CN113767071B - 半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理装置以及半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供洗涤水处理装置、除菌/净水处理装置、洗涤水处理方法，该洗涤水处理装置可有效地进行再利用的纯水中所含的细菌的杀菌处理和有机物的分解处理，同时可将纯水的TOC浓度抑制在规定值以下，利用简单的结构可长时间运转。洗涤水处理装置(12)、除菌/净水处理装置、洗涤方法，该洗涤水处理装置(12)的特征在于：具备控制装置(16)，该控制装置(16)由存储部(16b)和控制部(16a)构成，该存储部(16b)存储有运算式，该运算式可根据被处理水的臭氧浓度和TOC浓度求出被处理水的排水量和纯水的供给量，该控制部(16a)控制臭氧供给部和TOC调节设备(22)，依据由运算式求得的结果，通过TOC浓度调节设备(22)对被处理水进行纯水的供给、或者进行被处理水的排水和纯水的供给，以将洗涤处理部(11)中使用的洗涤水的TOC浓度抑制在规定值以下。

Description

半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理装置以 及半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理方法

技术领域

本发明涉及半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理装置以及半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理方法，该洗涤水处理装置对半导体制造或液晶制造、以及电子部件的电镀处理的洗涤步骤中使用的纯水进行净化处理使其可再利用。

背景技术

在半导体元件或液晶玻璃的制造、或者电子部件的电镀处理中的洗涤步骤中，为了洗涤半导体晶片基板、液晶玻璃基板、玻璃基板、电镀处理过的电子部件等而使用大量的纯水，但从降低对环境的负荷、水资源的有效利用等观点来看，广泛进行用于洗涤的纯水的回收、再利用。

在半导体元件的制造步骤或液晶玻璃的制造步骤中，在光致抗蚀剂的剥离等中经常使用有机溶剂，在半导体元件或液晶玻璃的洗涤步骤中使用过的纯水(以下，称为“洗涤水”。)中混入有异物或醇、表面活性剂等有机物，因此在回收该洗涤水以再利用于半导体的生产步骤时，需要去除洗涤水中所含的固体微粒物或有机物。

若在半导体元件或液晶玻璃的制造中的洗涤步骤中使用包含有机物的洗涤水，则附着于被洗涤物的有机物会使基板表面的电路图案等产生缺陷、或者在之后的热处理步骤中发生碳化而引起绝缘不良，会发生产品的品质的恶化或产率的恶化。另外，若在电子部件的电镀处理中的洗涤步骤中使用包含有机物的洗涤水，则附着于产品的有机物会发生电路的短路等，而发生产品的品质的恶化、产率的恶化。

然而，在上述的洗涤步骤中，虽然回收洗涤水并进行过滤处理以去除洗涤水中所含的固体微粒物或有机物，之后作为纯水进行再利用，但即使当初是几乎不含细菌的纯水，原本附着于装置或被洗涤物的细菌、以及大气中存在的细菌也会进入纯水中，即便在低营养下也会增殖的种类的细菌在回收、再利用洗涤水期间进行增殖，而污染纯水、纯水的贮水槽或洗涤水的贮水槽、以及在这些水槽中循环的配管内。

由于细菌也是有机物，所以若在半导体元件或液晶玻璃的制造中的洗涤步骤、或电子部件的电镀处理中的洗涤步骤中使用被细菌污染的纯水，则会使基板表面的电路图案等产生缺陷、或者发生电路的短路等，而发生产品的品质的恶化或产率的恶化。

因此，为了将这些不可避免地存在于纯水中的细菌维持在极低水平，需要定期地停止制造装置的运行，利用次氯酸钠等杀菌剂对洗涤装置(以下，称为“洗涤处理部”。)内的纯水的贮水槽或洗涤水的贮水槽、以及在这些水槽间循环的配管内进行杀菌、洗涤处理，或者擦去附着于贮水槽壁面的生物膜，同时利用纯水对装置内进行彻底的后洗涤以使洗涤处理部内不会残留杀菌剂，并向洗涤处理部中填充新的纯水。

由于纯水的价格高，频繁的交换会导致产品的制造成本上升，另外，定期地停止制造装置而实施的洗涤处理部内的杀菌处理会降低制造装置的运转率，导致产品的制造成本上升。

另外，在回收洗涤步骤中使用过的洗涤水以进行再利用的情况下，通常是使用中空丝膜过滤器或活性炭等过滤装置捕捉去除洗涤水中的较大的有机物后，使其与离子交换树脂(阳离子交换树脂、阴离子交换树脂)接触以去除洗涤水中的离子，之后作为纯水进行再利用，但若细菌在洗涤水中增殖，则会在早期发生过滤装置的堵塞或离子交换树脂的功能下降，过滤装置的过滤器或离子交换树脂的交换频率增加，成为升高产品的制造成本的主要原因。

一直以来，作为在循环使用纯水的情况下对纯水中的细菌进行杀菌的方法，已知注入臭氧是有效的，例如，在专利文献1中提出了超纯水制造装置，为了防止在循环使用的超纯水中产生细菌，在将使用点(use point)未使用的超纯水返送到超纯水槽的配管上附设臭氧注入装置，利用该臭氧注入装置向超纯水中注入臭氧，以经常对超纯水进行杀菌。

以前，纯水和超纯水的定义只在比电阻(电导率)中提起，但由于对纯水和超纯水的水质要求越来越高，最近总有机碳(TOC：Total Organic Carbon)所表记的有机物量也被定义为纯水和超纯水的指标，要求在纯水中TOC为1.0mg/L以下、在超纯水中TOC为0.01mg/L以下，但若含有臭氧的纯水例如与配管等树脂制的部位接触，则存在以下问题：树脂的有机材料发生溶出，导致纯水的TOC浓度上升，同时树脂发生劣化。

作为对纯水供给臭氧以对纯水中的细菌进行杀菌、同时防止纯水的TOC浓度上升的技术，在专利文献2中提出了超纯水制造供给装置，该装置边持续地运转边向循环管线的适当位置连续地注入低浓度的臭氧以对超纯水中的细菌进行杀菌，同时利用设在注入位置的下游侧的低压紫外线臭氧分解装置分解超纯水中的残留臭氧，向使用点供给细菌数和TOC浓度已极度降低的超纯水。

另外，在专利文献3中提出了含臭氧的水的处理装置，为了处理水中残留的臭氧，该装置通过与紫外线照射装置和脱气装置和催化剂树脂装置、或活性炭分解装置组合，能够可靠地去除残留臭氧、溶解氧，同时高效地去除紫外线照射时的副产物即过氧化氢，可在电子工业的洗涤用水制造工艺中合并使用。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平2-261594号公报；

专利文献2：日本特开平2-144195号公报；

专利文献3：日本特开平6-254549号公报。

发明内容

发明所要解决的课题

然而，在专利文献2的超纯水制造供给装置中，存在于从低压紫外线臭氧分解装置到臭氧注入点之间的纯水中不含臭氧，另外，即使是专利文献3的含臭氧的水的处理装置，存在于从催化剂树脂装置或活性炭分离装置到臭氧注入点之间的纯水中也不含臭氧，所以依然无法消除附着于被洗涤物的细菌在作为脱臭氧区的使用点或配管内进行繁殖的可能性。在这些场所有细菌繁殖的情况下，会发生产品的品质的恶化或产率的恶化，同时会损及滤膜或离子交换树脂的过滤性能和离子交换能力，从而需要频繁的交换、或装置的定期的洗涤、消毒，而产生运转率下降的问题。

另外，若因装置内存在的细菌类而在构成过滤机构部的过滤装置(过滤器)或离子交换树脂装置内产生粘液，则流经过滤机构部的流量会下降，还会产生过滤性能下降或无法发挥离子交换树脂装置的功能的问题。

专利文献2的超纯水臭氧杀菌方法和装置为了防止从含有臭氧的超纯水所存在的臭氧供给部到膜脱气装置入口之间的树脂制的配管或纯水罐溶出TOC，对纯水罐、从臭氧供给部到膜脱气装置入口的配管使用表面通过电场抛光等进行了镜面精加工的不锈钢材料，因此装置的价格高，而导致制造成本上升。

本发明是为了解决上述课题而开发的发明，其目的在于提供：半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理装置以及半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理方法，该洗涤水处理装置可有效地进行再利用的纯水中所含的细菌的杀菌处理和有机物的分解处理，同时可将纯水的TOC浓度抑制在规定值以下，利用简单的结构可长时间运转。

