请号62/988,579的优先权，这两者均通过引用整体并入本文。

技术领域

本公开涉及一种喷嘴装置。喷嘴装置可以用于在极紫外(EUV)光源中生成靶标。

背景技术

喷嘴装置可以用于产生流体材料流或射流。例如，喷嘴装置可以用于生产被转换为发射极紫外(EUV)光的等离子体的靶标。

例如，EUV光可以是波长为100纳米(nm)以下的电磁辐射(有时也称为软X射线)，并且包括波长例如为20nm以下、在5到20nm之间或在13到14nm之间的光，EUV光可以在光刻工艺中使用，以通过在抗蚀剂层中引发聚合来在衬底(例如，硅晶片)中产生极小特征。用于产生EUV光的方法包括但不一定限于，将包括其发射线在EUV范围内的元素(例如，氙、锂或锡)的材料转换为等离子体状态。在通常称为激光产生等离子体(LPP)的一种这样的方法中，所需要的等离子体可以通过用可以称为驱动激光的放大光束照射靶材料来产生，靶材料例如为材料液滴、板、带、流或簇的形式。对于这个过程，等离子体通常在密封容器(例如，真空室)中被产生，并且使用各种类型的量测设备被监测。

发明内容

在一个方面，一种装置包括：具有内部宽度和在端部处的开口的管，内部宽度在0.1毫米(mm)到0.8mm之间，并且开口具有在1.0微米(μm)到5.0μm之间的宽度；与管接触并且被配置为将机械运动传递到管中的机电致动器，该机械运动至少包括在40千赫兹(kHz)到100kHz之间的第一频率分量和频率高于第一频率分量的第二频率分量；具有第一本体壁和第二本体壁的本体；以及具有第一支撑部分和第二支撑部分的支撑结构。第一本体壁在第一方向上延伸，第二本体壁在不同于第一方向的第二方向上延伸，管的第一部分穿过第二本体壁中的开口，第一支撑部分被配置为附接到第一本体壁，并且管的第二部分被配置为当第一支撑部分附接到第一本体壁时穿过第二支撑部分。管的内部和本体的内部被配置为接纳熔融靶材料，并且靶材料在处于等离子体状态时发射极紫外(EUV)光。

实现可以包括以下特征中的一个或多个。第二支撑部分可以包括限定支撑开口的端壁，并且管的第二部分可以被配置为当第一支撑部分附接到第一本体壁时穿过支撑开口。支撑开口可以包括倒角开口，并且在这些实现中，当第一支撑部分附接到第一本体壁时，管的第二部分的外表面被倒角开口捕获。第二支撑部分还可以包括被配置为控制管与第二支撑部分之间的机械耦合的调节机构。第一支撑部分可以从被配置为附接到第一本体壁的第一端延伸，并且第一支撑部分可以包括从第一端延伸的多个段。多个段可以包括刚性尖头和至少一个柔性尖头。调节机构可以穿过刚性尖头，并且调节机构可以被配置为将第二支撑部分定位，从而控制管与第二支撑部分之间的机械耦合。开口可以位于多个段中的每个段之间。调节机构可以与第一支撑部分和端壁物理接触，并且调节机构可以被配置为将端壁移动，以控制管和第二支撑之间的机械耦合。端壁可以包括第一材料，并且该装置还可以包括围绕支撑开口的第二材料的套圈，并且第二材料可以比第一材料软。第一材料可以包括金属，并且第二材料可以包括聚合物。聚合物可以是聚酰亚胺树脂、聚醚醚酮、聚苯并咪唑树脂或聚四氟乙烯。第一材料可以包括金属，并且第二材料可以包括粘合剂材料。粘合剂材料可以是双马来酰亚胺树脂或氰酸酯基树脂。

该装置还可以包括灌封化合物，并且在这些实现中，当第一支撑部分附接到第一本体壁时，第一支撑部分和端壁限定其中包含灌封化合物的内部支撑区域。在一些实现中，灌封化合物没有完全填充内部支撑区域。灌封化合物可以占据内部支撑区域的、与端壁相比更靠近本体的第一部分，而内部支撑区域的、与本体相比更靠近端壁的第二部分没有任何灌封化合物。灌封化合物可以是粘合剂。粘合剂可以是以下中的至少一种：基于双马来酰亚胺的粘合剂、基于苯并恶嗪的粘合剂、基于氰酸酯的粘合剂、室温硫化(RTV)粘合剂或高温环氧树脂粘合剂。在一些实现中，管穿过第二支撑部分中的支撑开口，并且管不与第二支撑部分进行机械接触。在这些实现中，第二支撑部分被配置为保护灌封材料免受当靶材料处于等离子体状态时发射的等离子体的影响。

第一支撑部分可以是刚性材料。第一支撑部分可以包括金属。第一支撑部分可以包括柔性材料。

支撑结构可以位于本体与机电致动器之间。

在一些实现中，当第一支撑部分附接到第一本体壁时，机电致动器可以被第一支撑部分围绕。

第一支撑部分可以被配置为附接到第一本体壁的外部。

第二频率分量可以是第一频率分量的谐波或由机电致动器施加到管的另一频率的谐波。

第一支撑部分可以包括一个或多个开口，该一个或多个开口沿着第一支撑部分的一侧、在第一支撑部分的第一端与第一支撑部分的第二端之间延伸。

在另一方面，一种装置包括：管；具有第一本体壁和第二本体壁的本体；以及具有第一支撑部分和第二支撑部分的支撑结构。第一本体壁在第一方向上延伸，第二本体壁在不同于第一方向的第二方向上延伸，管的第一部分穿过第二本体壁中的开口，第一支撑部分被配置为附接到第一本体壁，并且当第一支撑部分附接到第一本体壁时，管的第二部分穿过第二支撑部分。

在另一方面，一种用于极紫外光源的装置包括：包括具有从第一端延伸到第二端的长度的侧壁的管；机械耦合到侧壁的外部的致动器；具有第一本体壁和第二本体壁的本体；以及设置在本体的端部处的配件，该配件包括通道。侧壁的第一部分被保持在第二本体壁中的开口处，侧壁的第二部分被设置在通道中，致动器位于配件与管的第二端之间，并且侧壁的长度的大约一半被本体围绕。

侧壁的长度的一半以上可以被本体围绕。

在另一方面，一种用于极紫外光源的装置包括：具有从第一端延伸到第二端的侧壁的管；机械耦合到侧壁的外部的致动器；具有第一本体壁和第二本体壁的本体；以及设置在本体的端部处的配件，配件包括通道和套圈，其中侧壁的一部分在通道中，并且套圈位于侧壁的该部分与配件之间。

实现可以包括以下特征中的一个或多个。该装置还可以包括具有聚合物材料薄层的金属线，该聚合物材料薄层连接到配件并且环绕侧壁的外部，并且该线可以被配置为减少管的振动。聚合物材料层可以在金属线上形成涂层。该装置还可以包括支撑结构，该支撑结构包括第一支撑部分和第二支撑部分，第一支撑部分可以被配置为附接到第一本体壁，并且当第一支撑部分附接到第一本体壁时，管穿过第二支撑部分。第二支撑部分可以被配置为保护聚合物层免受EUV光源中的等离子体的影响。在一些实现中，第二支撑部分不与管机械接触。

套圈可以延伸超出配件。

在另一方面，一种用于靶材料供应***的支撑结构包括：第一支撑部分；以及第二支撑部分。第一支撑部分被配置为附接到靶材料供应***的第一本体壁，并且当第一支撑部分附接到第一本体壁时，靶材料供应***的管穿过第二支撑部分。

靶材料供应***可以被配置为耦合到极紫外光源的真空室。

上述技术中的任何一种的实现可以包括EUV光源、***、方法、过程、设备或装置。在附图和以下描述中阐述了一种或多种实现的细节。从描述和附图以及从权利要求中，其他特征将很清楚。

