CN114019736B - 显示基板和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种显示基板，包括：阵列基板、彩膜基板、液晶层、栅极驱动电路和封框胶，位于衬底基板上的多条时钟信号线的第一部分和第二部分在衬底基板的投影具有交叠，交叠所在区域形成交叠区域；覆盖金属氧化物薄膜晶体管的第一无机保护层和第二无机保护层，以及位于第一无机保护层和第二无机保护层之间的有机层；有机层与衬底基板的其中一个侧面之间的区域为挖空区域，使得封框胶完全覆盖第一无机保护层、第二无机保护层，部分区域覆盖有机层或者完全不覆盖有机层。本发明能够根据有机层与封框胶区域、交叠区域的相对位置，通过对有机层设置镂空区域、改变***金属走线的材料、改变第一无机保护层的材料来降低***金属走线的腐蚀风险。

Description

显示基板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是指一种显示基板和显示装置。
背景技术
在显示器技术领域中，TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)作为控制像素开关和信号传输的关键器件，其性能尤为重要。目前有源层材料主要包括非晶硅、金属氧化物、低温多晶硅三大类。其中，金属氧化物TFT因其高电子迁移率、低关态电流、均一性好等特性被广泛应用于高刷新率、高PPI(Pixels Per Inch)、高透过率等产品上。
但是，金属氧化物TFT对氢氧等杂质比较敏感，该类杂质对TFT特性影响较大，严重时破坏栅极驱动电路或显示区域的TFT的正常工作。显示面板封框胶区域的密封性提升是关键因素之一。
发明内容
本发明的实施例提供一种显示基板和显示装置，能够提升金属氧化物产品耐高温高湿性，降低***金属走线腐蚀风险。
本发明的第一方面提供一种显示基板，包括：
阵列基板和彩膜基板以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层，位于显示基板周边区域的栅极驱动电路和封框胶，所述栅极驱动电路包含多个金属氧化物薄膜晶体管；
所述阵列基板包括衬底基板，所述衬底基板包括上表面和四个侧面；
位于所述衬底基板的多条时钟信号线，各时钟信号线包括不同层设置的第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分通过过孔连接，所述第二部分与所述栅极驱动电路中的所述金属氧化物薄膜晶体管连接；
所述多条时钟信号线的第一部分和第二部分在衬底基板的投影具有交叠，交叠所在区域形成交叠区域；
覆盖所述金属氧化物薄膜晶体管的第一无机保护层和第二无机保护层，以及位于所述第一无机保护层和所述第二无机保护层之间的有机层；
所述第一无机保护层、第二无机保护层从覆盖所述金属氧化物薄膜晶体管的区域延伸到封框胶区域与所述衬底基板的其中一个所述侧面平齐；
所述第一无机保护层、第二无机保护层至少在所述封框胶区域的部分为连续的整面无镂空区域；
所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，使得所述封框胶完全覆盖所述第一无机保护层、第二无机保护层，部分区域覆盖所述有机层或者完全不覆盖所述有机层。
可选地，所述时钟信号线的第二部分位于所述时钟信号线的第一部分上方更靠近所述有机层。
可选地，所述时钟信号线包括至少两层，其中一层为金属线，另一层为金属线的保护层，所述保护层为合金。
可选地，距离衬底基板的其中一个侧面最近的交叠与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第二间距，当第二间距大于等于1000um时，所述交叠区域以及交叠区域到所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域。
可选地，距离所述衬底基板的其中一个侧面最近的交叠与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第二间距，当第二间距小于1000um时，所述交叠区域以及交叠区域到所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，且时钟信号线的保护层的合金为钼镍钛。
可选地，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第一间距，当第一间距大于等于600um时，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，
所述交叠区域的所述有机层设置有镂空区域，且时钟信号线的保护层的合金为钼镍钛。