用于解决课题的手段

为了达到上述目的，权利要求1所涉及的发明为半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理装置，该装置具有：洗涤处理部，其用于半导体制造用或液晶制造时的洗涤或洗涤电子部件；洗涤水收纳部，其经由循环流路与该洗涤处理部进行连接用于使洗涤后的纯水作为被处理水流入并收纳；除菌净化单元，其具有臭氧供给部，该臭氧供给部经由流入流路和流出流路与该洗涤水收纳部进行连接以使被处理水能够循环；过滤机构部，其经由过滤流路与洗涤水收纳部的后段进行连接，且由中空丝膜过滤器、活性炭过滤器等过滤器的过滤装置和离子交换树脂构成；循环流路，其连接该过滤机构部的后段和洗涤处理部；以及设在该循环流路的中途的TOC浓度测定设备和TOC浓度调节设备，其中，连接洗涤处理部和洗涤水收纳部和过滤机构部、以及过滤机构部和洗涤处理部，以使洗涤水处理装置整体构成为可循环的环状，TOC浓度调节设备是用于进行被处理水的排水和纯水的供给以抑制来自构成洗涤水收纳部和过滤机构部的各部位的TOC的溶出的调节设备，而且，还具备控制装置，该控制装置具有存储部，该存储部存储有可根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度求出被处理水的排水量和纯水的供给量的运算式，在通过洗涤水收纳部和除菌净化单元的循环对洗涤水收纳部内的被处理水的细菌类进行除菌分解的同时，通过从洗涤处理部流入并收纳在洗涤水收纳部的被处理水与除菌分解处理后的被处理水的混合，及臭氧的自身分解将臭氧水浓度控制在低浓度、且同时利用控制装置控制臭氧供给部以从洗涤水收纳部向过滤机构部供给具有小于5.37mg/L的臭氧水浓度的低浓度臭氧水，即供应不会使过滤器或离子交换树脂发生氧化劣化的程度，该低浓度臭氧水抑制过滤器或离子交换树脂自身产生的粘液的发生、而不会降低过滤机构部的过滤性能，而且，根据从构成洗涤水收纳部和过滤机构部的各部位溶出的TOC浓度，利用TOC浓度调节设备通过被处理水的排水和纯水的供给，在洗涤处理部之前将所使用的洗涤水的TOC浓度在纯水中控制在1.0mg/L以下的管理值，使得控制成可用于洗涤处理部的洗涤。

权利要求2所涉及的发明为半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理装置，其中，运算式可使用数据表进行运算。

权利要求3所涉及的发明为半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理方法，包括以下的步骤：小循环***的循环步骤，该小循环***具有：洗涤处理部，其用于半导体制造用或液晶制造时的洗涤，或洗涤电子部件；洗涤水收纳部，其经由循环流路与该洗涤处理部进行连接，用于使洗涤后的纯水作为被处理水流入并收纳，并且，在具有臭氧供给部的除菌净化单元中循环，该臭氧供给部经由流入流路和流出流路与该洗涤水收纳部进行连接以使被处理水能够循环；大循环***的循环步骤，该大循环***具有：过滤机构部，其经由过滤流路与洗涤水收纳部的后段进行连接，且由中空丝膜过滤器、活性炭过滤器等过滤器的过滤装置和离子交换树脂构成；循环流路，其连接该过滤机构部的后段和洗涤处理部；以及设在该循环流路的中途的TOC浓度测定设备和TOC浓度调节设备，其中，连接洗涤处理部和洗涤水收纳部和过滤机构部、以及过滤机构部和洗涤处理部，以使洗涤水处理装置整体构成为可循环的环状进行循环，其中，TOC浓度调节设备是用于进行被处理水的排水和纯水的供给以抑制来自构成洗涤水收纳部和过滤机构部的各部位的TOC的溶出的调节设备；以及控制步骤，其具备控制装置，该控制装置具有存储部，该存储部存储有可根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度求出被处理水的排水量和纯水的供给量的运算式，在通过洗涤水收纳部和除菌净化单元的循环对洗涤水收纳部内的被处理水的细菌类进行除菌分解的同时，通过从洗涤处理部流入并收纳在洗涤水收纳部的被处理水与除菌分解处理后的被处理水的混合，及臭氧的自身分解将臭氧水浓度控制在低浓度、且同时利用控制装置控制臭氧供给部以从洗涤水收纳部向过滤机构部供给具有小于5.37mg/L的臭氧水浓度的低浓度臭氧水，即供应不会使过滤器或离子交换树脂发生氧化劣化的程度，该低浓度臭氧水抑制过滤器或离子交换树脂自身产生的粘液的发生，而不会降低过滤机构部的过滤性能，而且，根据从构成洗涤水收纳部和过滤机构部的各部位溶出的TOC浓度，利用TOC浓度调节设备通过被处理水的排水和纯水的供给，在洗涤处理部之前将所使用的洗涤水的TOC浓度在纯水中控制在1.0mg/L以下的管理值，使得可用于洗涤处理部的洗涤。

权利要求4所涉及的发明为半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理方法，其中，运算式可使用数据表进行运算。

发明效果

根据权利要求1所涉及的发明，在利用洗涤水处理装置进行被处理水中所含的细菌的杀菌和固体微粒物或有机物的过滤处理后，由于利用TOC浓度调节设备根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度进行纯水的供给及被处理水的排水和纯水的供给，所以可将TOC浓度被抑制在规定浓度以下的被处理水返送至洗涤处理部(使用点)，因此可利用满足水质要求的洗涤水来洗涤带入洗涤处理部的电子部件或液晶玻璃基板等产品，可防止产品的品质的恶化，提高制造上的产率。

另外，由于存在于洗涤水处理装置内的被处理水中含有低浓度的臭氧，所以可抑制在洗涤水处理装置内或配管内的细菌的增殖，因此不易因细菌导致过滤机构部的过滤器的堵塞或离子交换树脂的功能下降，可延长它们的寿命。另外，由于细菌的增殖得到抑制，从而可抑制在过滤机构部内产生生物膜或粘液，其结果，可延长洗涤水处理装置的洗涤和清扫间隔。

此外，初期设定的运算式是使用TOC容易溶出的构件(树脂)、并且在工业上首先几乎不使用的高浓度的臭氧水浓度的环境下设定的，因此臭氧水浓度低于该运算式的设定条件，在使用了TOC不易溶出的构件的环境下使用时，也无需更换，可直接使用。另外，如果由运算式可知实际使用洗涤水处理装置的水处理环境(处理水量、现状的纯水供给量、现状的臭氧水浓度)，则可求出除菌净化处理所需的臭氧水浓度的持续时间。

而且，边将处理后的残留臭氧水的浓度抑制在小于5.37mg/L边通过臭氧供给部供给臭氧，从而利用臭氧来净化被处理水中的细菌等有机物以可再利用，同时还对过滤机构部内进行除菌，抑制该过滤机构部以后的流路中的树脂构件等与臭氧的反应以阻止劣化，抑制在过滤器或离子交换树脂中产生的粘液的发生，还可抑制由粘液引起的有机物的产生，进而可延长装置整体的寿命。

而且，根据从洗涤水处理装置的各部位溶出的TOC浓度，利用TOC浓度调节设备，通过被处理水的排水和纯水的供给进行调整，从而将在洗涤处理部中使用的洗涤水的TOC浓度抑制在可在洗涤处理部中使用的规定值以下，因此例如可作为半导体制造用或液晶制造用或电子部件用所使用的洗涤水进行再利用。

根据权利要求2所涉及的发明，由于运算式可使用数据表进行运算，因此可快速地进行运算处理，在半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理装置中可快速地调整TOC浓度。

根据权利要求3所涉及的发明，在由臭氧供给部连续供给规定量的臭氧的情况下，TOC浓度调节设备按照根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度由运算式求得的被处理水的排出量和纯水的供给量进行被处理水的排出和纯水的供给，使返送至洗涤处理部的被处理水的TOC浓度抑制在规定浓度以下，因此可利用水质稳定的纯水长时间地进行带入洗涤处理部的电子部件或液晶玻璃基板等产品的洗涤，可防止产品的品质的恶化，提高制造上的产率。

另外，通过连续地供给规定量的臭氧，臭氧的总供给量增多，因此例如可对大型的被处理构件进行洗涤处理，以有效地对细菌或有机物的混入量较多的被处理水进行杀菌净化处理。

根据权利要求4所涉及的发明，由于运算式可使用数据表进行运算，因此可快速地进行运算处理，在半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理方法中可快速地调整TOC浓度。

