CN114216130A - 废气处理装置的控制方法及废气处理装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种废气处理装置的控制方法及废气处理装置，废气处理装置的控制方法包括：获取通入反应腔的废气类型；根据废气类型获取设定温度；根据设定温度调节反应腔的加热温度。本发明根据不同类型废气处理所需要的反应温度不同，传送不同的信号至废气处理装置，控制反应腔的加热温度的高低，即控制为反应腔提供加热温度的燃料CH4，CDA，O2等能源用量，实现能源利用的最大化，减少能源浪费，以此实现对能源用量进行控制保证节能。
Description
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种废气处理装置的控制方法及废气处理装置。
背景技术
在半导体制造、液晶面板制造中废气处理装置是很重要的一个附属设备，设备运行时会消耗大量的能源，例如，CH4，CDA，O2等能源，由于根据不同工艺制程所需要的反应温度不同，现有的废气处理装置无法根据实际所需的反应温度控制能源用量，难以实现能源利用的最大化。容易造成能源浪费。
发明内容
本发明提供一种废气处理装置的控制方法及废气处理装置，用以解决现有技术中废气处理装置无法根据实际所需的反应温度控制能源用量，难以实现能源利用的最大化。容易造成能源浪费的缺陷，实现能源利用的最大化，减少能源浪费，对能源用量进行控制保证节能的效果。
本发明提供一种废气处理装置的控制方法，包括：
获取通入反应腔的废气类型；
根据废气类型获取设定温度；
根据设定温度调节反应腔的加热温度。
根据本发明提供的一种废气处理装置的控制方法，所述根据设定温度调节反应腔的加热温度的步骤包括：
获取反应腔的加热温度；
根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量。
根据本发明提供的一种废气处理装置的控制方法，所述根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
确定加热温度等于设定温度；
保持进入反应腔的燃烧气体的流量。
根据本发明提供的一种废气处理装置的控制方法，所述根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
确定加热温度不等于设定温度；
调节进入反应腔的燃烧气体的流量。
根据本发明提供的一种废气处理装置的控制方法，所述调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
调节进入反应腔的燃料气体的流量。
根据本发明提供的一种废气处理装置的控制方法，所述调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
调节进入反应腔的助燃气体的流量。
本发明还提供一种废气处理装置，应用于如上所述的废气处理装置的控制方法，包括反应腔、进气组件和控制器，所述控制器与所述进气组件连接，所述进气组件与所述反应腔连通。
根据本发明提供的一种废气处理装置，所述进气组件包括燃料气体供给***和助燃气体供给***。
根据本发明提供的一种废气处理装置，还包括测温组件，测温组件设置于所述反应腔内并与所述控制器连接。
本发明提供的废气处理装置的控制方法，半导体制造装置将通入废气处理装置的反应腔内的废气类型发送至控制器，控制器获取废气类型后处理获得设定温度，设定温度为处理相对应类型废气时反应腔所要达到的温度，控制器根据获得的设定温度向废气处理装置发送指令，从而控制反应腔的加热温度。
不同的工艺制程会产生不同类型的废气，本发明根据不同类型废气处理所需要的反应温度不同，传送不同的信号至废气处理装置，控制反应腔的加热温度的高低，即控制为反应腔提供加热温度的燃料CH4，CDA，O2等能源用量，实现能源利用的最大化，减少能源浪费，以此实现对能源用量进行控制保证节能。
除了上面所描述的本发明解决的技术问题、构成的技术方案的技术特征以及有这些技术方案的技术特征所带来的优点之外，本发明的其他技术特征及这些技术特征带来的优点，将结合附图作出进一步说明，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明提供的废气处理装置的结构示意图；
图2是本发明提供的废气处理装置的控制方法的流程示意图；
附图标记：
100、反应腔；
200、进气组件；210、燃料气体供给***；220、助燃气体供给***；
300、控制器；400、测温组件；500、半导体制造装置。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不能用来限制本发明的范围。
在本发明实施例的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明实施例的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明实施例中的具体含义。
在本发明实施例中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