附图说明

图1是极紫外(EUV)光源的实现的框图。

图2A是靶标形成装置的侧视截面图。

图2B是图2A的靶标形成装置的俯视截面图。

图3A至图3D、图4、图5、图6A、图6B、图6C、图7A、图7B、图8至图12、图13A、图13B和图15示出了喷嘴装置的各种实现和/或组件的各个方面。

图14是另一EUV光源的框图。

具体实施方式

参考图1，示出了其中包括供应***110的EUV光源100的框图。供应***110发射靶标流121，使得靶121p被输送到真空室109中的等离子体形成位置123。靶121p包括靶材料，即，在处于等离子体状态时发射EUV光的任何材料。例如，靶材料可以包括水、锡、锂和/或氙。等离子体形成位置123接收光束106。光束106由光源105生成并且经由光路107被输送到真空室109。光束106与靶121p中的靶材料之间的相互作用产生发射EUV光的等离子体196。

供应***110包括毛细管114，该毛细管114流体耦合到储存器112。毛细管114由喷嘴装置140保持。毛细管114限定孔口119，材料流过孔口119以形成靶标流121。喷嘴装置140被配置为减少、缓和、或防止毛细管114的无意振动。无意振动可能导致靶标流121中的指向不稳定性，使得靶标不沿预期方向行进。这种不稳定性导致靶标没有被引导到预期位置以进行进一步处理。在诸如图1的光源100等EUV光源的示例中，指向不稳定性可能导致靶标121p行进到与最佳等离子体形成位置123不同的位置，从而导致等离子体产生减少或没有，以及EUV光生成减少或没有。因此，希望减少或消除毛细管114的无意振动。

图3A至图3D、图4、图5、图6A、图6B、图6C、图7A、图7B、图8至图12、图13A、图13B和图15示出了喷嘴装置140和/或喷嘴装置140的组件的各种实现。在讨论喷嘴装置140的各种实现之前，提供EUV光源100和供应***110的概述。EUV光源100是可以在其中使用喷嘴装置140的***的示例。然而，喷嘴装置140及其各种实现中的任何一种可以用于除了EUV光源之外的其他***中。

在图1的示例中，毛细管114机械耦合到致动器193，致动器193经由控制链路192连接到控制***190。控制***190可以包括函数发生器、电子处理器(未示出)和电子存储装置(未示出)，以执行控制***190的功能。控制链路192是能够将电子信号从控制***190传输到致动器193的任何类型的连接。例如，控制链路192可以是被配置为将电子信号和命令从控制***190传输到致动器193的有线和/或无线连接。

控制***190生成信号，当施加到致动器193或与致动器193相关联的元件时，该信号引起致动器193移动。例如，致动器193可以是基于施加电压而改变形状的压电陶瓷材料。施加到致动器193的电压的大小和/或极性基于来自控制***190的信号。由于毛细管114与致动器193之间的机械耦合，当致动器193移动或振动时，毛细管114经历对应运动或振动。由致动器193传递的振动通常是有意振动。更具体地，致动器的径向收缩导致毛细管的局部收缩并且致动器的膨胀导致毛细管的局部膨胀。这种膨胀和收缩导致在位于毛细管内部的靶材料中、以所施加的电信号的频率产生声波。

储存器112包含压力P下的靶材料。靶材料处于熔融状态并且能够流动，并且真空室109中的压力低于压力P。熔融状态可以包括熔融金属靶材料。因此，靶材料流过毛细管114并且通过孔口119被发射到腔室109中。靶材料作为靶材料射流或连续流124离开孔口119。靶材料射流分解成个体液滴。射流124的分解可以被控制，使得通过将毛细管114振动并且在毛细管114内部产生声波，个体液滴聚结成较大液滴，该液滴以期望速率到达等离子体形成位置123。

例如，控制***190可以经由控制链路192提供至少具有第一频率和第二频率的信号，从而驱动致动器193以第一频率和第二频率振动。第一频率可以在兆赫(MHz)范围内。将毛细管114以第一频率振动引起射流124分解成具有期望尺寸和速度的相对较小液滴。第二频率低于第一频率。例如，第二频率可以在千赫(kHz)范围内。第二频率用于调节液滴在流中的速度并且促进靶标聚结。以第二频率驱动毛细管114导致形成液滴组。在任何给定液滴组中，各个液滴以不同速度行进。具有较高速度的液滴可以与具有较低速度的液滴聚结，以形成较大聚结液滴，较大聚结液滴构成EUV源的靶标流121。与未聚结液滴相比，这些较大液滴以较大的距离彼此分开。较大分离有助于减轻由一个靶标形成的等离子体对液滴流中后续靶标的轨迹的影响。靶标流121中的靶标可以是近似球形的，直径约为30μm。

通过引起毛细管114以这种方式振动，最终靶标可以在例如40到300kHz之间的频率下生成，并且可以例如以40到120米/秒(m/s)或高达500m/s的速度朝向等离子体形成位置123行进。靶标流121中的两个相邻靶标之间的空间间隔可以例如在1到3毫米(mm)之间。50到300个初始液滴(也称为瑞利液滴)可以聚结以形成单个较大靶标。

因此，毛细管114被有意地移动或振动，并且这种有意的运动或振动被控制，以促进靶材料的聚结并且控制靶标生产的速率。有意振动和/或环境影响可能导致毛细管114的其他无意的悬臂式振动。喷嘴组件140减少或消除无意振动，同时允许有意振动。在更详细地讨论喷嘴组件140的示例之前，讨论毛细管114和致动器193的示例。

图2A是靶标形成装置216在X-Z平面中的侧视截面图。图2B是沿着图2A的线2B'-2B'截取的靶标形成装置216在Y-Z平面中的俯视截面图。

靶标形成装置216可以用在EUV光源100(图1)中。靶标形成装置216包括毛细管214，毛细管214通过粘合剂234(以交叉影线阴影示出)机械耦合到致动器293。例如，粘合剂234可以是环氧树脂、苯并恶嗪树脂、含有苯并恶嗪的树脂、双马来酰亚胺树脂、氰酸酯树脂、或含有氰酸酯的树脂。尽管图2A和图2B的示例包括粘合剂234，但致动器293和毛细管214可以通过直接接触(例如，过盈配合或通过使用紧固件)来耦合而不使用粘合剂。

毛细管214包括沿着X方向、从第一端231延伸到第二端232的侧壁230。侧壁230是总体为圆筒形的三维物体。侧壁230包括内表面233和外表面239。内表面233限定内部区域238(图2B)，该内部区域238在第一端231处与喷嘴235流体连通。喷嘴235沿着-X方向变窄，以限定孔口219。在操作使用中，内部区域238流体耦合到靶材料的储存器(诸如图1的储存器112)，并且熔融的靶材料在毛细管214的内部区域238中流动，并且在-X方向上穿过孔口219。

在图2A和图2B的示例中，致动器293是具有外致动器表面295和内致动器表面236的圆筒体。内致动器表面236限定沿着X方向延伸的开放中央区域。内致动器表面236完全围绕外表面239的部分237(图2A)。部分237包括外表面239的被致动器293围绕的任何部分。部分237可以从第一端231延伸到第二端232，或者部分237可以沿着X方向在小于侧壁230的整个长度上延伸。在图2A的示例中，部分237在X方向上在小于侧壁230的整个长度上延伸。致动器293通过粘合剂234机械耦合到部分237。

致动器293由能够引起侧壁230移动的任何材料制成。致动器293可以是机电致动器。例如，致动器293可以是压电陶瓷材料，诸如锆钛酸铅(PZT)，该压电陶瓷材料响应于电压的施加而改变形状。通过改变形状，PZT还引起毛细管214移动。致动器293通过周期性的径向收缩和膨胀来引起毛细管214的壁的对称位移。

图3A至图3D示出了喷嘴装置340。喷嘴装置340是喷嘴装置140(图1)的一种实现。图3A是喷嘴装置340在X-Z平面中的侧视截面图。喷嘴装置340包括本体350和支撑结构360。

本体350包括第一本体壁352和连接到第一本体壁352的第二本体壁354。第一本体壁352在X方向上延伸。第二本体壁354在Y方向上延伸。支撑结构360包括第一支撑部分362和连接到第一支撑部分362的第二支撑部分364。第一支撑部分362在X方向上从端部367延伸到端部368。第二本体壁354限定开口355。第二支撑部分364限定开口365。喷嘴装置340、本体350和支撑结构360是三维结构。在图3A至图3D的示例中，第一本体壁352和第一支撑部分362通常为圆筒形结构。第二本体壁354和第二支撑部分364是限定相应开口355和365的盘状物体。

本体350限定内部351，该内部351可以流体连接到储存器(例如，图1的储存器112)，使得内部351通过与端部357相对的端部接收来自储存器的流体(诸如靶材料)。第二本体壁354支撑并且提供围绕毛细管314的外部的密封件。该密封件是高压密封件，其将毛细管314连结到第二本体壁354并且允许在本体350的内部351中维持高压环境。例如，密封件可以是包括可膨胀和可压缩材料(诸如聚合物)的压缩密封件，和/或密封件可以由粘合剂形成。喷嘴装置340还包括配件494，配件494附接到第一本体壁352的端部357。配件494可以是压缩配件。配件494可以用例如粘合剂或通过过盈配合附接到端部357。在一些实现中，配件494包括螺纹，并且附接到端部357的对应螺纹接口。配件494包括一直穿过配件494的通道389。当喷嘴装置340处于组装形式时(诸如如图3A所示)，毛细管314穿过通道389和开口355、365。第二支撑部分364在端部331附近保持毛细管314。图3A示出了处于组装状态的喷嘴装置340。图3C是处于未组装状态的本体350的侧视图。图3D是处于未组装状态的支撑结构360的侧视图。在未组装状态下，本体350和支撑结构360没有彼此附接。

当喷嘴装置340被组装时，支撑结构360附接到本体350的端部357。具体地，位于第一支撑部分362的端部368处的内表面363的一部分附接到第一本体壁352的外表面356。第一本体壁352和第一支撑部分362可以通过例如以下方式彼此附接：内表面363与外表面356之间的过盈配合；将外表面356和内表面363结合的粘合剂；诸如紧固件等机械装置；螺纹接口；或者能够将支撑结构360保持到本体350的任何其他方式。

另外，当喷嘴装置340被组装时，毛细管314穿过开口355和365。毛细管314包括大致沿着X方向从端部331延伸到端部332的侧壁。侧壁330通常是圆筒形的并且具有内径387和外径388。内径387可以是例如约0.1毫米(mm)、约0.3mm、约0.5mm或约0.8mm。外径388可以例如比内径387大约0.25mm。内径387和外径388可以沿着管314的长度(沿着图3A中的X方向)在很大程度上是均匀的。管314的内径387和外径388可以朝着孔口319逐渐变细(例如，如图2A的实现中所示)。孔口319在Y-Z平面中可以具有1至5微米(μm)的直径，例如约1μm、约3μm或约5μm。毛细管314包括在端部331处的孔口319。孔口319允许靶材料流出毛细管314。毛细管314穿过开口365。在图3A所示的示例中，端部332相对靠近开口355，使得沿着X轴的毛细管的长度的仅一小部分(例如，小于约10％)延伸到内部351中。在一些实现中，端部332与开口355齐平。

图3B示出了具有毛细管314的Y-Z平面中的第二支撑部分364。开口365可以在Y-Z平面中相对于端部368的中心偏离中心或移位。使开口365偏离中心可以有助于在毛细管314与第二支撑部分364之间提供更可靠的机械接触。

本体350可以由刚性材料制成。例如，本体350可以由金属制成。支撑结构360可以由刚性材料制成。例如，第一支撑部分362和第二支撑部分364可以由固体金属或刚性聚合物材料制成。在一些实现中，第一支撑部分362和/或第二支撑部分364由非刚性或柔性材料制成。非刚性材料或柔性材料是响应于所施加的力而弯曲或屈曲而不断裂并且在力移除之后恢复其原始形状和位置的材料。

第二支撑部分364在开口365中在端部331附近保持和支撑毛细管314。毛细管在-X方向上从开口355到开口365延伸距离381。在没有支撑结构360的情况下，毛细管314将延伸距离381，除了由本体350提供的支撑之外没有其他支撑。在没有支撑结构360的情况下，毛细管314在-X方向上从开口355延伸的部分用作具有长度381的悬臂梁。在这样的配置(没有支撑结构360)中，毛细管318响应于所施加的力或环境振动而在Y-Z平面中发生偏转。偏转的幅度随着距离381的增加而增加。这种偏转导致毛细管314在Y-Z平面中的不希望的振动，并且这些不希望的振动可以被称为不希望的横向振动。

另一方面，通过在端部331附近保持和支撑毛细管314，毛细管314的未支撑长度减小。因此，支撑结构360减少、缓和、或防止毛细管314的无意振动。无意振动可以是由毛细管314附近的移动物品引起的Y-Z平面中的横向振动。例如，无意振动可以来自毛细管314附近的移动物品，该物品机械耦合到毛细管并且因此传递振动。移动物品可以包括例如真空泵、流体管线和/或风扇。此外，由移动物品引起的振动可以与有意振动(诸如由耦合到毛细管314的致动器(诸如图2A和图2B的致动器293)引起的振动)相结合，并且以意想不到的方式强调有意振动。换言之，可能由于环境因素和/或由于有意振动的修改而发生无意振动。最后，不希望的振动可能是由致动器经由***对不希望的横向振动的非线性机械响应而施加到毛细管314的有意振动的能量转移引起的。

图4是喷嘴装置440在X-Z平面中的侧视截面图。喷嘴装置440是喷嘴装置140(图1)的另一种实现。喷嘴装置440类似于喷嘴装置340(图3A至图3D)，不同之处在于，喷嘴装置440包括致动器493。致动器493类似于致动器293(图2A和图2B)。致动器493位于配件494与第二支撑部分364之间。

在操作使用中，致动器493被控制以有意地使毛细管314振动。例如，致动器493可以被控制以向毛细管314施加正弦波、方波、锯齿波和/或任何其他时变波，以使得管314振动。致动器493可以被控制以基于时变信号来使管314振动，该时变信号是一个或多个时变信号的组合。例如，致动器493可以被控制以基于频率为50kHz的脉冲波或频率为50kHz的正弦波以及频率为500kHz的脉冲波(或方波)来使管314振动。在其中致动器493向管314施加正弦波的实现中，正弦波的基频为例如40kHz到100kHz。

在致动器493施加不是正弦波的时变信号的实现中，所施加的信号赋予具有多个频率分量的振动，包括基频和该基频的谐波。基频的谐波出现在基频的整数倍处。例如，基频为100kHz的所施加的脉冲波在200kHz、300kHz、400kHz等处具有谐波。对于上面提供的其中管314基于50kHz的正弦波和500kHz的脉冲波的组合而振动的示例，有意振动包括50kHz的基频分量并且还包括500kHz、1MHz、1.5MHz等的频率分量。

除了这些有意振动，由于环境因素和/或致动器493的无意振动，也可能发生其他无意振动。通过在端部331附近保持毛细管314，无意振动被减少。

图5是喷嘴装置540在X-Y平面中的侧视截面图。喷嘴装置540包括本体350和支撑结构560。支撑结构560可以由刚性材料制成，例如金属材料、刚性聚合物材料或陶瓷材料。喷嘴装置540类似于喷嘴装置440(图4)，不同之处在于，支撑结构560包括具有开口565的第二支撑部分564，开口565具有从第二支撑部分564的内侧561以一定角度延伸到尖端566的倒角或斜面边缘565'。

第二支撑部分564在Y-Z平面中延伸并且连接到第一支撑部分562的端部567。尖端566在端部331附近保持毛细管314的一部分。倒角边缘565'和第二支撑部分564被定向，使得倒角边缘565'朝向端部331延伸，并且尖端566位于端部331与内侧561之间。因此，尖端566在端部331附近保持毛细管314并且减少不希望的振动。

图6A是喷嘴装置640在X-Y平面中的侧视截面图。喷嘴装置640包括本体350和支撑结构660。当喷嘴装置640被组装时(如图6A所示)，毛细管314延伸穿过开口355和支撑结构660中的开口665。

喷嘴装置640类似于喷嘴装置540(图5)和喷嘴装置440(图4)，不同之处在于，喷嘴装置640的支撑结构660包括第一支撑部分662和第二支撑部分664，第一支撑部分662和第二支撑部分664与支撑结构460的第一支撑部分462和第二支撑部分464以及支撑结构560的第一支撑部分562和第二支撑部分564相比具有不同特征。图6B从由线6B-6B'指示的透视图示出了在Y-Z平面中的支撑结构660。图6C示出了支撑结构660的透视图。

第一支撑部分662在X方向上从端部667延伸到端部668。第一支撑部分662包括三个柔性尖头676a、676b、676c和刚性尖头679。676a、676b、676c和刚性尖头679统称为段。柔性尖头676a、676b、676c中的每个和刚性尖头679在X方向上从端部667延伸到端部668。柔性尖头676a、676b、676c中的每个和刚性尖头679围绕端部667彼此间隔开，以限定四个相应开口672a、672b、672c、672d。开口672a、672b、672c、672d穿过第一支撑部分662的外表面。图6A至图6C所示的支撑结构660包括三个柔性尖头676a、676b、676c。然而，在其他实现中，第一支撑部分662可以包括多于或少于三个的柔性尖头。

刚性尖头679由刚性材料制成。例如，刚性尖头679和基部691可以由实心金属或刚性聚合物材料制成。柔性尖头676a、676b、676c由柔性材料制成，该柔性材料响应于所施加的力而弯曲或屈曲而不会断裂并且在力移除之后恢复其原始形状和位置。

第二支撑部分664包括调节机构669(以灰色阴影示出)和接触部分671，接触部分671限定开口665。第二支撑部分664在端部667处连接到第一支撑部分662并且在Y-Z平面中延伸。调节机构669在Z方向上穿过第一支撑部分662的刚性尖头679并且与接触部分671接触。调节机构669例如可以是定位螺钉或调节螺钉。

接触部分671和第二支撑部分664可以由耐用材料制成，例如金属材料。在一些实现中，第二支撑部分664和接触部分671由诸如聚合物等非刚性材料制成。调节机构669可以在喷嘴装置640的制造期间例如作为制造过程的最后步骤进行设置。在其他实现中，调节机构669被配置为在现场和在制造过程完成之后进行调节。

调节机构669可以在-Z和Z方向上移动。使调节机构669在Z方向上移动可以使接触部分671与毛细管314物理接触。随着调节机构669在Z方向上移动，调节机构669使第二支撑部分664在Z方向上移动。随着调节机构669在Z方向上移动，柔性尖头676在端部667处弯曲并且在Z方向上移动，从而允许接触部分671移动成与毛细管314物理接触。在物理接触建立之后，继续在Z方向上移动调节机构669可以改善毛细管314与接触部分671之间的机械耦合。改善机械接触增强了第二支撑部分664固定毛细管314并且从而减少毛细管314的振动的能力。

图7A是喷嘴装置740的侧视截面图。喷嘴装置740是喷嘴装置140(图1)的另一种实现。喷嘴装置740类似于喷嘴装置540(图5)，不同之处在于，喷嘴装置740包括套圈770(用斜条纹阴影示出)，如下所述。

喷嘴装置740包括本体350和支撑结构760。支撑结构760包括在X方向上从端部768延伸到端部767的第一支撑部分762。第一支撑部分762总体是圆筒形的。支撑结构760还包括在端部767处连接到第一支撑部分762的第二支撑部分764。第二支撑部分764在Y-Z平面中延伸。图7B从由线7B-7B'指示的透视图示出了在Y-Z平面中的支撑结构760。第二支撑部分764限定开口765。当喷嘴装置740被组装时(诸如图7A和图7B所示)，毛细管穿过开口355和开口765。

第二支撑部分764在Y-Z平面中具有圆形横截面。第二支撑部分764包括套圈770和外部部分773。套圈770是围绕开口765并且与毛细管314物理接触的环形或圆盘状物体。套圈770在端部331附近保持毛细管314。外部部分773被连接到套圈770，使得外部部分773和套圈770形成单件(并且一起是第二支撑部分764)。例如，套圈770可以压配合到外部部分773中或通过粘合剂或机械紧固件附接到外部部分773。外部部分773被连接到第一支撑部分762的端部767。

外部部分773和第一支撑部分762由相同材料制成。例如，外部部分773和第一支撑部分762可以由坚固的刚性金属材料制成。套圈770由比外部部分773的材料软的材料制成。例如，在外部部分773由实心金属材料制成的实现中，套圈770可以由聚合物材料制成，诸如聚四氟乙烯或聚酰亚胺，或者套圈770可以由粘合剂制成或包括粘合剂，诸如双马来酰亚胺树脂或氰酸酯基树脂。在一些实现中，套圈770由固体聚合物制成并且通过粘合剂附接到外部部分773。

因为套圈770是比外部部分773软的材料，所以套圈770不太可能损坏(例如，划伤或破裂)毛细管314。此外，因为套圈770由相对柔软的材料制成，所以套圈770可以更牢固地耦合到毛细管314，从而增强第二支撑部分764防止毛细管314中的无意横向(Y-Z)振动的能力。

图8是喷嘴装置840的侧视截面图。喷嘴装置840是喷嘴装置140(图1)的另一种实现。喷嘴装置840类似于喷嘴装置540(图5)。喷嘴装置840包括本体350和支撑结构560，本体350和支撑结构560两者都在上面讨论过。然而，喷嘴装置840还包括在支撑结构560中的灌封化合物874。灌封化合物874在封闭空间877中，该封闭空间877由第一支撑部分562的内侧563、第二支撑部分564、端部357、第二本体壁354和配件494限定。灌封化合物874为毛细管314提供附加机械支撑并且进一步衰减毛细管314的无意振动。

灌封化合物874可以是能够在喷嘴装置840的操作期间支撑毛细管314的任何材料。例如，灌封化合物874可以是粘合剂，例如基于双马来酰亚胺的粘合剂、基于苯并恶嗪的粘合剂、基于氰酸酯的粘合剂、室温硫化(RTV)粘合剂或高温环氧树脂粘合剂。

灌封化合物874可以以允许灌封化合物为毛细管314提供机械支撑的任何方式布置在空间877中。灌封化合物874可以占据空间877的任何部分。例如，灌封化合物874可以与内侧561和毛细管314物理接触并且占据空间877的总体积的至少大约三分之一。灌封化合物可以占据空间877的总体积的三分之一以上。例如，在一些实现中，灌封化合物874占据整个空间877。在灌封化合物874占据小于整个空间877的实现中，灌封化合物874可以布置在空间877的任何部分中。例如，在一些实现中，灌封化合物874填充空间877的与本体350相邻的一部分，并且在该空间877的与第二支撑部分564相邻的部分中不存在灌封化合物874。灌封化合物874的这种布置有助于确保灌封化合物874不干扰材料通过端部331处的孔口的流动。

在包括灌封化合物878的实现中，第二支撑部分564不一定与管314机械接触。例如，管314和第二支撑部分564可以被布置成使得管314不接触第二支撑部分564。灌封化合物874支撑管314并且第二支撑部分564可以被配置为不为管314提供支撑或不是为管314提供支撑的唯一来源。在这些实现中，第二支撑部分564保护灌封化合物874免受可能由直接暴露于从等离子体196(图1)发射的光(例如，EUV光和/或其他短波长光)而引起的损坏的影响。

图9是喷嘴装置940的侧视截面图。喷嘴装置940是喷嘴装置140(图1)的另一种实现。喷嘴装置940包括本体350和配件494，配件494被附接到本体350的端部357。喷嘴装置940还包括毛细管314。毛细管314延伸穿过本体350和配件494。致动器493在配件494与端部331之间机械耦合到毛细管314。

毛细管314从配件494无支撑地延伸到端部331一段距离981。与关于图3A、图4、图5、图6A、图7A和图8讨论的实现相比，毛细管314的较大部分被本体350围绕。换言之，毛细管314的较大部分在内部351中。例如，在喷嘴装置940中，毛细管314的至少一半可以被本体350围绕。在这种实现中，距离981小于从端部331到端部332的距离的一半。毛细管314从端部331到端部332的总范围没有改变。因此，毛细管314具有相同声学谐振并且响应于预期的有意振动，以控制材料从孔口319的排放。

然而，由于更多毛细管314被本体350围绕，毛细管314的未支撑部分显著减少，并且因此毛细管不太容易受到无意振动的影响，并且喷嘴结构940可以在没有诸如支撑结构360、460、560、660、760和860等支撑结构的情况下使用。

图10是喷嘴装置1040的侧视截面图。喷嘴装置1040是喷嘴装置140(图1)的另一种实现。喷嘴装置1040包括本体350、配件494和支撑套圈1078。当喷嘴装置1040被组装时(诸如图10所示)，毛细管314穿过开口355和配件494。毛细管314从套圈1078和配件494到端部331延伸距离1081

支撑套圈1078被附接到配件494并且围绕毛细管314。支撑套圈1078通过例如粘合剂被刚性附接到配件494和毛细管314。此外，诸如螺母、压缩配件或支架等机械紧固件可以用于将套圈1078夹持到毛细管314。

距离1081小于配件494之间的距离。换言之，套圈1078比配件494更靠近端部331，套圈1078比配件494更靠近致动器493，并且套圈1078在-X方向上延伸超过配件494。支撑套圈1078为毛细管314提供附加支撑，使得可以在不使用诸如支撑结构360、460、560、660、760和860等支撑结构的情况下减少或消除无意的横向振动。此外，由套圈1078提供的附加支撑允许距离1081大于距离981。例如，距离1081可以大于端部331与端部332之间的总距离的一半，并且在这些实现中，毛细管314的小于一半被本体350围绕。在喷嘴装置1040的一些实现中，毛细管314被布置为使得管314的大部分被本体350围绕，例如，如关于如图9讨论的。不管毛细管314的具体布置如何，支撑套圈1078为毛细管314提供附加支撑，从而减少或消除无意振动。

还参考图11，在一些实现中，喷嘴装置1040包括具有聚合物材料薄层1183的金属线，该金属线被连接到配件494并且环绕毛细管314。线1183提供机械阻尼并且进一步减少毛细管314的无意的横向振动。线1183可以是例如铜线，该铜线涂覆有聚合物材料，例如聚四氟乙烯。认为这种线1183提供了消散施加到致动器493的高频振动(例如，施加到致动器493的50kHz方波调制信号的谐波)的路径，并且通过消散高频振动，毛细管314中的不希望的横向振动被减少。

在一些实现中，喷嘴装置1040还包括类似于图4所示的支撑结构362的支撑结构。在这些实现中，喷嘴装置1040中的这种支撑结构的目的是保护沉积在线1183上的聚合物材料不被从靶材料等离子体196(图1)发射的光(例如，EUV和/或其他短波长光)损坏。

图12是喷嘴装置1240的侧视截面图。喷嘴装置1240是喷嘴装置140(图1)的另一种实现。喷嘴装置1240包括本体350和支撑结构1260。支撑结构1260为毛细管314提供支撑并且减少或消除无意的横向振动。支撑结构1260包括第一支撑部分1262和连接到第一支撑部分1262的端部1267的第二支撑部分1264。第二支撑部分1264限定开口1265。

当喷嘴装置1240被组装(如图12所示)时，支撑结构1260被附接到本体350，并且毛细管314穿过开口355和开口1265。毛细管314还机械耦合到致动器493。致动器493位于第二支撑部分1264与端部331之间。因此，第二支撑部分1264相对远离端部331和孔口319，并且第二支撑部分1264在不是端部331的另一位置处并且在与图3A、图4、图5、图6A、图7和图8所示的实现相比更远离端部331的位置处保持毛细管314。第二支撑部分1264相对于孔口319的布置减少了孔口319附近的连接和物体，并且可以帮助确保孔口319保持在操作使用过程中没有碎屑和干扰。此外，更多空间可以可用于将第二支撑部分1264以诸如图12所示的配置耦合到毛细管314。

支撑结构1260可以由柔性材料制成，诸如固体聚合物材料。毛细管314可以在开口1265处通过例如诸如胶水等粘合剂耦合到第二支撑部分1264。附加地或备选地，支撑结构1260可以通过螺纹连接或用粘合剂连接到配件494。此外，在一些实现中，套圈结构(诸如图7的套圈770)或夹持机构位于开口1265与毛细管314之间，并且套圈结构或夹持机构保持毛细管314。

图13A是喷嘴装置1340的侧视截面图。喷嘴装置1340是喷嘴装置140(图1)的另一种实现。喷嘴装置1340包括本体1350、配件1394和致动器1393。本体1350包括限定开口1355的第一本体壁1352和第二本体壁1354。配件1394限定穿过配件1394的通道1389。

当被组装时(如图13A所示)，喷嘴装置1340包括毛细管1314，毛细管1314穿过开口1355和通道1389并且机械耦合到致动器1393。当安装在喷嘴装置1240中时，毛细管1314在X方向上从端部1331延伸到端部1332。图13B示出了在Y-Z平面中的毛细管318的端部1331。毛细管1314包括具有外径1388和内径1387的侧壁1330(图13B)。外径1388大于毛细管314的侧壁330的外径388(参见图3)。具体地，它可以比侧壁330的外径388大50％至500％。例如，外径1388可以在约1.5mm到约5.0mm之间。与毛细管314相比，侧壁1330可以比沿着毛细管318的大部分的壁厚度大大约50％、100％、200％或500％。侧壁1330的径向厚度是侧壁1130的外部部分与侧壁内部部分之间的距离，在图13B中用虚线示出。毛细管1314的侧壁1330的径向厚度可以例如在约0.35mm到约2.0mm之间。在图13A所示的示例中，毛细管1314具有孔口319，该孔口319与作为毛细管314的一部分的孔口相同。然而，毛细管1314可以具有在Z方向上更小或更大的孔口。

增加侧壁1330的直径导致毛细管1314比毛细管1314更硬且更坚固。因此，毛细管1314比毛细管1314经历更少的无意横向振动。

以上讨论的喷嘴组件中的任何一个可以用于EUV光源。参考图14，示出了LPP EUV光源1400的实现。上面讨论的喷嘴组件中的任何一个可以在光源1400中用作供应***1425的一部分。

LPP EUV光源1400通过在等离子体形成位置1405处用放大光束1410照射靶标混合物1414而形成，该放大光束1410沿着光束路径朝向靶标混合物1414行进。关于图1讨论的靶材料和关于图1讨论的流121中的靶标可以是或包括靶标混合物1414。等离子体形成位置1405在真空室1430的内部1407内。当放大光束1410撞击靶标混合物1414时，靶标混合物1414内的靶材料被转换为具有发射线在EUV范围内的元素的等离子体状态。所产生的等离子体具有取决于靶标混合物1414内的靶材料的成分的某些特性。这些特性可以包括：由等离子体产生的EUV光的波长，以及从等离子体释放的碎片的类型和数量。

光源1400还包括供应***1425，供应***1425以液滴、液流、固体颗粒或团簇、液滴中包含的固体颗粒或液体流中包含的固体颗粒的形式输送、控制和引导靶标混合物1414。靶标混合物1414包括靶材料，例如水、锡、锂、氙、或当转换成等离子体状态时具有在EUV范围内的发射线的任何材料。例如，可以使用元素锡作为纯锡(Sn)；作为锡化合物，例如SnBr₄、SnBr₂、SnH₄；作为锡合金，例如，锡镓合金、锡铟合金、锡铟镓合金或这些合金的任何组合。靶标混合物1414还可以包括杂质，诸如非靶标粒子。因此，在没有杂质的情况下，靶标混合物1414仅由靶材料构成。靶标混合物1414由供应***1425输送到腔室1430的内部1407和等离子体形成位置1405。

光源1400包括驱动激光***1415，该驱动激光***1415由于激光***1415的一个或多个增益介质内的粒子数反转而产生放大光束1410。光源1400包括在激光***1415与等离子体形成位置1405之间的光束传输***，光束传输***包括光束输送***1420和聚焦组件1422。光束输送***1420接收来自激光***1415的放大光束1410，并且根据需要转向和修改放大光束1410并且将放大光束1410输出到聚焦组件1422。聚焦组件1422接收放大光束1410并且将光束1410聚焦到等离子体形成位置1405。

在一些实现中，激光***1415可以包括一个或多个光学放大器、激光器和/或灯，以提供一个或多个主脉冲并且在一些情况下提供一个或多个预脉冲。每个光学放大器包括：能够以高增益光学放大期望波长的增益介质、激发源和内部光学器件。光学放大器可以具有或不具有形成激光腔的激光反射镜或其他反馈器件。因此，即使没有激光腔，激光***1415也会由于激光放大器的增益介质中的粒子数反转而产生放大光束1410。此外，如果存在激光腔以向激光***1415提供足够反馈，则激光***1415可以产生作为相干激光束的放大光束1410。术语“放大光束”涵盖以下中的一项或多项：来自激光***1415的仅被放大但不一定是相干激光振荡的光，以及来自激光***1415的被放大并且也是相干激光振荡的光。

激光***1415中的光学放大器可以包括填充气体(包括CO₂)作为增益介质，并且可以以大于或等于800倍的增益放大波长在约9100到约11000nm之间并且特别是为约10600nm的光。用于激光***1415的合适的放大器和激光器可以包括脉冲激光器件，例如，产生约9300nm或约10600nm的辐射的脉冲气体放电CO₂激光器件，例如，使用DC或RF激发，该脉冲激光器件以相对较高的功率(例如，10kW或更高)和高脉冲重复率(例如，40kHz或更高)操作。脉冲重复率例如可以是50kHz。激光***1415中的光学放大器还可以包括冷却***，诸如水，当激光***1415以更高功率操作时，可以使用该冷却***。

光源1400包括集光反射镜1435，集光反射镜1435具有孔1440以允许放大光束1410穿过并且到达等离子体形成位置1405。集光反射镜1435可以是例如椭圆反射镜，该椭圆反射镜具有在等离子体形成位置1405处的主焦点和在中间位置1445(也称为中间焦点)处的次级焦点，其中EUV光可以从光源1400输出并且可以输入到例如集成电路光刻工具(未示出)。光源1400还可以包括端部开口的中空的锥形罩1450(例如，气锥)，罩1450从集光反射镜1435朝向等离子体形成位置1405逐渐变细以减少进入聚焦组件1422和/或光束输送***1420的等离子体生成碎片的数量，同时允许放大光束1410到达等离子体形成位置1405。为此目的，可以在罩中提供朝向等离子体形成位置1405被引导的气流。

光源1400还可以包括主控制器1455，主控制器1455被连接到液滴位置检测反馈***1456、激光控制***1457和光束控制***1458。光源1400可以包括一个或多个靶标或液滴成像器1460，成像器1460提供指示液滴位置的输出，例如，相对于等离子体形成位置1405，并且将该输出提供给液滴位置检测反馈***1456，液滴位置检测反馈***1456可以例如计算液滴位置和轨迹，据此，可以通过逐液滴或平均方式计算液滴位置误差。液滴位置检测反馈***1456因此将液滴位置误差作为输入提供给主控制器1455。主控制器1455因此可以例如向激光控制***1457提供激光位置、方向和定时校正信号，激光位置、方向和定时校正信号例如可以用于控制激光定时电路和/或光束控制***1458，以控制放大光束的位置和光束输送***1420的成形，以改变腔室1430内光束焦点的位置和/或焦度。

供应***1425包括靶材料输送控制***1426，靶材料输送控制***1426响应于来自主控制器1455的信号而可操作，例如，以修改由靶材料供应装置1427释放的液滴的释放点，以校正到达期望的等离子体形成位置1405的液滴中的误差。靶材料供应装置1427包括采用诸如粘合剂234等粘合剂的靶标形成装置。

另外，光源1400可以包括光源检测器1465和1470，光源检测器1465和1470测量一个或多个EUV光参数，包括但不限于脉冲能量、作为波长的函数的能量分布、特定波长带内的能量、特定波长带之外的能量、以及EUV强度和/或平均功率的角分布。光源检测器1465生成反馈信号以供主控制器1455使用。反馈信号可以例如指示诸如激光脉冲的定时和聚焦等参数中的误差，以在正确的位置和时间拦截液滴以实现有效和高效的EUV光生产。

光源1400还可以包括引导激光器1475，该引导激光器1475可以用于对准光源1400的各个部分或帮助将放大光束1410转向等离子体形成位置1405。关于引导激光器1475，光源1400包括量测***1424，量测***1424被放置在聚焦组件1422内以对来自引导激光器1475的光的一部分和放大光束1410进行采样。在其他实现中，量测***1424被放置在光束输送***1420内。量测***1424可以包括：对光的子集进行采样或重定向的光学元件，这种光学元件由可以承受引导激光束和放大光束1410的功率的任何材料制成。光束分析***由量测***1424和主控制器1455形成，因为主控制器1455分析来自引导激光器1475的采样光并且使用这个信息通过光束控制***1458来调节聚焦组件1422内的组件。

因此，总而言之，光源1400产生放大光束1410，放大光束1410沿着光束路径被引导以在等离子体形成位置1405处照射靶标混合物1414，从而将混合物1414内的靶材料转换为发射EUV范围内的光的等离子体。放大光束1410以基于激光***1415的设计和特性而确定的特定波长(也称为驱动激光波长)操作。另外，当靶材料向激光***1415中提供足以产生相干激光的反馈时，或者在驱动激光***1415包括合适形成激光腔的光学反馈的情况下，放大光束1410可以是激光束。

图15是支撑结构1560的透视图。支撑结构1560是支撑结构360(图3A、图3B和图3D)和支撑结构560(图5)的实现。支撑结构1560包括第一支撑部分1562和连接到第一支撑部分1562的第二支撑部分1564。第一支撑部分1562包括四个尖头1576a、1576b、1576c、1576d。尖头1576a、1576b、1576c、1576d中的每个在X方向上从端部1567延伸到端部1568。尖头1576a、1576b、1576c、1576d围绕端部1567彼此间隔开，以在第一支撑部分1562中限定四个相应开口1572a、1572b、1572c、1572d。开口1572a、1572b、1572c、1572d在第一支撑部分1562的一侧并且在端部1567和1568之间沿着X方向延伸。开口1572a、1572b、1572c、1572d的尺寸可以相同，也可以不同。尖头1576a、1576b、1576c、1576d可以由刚性或柔性材料制成。尖头1576a、1576b、1576c、1576d可以在圆周方向上包括相同或不同的长度。此外，第一支撑部分1562可以包括多于或少于四个尖头1576a、1576b、1576c、1576d。此外，第一支撑部分1562可以是不包括任何尖头或开口的连续侧壁。

为了组装包括支撑结构1560的喷嘴装置，支撑结构1560被附接到本体350的端部357(图3A和图3C)以形成喷嘴装置。具体地，端部1568的内表面1563的一部分可以通过例如以下方式被附接到第一本体壁352的外表面356：内表面1563与外表面356之间的过盈配合；将外表面356和内表面1563结合的粘合剂；诸如紧固件等机械装置；螺纹接口；或者能够将支撑结构1560保持到本体350的任何其他方式。当喷嘴装置被组装时，毛细管314穿过开口355和1565使得第二支撑部分1564在开口1565中在毛细管314的端部331附近保持和支撑毛细管314。

第一支撑部分1562的开口1572a、1572b、1572c、1572d允许支撑结构1560内的内部区域的局部视图。例如，开口1572a、1572b、1572c、1572d允许支撑结构1560以相对直接和容易的方式被附接到端部357和毛细管314并且与之对准。此外，开口1572a、1572b、1572c、1572d允许对支撑结构1560及其组件进行目视检查。例如，可以通过开口1572a、1572b、1572c、1572d来观察金属线1183的放置，并且操作者可以容易地检查以确定是否应当重新定位或调节线1183。

本发明的其他方面在以下编号的条款中阐述。

1.一种装置，包括：

管，包括内部宽度和在端部处的开口，其中所述内部宽度在0.1毫米(mm)到0.8mm之间，并且所述开口具有在1.0微米(μm)到5.0μm之间的宽度；

机电致动器，与所述管接触并且被配置为将机械运动传递到所述管中，其中所述机械运动至少包括在40千赫兹(kHz)到100kHz之间的第一频率分量和频率高于所述第一频率分量的第二频率分量；