附图说明

[图1]是显示本发明所涉及的洗涤水处理装置的一个实施例的示意图。

[图2]是显示离子交换树脂/过滤装置的劣化试验装置的框图。

[图3]是显示初期臭氧水浓度为5.37mg/L的浓度变化的曲线图。

[图4]是显示初期臭氧水浓度为12.5mg/L的浓度变化的曲线图。

[图5]是臭氧水浓度为0mg/L的过滤器的显微镜照片。

[图6]是臭氧水浓度为5.5mg/L的过滤器的显微镜照片。

[图7]是臭氧水浓度为12.7mg/L的过滤器的显微镜照片。

[图8]是TOC溶出试验的框图。

[图9]是省略了一部分的TOC溶出试验的框图。

[图10]是显示使臭氧产生量变化时的每个时间的TOC浓度的测定值的曲线图。

[图11]是显示臭氧水浓度与TOC溶出量的关系的曲线图。

[图12]是显示臭氧供给量和臭氧水浓度的测定值的曲线图。

[图13]是显示反复进行臭氧供给/停止的间歇运转时的臭氧水浓度的变化的曲线图。

[图14]是显示使臭氧供给时间变化时在连续排出一定量的被处理水和连续供给一定量的纯水的情况下被处理水的TOC浓度的模拟结果的曲线图。

[图15]是显示在间歇供给一定量的臭氧的情况下被处理水的臭氧水浓度的模拟结果的曲线图。

[图16]是显示在间歇供给一定量的臭氧的情况下进行纯水补给的情况下和未进行补给的情况下的被处理水的TOC浓度的模拟结果的曲线图。

[图17]是显示将本发明的洗涤水处理装置应用于电镀处理步骤的多个洗涤水水槽中的最终的洗涤水水槽的情况的示意图。

[图18]是显示将本发明的洗涤水处理装置应用于半导体处理容体的情况的示意图。

[图19]是显示将本发明的洗涤水处理装置应用于玻璃基板制造装置的情况的示意图。

具体实施方式

以下，根据附图来详细地说明本发明中的洗涤水处理装置和洗涤水处理方法。图1是显示本发明的洗涤水处理装置的一个实施例的构成的示意图。

在图1中，洗涤水处理装置12具备洗涤水收纳部13、除菌净化单元14、过滤机构部15和控制装置16，洗涤水收纳部13与除菌净化单元14之间通过流入流路17和流出流路18可循环地连接，洗涤水收纳部13与过滤机构部15之间通过过滤流路19连接，同时洗涤处理部11与洗涤水收纳部13之间、过滤机构部15与洗涤处理部11之间通过循环流路20连接，在过滤机构部15后段的循环流路20上设有TOC浓度测定设备21和TOC浓度调节设备22。

洗涤水收纳部13是用于使在洗涤处理部11中用于被处理构件的洗涤处理的纯水作为被处理水经由循环流路20流入并收纳的水槽。在洗涤水收纳部13上连接有设置成在其与除菌净化单元14之间可循环的流入流路17和流出流路18、以及通向过滤机构部15的过滤流路19。

除菌净化单元14是通过设在单元内部的没有图示的泵对从洗涤水收纳部13供给的被处理水进行除菌净化处理的单元。收纳于洗涤水收纳部13的被处理水通过在除菌净化单元14与洗涤水收纳部13之间可循环地连接的流入流路17和流出流路18，边在洗涤水收纳部13与除菌净化单元14之间循环边进行除菌净化处理。需要说明的是，被处理水在洗涤水收纳部13与除菌净化单元14之间的循环通过设于除菌净化单元14的没有图示的循环泵进行。

除菌净化单元14具备：供给臭氧的臭氧供给部、照射紫外线的紫外线照射部、和使光催化剂作用的光催化剂作用部，将各功能有机地结合进行被处理水的除菌净化处理。除菌净化单元14只要至少具备臭氧供给部即可，根据需要还可省略紫外线照射部、光催化剂作用部。以下，简单地对臭氧供给部、紫外线照射部、光催化剂作用部进行说明。

臭氧供给部是经由流入流路17对从洗涤水收纳部13供给的被处理水供给臭氧的部位，具备以空气为原料生成臭氧的臭氧发生器和喷射器，该喷射器设于流入流路17，对流经流路内的被处理水供给臭氧并混合。

臭氧发生器在接地电极与贴有高压电极的电介质之间设置放电空隙，对接地电极与电介质之间施加高电压使其放电，在流经放电空隙的空气中生成臭氧。喷射器以氟树脂等树脂、陶瓷或金属为材料而形成，使流经流入流路17的被处理水与从臭氧发生器供给的臭氧(和溶解氧)混合，制备微细气泡状的混合液(臭氧水)。

紫外线照射部与使光催化剂作用的光催化剂作用部一体化成紫外线/光催化剂单元。紫外线/光催化剂单元在中央部具有紫外线光源，在该紫外线光源的外周侧设有保护用的内玻璃管。在紫外线光源的外周的内玻璃管的外周侧设置具有规定的内径的外玻璃管，在该外玻璃管与内玻璃管之间形成被处理水的流路。在该流路内配设作为光催化剂作用部的光催化剂。

光催化剂利用了通过使金属钛基材的表面氧化生成氧化钛而不会剥离的光催化剂，例如通过在网或钛线、纤维状钛材料的集合体、由其他多孔性钛材料等构成的钛或钛合金等材料的表面侧被覆氧化钛而形成。

通过形成在紫外线/光催化剂单元的中央部配置有紫外线光源的结构来谋求单元整体的小型化，并且有效地对被处理水照射紫外线以将被处理水进行除菌，同时对有机物进行分解处理以进行除菌净化处理。

如图1所示，过滤机构部15由过滤装置26和离子交换树脂27构成。在过滤装置26的内部可收纳中空丝膜过滤器、活性炭过滤器等过滤器，但为了有效地过滤被处理水中所含的细菌、或含有细菌的尸体的有机物，优选使用精密滤膜(MF膜)或超滤膜(UF膜)的中空丝膜。而且，作为装入这些中空丝膜的过滤装置26的容器，在被处理水为纯水的情况下经常使用PVC等材质，在被处理水为超纯水的情况下也使用PVC等材质。

另外，离子交换树脂27用于去除在臭氧处理或过滤处理中无法去除的被处理水中的钙、钠、氯化物、硫酸等的盐类成分，可将交换阳离子的阳离子交换树脂和交换阴离子(负离子)的阴离子交换树脂混合使用。而且，作为这些离子交换树脂的容器，在被处理水为纯水的情况下经常使用FRP或在不锈钢或铁上镀覆或涂覆有Teflon (注册商标)的材料等材质，在被处理水为超纯水的情况下也使用该材质。

控制装置16由控制部16a和存储部16b构成。控制部16a设置成可控制除菌净化单元14的臭氧供给部和TOC浓度调节设备21，存储部16b存储有运算式，该运算式求出向纯水供给被处理水、或被处理水的排水和纯水的供给量。图中，连接控制装置16和除菌净化单元14、TOC浓度测定设备21、TOC浓度调节设备22的虚线表示信号的传递路径。

这里，本发明人在进行净化处理装置和净化处理方法的研究开发的过程中确认到：为了防止在使用点的细菌的增加，仅利用臭氧进行杀菌净化是不够的，还需对洗涤水收纳部供给臭氧，该净化处理装置附加在半导体制造或液晶、洗涤电镀处理过的电子部件的现有洗涤装置上，可有效地对洗涤水进行净化处理使其可长期再利用。

另一方面，还确认到：若臭氧存在于洗涤水收纳部，则从设在除菌净化单元内的使被处理水循环的泵的树脂制叶轮、收纳过滤装置的中空丝膜过滤器的树脂制过滤器壳体、收纳离子交换树脂的树脂制储罐上溶出TOC。

由于这些情况，在利用臭氧对洗涤水收纳部13内的被处理水进行杀菌处理时，除了对处理后的纯水进行杀菌直至适合再利用的状态，还需防止因该处理后的纯水中所含的臭氧而从树脂制的各部件溶出TOC。为此，边设为可对处理后的被处理水杀菌直至可再利用的状态的臭氧水浓度，边将该臭氧水浓度抑制在可防止从树脂制的各部件溶出TOC的值。

上述的存储部16b存储有运算式，该运算式可根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度求出被处理水的排水量和纯水的供给量。根据该运算式，通过控制部16a控制被处理水的排水量和纯水的供给量，从而可达到对处理后的被处理水杀菌直至可再利用的状态的臭氧水浓度，并且可抑制从树脂制部件溶出TOC。

为了设定存储部16b的运算式，要求如上所述地设定臭氧水浓度使可对处理后的被处理水杀菌直至可再利用的状态，同时设为可抑制TOC浓度的值。这种情况下，通过将被处理水的杀菌能力提高至最大限、同时将对过滤机构部15等树脂制部件的影响抑制在最小限，从而维持其功能性。

为了得到这样的已将杀菌能力提高至最大限的臭氧水浓度的处理水，需要明确臭氧水浓度的差异对洗涤水收纳部13、以及洗涤水处理装置12内的过滤器或离子交换树脂27、或者填充这些的容器的FRP储罐或过滤器壳体、泵的叶轮、O形环等各树脂部件等产生的影响。因此，对过滤装置26、离子交换树脂27分别实施了基于臭氧水的劣化试验。在劣化试验中，通过改变臭氧水浓度或与臭氧的接触时间，确认过滤装置26或离子交换树脂27劣化的条件，确认臭氧水浓度与过滤装置26或离子交换树脂27的氧化劣化的关系性。

这种情况下，通过设定每单位时间的臭氧产生量(g/小时)，得到所期望的臭氧水浓度(mg/L)。本申请人推测用于得到最适臭氧水浓度的臭氧产生量为2.0g/小时，对此时的臭氧水浓度5.37mg/L进行试验，由此通过臭氧供给部将处理臭氧后的残留臭氧水的浓度抑制在小于5.37mg/L。另外，与此对比，对臭氧产生量为0.3g/小时(臭氧水浓度为1.31mg/L)的情况和臭氧产生量大于2.0g/小时(臭氧水浓度为5.37mg/L)的情况进行了试验。需要说明的是，此时的对象水全部使用离子交换水作为纯水。

使用图2所示的试验装置100，确认离子交换树脂27和过滤装置(过滤器) 26劣化的条件，明确了它们与臭氧水浓度的氧化劣化的关系性。

图中，以PSA (氧浓缩器) 101作为气体原料的发生器，将该PSA连接在臭氧发生器125 ((株)增田研究所 臭氧发生装置 OZS-EP3-20)上，使用混合泵103 ((株) NikuniM20NPD04Z)对该臭氧发生器125中产生的臭氧气体进行加压溶解，生成了高浓度臭氧水。

在生成臭氧的臭氧生成部136中制备的臭氧水蓄积在水槽130中，该臭氧水经由输水泵104输送至离子交换树脂27或过滤装置(过滤器) 26。利用设在路径内的流量计106和调节用阀门136调节至适当的流量，对离子交换树脂27或过滤装置26进行通水。

关于试验水槽130中蓄积的臭氧水浓度，随时使用臭氧水浓度计110 (Okitorotec(株) 臭氧水浓度计 OZM-7000LN)进行测定。

图2中，虽然过滤器26/离子交换树脂27相对于流路串联地设置成一组，但多个过滤器/离子交换树脂可并列地设置。

在基于臭氧水的离子交换树脂27的劣化试验中，填充有Organo制离子交换树脂AMBERLITE MB2、离子交换树脂27的容器使用了PVC制容器。

在使用试验装置100进行的离子交换树脂27的劣化试验中，对于试验水槽130中贮存的离子交换水，将试验装置100运转30分钟，测定臭氧水浓度。之后，运行输水泵104，以规定浓度、规定时间对离子交换树脂27通入臭氧水。对通入臭氧水后的离子交换树脂27进行各种分析，确认劣化的程度。

实施上述试验时的各种条件如下。

PSA供气流量：2.5～2.7L/分钟；

PSA供气压力：0.078～0.081MPa；

混合泵排出压力：0.29～0.33MPa；

臭氧发生器流量：1.6～1.7L/分钟；

水量：70L；

通水时间：8小时、72小时。

利用上述试验装置100进行试验时的臭氧水浓度的变化分别见图3、图4的曲线图。图3中显示将臭氧水浓度设定为5.37mg/L附近时臭氧水浓度相对于运转时间的变化，图4中显示将臭氧水浓度设定为大于5.37mg/L时臭氧水浓度相对于运转时间的变化。在图3、图4的曲线图中，均从箭头所示的时间点开始向离子交换树脂27通水。

在图3的情况下，通过臭氧发生器(臭氧供给部) 125，试验水槽130中蓄积的试验水开始对离子交换树脂27通水时的臭氧水浓度为5.37mg/L。对离子交换树脂27通水后，该离子交换树脂27与臭氧反应，因此臭氧水浓度下降，通水试验中的平均臭氧水浓度为4.07mg/L。如此，对离子交换树脂27通水后，由于该离子交换树脂27与臭氧的反应的影响变大，因此作为臭氧水浓度设定时的定义，要满足将利用臭氧发生器125处理后的残留臭氧水的浓度抑制在小于5.37mg/L。

另一方面，在图4的情况下，通水初期的臭氧水浓度为约12.5mg/L。在刚刚开始对离子交换树脂27通水后，如上所述，由于离子交换树脂27与臭氧反应，因此臭氧水浓度下降，根据水温变化、通水时间而多少存在上下变动，但臭氧水浓度大概以6～9mg/L发生变化，对离子交换树脂27通水后的平均臭氧水浓度为7.44mg/L。

这种情况下，在从通水初期到经过规定运转时间(8小时)的任一种状态下，臭氧水浓度均未下降至小于5.37mg/L，没有和图3的试验的臭氧水浓度的条件重合。

基于上述试验的离子交换树脂27的分析结果如下所示。

关于离子交换树脂因臭氧而受到的影响，离子交换树脂若被臭氧氧化，则设想官能团脱落、或者树脂的母体被氧化而膨胀。因此，作为用于掌握劣化的分析项目，对“总交换容量”、“中性盐分解容量”和“水分保有能力”进行测定。

需要说明的是，用于试验的离子交换树脂是阳离子交换树脂和阴离子交换树脂均匀地混合而成的混合树脂，但在分析时分离各离子交换树脂，测量各种数值。

试验大致分为2次进行，表1中显示以通水初期的臭氧水浓度1.31mg/L和5.37mg/L进行试验时的离子交换树脂的分析结果。表1中显示未通入臭氧水的状态的离子交换树脂的性能，因此记载通常推荐的性能的基准值。

需要说明的是，通水初期的臭氧水浓度为1.31mg/L时，在对离子交换树脂通入臭氧水后，因离子交换树脂也与臭氧反应，故臭氧水浓度下降，通水试验中的平均臭氧水浓度为0.68mg/L。

[表1]

表1中，若比较基准值1与试验1A、1B的分析值，则在臭氧水浓度小于5.37mg/L的浓度下会观察到离子交换树脂与臭氧水的反应，但关于中性盐分解量、水分保有能力的各自，在试验1A、1B中阳离子交换树脂、阴离子交换树脂的任一者与基准值相比均未见明确的劣化，确保了作为离子交换树脂的实用上的功能性。

另一方面，臭氧水浓度为5.37mg/L以上的情况的分析结果见表2。表2中记载了通常推荐的基准值、未通入臭氧水的“未通水”状态、在臭氧水浓度为5.37mg/L以上的情况下(通水初期浓度为12.5mg/L)通水时间为8小时和72小时时的离子交换树脂的各种测定值。

[表2]

在表2的试验2A (通水初期臭氧水浓度为12.5mg/L、通水中臭氧水浓度为7.5mg/L、通水时间为8小时)中，确认到阳离子交换树脂A以中性盐分解容量计低于基准值，离子交换能力下降。另一方面，确认到水分保有能力高于基准值上限，树脂因臭氧的氧化作用而溶胀、劣化。

可知：若通水时间进一步延长至72小时(试验2B)，则阴离子交换树脂B的总交换容量也低于基准值，离子交换树脂的劣化加剧。

由以上可知：离子交换能力随着臭氧水的通水时间延长而降低，在本试验的条件下，在通水时间为8小时的状态下，与基准值相比，可判断离子交换树脂是否劣化。

另外，在本试验中，通过在臭氧水通水后进行离子交换树脂的粒径测定和显微镜观察，也确认到TOC溶出量。特别是，在阴离子交换树脂中确认到：随着臭氧水的通水时间的延长，发生物理性破碎，粒径变小。另外，还确认到：通水试验中的TOC浓度也随着通水时间的延长而增加。认为这是由于：构成离子交换树脂的高分子有机物被臭氧氧化，无法保持树脂的结构本身的形状，作为材料的有机物发生溶出。

由以上可知：若以臭氧水浓度7.5mg/L对离子交换树脂通入作为氧化剂的臭氧水达8小时以上，则担心离子交换性能的下降或有机物的溶出，因此认为在实用上难以在该臭氧水中使用离子交换树脂。

由以上可知：接收表1的结果，如果臭氧水浓度小于5.37mg/L，则可对过滤机构部所含的离子交换树脂保持除菌效果，同时可阻止劣化而不妨碍功能，进而降低离子交换树脂的交换频率，延长装置的寿命。

然后，使用图2的试验装置100实施过滤装置26 (过滤器)的劣化试验。

利用试验装置100将由纯水生成的高浓度臭氧水在保持其浓度一定的同时输送至过滤器26，确认在使接触时间变化时过滤器26的劣化的进展状况。

用于试验的过滤器使用日本Filter (株)制造的壳体型NPH-NPP-10、过滤器的型号为CW-1 (材质为聚丙烯)。

利用试验装置100进行的过滤装置26的劣化试验的顺序与[0077]中所示的离子交换树脂的劣化试验顺序相同，对臭氧水通水后的过滤器进行表面的显微镜观察。

实施上述试验时的各种条件如下。

PSA供气流量：2.5～2.9L/分钟；

PSA供气压力：0.078～0.085MPa；

混合泵排出压力：0.3MPa；

臭氧发生器流量：1.6L/分钟；

水量：70L；

通水时间：8小时、24小时。

利用显微镜对上述试验后的过滤装置的各过滤器26分别实施光学观察、SEM观察。

观察时的条件如下。

分析仪器：光学观察：数字显微镜(Keyence VHX-1000)；

SEM观察：电子射线微量分析仪(岛津制作所 EPMA-1610)；

分析方法：在对过滤器表面进行光学观察后，施行金蒸镀(离子溅射)，进行SEM观察。

上述试验的过滤装置的过滤器(型号CW-1)的显微镜观察下的照片见图5～图7。各图中，上段表示显微镜的观察照片，下段表示电子显微镜下的SEM照片。图5显示通水时间为0小时(没有来自臭氧水的负荷)的状态，图6显示以通水中的平均臭氧水浓度为5.5mg/L通水24小时后的状态，图7显示以通水中的平均臭氧水浓度为12.7mg/L通水24小时后的过滤器的状态。

根据图5～图7的观察照片的结果，特别是由下段的电子显微镜(SEM图像)确认到：随着臭氧水浓度的升高，纤维表面的断裂、断开的纤维的碎片对表面的附着增加，由臭氧引起的高分子树脂的劣化加剧。

图6中，虽然通水时的臭氧水浓度为5.5mg/L(相当于臭氧水浓度5.37mg/L)，但与没有来自臭氧水的负荷的图5的照片相比没有确认到大幅劣化，可判定如果臭氧水浓度为5.5mg/L (相当于5.37mg/L)左右，则不会发生损及过滤器的性能的程度的劣化。另一方面，若臭氧水浓度超过5.37mg/L、而以12.7mg/L进行通水，则可确认到如图7这样的过滤器表面的明显劣化。

由以上可知：在上述的过滤装置的劣化试验中，如果臭氧水浓度小于5.5mg/L，则不会发生损及过滤器的性能的程度的劣化，反之，通过被处理水中残留的臭氧，构成过滤机构部的过滤装置(过滤器)的除菌作用充分地发挥出来，可防止过滤器的粘液，从而可保持过滤装置(过滤器)的性能，进而，可降低过滤器的交换频率，延长装置的寿命。

由以上可知：在过滤装置(过滤器)单体的情况下，如果臭氧水浓度小于5.5mg/L，则可保持除菌效果，同时可防止劣化而不妨碍功能，从由过滤装置(过滤器)和离子交换树脂构成的过滤机构部整体来看，如果在离子交换树脂的劣化试验中确认到的臭氧水浓度小于5.37mg/L，则可对过滤机构部整体保持除菌效果，同时可防止劣化而不妨碍功能，进而，可降低滤膜或离子交换树脂的交换频率，延长装置的寿命。

然后，进行试验以明确臭氧水浓度与TOC浓度的关系。图8、图9显示用于试验TOC通过臭氧处理而溶出到装置中的状态的概略框图，与上述的试验装置相同的部分用相同符号表示。用于试验的仪器为试验装置120 (Pureculaser (注册商标) ZPVS3U11)、臭氧发生器125 ((株)增田研究所 臭氧发生装置 OZS-EP3-20)、臭氧水浓度计110 (Okitorotec (株)臭氧水浓度计 OZM-7000LN)。需要说明的是，在该图中，111为传感器BOX，测量PH、ORP、水温、电导率。另外，112为流量计，118为排水。另外，121是循环泵，内置于试验装置120。另外，123是压缩机(空气压缩机)，124是流量计，128是流量调节阀。另外，130是试验水槽，135是阀门。

试验方法如下：作为对FRP制储罐153的通水试验，将导入至试验装置140的臭氧水浓度变更为3种，针对离子交换水(纯水)运行试验装置140达30分钟，调节至规定的浓度。针对通过臭氧发生器125和喷射器126调节至3种臭氧水浓度(臭氧产生量为0.5g/小时、1.0g/小时、2.0g/小时)的臭氧水运行输水泵131，对FRP储罐153通入臭氧水8小时。需要说明的是，此次试验中使用的FRP储罐153使用了收纳有离子交换树脂(Organo制筒式纯水器AMBERLITE MB2 容量5L)的容器(未收纳离子交换树脂)。

其试验条件如下。

[试验条件]

试验水　　　　离子交换水；

试验水量　　　40L；

循环流量　　　20L/分钟(1个循环120秒)；

臭氧产生量　 0.5g/小时；

　　　　　 　 1.0g/小时；

　　　　　 　2.0g/小时。

本发明人进行的实验的结果，如图10所示，确认到：从与臭氧水接触的树脂制构件溶出的TOC量与对应于臭氧产生量的臭氧水的浓度和臭氧水与树脂制构件的接触时间大致成比例，呈线性增加。若如图11所示地将该实验的结果按每个接触时间进行整理，则可按臭氧接触时间对臭氧水浓度(mg/L)与溶出的TOC浓度(mg/L)的关系进行整理。

在图11中，臭氧水与树脂制构件的接触时间为1小时时的臭氧水浓度(mg/L)与溶出TOC浓度(mg/L)的关系呈近似线性，因此若以臭氧水浓度为x (mg/L)、以溶出的TOC浓度为y (mg/L)，则臭氧水与每单位时间接触树脂制构件时溶出的TOC浓度(mg/L)的关系可通过下式进行近似。

(式1)

y=0.0036x＋0.070 ・・・(1)

另外，为了研究臭氧供给时间与臭氧水浓度的变化，将臭氧供给量设为0.5 (g/小时)、1.0 (g/小时)、2.0 (g/小时)这3种，进行实验测量每臭氧供给量的臭氧供给时间(分钟)与臭氧水浓度(mg/L)的变化。测量每臭氧供给量下臭氧水浓度(mg/L)相对于臭氧供给时间(分钟)的变化，根据该测量结果，对臭氧发生时间t (分钟)与臭氧水浓度x (mg/L)的关系进行3次近似，所得曲线见图12。

由该图12所示的3次近似曲线的上升时的切线的斜率，可求出每臭氧供给量下臭氧水浓度的上升率。另外，除这3种以外的臭氧供给量的情况的臭氧水浓度的上升率既可由这3种的每单位时间的臭氧水浓度的上升率通过线性插补而求出，也可进一步使臭氧供给量更细微地变化以进行实测，由实测结果而求出。需要说明的是，如图所示，直到臭氧供给时间为10分钟左右为止，臭氧水浓度的上升率可高精度地进行线性近似。另外，还确认到：无论臭氧的供给量如何，即使持续进行臭氧的供给，臭氧水浓度的上升也存在上限。

除上述以外，还进行实验确认在重复且间歇运转臭氧供给/停止的情况下的臭氧水浓度的变化。实验中，将臭氧供给量设为2.0 (g/小时)，针对在重复进行1分钟的臭氧供给和9分钟的臭氧停止的情况下、重复进行5分钟的臭氧供给和5分钟的臭氧停止的情况下、进行30分钟的臭氧供给后进行30分钟的臭氧停止的情况下，测定臭氧水浓度的变化。

测定结果如图13所示，在任一种情况下，刚刚开始臭氧的供给后臭氧水浓度均呈近似直线状上升，臭氧停止后臭氧水浓度呈指数函数减少。该减少被认为是由于臭氧的自身分解所致。若仔细观察该臭氧水浓度的减少状况，无论是哪一种臭氧供给时间与停止时间的组合，臭氧水浓度均以大概5分钟的半衰期减少。另外，在臭氧停止后约30分钟臭氧浓度几乎变为0。

根据由以上的实验得到的见解制作运算式并存储在存储部16b，从而由臭氧供给量求出被洗涤水的臭氧水浓度的上升率，由其臭氧水浓度的上升率和臭氧供给时间可求出被处理水的臭氧水浓度。另外，还可求出臭氧供给停止后的臭氧水浓度的减少状况。而且，可由所求得的被处理水的臭氧水浓度求出被处理水的TOC浓度。