此外，在本发明实施例的描述中，除非另有说明，“多个”、“多根”、“多组”的含义是两个或两个以上，“若干个”、“若干根”、“若干组”的含义是一个或一个以上。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明实施例的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
如图1和图2所示，本发明实施例提供的本发明提供一种废气处理装置的控制方法，包括：
获取通入反应腔100的废气类型；
根据废气类型获取设定温度；
根据设定温度调节反应腔100的加热温度。
本发明实施例的废气处理装置的控制方法，半导体制造装置500将通入废气处理装置的反应腔100内的废气类型发送至控制器300，控制器300获取废气类型后处理获得设定温度，设定温度为处理相对应类型废气时反应腔100所要达到的温度，控制器300根据获得的设定温度向废气处理装置发送指令，从而控制反应腔100的加热温度。
不同的工艺制程会产生不同类型的废气，本发明根据不同类型废气处理所需要的反应温度不同，传送不同的信号至废气处理装置，控制反应腔100的加热温度的高低，即控制为反应腔100提供加热温度的燃料CH4，CDA，O2等能源用量，实现能源利用的最大化，减少能源浪费，以此实现对能源用量进行控制保证节能。
根据本发明提供的一个实施例，根据设定温度调节反应腔100的加热温度的步骤包括：
获取反应腔100的加热温度；
根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔100的燃烧气体的流量。
本实施例中，供气组件与反应腔100连通，向反应腔100内通入然燃烧气体，燃烧气体在反应腔100内发生燃烧，为进入反应腔100的废气提供发生反应的高温环境，测温组件400实时检测反应腔100内的加热温度，并将温度信息发送至控制器300，控制器300对获得的加热温度与设定温度进行比对，根据比对结果调节进入反应腔100内燃烧的燃烧气体的流量。
在其它实施例中，控制反应腔100的加热温度可采用多种方式，如控制冷却换热等方式，控制燃烧气体的流量仅为其中一种，通过其它方式能够控制加热温度也可实施。
根据本发明提供的一个实施例，根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔100的燃烧气体的流量的步骤包括：
确定加热温度等于设定温度；
保持进入反应腔100的燃烧气体的流量。
本实施例中，测温组件400检测到反应腔100的加热温度后，反馈至控制器300，控制器300判断加热温度是否等于设定温度，若等于，则证明当前反应腔100内的加热温度为该类型废气处理所需的设定温度，因此保持当前的反应腔100的加热温度，即保持当前进入反应腔100的燃烧气体的流量。
根据本发明提供的一个实施例，根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔100的燃烧气体的流量的步骤包括：
确定加热温度不等于设定温度；
调节进入反应腔100的燃烧气体的流量。
本实施例中，测温组件400检测到反应腔100的加热温度后，反馈至控制器300，控制器300判断加热温度是否等于设定温度，若不等于，则证明当前反应腔100内的加热温度并非为该类型废气处理所需的设定温度，因此增大或减小当前反应腔100的加热温度，即调节进入反应腔100的燃烧气体的流量。
当控制器300判断反应腔100内的加热温度大于废气处理所需的设定温度时，减小进入反应腔100的燃烧气体的流量；当控制器300判断反应腔100内的加热温度小于废气处理所需的设定温度时，增大进入反应腔100的燃烧气体的流量。以此实现对能源的调控，针对特定的废气采用对应温度反应进行处理，合理减少能量消耗。
根据本发明提供的一个实施例，调节进入反应腔100的燃烧气体的流量的步骤包括：
调节进入反应腔100的燃料气体的流量。
本实施例中，供气组件包括燃料气体供给***210，燃料气体供给***210设置相应的燃料气体源、管路和阀体等，控制器300可控制阀体开度从而调节燃料气体的流量。当控制器300判断反应腔100内的加热温度大于废气处理所需的设定温度时，可减小进入反应腔100的燃料气体的流量；当控制器300判断反应腔100内的加热温度小于废气处理所需的设定温度时，可增大进入反应腔100的燃料气体的流量。
根据本发明提供的一个实施例，调节进入反应腔100的燃烧气体的流量的步骤包括：
调节进入反应腔100的助燃气体的流量。
本实施例中，供气组件包括燃料气体供给***210和助燃气体供给***220，燃料气体供给***210设置相应的燃料气体源、管路和阀体等，控制器300可控制阀体开度从而调节燃料气体的流量；助燃气体供给***220设置相应的助燃气体源、管路和阀体等，控制器300也可控制阀体开度从而调节助燃气体的流量。当控制器300判断反应腔100内的加热温度大于废气处理所需的设定温度时，可同时减小进入反应腔100的燃料气体和助燃气体的流量；当控制器300判断反应腔100内的加热温度小于废气处理所需的设定温度时，可同时增大进入反应腔100的燃料气体和助燃气体的流量。在其它实施例中，对于助燃气体与燃料气体同时调节的，或增大或减小的控制可根据实际情况具体配合确定，也可不同时增大或减小，增大和减小的程度也许根据实际情况确定。