可选地，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第一间距，当第一间距小于600um时，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，
所述交叠区域的所述有机层设置有镂空区域，时钟信号线的保护层的合金为钼镍钛，所述第一无机保护层至少包含两层，靠近所述有机层的外层为氮化硅，远离所述有机层的底层为氧化硅，所述时钟信号线的第二部分位于所述氧化硅层下方与所述氧化硅层接触。
可选地，所述金属氧化物薄膜晶体管包括：
位于所述衬底基板的所述上表面的栅极金属层；
覆盖所述栅极金属层的栅极绝缘层；
位于所述栅极绝缘层远离所述衬底基板一侧的有源层；
位于所述有源层上方的源漏金属层。
可选地，所述时钟信号线与所述源漏金属层同材料设置。
本发明的第二方面提供一种显示装置，包括上述的显示基板。
本发明的实施例具有以下有益效果：
本发明能够根据有机层与封框胶区域、交叠区域的相对位置，通过对有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域进行挖空，来提升金属氧化物产品耐高温高湿性，降低***金属走线腐蚀风险。
附图说明
图1为相关技术中显示基板的结构图；
图2为相关技术中交叠处发生腐蚀的示意图；
图3为相关技术中时钟信号线与栅极驱动电路的连接位置示意图；
图4为本发明实施例提供的第一种显示基板截面示意图；
图5为本发明实施例提供的第二种显示基板截面示意图。
附图标记
1 衬底基板
2a 第一栅极绝缘层
2b 第二栅极绝缘层
3 第一无机保护层
3a 第一无机保护层远离有机层的底层
3b 第一无机保护层靠近有机层的顶层
4 第二无机保护层
5 有机层
6 封框胶
7 液晶层
8 上面板
9 黑矩阵
10 彩膜
11a 时钟信号线的第一部分
11b 时钟信号线的第二部分
L1 第一间距
L2 第二间距
具体实施方式
为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
金属氧化物产品因TFT特性稳定的需要，位于有源层上方的绝缘层一般采用氧化物无机层，然而氧化物无机材料的防水性相对氮化物无机层较差，外界水汽容易进入有源层容易使得金属走线在H或O的作用下腐蚀或有源层在H和O的作用下失效。
显示面板对周边区域的封框胶附近的膜层设置可以有效降低***水汽等杂质的进入。
图1为相关技术中显示基板的结构图，如图1所示，该显示基板包括阵列基板和彩膜基板以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层7，围设所述液晶层的封框胶6；
其中，阵列基板包括衬底基板1，所述衬底基板1包括上表面和四个侧面，所述四个侧面为母板切割后的切割面，其中所述衬底基板可为玻璃基板或石英基板；
位于所述衬底基板1上的TFT，以TFT为底栅结构为例介绍该实施例；
所述TFT包括位于衬底基板1上的栅极金属层，其中栅极金属层包括至少两层，其中一层为金属线，另一层为金属线的保护层，所述保护层为合金，所述合金为钼铌，所述金属线为铜线或铝线；
覆盖所述栅极金属层的第一栅极绝缘层2a，所述第一栅极绝缘层2a为氮化物无机材料，例如氮化硅；
位于所述第一栅极绝缘层2a远离所述衬底基板1一侧的有源层，其中，有源层的材料为金属氧化物；
覆盖所述有源层的第二栅极绝缘层2b，第二栅极绝缘层2b为氧化物无机材料，例如氧化硅；
位于所述第二栅极绝缘层2b上方的源漏金属层，其中源漏金属层包括至少两层，其中一层为金属线，另一层为金属线的保护层，所述保护层为合金，所述合金为钼铌，所述金属线为铜线或铝线，源漏金属层与栅极金属层同材料制成；
覆盖所述源漏金属层的用于保护所述TFT的第一无机保护层3，第一无机保护层3包含一层或多层，所述一层或多层中至少包含氧化硅膜层，图1所示的第一无机保护层包含一层氧化硅膜层；
覆盖所述第一无机保护层3的第二无机保护层4，所述第二无机保护层4包含无机氮化物膜层，示例性的，为氮化硅或氮氧化硅膜层；
位于所述第一无机保护层3和所述第二无机保护层4之间的有机层5，有机层5用于在所述第一无机保护层3和所述第二无机保护层4之间起到平坦化作用；
其中，所述显示基板还包括位于所述衬底基板的多条时钟信号线，各时钟信号线包括不同层设置的第一部分11a和第二部分11b，所述第一部分11a与所述第二部分11b通过过孔连接，所述第二部分11b与所述栅极驱动电路中的所述金属氧化物薄膜晶体管连接，多条时钟信号线的第一部分11a和第二部分11b在衬底基板1的投影具有交叠，交叠所在区域形成交叠区域；
显示基板的周边区域设置有栅极驱动电路，所述栅极驱动电路包含多个金属氧化物薄膜晶体管，所述时钟信号线的第二部分11b与所述栅极驱动电路中的所述金属氧化物薄膜晶体管连接；
上述显示面板介绍了阵列基板，该显示面板还包括彩膜基板以及位于彩膜基板之间的液晶层7，所述彩膜基板上包括显示面板的上面板8、黑矩阵9和彩膜10。
液晶层中的液晶在不同的电压下能实现不同程度的偏转，从而可以实现不同的透过率，当光通过液晶层后，配合彩膜基板可以实现彩色显示。
参考图1，外界水汽从第一无机保护层3的第二无机保护层4之间的空隙侵入显示基板，有机层5已延伸到封框胶区域并覆盖交叠区域，由于有机层5易吸水，且第一无机保护层3的材料为防水性较差的氧化硅，因此，水汽到达源漏金属层。而源漏金属层的保护层材料为钼铌，相对于钼镍钛易受H或O的侵蚀，因此源漏金属层的金属走线(例如时钟信号线的第二部分)易发生腐蚀并在交叠区域与时钟信号线的第一部分产生电连接，造成短路。
参考图1，时钟信号线的第二部分11b与时钟信号线的第一部分11a位于封框胶区域的部分具有垂直衬底基板1的交叠区域。在交叠区域，时钟信号线的第二部分11b在H或O的作用下腐蚀，其中时钟信号线的第一部分11a与时钟信号线的第二部分11b位于不同层。
图2为相关技术中交叠处发生腐蚀的示意图，如图2所示，第一条时钟信号线的第一部分11a与第一条时钟信号线的第二部分11b通过过孔连接，第一条时钟信号线的第一部分11a连接至栅极驱动电路的金属氧化物薄膜晶体管的过程中与第二条、第三条和第四条时钟信号线的第一部分在衬底基板1上的投影具有交叠。第二条时钟信号线的第一部分11a与第二条时钟信号线的第二部分11b通过过孔连接，第二条时钟信号线的第一部分11a连接至栅极驱动电路的金属氧化物薄膜晶体管的过程中与第三条和第四条时钟信号线的第一部分在衬底基板1上的投影具有交叠。
第一条时钟信号线的第一部分11a由于与第一条时钟信号线的第二部分11b无交叠，第二条时钟信号线的第一部分11a由于与第一条时钟信号线的第二部分11b的交叠面积较小，因此，第一条时钟信号线和第二条时钟信号线的第一部分在水汽聚集时还未发生腐蚀现象。第三条时钟信号线的第一部分11a由于与第一条和第二条时钟信号线的第二部分11b均存在交叠，在H或O的作用下腐蚀，第一时钟信号线和第二时钟信号线在向栅极驱动电路传输时钟信号时在第三条时钟信号线发生腐蚀的地方出现短路，即，针对靠近显示基板外缘的一至两条时钟信号线，暂不考虑其发生短路的情况，发生短路的时钟信号线一般从第三条时钟信号线开始。
图3为相关技术中时钟信号线与栅极驱动电路的连接位置示意图，如图3所示，第一条时钟信号线CLK1、第二条时钟信号线CLK2和第三条时钟信号线CLK3连接至栅极驱动电路GOA，栅极驱动电路GOA的输出为位于有效显示区(Active Area,AA)的金属氧化物薄膜晶体管的栅极提供驱动电压。第一条时钟信号线CLK1的第二部分与第二条时钟信号线CLK2和第三条时钟信号线CLK3的第一部分具有交叠。
需要说明的是：由于时钟信号线上传输高频信号，在交叠处容易产生发热，因此，在H或O的作用下更容易发生腐蚀。栅极驱动电路的直流低电压信号线VSS上由于传输直流信号，在直流低电压信号线与直流低电压信号引线间发热现象不明显，且直流低电压信号线与直流低电压信号引线交叠处发生腐蚀的现象也不明显，因此，本发明暂不考虑直流低电压信号线VSS发生短路的情况。
为解决相关技术中显示基板的周边区域的金属走线易发生腐蚀的现象，本发明提供一种显示基板和显示装置。
本发明实施例提供的显示基板，包括：
阵列基板和彩膜基板以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层，位于显示基板周边区域的栅极驱动电路和封框胶，所述栅极驱动电路包含多个金属氧化物薄膜晶体管；其特征在于，
所述阵列基板包括衬底基板，所述衬底基板包括上表面和四个侧面；
位于所述衬底基板的多条时钟信号线，各时钟信号线包括不同层设置的第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分通过过孔连接，所述第二部分与所述栅极驱动电路中的所述金属氧化物薄膜晶体管连接；
所述多条时钟信号线的第一部分和第二部分在衬底基板的投影具有交叠，交叠所在区域形成交叠区域；
覆盖所述金属氧化物薄膜晶体管的第一无机保护层和第二无机保护层，以及位于所述第一无机保护层和所述第二无机保护层之间的有机层；
所述第一无机保护层、第二无机保护层从覆盖所述金属氧化物薄膜晶体管的区域延伸到封框胶区域与所述衬底基板的其中一个所述侧面平齐；
所述第一无机保护层、第二无机保护层至少在所述封框胶区域的部分为连续的整面无镂空区域；
所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，使得所述封框胶完全覆盖所述第一无机保护层、第二无机保护层，部分区域覆盖所述有机层或者完全不覆盖所述有机层。
图4为本发明实施例提供的第一种显示基板截面示意图，本发明实施例提供的显示基板包括：