在图1中，TOC浓度测定设备21测量流经循环流路20内的被处理水的TOC浓度。将被洗涤水的TOC浓度控制在规定浓度以下是洗涤水处理装置12的处理目的，特别是在纯水中需要将TOC浓度管理在1.0mg/L以下(规定值以下)，因此控制装置16监测处理状况，为了判断处理状况是否良好，而设置TOC浓度测定设备21。

TOC浓度调节设备22具备没有图示的电动阀门、电动泵和流量计。电动阀门由控制部16a控制，排出规定量的被处理水。另外，电动泵由控制部16a控制，由没有图示的纯水制造装置对循环流路20供给规定量的纯水。

如此通过TOC浓度调节设备22进行被处理水的排水和纯水的供给的理由在于：因难以一次去除溶出到被处理水中的TOC，故通过排出含有TOC的被处理水来排出溶入被处理水中的TOC，减少洗涤处理部11和洗涤处理装置12内存在的TOC量，再补给与排出的被处理水等量的纯水，从而降低洗涤处理部11和洗涤处理装置12内存在的洗涤水的TOC浓度，将其抑制在规定值以下。

除此以外，为了可靠地在洗涤处理部11中进行被处理构件的洗涤处理，需要在洗涤处理部11和洗涤处理装置12的内部存在规定量的洗涤水，但由于洗涤水从洗涤槽蒸发、或者在进行被处理构件的洗涤处理时附着于被处理构件等的洗涤水从洗涤槽带出等，可以说洗涤水随着洗涤处理而自然减少，因此需要补给该自然减少量的纯水。该补给也有助于降低TOC浓度。

接着，对本发明中的洗涤水处理装置的运作进行说明。如图1所示，在洗涤水处理装置12内，在洗涤处理部11中用于被处理构件的洗涤处理的纯水作为被处理水经由供给流路23流入，收纳在洗涤水收纳部13(容积：200L～300L)。收纳在洗涤水收纳部13的被洗涤水通过没有图示的泵经由流入流路17输送至除菌净化单元14。

对于输送至除菌净化单元14的被处理水，从设在臭氧供给部的喷射器混合规定量的臭氧(和溶解氧)，使微细气泡状的臭氧以气泡状态溶入被处理水中，制备混合液(臭氧水)。需要说明的是，关于此时的臭氧供给量，若被处理水的臭氧水浓度达到高浓度，则有可能缩短后段的过滤机构部15的过滤装置26的过滤器或离子交换树脂27的寿命，由此，从收纳中空丝膜过滤器的树脂制过滤器壳体、收纳离子交换树脂的树脂制储罐溶出的TOC量增大，因此需要综合判断洗涤水收纳部13的容量、被处理水的输水量、用于进行有效的除菌洗涤处理的臭氧水浓度的下限值和上限值再进行确定。

由于所供给的臭氧的杀菌效果，被处理水中的细菌的大部分被杀菌，含有被杀菌的细菌的尸体的有机物的大部分被分解处理。

若含有臭氧的被处理水流入位于臭氧供给部的后段的紫外线/光催化剂单元，则流经紫外线光源和光催化剂，通过对溶入了臭氧的被处理水照射紫外线，生成被称为·OH(羟基自由基或OH自由基)的自由基(其是具有不成对电子的化学物种，是活性化强的物质)。

由于该·OH的活性化强，所以基本上可对在臭氧供给部中进行臭氧处理时未被杀菌而残留在被处理水中的细菌进行杀菌，同时基本上可对未分解而残留在被处理水中的有机物进行分解处理。另外，由于OH自由基会在非常短的时间内消失，所以不会损坏过滤装置26或离子交换树脂27。通过臭氧和紫外线照射的作用生成OH自由基，可靠地对残留在洗涤水收纳部13的细菌/有机物进行除菌净化，同时不会损坏过滤装置26或离子交换树脂27，可延长寿命。

而且，通过紫外线照射和光催化剂的作用可更有效地生成OH自由基，通过与低浓度的臭氧组合、即有机结合，可靠地对残留在洗涤水收纳部13的细菌/有机物进行除菌净化，同时不会损坏过滤装置26或离子交换树脂27，可延长寿命。

通过在紫外线/光催化剂单元中进行了除菌净化处理的被处理水经由流出流路18返送至洗涤水收纳部13。

如此，收纳在洗涤水收纳部13的被洗涤水边在洗涤水收纳部13与除菌净化单元14之间循环边进行除菌净化，因此通过被返送至洗涤水收纳部13的被处理水中残留的臭氧，即使在洗涤水收纳部13内也可发挥杀菌效果，抑制细菌的增殖，抑制在洗涤水收纳部13的壁面等产生生物膜。

另外，通过在除菌净化单元14中进行除菌净化后，不是立即输送至过滤机构部15，而是返送至洗涤水收纳部13，之后与收纳在洗涤水收纳部13内的被处理水混合，因此收纳在洗涤水收纳部13的被处理水整体的臭氧水浓度被稀释，同时在洗涤水收纳部13中收纳的期间臭氧被分解，因此输送至过滤机构部15的被处理水的臭氧水浓度降低。

另一方面，为了防止细菌在洗涤处理部11中增殖，从洗涤水处理装置12返送至洗涤处理部11的洗涤水中已含有臭氧，返送至洗涤处理部11后，即使与洗涤处理部11内收纳的洗涤水混合，仍需要维持某种程度的臭氧水浓度。根据本发明人的实验结果，臭氧的杀菌力极强，如果臭氧水浓度为0.05 (mg/L)左右，则可在几分钟内对几乎全部的细菌进行杀菌，因此如果处理水量为40 (L)左右，即使考虑到在洗涤水收纳部13中的稀释或分解，来自除菌净化单元14的臭氧供给部的臭氧供给量为 0.05 (g/小时)左右也足矣。

这样，在洗涤水收纳部13内，臭氧水浓度已某种程度降低的被处理水经由过滤流路19输送至过滤机构部15，如上所述，来自除菌净化单元14的臭氧供给部的对被处理水的臭氧供给量为少量，另外，还有臭氧的自身分解，被处理水的臭氧水浓度也降低，因此不会因被处理水中的残留臭氧而损坏过滤机构部15的过滤装置26的过滤器或离子交换树脂27，不会缩短寿命。而且，在本实施例中，通过低浓度的臭氧，边对过滤机构部15内除菌边将TOC溶出抑制在最低限，并且管理成足以除菌的臭氧浓度的被处理水来进行。

另外，由于在除菌净化单元14中基本上对被处理水中残留的细菌进行杀菌，而且被处理水中残留的有机物基本上被分解处理的被处理水经由过滤流路19输送至过滤机构部15，因此不易因细菌或有机物而引起过滤机构部的过滤器的堵塞或离子交换树脂的功能下降，可延长它们的寿命。

从洗涤水收纳部13输送至过滤机构部15的被处理水在过滤装置26中进行去除被处理水中残留的细菌和有机物的过滤处理后，通过离子交换树脂27去除在臭氧处理或过滤处理中无法去除的被处理水中的盐类成分，之后经由循环流路20返送至洗涤处理部11。

然而，在本发明的洗涤水处理装置12中，由于在杀菌净化处理后返送至洗涤处理部11的被处理水中含有低浓度的臭氧，所以可防止洗涤处理部11中的细菌的增加。因此，在仍含有低浓度的臭氧的被处理水中，从除菌净化单元14内的树脂制叶轮、过滤装置26的树脂制过滤器壳体、离子交换树脂27的树脂制储罐上溶出TOC。

因此，若将杀菌净化处理后的被处理水直接返送至洗涤处理部11，则洗涤处理部11内的洗涤水的TOC浓度依次上升，最终无法满足作为纯水的水质要求。为了抑制该洗涤处理部11内的洗涤水的TOC浓度的上升，在本发明的洗涤水处理装置中，在被处理水的循环流路20上设置TOC浓度调节设备22，在将被处理水返送至洗涤处理部11之前，根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度排出被处理水，同时进行纯水的供给，从而将在洗涤处理部11中使用的洗涤水的TOC浓度抑制在规定值以下。在本实施例中，由于TOC浓度调节设备22设在紧靠洗涤处理部11之前的循环流路20上，所以适合高精度地调节TOC浓度。

如以上所说明，在洗涤水处理装置12中，在洗涤处理部11中用于洗涤被处理构件的纯水作为被处理水收纳在洗涤水收纳部13，边使被处理水在洗涤水收纳部13与除菌净化单元14之间循环边连续地进行除菌净化处理，同时将所收纳的被处理水输送至过滤机构部15进行过滤处理，之后通过TOC浓度调节设备22根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度对被处理水进行纯水的供给、或者进行被处理水的排水和纯水的供给，之后返送至洗涤处理部11，从而将在洗涤处理部11中使用的洗涤水的TOC浓度抑制在规定值以下。