在其它实施例中，也可单独调节助燃气体的流量，即供气组件包括助燃气体供给***220，助燃气体供给***220设置相应的助燃气体源、管路和阀体等，控制器300可控制阀体开度从而调节助燃气体的流量。当控制器300判断反应腔100内的加热温度大于废气处理所需的设定温度时，可减小进入反应腔100的助燃气体的流量；当控制器300判断反应腔100内的加热温度小于废气处理所需的设定温度时，可增大进入反应腔100的助燃气体的流量。
如图1所示，本发明实施例还提供一种废气处理装置，应用于如上述实施例的废气处理装置的控制方法，包括反应腔100、进气组件200和控制器300，控制器300与进气组件200连接，进气组件200与反应腔100连通。
本发明实施例的废气处理装置，半导体制造装置500将废气通入反应腔100内，供气组件将燃烧气体通入反应腔100内，燃烧气体在反应腔100内燃烧，为废气在反应腔100内的反应处理提供高温环境。同时半导体制造装置500将废气处理装置的反应腔100内的废气类型发送至控制器300，控制器300获取废气类型后处理获得设定温度，设定温度为处理相对应类型废气时反应腔100所要达到的温度，控制器300根据获得的设定温度向供气组件发送指令，控制供气组件向反应腔100内提供燃烧气体的流量，从而控制反应腔100的加热温度。
本实施例中，控制器300包括数据处理单元和传输单元，数据处理单元能够处理来自半导体制造装置500的废气类型信号以及由反应腔100检测到的温度信号，传输单元能够接收与发送数据至供气组件和半导体制造装置500，以此实现数据处理和数据交换。
根据本发明提供的一个实施例，进气组件200包括燃料气体供给***210和助燃气体供给***220。本实施例中，供气组件包括燃料气体供给***210和助燃气体供给***220，燃料气体供给***210设置相应的燃料气体源、管路和阀体等，控制器300可控制阀体开度从而调节燃料气体的流量；助燃气体供给***220设置相应的助燃气体源、管路和阀体等，控制器300也可控制阀体开度从而调节助燃气体的流量。
当控制器300判断反应腔100内的加热温度大于废气处理所需的设定温度时，可同时减小进入反应腔100的燃料气体和助燃气体的流量；当控制器300判断反应腔100内的加热温度小于废气处理所需的设定温度时，可同时增大进入反应腔100的燃料气体和助燃气体的流量。在其它实施例中，对于助燃气体与燃料气体同时调节的，或增大或减小的控制可根据实际情况具体配合确定，也可不同时增大或减小，增大和减小的程度也许根据实际情况确定。在其它实施例中，也可单独调节助燃气体或燃料气体的流量。
根据本发明提供的一个实施例，本发明实施例的废气处理装置还包括测温组件400，测温组件400设置于反应腔100内并与控制器300连接。本实施例中，测温组件400可采用温度传感器，测温组件400实时检测反应腔100内的加热温度，并反馈至控制器300，控制器300根据反馈的温度信息对供气组件做出调节控制指令。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (9)
1.一种废气处理装置的控制方法，其特征在于：包括：
获取通入反应腔的废气类型；
根据废气类型获取设定温度；
根据设定温度调节反应腔的加热温度。
2.根据权利要求1所述的废气处理装置的控制方法，其特征在于：所述根据设定温度调节反应腔的加热温度的步骤包括：
获取反应腔的加热温度；
根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量。
3.根据权利要求2所述的废气处理装置的控制方法，其特征在于：所述根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
确定加热温度等于设定温度；
保持进入反应腔的燃烧气体的流量。
4.根据权利要求2所述的废气处理装置的控制方法，其特征在于：所述根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
确定加热温度不等于设定温度；
调节进入反应腔的燃烧气体的流量。
5.根据权利要求4所述的废气处理装置的控制方法，其特征在于：所述调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
调节进入反应腔的燃料气体的流量。
6.根据权利要求4或5所述的废气处理装置的控制方法，其特征在于：所述调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
调节进入反应腔的助燃气体的流量。
7.一种废气处理装置，其特征在于：应用于如权利要求1至6任意一项所述的废气处理装置的控制方法，包括反应腔、进气组件和控制器，所述控制器与所述进气组件连接，所述进气组件与所述反应腔连通。
8.根据权利要求7所述的废气处理装置，其特征在于：所述进气组件包括燃料气体供给***和助燃气体供给***。
9.根据权利要求7所述的废气处理装置，其特征在于：还包括测温组件，测温组件设置于所述反应腔内并与所述控制器连接。
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| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |