CN113785227A

CN113785227A - 用于干涉仪装置的反射镜装置、干涉仪装置和用于制造反射镜装置的方法

Info

Publication number: CN113785227A
Application number: CN202080034778.8A
Authority: CN
Inventors: C·谢林; C·D·克莱默; R·勒德尔
Original assignee: Robert Bosch GmbH
Current assignee: Robert Bosch GmbH
Priority date: 2019-05-10
Filing date: 2020-04-29
Publication date: 2021-12-10
Also published as: DE102019206758A1; EP3966608A1; US20220221709A1; WO2020229180A1

Abstract

本发明提供了一种用于干涉仪装置（10）的反射镜装置（1），其包括：上下平行地并且彼此相距反射镜层间距（d23）地布置的第一反射镜层（2）和第二反射镜层（3），其中，所述反射镜层间距（d23）在第一和第二反射镜层（2、3）之间形成中间腔（5），其中，所述中间腔（5）包括气体或真空；至少一个至少部分地在第一和第二反射镜层（2、3）之间延伸的间隔结构（4），其中，所述间隔结构（4）包括与第一和/或第二反射镜层（2、3）相同或不同的材料。

Description

用于干涉仪装置的反射镜装置、干涉仪装置和用于制造反射镜装置的方法

技术领域

本发明涉及一种用于干涉仪装置的反射镜装置、一种干涉仪装置和一种用于制造反射镜装置的方法。

背景技术

对于在多个波长范围内可变（可调）且仅对特定的波长可透过的光谱滤波器，例如可以借助微机电构造方式（MEMS技术）比如使用法布里-珀罗干涉仪（FPI）来实现小型化。具有两个基本上平面平行的高反射性的反射镜的腔—其间距（腔长）为光学波长的数量级—只能对一些波长具有强透射率，这些波长以腔长而对应于波长一半的整数多倍。通过例如静电的或压电的促动，可以改变干涉仪反射镜之间的间距，从而可以产生光谱可调的滤波元件。

法布里-珀罗干涉仪可以有利地覆盖尽可能大的波长范围，这些干涉仪还应该在要测量的整个波长范围内具有高反射性。反射镜通常可以包括介电的层***，例如布拉格反射器（英文：distributed Bragg reflectors（分布式布拉格反射器），DBR），这些层***可以交替地包括高折射率材料层和低折射率材料层，其中，这些层的光学厚度理想地包括要考察的波长范围的中心波长的四分之一。下面的关系式给出了波长范围

，在该范围内，这种反射镜可以包括高反射率。因此，高折射率材料和低折射率材料的折射率对比由下式给出：

其中，

表示中心波长，n_L表示低折射率材料的折射率，并且n_H表示高折射率材料的折射率。

在这里，对于所提到的波长范围，可实现的最大反射正如以下所示那样在给定数量的具有更高的折射率对比（Brechungsindexkontrast）的层对的情况下也可以更高：

在这里，如果DBR反射镜未露出，则n_SUB等于衬底的折射率。如果DBR反射镜露出，则n_SUB=1。为了覆盖尽可能大的波长范围，低折射率材料的折射率可以尽量接近1，比如在气体或真空的情况下。由于平面平行度对于此类反射镜（层）也很重要，因此事实证明，反射镜层之间的支撑结构是有利的，以便将在FPI反射镜内部的各个层之间的间距保持恒定（高折射率层相互间的间距）。通常，上部的高折射率层的部分可以形成为支撑结构。这些支撑结构可以从上部的高折射率层延伸到下部的高折射率层。

在US 7,733,495 B2中描述了多层反射镜以及法布里-珀罗干涉仪。侧壁可以在高折射率层之间延伸。

发明内容

本发明提出了一种根据权利要求1的用于干涉仪装置的反射镜装置、一种根据权利要求9的干涉仪装置和一种根据权利要求10的用于制造反射镜装置的方法。

优选的改进是从属权利要求的主题。

本发明的优点

本发明的构思在于，提出一种用于干涉仪装置的反射镜装置，其包括反射镜装置中的在反射镜层之间的改进的间隔结构。该间隔结构可以用于保持在反射镜装置的反射镜层之间的恒定的间距，并且同时用作用于反射镜装置与另一元件（例如电极、衬底或另一反射镜装置）的距离保持件。

根据本发明，用于干涉仪装置的反射镜装置包括上下平行地并且彼此相距反射镜层间距地布置的第一反射镜层和第二反射镜层，其中，反射镜层间距在第一和第二反射镜层之间形成中间腔，并且其中，中间腔包括气体或真空；至少一个至少部分地在第一和第二反射镜层之间延伸的间隔结构，并且其中，间隔结构包括与第一和/或第二反射镜层相同或不同的材料。

竖直的延伸部可以垂直于平坦的延伸面，或者也可以相对于平坦的延伸面倾斜，例如倾斜70°或80°的角度，即偏离竖直的方向。

间隔结构可以包括与第一和/或第二反射镜层相同或不同的材料。在间隔结构包括与一个或两个反射镜层相同的材料的情况下，这仍然可以在成品构件（反射镜装置）中被证实，因为间隔结构和反射镜层可以彼此分开地制造，即可以不作为一个整体构件起作用并且也可以与该整体构件不同。间隔结构和反射镜层例如可以包括硅（多晶硅），并且因此对于每个反射镜层以及对于间隔结构在其制造时也可以发生多晶硅的重新生长。对于分开制造的结构，材料结构例如结晶度可以可证实地不同于由相同材料制成的连续结构。因此，分开制造的由相同晶体材料构成的反射镜层和间隔结构在其材料结构上可以可证实地不同于在一个步骤中连续制造的（生长的）结构。

根据反射镜装置的一种优选的实施方式，间隔结构包括侧壁，这些侧壁相对于第一和第二反射镜层的平坦的延伸方向竖直地延伸，或以一定的角度偏离竖直方向延伸。

根据反射镜装置的一种优选的实施方式，间隔结构至少伸入到两个反射镜层之一中。

根据反射镜装置的一种优选的实施方式，间隔结构包括在侧壁和底部之间的芯部，其中，侧壁和底部包括与芯部不同的材料。

根据反射镜装置的一种优选的实施方式，侧壁和底部包括电绝缘的材料。

根据反射镜装置的一种优选的实施方式，间隔结构突出至少穿过两个反射镜层之一，并且以至少反射镜层之一的厚度突出超过第一和/或第二反射镜层的外侧。

根据反射镜装置的一种优选的实施方式，它包括多个间隔结构，在第二反射镜层的平坦的顶面的俯视图中，这些间隔结构形成六边形的格栅。

根据反射镜装置的一种优选的实施方式，在内凹下方和/或上方的区域中，第一和/或第二反射镜层在远离内凹的方向上相对于第一反射镜层的平坦的延伸方向竖直地突出。

根据本发明，干涉仪装置包括衬底；第一反射镜装置和第二反射镜装置，其中，这些反射镜装置中的至少一个包括根据本发明的反射镜装置，这些反射镜装置布置在衬底上方，并且彼此相距第一间距地上下布置，其中，至少第一反射镜装置布置成可相对于第二反射镜装置移动；和致动装置，通过该致动装置至少可移动第一和/或第二反射镜装置。

根据本发明，在用于制造反射镜装置的方法中，提供第一牺牲层和/或衬底；将第一反射镜层覆设到第一牺牲层和/或衬底上；将第二牺牲层覆设在第一反射镜层上；至少在第二牺牲层中形成内凹，该内凹至少延伸至第一反射镜层；将用于间隔结构的材料引入到内凹中；将第二反射镜层覆设到第二牺牲层上和内凹上方；并且至少部分地去除第一和/或第二牺牲层。

该方法还可以有利地以结合反射镜装置提及的特征及其优点为特征，反之亦然。

根据该方法的一种优选的实施方式，在把用于间隔结构的材料引入到内凹中时，把电绝缘层布置在内凹中和第二牺牲层的顶面上，并且然后把用于间隔结构的芯部的材料引入到内凹中，从而填充内凹。

根据该方法的一种优选的实施方式，在覆设第二反射镜层之前，内凹的材料或至少用于芯部的材料变薄（rückdünnen），以便与横向地邻接于内凹的区域产生平坦的连接。

本发明的实施方式的其它特征和优点从参考附图进行的以下描述中得到。

附图说明

下面参考在附图的示意图中给出的实施例更详细地解释本发明。其中：

图1a-f示出了根据本发明的多个实施例的反射镜装置的示意性侧视图；

图2a-f示出了根据本发明的一个实施例的在用于制造反射镜装置的方法期间该反射镜装置的示意性侧视图；

图3a-d示出了根据本发明的另一实施例的在用于制造反射镜装置的方法的部分步骤期间该反射镜装置的示意性侧视图；

图4示出了根据本发明的一个实施例的干涉仪装置的示意性侧视图；并且

图5示出了根据本发明的一个实施例的方法的方法步骤的示意框图。

在这些图中，相同的附图标记表示相同的或功能相同的元件。

具体实施方式

图1a-f示出了根据本发明的多个实施例的反射镜装置的示意性侧视图。

在图1a-f中分别示出了用于干涉仪装置10的反射镜装置1，该反射镜装置包括上下平行地并且彼此相距反射镜层间距d23地布置的第一反射镜层2和第二反射镜层3，其中，反射镜层间距d23在第一和第二反射镜层（2、3）之间形成中间腔5，并且其中，中间腔5包括气体或真空。反射镜装置1包括至少一个位于第一和第二反射镜层（2、3）之间的间隔结构4，该间隔结构相对于第一和第二反射镜层（2、3）的平面延伸方向竖直地延伸，或者包括以一定的角度偏离于竖直方向延伸的侧壁4a，并且其中，间隔结构4包括与第一和/或第二反射镜层（2、3）相同或不同的材料。

所示的间隔结构4可以经受横向变形，比如由于反射镜层中的内部拉应力（机械）所致。由于间隔结构有利地包括与反射镜层不同的材料，因此这些间隔结构可以在机械上并且有利地也在电学上适配于间隔结构的要求，例如以便能够（由于间隔结构的松弛减少）更好地保持有利地在层中产生的拉应力，由此也可以增加光学可用的面积（在所限定的间距的情况下反射镜的平面度）。此外，间隔结构可以基本上与反射镜层的顶面以平坦的方式终止，这不会产生超出反射镜层的***（几乎不产生或者不产生形貌结构），这既有利于工艺控制地又有利于光学和机械特性地可以是可能后续的其它的（反射镜）层（因此另一个反射镜的后续层很少会发生或者不会发生弯曲）。在填充内凹时，用于间隔结构的材料可以以该反射镜层的背离第一反射镜层的顶面带有公差地形成平坦的表面。相对于平坦的终止结构的公差可以是最多相差反射镜层的厚度的偏差。

在图1a中，间隔结构4有利地仅在两个反射镜层2和3之间延伸（可以接触它们），而在此不延伸到这些反射镜层2和3（的延伸平面）中去，并且无论在侧壁中4a中还是在内部区域（芯部）中都可以包括相同的材料，有利地也仅包括一种材料。在图1c和1e中，间隔结构4的形状可以与图1a中的相似，不同之处在于，间隔结构4还可以附加地至少部分地（图1e）或完全地（图1c）延伸到第一反射镜层2（延伸平面）中或延伸穿过它。在图1c的设计中，间隔结构4可以在第一反射镜层2下方—间隔结构4在那里可以垂直于平坦的延伸方向向下突出于第一反射镜层2—形成间隔保持件AH。此外，还可以存在多个间隔结构4，这些间隔结构在第二反射镜层3的平坦的顶面3b的俯视图中可以形成六边形格栅或其他几何形状（未示出）。

根据图1f，间隔结构4可以部分地比如以锚定区域延伸到第一反射镜层2（延伸平面）中，该锚定区域可以包括比在反射镜层2和3之间的间隔结构4在横向上更小的延展度。该形式可以按照图3的方法步骤的顺序来提供（更确切的参考后续在图3中示出）。第一反射镜层2下方的间隔保持件因此可以包括第一反射镜层2的材料，其在第二反射镜层3的方向上具有内凹，间隔结构4可以嵌入该内凹中，并且对于横向拉力可以机械地稳定。

根据图1b、1d和1f，间隔结构4可以包括在侧壁4a内的芯部4d且包括底部4c，其中，底部4c和侧壁4a可以由相同的材料制成，并且芯部4d可以包括另一种材料。图1b中的间隔结构4的外部的延展度有利地对应于图1a；在图1d中的对应于图1c；并且在图1f中的对应于图1e。

间隔结构因此可以与反射镜层分开地沉积，并且形成用于沉积第二反射镜层的基底。该实施方式还可以有利地在使用其它的反射镜层和牺牲层的情况下扩展到其它的反射镜层。

中间腔5中的气体（混合物）例如空气或真空可以形成（替代）低折射率层，并且具有大约为1的折射率。反射镜层2和3例如可以具有硅来作为高折射率的材料，其具有例如3.5的折射率。代替硅，也可以使用锗或碳化硅，或者使用可以与牺牲层蚀刻工艺兼容（耐受）的其他材料。如果空气用作低折射率的材料，则可以实现与高折射率材料的大折射率差，并且可以产生在光谱上宽带的、高反射的反射镜装置。

为了在反射镜装置的尽可能大的光学范围（孔径面积）上确保反射镜（装置）的间距为（待透射或待滤波的）中心波长的四分之一波长，即，低折射的层（空气）具有四分之一波长厚度，则间隔结构4可以使反射镜层彼此稳定。

间隔结构4的材料例如可以是半导体材料，和/或是与反射镜层中的至少一个反射镜层相同的材料。间隔结构的材料的沉积工艺可以适配于反射镜层的机械的和电的特性（反射镜层的导电性、导热性、垂直的电绝缘）和制造工艺。但是，这些特性也可以独立于对反射镜层的要求进行设定。例如，掺杂和/或结晶度可以是可变的。间隔结构和反射镜层的材料可以通过掺杂或结晶度而有所不同，但也可以包括另一种半导体材料。间隔结构可以是电绝缘的，比如芯部的材料。从机械角度来看，这种间隔结构可以非常稳定和防破裂，并且几乎不允许反射镜（膜/层）—特别是它们的间隔—发生任何变形，比如在负荷情况下也没有或很少有切口效应。

间隔结构可以设计为至少部分横向连续的壁结构和/或设计为柱结构，比如蜂窝结构。

可以通过减少屈服或不屈服来保持反射镜层的预定间距。间隔结构可以在俯视图中几乎形成为点状，这可以导致光损失最小化。

芯部4d中的材料可以包括高折射率的材料（与具有气体、气体混合物或真空的中间区域相比），类似于所述反射镜层之一。

间隔保持件AH（防粘连凸块）可以在反射镜层2与位于其下面的结构接触的情况下减小接触面积，从而减少粘附，这可以防止反射镜层不可逆地粘附在位于其下面的结构上。在此优选地，间隔保持件超过反射镜层的突出部/超出部可以大于反射镜层（第一）本身的厚度。特别优选地，突出部大于第二牺牲层的厚度。间隔保持件AH因此可以由电绝缘的材料构成，或者被电绝缘层包围，以便在与位于其下面的处于不同电势的结构接触的情况下防止焊接。

对于这种类型的反射镜装置，由于连续的基本上保持平坦的反射镜层，可以实现间隔结构的（横向）以及反射镜区域的减小的变形。

图2a-f示出了根据本发明的一个实施例在用于制造反射镜装置的方法期间该反射镜装置的示意性侧视图。

在图2a的步骤中，提供（S1）第一牺牲层O1或衬底（未示出）和可能的在衬底与第一反射镜层之间的中间层；有利地平面地将第一反射镜层2覆设（S2）到第一牺牲层O1上；将第二牺牲层O2覆设（S3）到第一反射镜层2上；并且至少在第二牺牲层O2中成形（S4）内凹A，该内凹至少延伸至第一反射镜层2，有利地与其接触。此外，可以将用于间隔结构的侧壁的覆盖层eL引入到第二牺牲层O2的顶面O2b上并且到内凹中（到底部上并且有利地到第二反射镜层上并且到侧壁上）。覆盖层eL可以包括电绝缘的材料。

在另一方法步骤中，根据图2b，可以将用于间隔结构的材料4d引入（S5）到内凹A中。材料4d可以符合面积地被引入到内凹A中，并且在内凹A的区域内包括台阶，作为在材料4d中的内部内凹A1。

根据进一步的方法，按照图2c，可以使得对于覆盖层eL所述材料4d变薄（抛光、蚀刻），从而可以产生平坦的顶面。在此，材料4d在内凹a之外有利地完全被去除，内部内凹由此可以消失。为了去除芯部的材料4d，覆盖层eL可以用作阻挡层，或者可以存在能用作阻挡层的其它层。

在另一步骤中，根据图2d，覆盖层eL以及必要时其他层可以在内凹A之外被去除，并且第二牺牲层O2有利地向上露出。在内凹A的区域内，材料4d和覆盖层eL可以竖直地延伸超过第二牺牲层O2，或者利用第二牺牲层O2平坦化（抛光、蚀刻）。

根据图2e的方法步骤，可以将第二反射镜层3覆设（S6）到第二牺牲层O2上和内凹A上方。

在进一步的方法中，根据图2f，可以至少部分地去除（S7）第一和第二牺牲层O1和O2，并且得到在两个反射镜层2和3之间具有中间腔5的反射镜装置1。该实施方式有利地对应于图1b的实施方式；也可以以内凹的不同深度或省去覆盖层的情况下，按类似的方式产生图1的另一实施例。

在平坦的延伸方向的俯视图中，内凹A或其它内凹（较小的）可以为圆形、椭圆形或其他形状，比如细长的。椭圆形的特点可以为更好的光学特性，特别是减少的光学损耗。

利用第三反射镜层和其它牺牲层及相应的内凹，可以改变所示的工艺顺序，并且可以形成具有多个低折射层和高折射层（反射镜层）的多层反射镜装置。然后可以连续地在多个反射镜层之间形成间隔结构。

此外，例如可以通过经由蚀刻孔促成的牺牲层蚀刻工艺来去除第一和第二牺牲层等。蚀刻孔可以分布在第一和/或第二反射镜层（未示出）中（选择性蚀刻）。

图3a-d示出了根据本发明的另一实施例在用于制造反射镜装置的方法的部分步骤期间该反射镜装置的示意性侧视图。

这些部分步骤可以涉及制造如图1e中所示的反射镜装置。

根据图3a，可以在第一牺牲层O1中开设出内凹A2，所述第一牺牲层可以例如沉积在载体或衬底（未示出）上。根据图3b，然后可以将第一反射镜层2的材料覆设在第一牺牲层O1上，并且有利地同样（共形状地）覆设在内凹A2中。通过共形状的沉积然后可以在内凹A2内部在第一反射镜层的材料中形成横向较小的内凹A1，其中然而它根据第一反射镜层2的层厚度可以到达第一牺牲层O1的顶面下方，或者第一牺牲层的顶面在该高度上方（从上方）终止。

根据图3c，可以将第二牺牲层O2覆设到第一反射镜层2上，其填充在第一反射镜层2中的较小的内凹A1。

在另一方法步骤中，根据图3d，可以在第二牺牲层O2中形成内凹，该内凹可以在图3a的内凹A2上延伸，并且相比于内凹A2可以包括相同的、更小的或更大的横向延展度。内凹A也可以横向地完全从内凹A2移开。

图4示出了根据本发明的一个实施例的干涉仪装置的示意性侧视图。

干涉仪装置10可以包括衬底S；第一反射镜装置SP1和第二反射镜装置SP2，其中，这些反射镜装置中的至少一个可以包括根据本发明的反射镜装置，如图1~3中所示的那样。反射镜装置SP1和SP2被布置在衬底S上方，并且彼此相距第一间距d12地上下布置，其中，至少第一反射镜装置SP1被布置为可相对于第二反射镜装置SP2移动；以及致动装置，通过该致动装置至少可移动第一和/或第二反射镜装置。

反射镜装置SP1和/或SP2可以包括根据本发明的间隔结构4，该间隔结构具有或没有向上或向下（相对于衬底）突出的部分，即间隔保持件AH。间隔保持件AH可以放置在衬底上或其他元件上。干涉仪装置可以包括在光学区域之外的边缘结构RS，其中，反射镜装置SP1和SP2可以被夹在边缘结构RS中，并且可以利用触点K被该边缘结构接触。在光学区域，反射镜装置可以露出，并且光路可以通过光阑BL和在衬底S上的抗反射层AR予以影响。干涉仪装置可以设计为法布里-珀罗干涉仪（FPI）。FPI可以通过沉积多个牺牲层来产生，其中，可以在衬底S上沉积牺牲层，然后可以在该牺牲层上形成第一反射镜装置，随后可以在第一反射镜装置上沉积另一牺牲层，并且可以在该另一牺牲层上又制造第二反射镜装置。所述另一牺牲层的厚度可以用于设定第一间距d12，并且可以独立于致动间隙来设定，其中，在衬底S和第一反射镜装置SP1之间的致动电极形成致动间隙。这种FPI有利地不必局限于原始光学间隙（在未偏转位置中的第一间距）的三分之一的行进路径（致动间距或第一间距）。

干涉仪装置可以成形为微机电的构件（MEMS），如微光谱仪。

图5示出了根据本发明一个实施例的方法的方法步骤的示意框图。

在用于制造反射镜装置的方法中，提供S1第一牺牲层和/或衬底；将第一反射镜层覆设S2到第一牺牲层和/或衬底上；将第二牺牲层覆设S3在第一反射镜层上；至少在第二牺牲层中形成S4内凹，该内凹至少延伸至第一反射镜层；将用于间隔结构的材料引入S5到内凹中；将第二反射镜层覆设S6到第二牺牲层上和内凹上方；并且至少部分地去除S7第一和第二牺牲层。