本体，包括：第一本体壁和第二本体壁，其中所述第一本体壁在第一方向上延伸，所述第二本体壁在不同于所述第一方向的第二方向上延伸，并且所述管的第一部分穿过所述第二本体壁中的开口，其中所述管的内部和所述本体的内部被配置为接纳熔融靶材料，并且所述靶材料在处于等离子体状态时发射极紫外(EUV)光；以及

支撑结构，包括：第一支撑部分和第二支撑部分，其中所述第一支撑部分被配置为附接到所述第一本体壁，并且所述管的第二部分被配置为当所述第一支撑部分附接到所述第一本体壁时穿过所述第二支撑部分。

2.根据条款1所述的装置，其中所述第二支撑部分是限定支撑开口的端壁，并且所述管的所述第二部分被配置为当所述第一支撑部分附接到所述第一本体壁时穿过所述支撑开口。

3.根据条款2所述的装置，其中所述支撑开口包括倒角开口，并且当所述第一支撑部分附接到所述第一本体壁时，所述管的所述第二部分的外表面被所述倒角开口捕获。

4.根据条款2所述的装置，其中所述第二支撑部分还包括调节机构，所述调节机构被配置为控制所述管与所述第二支撑部分之间的机械耦合。

5.根据条款4所述的装置，其中所述第一支撑部分从第一端延伸，所述第一端被配置为附接到所述第一本体壁，并且所述第一支撑部分包括从所述第一端延伸的多个段，所述多个段包括刚性尖头和至少一个柔性尖头。

6.根据条款5所述的装置，其中所述调节机构穿过所述刚性尖头，并且所述调节机构被配置为将所述第二支撑部分定位，从而控制所述管与所述第二支撑部分之间的机械耦合。

7.根据条款5所述的装置，其中开口位于所述多个段中的每个段之间。

8.根据条款4所述的装置，其中所述调节机构与所述第一支撑部分和所述端壁物理接触，并且所述调节机构将所述端壁移动，以控制所述管与所述第二支撑部分之间的所述机械耦合。

9.根据条款2所述的装置，其中所述端壁包括第一材料，并且所述装置还包括围绕所述支撑开口的第二材料的套圈，并且所述第二材料比所述第一材料软。

10.根据条款9所述的装置，其中所述第一材料包括金属，并且所述第二材料包括聚合物。

11.根据条款10所述的装置，其中所述聚合物包括聚酰亚胺树脂、聚醚醚酮、聚苯并咪唑树脂或聚四氟乙烯。

12.根据条款11所述的装置，其中所述第一材料包括金属，并且所述第二材料包括粘合剂材料。

13.根据条款12所述的装置，其中所述粘合剂材料包括双马来酰亚胺树脂、或氰酸酯基树脂。

14.根据条款2所述的装置，还包括灌封化合物，并且其中，当所述第一支撑部分附接到所述第一本体壁时，所述第一支撑部分和所述端壁限定其中包含所述灌封化合物的内部支撑区域。

15.根据条款14所述的装置，其中所述管穿过所述第二支撑部分中的所述支撑开口，并且所述第二支撑部分不与所述管机械接触。

16.根据条款15所述的装置，其中所述第二支撑部分被配置为，保护所述灌封化合物免受从所述等离子体发射的EUV光的影响，所述等离子体由所述靶材料形成。

17.根据条款14所述的装置，其中所述灌封化合物没有完全填充所述内部支撑区域。

18.根据条款17所述的装置，其中所述灌封化合物占据所述内部支撑区域的、与所述端壁相比更靠近所述本体的第一部分，并且所述内部支撑区域的、与所述本体相比更靠近所述端壁的第二部分不包括任何灌封化合物。

19.根据条款18所述的装置，其中所述灌封化合物包括粘合剂。

20.根据条款19所述的装置，其中所述粘合剂包括以下中的至少一种：基于双马来酰亚胺的粘合剂、基于苯并恶嗪的粘合剂、基于氰酸酯的粘合剂、室温硫化(RTV)粘合剂、或高温环氧树脂粘合剂。

21.根据条款1所述的装置，其中所述第一支撑部分包括刚性材料。

22.根据条款1所述的装置，其中所述第一支撑部分包括金属。

23.根据条款1所述的装置，其中所述第一支撑部分包括柔性材料。

24.根据条款1所述的装置，其中所述支撑结构位于所述本体与所述机电致动器之间。

25.根据条款1所述的装置，其中当所述第一支撑部分附接到所述第一本体壁时，所述机电致动器被所述第一支撑部分围绕。

26.根据条款1所述的装置，其中所述第一支撑部分被配置为附接到所述第一本体壁的外部。

27.根据条款1所述的装置，其中所述第二频率分量是所述第一频率分量的谐波或由所述机电致动器施加到所述管的另一频率的谐波。

28.根据条款1所述的装置，其中所述第一支撑部分包括一个或多个开口，所述一个或多个开口沿着所述第一支撑部分的一侧、在所述第一支撑部分的第一端与所述第一支撑部分的第二端之间延伸。

29.一种装置，包括：

管；

本体，包括：第一本体壁和第二本体壁，其中所述第一本体壁在第一方向上延伸，所述第二本体壁在不同于所述第一方向的第二方向上延伸，并且所述管的第一部分穿过所述第二本体壁中的开口；以及

支撑结构，包括：第一支撑部分和第二支撑部分，其中所述第一支撑部分被配置为附接到所述第一本体壁，并且当所述第一支撑部分附接到所述第一本体壁时，所述管的第二部分穿过所述第二支撑部分。

30.一种用于极紫外光源的装置，所述装置包括：

管，包括具有从第一端延伸到第二端的长度的侧壁；

致动器，机械耦合到所述侧壁的外部；

本体，包括：第一本体壁和第二本体壁；以及

配件，设置在所述本体的端部处，所述配件包括通道，其中所述侧壁的第一部分被保持在所述第二本体壁中的开口处，所述侧壁的第二部分被设置在所述通道中，所述致动器位于所述配件与所述管的所述第二端之间，并且所述侧壁的所述长度的大约一半被所述本体围绕。

31.根据条款30所述的装置，其中所述侧壁的所述长度的一半以上被所述本体围绕。

32.一种用于极紫外光(EUV)源的装置，所述装置包括：

管，包括从第一端延伸到第二端的侧壁；

致动器，机械耦合到所述侧壁的外部；

本体，包括：第一本体壁和第二本体壁；以及

配件，设置在所述本体的端部处，所述配件包括通道和套圈，其中所述侧壁的一部分在所述通道中，并且所述套圈位于所述侧壁的所述部分与所述配件之间。

33.根据条款32所述的装置，还包括金属线，所述金属线具有聚合物材料层，所述聚合物材料层连接到所述配件并且环绕所述侧壁的外部，所述线被配置为减少所述管的振动。

34.根据条款33所述的装置，其中所述聚合物材料层在所述金属线上形成涂层。

35.根据条款33所述的装置，还包括支撑结构，所述支撑结构包括：第一支撑部分和第二支撑部分，其中所述第一支撑部分被配置为附接到所述第一本体壁，并且当所述第一支撑部分附接到所述第一本体壁时，所述管穿过所述第二支撑部分。

36.根据条款35所述的装置，其中所述第二支撑部分被配置为保护所述聚合物层免受所述EUV光源中的等离子体的影响。

37.根据条款36所述的装置，其中所述第二支撑部分不与所述管机械接触。

38.根据条款32所述的装置，其中所述套圈延伸超出所述配件。

39.一种用于靶材料供应***的支撑结构，所述支撑结构包括：第一支撑部分；以及第二支撑部分，其中

所述第一支撑部分被配置为附接到所述靶材料供应***的第一本体壁，并且当所述第一支撑部分附接到所述第一本体壁时，所述靶材料供应***的管穿过所述第二支撑部分。

40.根据条款39所述的支撑结构，其中所述靶材料供应***被配置为耦合到极紫外光源的真空室。

上述实现和其他实现在权利要求的范围内。

Claims (40)

1.一种装置，包括：

管，包括内部宽度和在端部处的开口，其中所述内部宽度在0.1毫米(mm)到0.8mm之间，并且所述开口具有在1.0微米(μm)到5.0μm之间的宽度；

机电致动器，与所述管接触并且被配置为将机械运动传递到所述管中，其中所述机械运动至少包括在40千赫(kHz)到100kHz之间的第一频率分量和频率高于所述第一频率分量的第二频率分量；

本体，包括：第一本体壁和第二本体壁，其中所述第一本体壁在第一方向上延伸，所述第二本体壁在不同于所述第一方向的第二方向上延伸，并且所述管的第一部分穿过所述第二本体壁中的开口，其中所述管的内部和所述本体的内部被配置为接纳熔融靶材料，并且所述靶材料在处于等离子体状态时发射极紫外(EUV)光；以及

支撑结构，包括：第一支撑部分和第二支撑部分，其中所述第一支撑部分被配置为附接到所述第一本体壁，并且所述管的第二部分被配置为当所述第一支撑部分被附接到所述第一本体壁时穿过所述第二支撑部分。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述第二支撑部分是限定支撑开口的端壁，并且所述管的所述第二部分被配置为当所述第一支撑部分被附接到所述第一本体壁时穿过所述支撑开口。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述支撑开口包括倒角开口，并且当所述第一支撑部分被附接到所述第一本体壁时，所述管的所述第二部分的外表面被所述倒角开口捕获。

4.根据权利要求2所述的装置，其中所述第二支撑部分还包括：调节机构，所述调节机构被配置为控制所述管与所述第二支撑部分之间的机械耦合。

5.根据权利要求4所述的装置，其中所述第一支撑部分从第一端延伸，所述第一端被配置为附接到所述第一本体壁，并且所述第一支撑部分包括从所述第一端延伸的多个段，所述多个段包括刚性尖头和至少一个柔性尖头。

6.根据权利要求5所述的装置，其中所述调节机构穿过所述刚性尖头，并且所述调节机构被配置为定位所述第二支撑部分，从而控制所述管与所述第二支撑部分之间的机械耦合。

7.根据权利要求5所述的装置，其中开口位于所述多个段中的每个段之间。

8.根据权利要求4所述的装置，其中所述调节机构与所述第一支撑部分和所述端壁物理接触，并且所述调节机构移动所述端壁，以控制所述管与所述第二支撑之间的所述机械耦合。

9.根据权利要求2所述的装置，其中所述端壁包括第一材料，并且所述装置还包括围绕所述支撑开口的第二材料的套圈，并且所述第二材料比所述第一材料软。

10.根据权利要求9所述的装置，其中所述第一材料包括金属，并且所述第二材料包括聚合物。

11.根据权利要求10所述的装置，其中所述聚合物包括聚酰亚胺树脂、聚醚醚酮、聚苯并咪唑树脂或聚四氟乙烯。

12.根据权利要求11所述的装置，其中所述第一材料包括金属，并且所述第二材料包括粘合剂材料。

13.根据权利要求12所述的装置，其中所述粘合剂材料包括双马来酰亚胺树脂、或氰酸酯基树脂。

14.根据权利要求2所述的装置，还包括灌封化合物，并且其中，当所述第一支撑部分被附接到所述第一本体壁时，所述第一支撑部分和所述端壁限定包含所述灌封化合物的内部支撑区域。

15.根据权利要求14所述的装置，其中所述管穿过所述第二支撑部分中的所述支撑开口，并且所述第二支撑部分不与所述管机械接触。

16.根据权利要求15所述的装置，其中所述第二支撑部分被配置为，保护所述灌封化合物免受从所述等离子体发射的EUV光的影响，所述等离子体由所述靶材料形成。

17.根据权利要求14所述的装置，其中所述灌封化合物没有完全填充所述内部支撑区域。

18.根据权利要求17所述的装置，其中所述灌封化合物占据所述内部支撑区域的、与所述端壁相比更靠近所述本体的第一部分，并且所述内部支撑区域的、与所述本体相比更靠近所述端壁的第二部分不包括任何灌封化合物。

19.根据权利要求18所述的装置，其中所述灌封化合物包括粘合剂。

20.根据权利要求19所述的装置，其中所述粘合剂包括以下中的至少一种：基于双马来酰亚胺的粘合剂、基于苯并恶嗪的粘合剂、基于氰酸酯的粘合剂、室温硫化(RTV)粘合剂、或高温环氧树脂粘合剂。

21.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一支撑部分包括刚性材料。

22.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一支撑部分包括金属。

23.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一支撑部分包括柔性材料。

24.根据权利要求1所述的装置，其中所述支撑结构位于所述本体与所述机电致动器之间。

25.根据权利要求1所述的装置，其中当所述第一支撑部分被附接到所述第一本体壁时，所述机电致动器被所述第一支撑部分围绕。

26.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一支撑部分被配置为附接到所述第一本体壁的外部。

27.根据权利要求1所述的装置，其中所述第二频率分量是所述第一频率分量的谐波或由所述机电致动器施加到所述管的另一频率的谐波。

28.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一支撑部分包括一个或多个开口，所述一个或多个开口沿着所述第一支撑部分的一侧、在所述第一支撑部分的第一端与所述第一支撑部分的第二端之间延伸。

29.一种装置，包括：

管；

本体，包括：第一本体壁和第二本体壁，其中所述第一本体壁在第一方向上延伸，所述第二本体壁在不同于所述第一方向的第二方向上延伸，并且所述管的第一部分穿过所述第二本体壁中的开口；以及

支撑结构，包括：第一支撑部分和第二支撑部分，其中所述第一支撑部分被配置为附接到所述第一本体壁，并且当所述第一支撑部分被附接到所述第一本体壁时，所述管的第二部分穿过所述第二支撑部分。

30.一种用于极紫外光源的装置，所述装置包括：

管，包括具有从第一端延伸到第二端的长度的侧壁；

致动器，机械耦合到所述侧壁的外部；

本体，包括：第一本体壁和第二本体壁；以及

配件，设置在所述本体的端部处，所述配件包括通道，其中所述侧壁的第一部分被保持在所述第二本体壁中的开口处，所述侧壁的第二部分被设置在所述通道中，所述致动器位于所述配件与所述管的所述第二端之间，并且所述侧壁的所述长度的大约一半被所述本体围绕。

31.根据权利要求30所述的装置，其中所述侧壁的所述长度的一半以上被所述本体围绕。

32.一种用于极紫外光(EUV)源的装置，所述装置包括：

管，包括从第一端延伸到第二端的侧壁；

致动器，机械耦合到所述侧壁的外部；

本体，包括：第一本体壁和第二本体壁；以及

配件，设置在所述本体的端部处，所述配件包括通道和套圈，其中所述侧壁的一部分在所述通道中，并且所述套圈位于所述侧壁的所述部分与所述配件之间。

33.根据权利要求32所述的装置，还包括金属线，所述金属线具有聚合物材料层，所述聚合物材料层被连接到所述配件并且环绕所述侧壁的外部，所述线被配置为减少所述管的振动。

34.根据权利要求33所述的装置，其中所述聚合物材料层在所述金属线上形成涂层。

35.根据权利要求33所述的装置，还包括支撑结构，所述支撑结构包括：第一支撑部分和第二支撑部分，其中所述第一支撑部分被配置为附接到所述第一本体壁，并且当所述第一支撑部分被附接到所述第一本体壁时，所述管穿过所述第二支撑部分。

36.根据权利要求35所述的装置，其中所述第二支撑部分被配置为保护所述聚合物层免受所述EUV光源中的等离子体的影响。

37.根据权利要求36所述的装置，其中所述第二支撑部分不与所述管机械接触。

38.根据权利要求32所述的装置，其中所述套圈延伸超出所述配件。

39.一种用于靶材料供应***的支撑结构，所述支撑结构包括：第一支撑部分；以及第二支撑部分，其中

所述第一支撑部分被配置为附接到所述靶材料供应***的第一本体壁，并且当所述第一支撑部分被附接到所述第一本体壁时，所述靶材料供应***的管穿过所述第二支撑部分。

40.根据权利要求39所述的支撑结构，其中所述靶材料供应***被配置为耦合到极紫外光源的真空室。

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