阵列基板和彩膜基板以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层7，位于显示基板周边区域的栅极驱动电路和封框胶6，所述栅极驱动电路包含多个金属氧化物薄膜晶体管；
所述阵列基板包括衬底基板1，所述衬底基板1包括上表面和四个侧面，所述四个侧面为母板切割后的切割面；
位于所述衬底基板1的多条时钟信号线，各时钟信号线包括不同层设置的第一部分11a和第二部分11b，所述第一部分11a与所述第二部分11b通过过孔连接，所述第二部分11b与所述栅极驱动电路中的所述金属氧化物薄膜晶体管连接；
所述多条时钟信号线的第一部分11a和第二部分11b在衬底基板1的投影具有交叠，交叠所在区域形成交叠区域；
覆盖所述金属氧化物薄膜晶体管的第一无机保护层3和第二无机保护层4，以及位于所述第一无机保护层3和所述第二无机保护层4之间的有机层5；
其中，第一无机保护层3包括远离有机层5的底层3a和靠近有机层5的顶层3b；
所述第一无机保护层3、第二无机保护层4从覆盖所述金属氧化物薄膜晶体管的区域延伸到封框胶区域与所述衬底基板1的其中一个所述侧面平齐；
所述第一无机保护层3、第二无机保护层4至少在所述封框胶区域的部分为连续的整面无镂空区域；
所述有机层5与所述衬底基板1的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，使得所述封框胶6完全覆盖所述第一无机保护层3、第二无机保护层4，部分区域覆盖所述有机层5或者完全不覆盖所述有机层5。
可选地，所述金属氧化物薄膜晶体管包括：
位于所述衬底基板的所述上表面的栅极金属层；
覆盖所述栅极金属层的栅极绝缘层；
位于所述栅极绝缘层远离所述衬底基板一侧的有源层；
位于所述有源层上方的源漏金属层。
参考图4，以TFT为底栅结构为例介绍该实施例，所述TFT包括位于衬底基板1上的栅极金属层；
覆盖所述栅极金属层的第一栅极绝缘层2a，所述第一栅极绝缘层2a为氮化物无机材料，例如氮化硅；
位于所述第一栅极绝缘层2a远离所述衬底基板1一侧的有源层，有源层材料为金属氧化物；
覆盖所述有源层的第二栅极绝缘层2b，第二栅极绝缘层2b为氧化物无机材料，例如氧化硅；
位于所述第二栅极绝缘层2b上方的源漏金属层，其中源漏金属层包括至少两层，其中一层为金属线，另一层为金属线的保护层，所述保护层为合金，所述合金为钼铌，所述金属线为铜线或铝线，源漏金属层与栅极金属层同材料制成。
可选地，所述时钟信号线的第二部分11b位于所述时钟信号线的第一部分11a上方更靠近所述有机层5。
可选地，距离衬底基板的其中一个侧面最近的交叠与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第二间距，当第二间距大于等于1000um时，所述交叠区域以及交叠区域到所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域。
其中，如图4所示的显示基板，有机层5已延伸到封框胶区域，但未覆盖交叠区域。
如图4所示，距离衬底基板的其中一个侧面最近且发生短路现象的交叠位于第3条时钟信号线上，所述衬底基板的其中一个所述侧面与所述第3条时钟信号线之间具有第二间距L2，当第二间距L2大于等于1000um时，所述交叠区域以及交叠区域到所述衬底基板的其中一个侧面之间的区域为挖空区域，即，所述交叠区域以及交叠区域到所述衬底基板的其中一个侧面之间的区域的有机层5被挖除。此时，水汽到达交叠区域的距离不是很小，只需要将交叠区域以及交叠区域到所述衬底基板的其中一个侧面之间的有机层挖掉即可，进而，使有机层5距离衬底基板的其中一个侧面越远，有机层5吸水距离越远，有机层5吸附的水汽较少，则由有机层5向栅极金属层或源漏金属层渗透的水分减少，进而减少交叠处的水分，防止在交叠处发生短路。
进一步地，由于水汽如果到达交叠区域的距离不是很小，也无需对显示基板的膜层结构进行改变，也无需对膜层结构中防水性能较差的膜层的材料进行改变，只需将有机层5距离衬底基板的其中一个侧面的距离增大即可。
进一步地，当第二间距L2小于1000um时，即水汽到达交叠区域的距离相较于L2大于等于1000um时减小，那显示基板需要进一步加强防水能力，需要对源漏金属层的保护层的材料进行改变，进而增加防水能力。
可选地，距离所述衬底基板的其中一个侧面最近的交叠与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第二间距，当第二间距小于1000um时，所述交叠区域以及交叠区域到所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，且时钟信号线的保护层的合金为钼镍钛。
相关技术中，源漏金属层包括至少两层，其中一层为金属线，另一层为金属线的保护层，所述保护层为合金，所述合金为钼铌，所述金属线为铜线或铝线。示例性的，所述源漏金属层包括依次层叠的钼铌层、铜层和钼铌层。
但随着水汽到达交叠区域的距离越来越小，除去需要将有机层5距离衬底基板的其中一个所述侧面之间的距离增大外，还需要对膜层结构中防水性能较差的膜层的材料进行改变，但无需对显示基板的膜层结构进行改变。
具体地，可将源漏金属层的保护层材料改为钼镍钛。本发明的实施例提供的源漏金属层至少包括两层，其中一层为金属线，另一层为金属线的保护层，所述保护层为合金，所述合金为钼镍钛。
时钟信号引线与源漏金属层同层同材料制成，对源漏金属层的保护层材料进行改变的同时对时钟信号引线的材料也进行了改变。
如果相关技术中的源漏金属层为依次层叠设置的钼铌层、铜层和钼铌层，需要将源漏金属层靠近有机层5的一侧的钼铌层改为钼镍钛层，远离有机层5的底层的钼铌层可改为钼镍钛层也可以不做改变。
如果相关技术中的源漏金属层仅包括一层铜层和钼铌层，则只需将钼铌层改为钼镍钛层。
钼镍钛材料相对钼铌材料不容易受H或O的腐蚀，因此能够避免源漏金属层的金属走线(例如时钟信号线的第二部分)由于吸水纵向生长从而在交叠区域与时钟信号线的第一部分产生电连接，造成短路。
需要说明的是，栅极金属层的材料可做改变也可不做改变。
参考图5，图5为本发明实施例提供的第二种显示基板截面示意图，本发明实施例提供的显示基板包括：
阵列基板和彩膜基板以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层7，位于显示基板周边区域的栅极驱动电路和封框胶6，所述栅极驱动电路包含多个金属氧化物薄膜晶体管；
所述阵列基板包括衬底基板1，所述衬底基板1包括上表面和四个侧面，所述四个侧面为母板切割后的切割面；
位于所述衬底基板1的多条时钟信号线，各时钟信号线包括不同层设置的第一部分11a和第二部分11b，所述第一部分11a与所述第二部分11b通过过孔连接，所述第二部分11b与所述栅极驱动电路中的所述金属氧化物薄膜晶体管连接；
所述多条时钟信号线的第一部分11a和第二部分11b在衬底基板1的投影具有交叠，交叠所在区域形成交叠区域；
覆盖所述金属氧化物薄膜晶体管的第一无机保护层3和第二无机保护层4，以及位于所述第一无机保护层3和所述第二无机保护层4之间的有机层5；
其中，第一无机保护层3包括远离有机层5的底层3a和靠近有机层5的顶层3b；
所述第一无机保护层3、第二无机保护层4从覆盖所述金属氧化物薄膜晶体管的区域延伸到封框胶区域与所述衬底基板1的其中一个所述侧面平齐；
所述第一无机保护层3、第二无机保护层4至少在所述封框胶区域的部分为连续的整面无镂空区域；
所述有机层5与所述衬底基板1的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，使得所述封框胶6完全覆盖所述第一无机保护层3、第二无机保护层4，部分区域覆盖所述有机层5或者完全不覆盖所述有机层5。
可选地，所述金属氧化物薄膜晶体管包括：
位于所述衬底基板的所述上表面的栅极金属层；
覆盖所述栅极金属层的栅极绝缘层；
位于所述栅极绝缘层远离所述衬底基板一侧的有源层；
位于所述有源层上方的源漏金属层。
以TFT为底栅结构为例介绍该实施例，所述TFT包括位于衬底基板1上的栅极金属层；
覆盖所述栅极金属层的第一栅极绝缘层2a，所述第一栅极绝缘层2a为氮化物无机材料，例如氮化硅；
位于所述第一栅极绝缘层2a远离所述衬底基板1一侧的有源层，有源层材料为金属氧化物；
覆盖所述有源层的第二栅极绝缘层2b，第二栅极绝缘层2b为氧化物无机材料，例如氧化硅；
位于所述第二栅极绝缘层2b上方的源漏金属层，其中源漏金属层包括至少两层，其中一层为金属线，另一层为金属线的保护层，所述保护层为合金，所述合金为钼铌，所述金属线为铜线或铝线，源漏金属层与栅极金属层同材料制成。
可选地，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第一间距，当第一间距大于等于600um时，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，
所述交叠区域的所述有机层设置有镂空区域，且时钟信号线的保护层的合金为钼镍钛。
其中，如图5所示的显示基板，在图4的基础上，有机层5不仅已延伸到封框胶区域，且已覆盖交叠区域，即有机层距离所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的距离进一步减小。此时，已无法将所述衬底基板的其中一个所述侧面与第3条时钟信号线之间的距离作为基准，因为有机层相对所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的距离比第3条时钟信号线相对所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的距离更近，因此，以有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的第一间距L1作为基准。
进一步地，当L1大于等于600um时，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，且需要对交叠区域的有机层设置镂空区域。
交叠区域的有机层5具有镂空区域，能够进一步防止水汽聚集，防止H或O对交叠区域的金属走线的腐蚀。
进一步地，还需要对膜层结构中防水性能较差的膜层的材料进行改变，但无需对显示基板的膜层结构进行改变。
具体地，可将源漏金属层的保护层材料改为钼镍钛。本发明的实施例提供的源漏金属层至少包括两层，其中一层为金属线，另一层为金属线的保护层，所述保护层为合金，所述合金为钼镍钛。
如果相关技术中的源漏金属层为依次层叠设置的钼铌层、铜层和钼铌层，需要将源漏金属层靠近有机层5的一侧的钼铌层改为钼镍钛层，远离有机层5的底层的钼铌层可改为钼镍钛层也可以不做改变。
如果相关技术中的源漏金属层仅包括一层铜层和钼铌层，则只需将钼铌层改为钼镍钛层。
钼镍钛材料相对钼铌材料不容易受H或O的腐蚀，因此能够避免源漏金属层的金属走线(例如时钟信号线的第二部分)由于吸水纵向生长从而在交叠区域与时钟信号线的第一部分产生电连接，造成短路。
需要说明的是，栅极金属层的材料可做改变也可不做改变。
可选地，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第一间距，当第一间距小于600um时，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，
所述交叠区域的所述有机层设置有镂空区域，时钟信号线的保护层的合金为钼镍钛，所述第一无机保护层至少包含两层，靠近所述有机层的外层为氮化硅，远离所述有机层的底层为氧化硅，所述时钟信号线的第二部分位于所述氧化硅层下方与所述氧化硅层接触。
进一步地，当L1小于600um时，即有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的距离进一步减小，那显示基板需要进一步加强防水能力，不仅需要对交叠区域的有机层设置镂空区域，还需要对源漏金属层的保护层的材料进行改变，还需要对第一无机保护层的材料进行改变。
可选地，所述第一无机保护层至少包含两层，靠近有机层的外层为氮化硅，远离有机层的底层为氧化硅，所述时钟信号引线位于所述氧化硅层下方与所述氧化硅接触。
如果相关技术中第一无机保护层靠近有机层的顶层的材料为氧化物无机材料，则需将氧化物无机材料改为氮化物无机材料，例如由氧化硅改为氮化硅，
具体地，顶层为SiNx层，厚度为底层为SiOx，厚度为/>
或者，可以在第一无机保护层靠近有机层的顶层上再叠加一层氮化物无机
材料，具体地，在原来的结构上叠加了一层厚度为500A的SiNx。
由于氮化硅材料的防水性比氧化硅要好，第一无机保护层使用氮化硅材料能够增强显示基板的防水汽能力。
除此之外，钼镍钛材料相对钼铌材料不容易受H或O的腐蚀，因此能够避免源漏金属层的金属走线(例如时钟信号线的第二部分)由于吸水纵向生长从而在交叠区域与时钟信号线的第一部分产生电连接，造成短路。
本发明的实施例还提供一种显示装置，包括上述的显示基板。
该显示装置包括但不限于：射频单元、网络模块、音频输出单元、输入单元、传感器、显示单元、用户输入单元、接口单元、存储器、处理器、以及电源等部件。本领域技术人员可以理解，上述显示装置的结构并不构成对显示装置的限定，显示装置可以包括上述更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者不同的部件布置。在本发明实施例中，显示装置包括但不限于显示器、手机、平板电脑、电视机、可穿戴电子设备、导航显示设备等。
所述显示装置可以为：液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，其中，所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。
在本发明各方法实施例中，所述各步骤的序号并不能用于限定各步骤的先后顺序，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，对各步骤的先后变化也在本发明的保护范围之内。
需要说明，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于实施例而言，由于其基本相似于产品实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见产品实施例的部分说明即可。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种显示基板，包括：
阵列基板和彩膜基板以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层，位于显示基板周边区域的栅极驱动电路和封框胶，所述栅极驱动电路包含多个金属氧化物薄膜晶体管；其特征在于，
所述阵列基板包括衬底基板，所述衬底基板包括上表面和四个侧面；
位于所述衬底基板的多条时钟信号线，各时钟信号线包括不同层设置的第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分通过过孔连接，所述第二部分与所述栅极驱动电路中的所述金属氧化物薄膜晶体管连接；
所述多条时钟信号线的第一部分和第二部分在衬底基板的投影具有交叠，交叠所在区域形成交叠区域；
覆盖所述金属氧化物薄膜晶体管的第一无机保护层和第二无机保护层，以及位于所述第一无机保护层和所述第二无机保护层之间的有机层；
所述第一无机保护层、第二无机保护层从覆盖所述金属氧化物薄膜晶体管的区域延伸到封框胶区域与所述衬底基板的其中一个所述侧面平齐；
所述第一无机保护层、第二无机保护层至少在所述封框胶区域的部分为连续的整面无镂空区域；
所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，使得所述封框胶完全覆盖所述第一无机保护层、第二无机保护层，部分区域覆盖所述有机层或者完全不覆盖所述有机层。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
所述时钟信号线的第二部分位于所述时钟信号线的第一部分上方更靠近所述有机层。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，
所述时钟信号线包括至少两层，其中一层为金属线，另一层为金属线的保护层，所述保护层为合金。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，距离衬底基板的其中一个侧面最近的交叠与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第二间距，当第二间距大于等于1000um时，所述交叠区域以及交叠区域到所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域。
5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，距离所述衬底基板的其中一个侧面最近的交叠与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第二间距，当第二间距小于1000um时，所述交叠区域以及交叠区域到所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，且时钟信号线的保护层的合金为钼镍钛。
6.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第一间距，当第一间距大于等于600um时，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，所述交叠区域的所述有机层设置有镂空区域，且时钟信号线的保护层的合金为钼镍钛。
7.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间具有第一间距，当第一间距小于600um时，所述有机层与所述衬底基板的其中一个所述侧面之间的区域为挖空区域，
所述交叠区域的所述有机层设置有镂空区域，时钟信号线的保护层的合金为钼镍钛，所述第一无机保护层至少包含两层，靠近所述有机层的外层为氮化硅，远离所述有机层的底层为氧化硅，所述时钟信号线的第二部分位于所述氧化硅层下方与所述氧化硅层接触。
8.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述金属氧化物薄膜晶体管包括：
位于所述衬底基板的所述上表面的栅极金属层；
覆盖所述栅极金属层的栅极绝缘层；
位于所述栅极绝缘层远离所述衬底基板一侧的有源层；
位于所述有源层上方的源漏金属层。
9.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述时钟信号线与所述源漏金属层同材料设置。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述的显示基板。
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