边使被处理水在洗涤水收纳部13与除菌净化单元14之间循环边进行除菌净化处理，从而使溶解有臭氧的除菌净化处理过的被处理水返回到洗涤水收纳部13，可逐次减少洗涤水收纳部13内的被处理水中所含的有机物和细菌，同时可抑制在洗涤水收纳部13内的细菌的增殖。

其结果，从洗涤水收纳部13输送至过滤机构部15的被处理水中所含的有机物或细菌与未在除菌净化单元14中进行循环处理的情况相比大幅减少，因此可抑制因过滤处理细菌或有机物而导致的过滤装置26的过滤器的堵塞或离子交换树脂27的功能下降的发生。

另外，在从洗涤水收纳部13输送至过滤机构部15的被处理水中，有时会含有低浓度的臭氧，该臭氧为低浓度、即为不会对过滤器等的功能产生影响的程度，不会损坏过滤机构部15的过滤装置26的过滤器或离子交换树脂27，可在过滤机构部15或循环流路20和洗涤处理部11中抑制细菌的增殖。

在过滤机构部15中，过滤装置26的过滤器(优选UF膜的中空丝膜)可去除微粒、细菌或高分子有机物，同时离子交换树脂27可去除在臭氧处理或过滤处理中无法去除的被处理水中的钙、钠、氯化物、硫酸等的盐类成分。

另外，由于被处理水仍含有低浓度的臭氧，所以从树脂制的叶轮、过滤器壳体、储罐等溶出的TOC所引起的TOC浓度的上升，通过TOC浓度调节设备22根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度对被处理水进行纯水的供给、或者进行被处理水的排水和纯水的供给而将洗涤水的TOC浓度抑制在规定值以下，最终可将被处理水作为满足水质要求的纯水进行再利用。

在本发明的洗涤水处理装置中，由于以上述方式对被处理水进行除菌净化处理和过滤处理，同时将TOC浓度抑制在规定浓度以下，所以即使在洗涤处理部中作为洗涤水(纯水)进行再利用，也不会对产品的品质产生不良影响，可长期地节省在洗涤处理部中使用的纯水以进行稳定的洗涤处理，因此可抑制洗涤成本。

接下来，对使用了本发明的洗涤水处理装置的洗涤水处理方法进行说明。首先，对从除菌净化单元的臭氧供给部连续地供给规定量的臭氧的情况进行说明。连续地供给臭氧的该洗涤水的处理方法通过连续地供给规定量的臭氧而使臭氧的总供给量增多，因此例如可洗涤处理大型的被处理构件，以应用于有效地对细菌或有机物的混入量多的被处理水进行杀菌净化处理的情况。

在进行该洗涤水处理方法时，若输入作为处理对象的总洗涤水量(L) (例如，设在洗涤处理部的洗涤水槽的容量)、臭氧的供给量(g/小时)、要供给的被处理水与总洗涤水量的比例，则根据每单位时间的TOC增加率，从存储部16b调出依次计算总洗涤水中所含的TOC量(mg)、洗涤水的排水量(L) (≈要供给的纯水量(L))、纯水供给后的总洗涤水中所含的TOC量(mg)、纯水供给后的总洗涤水的TOC浓度(mg/L)的运算式，求出纯水供给后的总洗涤水的TOC浓度(mg/L)的变化。

此时，作为处理对象的总洗涤水量(L)和臭氧的供给量(g/小时)为固定值，但要排水的被处理水与总洗涤水量的比例可任意变更，所以若使该值变化以求出纯水供给后的总洗涤水的TOC浓度(mg/L)的变化，则可求出要排水的被处理水与总洗涤水量的比例，该总洗涤水量在纯水供给后的总洗涤水的TOC浓度(mg/L)不超过作为纯水的基准的1.0 (mg/L)。

图14是在总洗涤水量为40 (L)、臭氧供给量为0.5 (g/小时)的情况下，将被处理水的排水量和纯水的供给量设为3 (L/小时)的情况而求出总洗涤水的TOC浓度(mg/L)的变化的模拟结果。如图所示，即使经过处理时间，总洗涤水的TOC浓度也不会超过作为纯水的水质要求的TOC浓度1.0 (mg/L)。

需要说明的是，关于臭氧供给量与被处理水的臭氧水浓度的关系，如图12所示，由于臭氧供给后的臭氧水的浓度没有增加至一定浓度以上，所以根据图在供给0.5 (g/小时)的臭氧时将臭氧水浓度稳定的0.32 (mg/L)作为臭氧水浓度，通过上述的(式1)求出相对于该臭氧水浓度的臭氧的增加率，用于模拟。

因此，在进行使用本发明的洗涤水处理装置连续地供给该规定量的臭氧的洗涤水的处理方法的情况下，若边从除菌净化单元14的臭氧供给部以0.5(g/小时)连续供给臭氧，边通过TOC浓度调节设备22以3 (L/小时)排出被处理水，同时以3 (L/小时)的比例供给纯水，则可将在洗涤处理部11中使用的洗涤水的TOC浓度抑制在1.0 (mg/L)以下。

然后，对通过TOC浓度调节设备供给与在洗涤处理部中进行被洗涤构件的洗涤处理时自然减少的洗涤水量相当的量的纯水、同时从臭氧供给部间歇地供给规定量的臭氧的情况进行说明。该洗涤水处理方法中，由于纯水的供给量是与被处理构件的洗涤处理时自然减少的量相当的量，所以可将高价的纯水的使用量最少化，削减洗涤费用。另外，由于是通过重复一定时间的供给和一定时间的停止的间歇供给来供给规定量的臭氧，所以臭氧的总供给量不多，例如可应用于：洗涤处理小型的被处理构件，以低成本对细菌或有机物的混入不多的被处理水进行杀菌净化处理的情况。需要说明的是，洗涤处理时自然减少的洗涤水是指从洗涤槽蒸发的洗涤水和在洗涤被处理材料时附着于被处理材料等而带走的洗涤水。

在进行该洗涤水处理方法时，若输入作为处理对象的总洗涤水量(L) (例如，设在洗涤处理部的洗涤水槽的容量)、臭氧的供给量(g/小时)、要供给的纯水与总洗涤水量的比例、供给臭氧的ON时间(分钟)和停止供给的OFF时间(分钟)，则可从存储装置16b调出运算式，求出总洗涤水的TOC浓度(mg/L)的变化，该运算式可根据与臭氧供给量对应的臭氧水浓度上升系数和在停止臭氧供给的情况下臭氧水浓度以5分钟的半衰期减少的趋势，由臭氧水相对于处理时间的浓度变化、以及臭氧水相对于该处理时间的浓度变化求出被处理水的臭氧水浓度。

此时，作为处理对象的总洗涤水量(L)、臭氧的供给量(g/小时)、为了补充洗涤水的自然减少量而补给的纯水量(L/分钟)为固定值，但供给臭氧的ON时间(分钟)与不供给臭氧的OFF时间(分钟)的组合可任意改变，因此若改变该ON时间和OFF时间以求出总洗涤水的TOC浓度(mg/L)的变化，则可求出纯水供给后的总洗涤水的TOC浓度(mg/L)不超过作为纯水的基准的1.0 (mg/L)的供给臭氧的ON时间与停止供给的OFF时间的组合。

图15是在总洗涤水量为40 (L)、臭氧供给量为0.5 (g/小时)、纯水供给量为2.7(L/分钟)的情况下，对设定供给臭氧的ON时间为7 (分钟)、停止臭氧供给的OFF时间为3(分钟)的情况下的臭氧水浓度的变化进行模拟而得的结果，图16是在供给纯水的情况下和不供给的情况下对此时总洗涤水的TOC浓度的变化进行模拟而得的结果。如图16所示，在供给与洗涤水的自然减少量相当的纯水的情况下总洗涤水的TOC浓度即使经过处理时间也大大低于作为纯水的水质要求的TOC浓度1.0 (mg/L)。

因此，在进行利用本发明的洗涤水处理装置间歇地供给该规定量的臭氧的洗涤水的处理方法的情况下，若边由除菌净化单元14的臭氧供给部连续供给臭氧0.5 (g/小时)边适当设定供给臭氧的ON时间和停止供给的OFF时间，同时供给与洗涤水的自然减少量相当的纯水，则可将在洗涤处理部11中使用的洗涤水的TOC浓度抑制在1.0 (mg/L)以下。