尽管以上借助优选实施例全面描述了本发明，但本发明不限于此，而是可以按多种方式进行修改。

Claims

1.一种用于干涉仪装置（10）的反射镜装置（1），其包括：

-上下平行地并且彼此相距反射镜层间距（d23）地布置的第一反射镜层（2）和第二反射镜层（3），其中，所述反射镜层间距（d23）在所述第一反射镜层和所述第二反射镜层（2、3）之间形成中间腔（5），并且其中，所述中间腔（5）包括气体或真空；

-至少一个至少部分地在所述第一反射镜层和所述第二反射镜层（2、3）之间延伸的间隔结构（4），并且其中，所述间隔结构（4）包括与所述第一反射镜层和/或所述第二反射镜层（2、3）相同或不同的材料。

2.根据权利要求1所述的反射镜装置（1），其中，所述间隔结构（4）包括侧壁（4a），所述侧壁与所述第一反射镜层和所述第二反射镜层（2、3）的平坦的延伸方向竖直地延伸，或以一定的角度偏离竖直方向延伸。

3.根据权利要求1或2所述的反射镜装置（1），其中，所述间隔结构（4）至少伸入到两个反射镜层（2、3）之一中。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的反射镜装置（1），其中，所述间隔结构（4）包括在所述侧壁（4a）和底部（4c）之间的芯部（4b），其中，所述侧壁（4a）和所述底部（4c）包括与所述芯部（4b）不同的材料。

5.根据权利要求4的反射镜装置（1），其中，所述侧壁（4a）和所述底部（4c）包括电绝缘的材料。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的反射镜装置（1），其中，所述间隔结构（4）突出至少穿过两个反射镜层（2、3）之一，并且以至少所述反射镜层之一的厚度突出超过所述第一反射镜层和/或所述第二反射镜层（2、3）的外侧。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的反射镜装置（1），它包括多个间隔结构（4），在所述第二反射镜层（3）的平坦的顶面（3b）的俯视图中，所述间隔结构形成六边形的格栅。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的反射镜装置（1），其中，在内凹（A）下方和/或上方的区域中，所述第一反射镜层和/或所述第二反射镜层（2；3）在远离所述内凹（A）的方向上与所述第一反射镜层和/或所述第二反射镜层（2）的平坦的延伸方向竖直地突出。

9.一种干涉仪装置（10）包括：

-衬底（S）；

-第一反射镜装置（SP1）和第二反射镜装置（SP2），其中，这些反射镜装置中的至少一个反射镜装置是根据权利要求1至8中任一项形成的，这些反射镜装置布置在所述衬底（S）上方，并且彼此相距第一间距（d12）地上下布置，其中，至少所述第一反射镜装置（SP1）布置成可相对于所述第二反射镜装置（SP2）移动；和

-致动装置，通过所述致动装置至少可移动所述第一射镜装置和/或所述第二反射镜装置。

10.一种用于制造反射镜装置（1）的方法，其包括以下步骤：

-提供（S1）第一牺牲层（O1）和/或衬底；

-将第一反射镜层（2）覆设（S2）到所述第一牺牲层（O1）和/或所述衬底上；

-将第二牺牲层（O2）覆设（S3）在所述第一反射镜层（2）上；

-至少在所述第二牺牲层（O2）中形成（S4）内凹（A），该内凹至少延伸至所述第一反射镜层（2）；

-将用于间隔结构（4）的材料（4d）引入（S5）到所述内凹（A）中；

-将第二反射镜层（3）覆设（S6）到所述第二牺牲层（O2）上和所述内凹（A）上方；并且

-至少部分地去除（S7）所述第一牺牲层和/或所述第二牺牲层（O1；O2）。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，在把用于间隔结构（4）的所述材料（4d）引入（S5）到所述内凹（A）中时，把电绝缘层（5）布置在所述内凹（A）中和所述第二牺牲层（O2）的顶面（O2b）上，并且然后把用于所述间隔结构（4）的芯部（4b）的所述材料（4d）引入到所述内凹（A）中，从而填充所述内凹（A）。

12.根据权利要求10或11所述的方法，其中，在覆设（S6）所述第二反射镜层（3）之前，所述内凹（A）的材料或用于所述芯部（4b）的至少所述材料（4d）变薄，以便与横向地邻接于所述内凹的区域产生平坦的连接。