接下来，对将本发明的洗涤水处理装置应用于电镀处理步骤的情况进行说明。需要说明的是，对于与此前的说明相同功能的部分使用相同的符号，同时省略说明。如图17所示，在该电镀处理步骤中，除电镀槽31以外所设置的3个洗涤水水槽中，在最终的洗涤水水槽35上连接有除菌净化单元14。

在该电镀处理步骤中，回收槽32是为了回收电镀液而设置的，洗涤水水槽33、34、35是为了洗涤电镀处理后的被处理物而设置的。

洗涤水水槽33与洗涤水水槽34连接设置，构成方式如下：供给至洗涤水水槽34的纯水溢出洗涤水水槽33与洗涤水水槽34之间的隔板而流入洗涤水水槽33内，从设于洗涤水水槽33的排水口36排出。

在洗涤水水槽35中存积洗涤用的纯水，洗涤水水槽35与除菌净化单元14之间通过流入流路17和流出流路18连接成可循环，而且洗涤水水槽35和过滤机构部15通过过滤流路19进行连接。并且，过滤机构部15与洗涤水水槽35之间通过循环流路20进行连接，在循环流路20上设有TOC浓度测定设备21和TOC浓度调节设备22。

需要说明的是，TOC浓度测定设备21可使用在线TOC计随时测定TOC浓度，也可从循环流路采集洗涤水来测定TOC浓度。

即，在图17所示的电镀处理步骤中，洗涤水水槽35既是洗涤处理部11，也是洗涤水收纳部13。因此，在作为洗涤处理部11的洗涤水水槽35中用于洗涤被处理物的纯水边在洗涤水水槽35与除菌净化单元14之间循环边进行除菌净化处理，同时从洗涤水水槽35输送至过滤机构部15进行过滤处理，之后返送至作为洗涤处理部的洗涤水水槽35。

如此，作为洗涤水收纳部13的洗涤水水槽35所收纳的洗涤水边在洗涤水水槽35与除菌净化单元14之间循环边进行除菌净化处理，同时边在洗涤水水槽35与过滤机构部15之间循环边进行过滤处理，再根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度，通过TOC浓度调节设备22对被处理水进行纯水的供给、或者进行被处理水的排水和纯水的供给，以进行TOC浓度的抑制，从而使洗涤水水槽35内的洗涤水维持成可作为满足水质要求的纯水进行再利用。

接下来，对将本发明的洗涤水处理装置应用于半导体制造装置的情况进行说明。关于与此前的说明相同功能的部分使用相同的符号，同时省略说明。图18示意性地显示单片式洗涤装置41，显示从喷嘴44对载置于转台42并旋转的晶片43吹喷纯水以洗涤晶片43表面的状况。用于洗涤的纯水作为被处理水收纳在设于单片式洗涤装置41的下部的洗涤水回收水槽45中。

因此，在图18的单片式洗涤装置41中，喷嘴44和转台42是洗涤处理部11，设于单片式洗涤装置41的下部的洗涤水回收水槽45成为洗涤水收纳部13。

在单片式洗涤装置41中，与图17的电镀处理步骤同样，作为洗涤水收纳部13的洗涤水回收水槽45所收纳的洗涤水边在洗涤水回收水槽45与除菌净化单元14之间循环边进行除菌净化处理，同时边在洗涤水回收水槽45与过滤机构部15之间循环边进行过滤处理，再根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度，通过TOC浓度调节设备22对被处理水进行纯水的供给、或者进行被处理水的排水和纯水的供给，以进行TOC浓度的抑制，从而使洗涤水回收水槽45内的洗涤水维持成可作为满足水质要求的纯水进行再利用。

在图18的单片式洗涤装置41中，被处理水为纯水，将回收到洗涤水回收水槽45的被处理水处理成可再利用，但如果从喷嘴44排出的洗涤水被处理成可再利用，则洗涤水回收水槽45未必需要在单片式洗涤装置41中独立设置。因此，可在被处理水达到喷嘴44之前的长的流路的任一个部位设置除菌净化单元14、过滤机构部15、TOC测定设备21、TOC浓度调节设备22，成为在该流路内将被处理水处理成可再利用的单片式洗涤装置。由此，例如适合于被处理水为超纯水、并使用该超纯水来洗涤高集成化的晶片43的情况。

这种情况下，当单片式洗涤装置运转时(洗涤步骤时)，洗涤用超纯水在洗涤晶片43的时刻间歇地流入单片式洗涤装置，该超纯水在含有有机物的状态下流经直至喷嘴44的长的流路。在以直至喷嘴44的长的流路作为洗涤水回收水槽时，这与在上述的洗涤水回收水槽45中收纳含有有机物的洗涤水的情况大致相同。

除此之外，在为了将流路内的被处理水处理成可再利用而从单片式洗涤装置的外部摄入的超纯水中，有时也含有微量的有机物。

这些有机物附着于形成流路的PFA制管等管道内，都有可能包含在用作洗涤水的超纯水中。

因此，在该单片式洗涤装置中，不仅是晶片43洗涤后的洗涤水，就连直至喷嘴44的管道内等流路也需要洗涤以去除附着于其内部的有机物。此时，若管道为PFA等树脂，则对臭氧具有耐性，但也可能产生极微量的TOC，或者有可能存在超纯水特有的问题、即管道表面的TOC成分容易溶出，因此与上述的情况同样，在利用臭氧进行杀菌时也需要考虑抑制TOC浓度。

因此，将流路内所保持的被处理水(超纯水)通过设于上述流路的除菌净化单元14进行净化，并通过过滤机构部15、TOC浓度测定设备21和TOC浓度调节设备22流过单片式洗涤装置内的被处理水以进行除菌净化处理。由此，在洗涤步骤中新引入这种单片式洗涤装置、或者长期使用，在任一种情况下均可边抑制TOC浓度边从喷嘴44供给已去除了有机物的被处理水。

此时，所供给的被处理水(超纯水)通过除菌净化单元14添加了臭氧，之后流经上述的长的流路。在该臭氧的添加过程中，进行臭氧的自身分解，其一部分生成·OH自由基，促进已溶出的TOC成分、或附着于配管内的有机物的分解。因此，预先根据被处理水的流速或流量调节来自除菌净化单元14的臭氧产生量，从而可使因自身分解而在较长流路的二次侧附近含量更容易降低的臭氧充分地残留。由此，可使维持残留臭氧浓度的臭氧水流过整个长流路，分解整个配管的有机物。

在以如上所述的整个流路作为洗涤水回收水槽的单片式洗涤装置的情况下，在未维护晶片43的洗涤时(未运转时)、或新设置该单片式洗涤装置时，由被处理水导致的流路的污染程度基本上一定，因此取下过滤机构部15或TOC浓度测定设备21，利用TOC浓度调节设备22进行超纯水补给，与滞留在长的流路内的超纯水混合，在此状态下可利用除菌净化单元14进行臭氧水浓度的调节以对流路内进行洗涤。据此，即使在单片式洗涤装置的维护或新设置时这样的晶片43的洗涤时以外，也可进行流路内的有机物的分解。

换言之，本发明可谓是使用了超纯水的半导体晶片洗涤装置的洗涤方法中，其中，利用TOC浓度调节设备进行超纯水的补给，将该超纯水通过除菌净化单元进行除菌净化，同时根据预先要供给至装置内部的被处理水的流速/流量调节臭氧产生量使在抵达顶端喷嘴的流路配管内残留臭氧，通过超纯水补给和臭氧水浓度的调节，抑制流路配管内的有机物分解和由流路配管产生的极微量TOC。

特别是，在装置不运转时，可在滞留于配管内的超纯水与补给的超纯水混合的状态下进行除菌净化。

这种情况下，在通过TOC浓度调节设备从外部供给超纯水，使被处理水流入流路内以稀释TOC浓度时，例如可形成如下的结构：将没有图示的排水管设在流路的适当位置，通过该排水管向单片式洗涤装置的外部排水。此时，由于是被处理水不循环的非循环型的处理，所以在调节TOC浓度时，可高效地将其浓度抑制在作为超纯水的指标的0.01mg/L以下。

除菌净化单元14可设在单片式洗涤装置的内部，这种情况下，由于是紧靠着流路设置，所以可将由容易自身分解的臭氧生成的·OH自由基有效地引入流路中，可使维持杀菌能力的臭氧水流入整个流路。

需要说明的是，在这样的洗涤中，已知使用添加了微量臭氧的洗涤用功能水(分析化学概论, 第59卷, No.5, 第349页-第356页(2010))，但在本发明中，进行根据流入配管内的被处理水的流速/流量的臭氧水浓度的控制和基于添加了臭氧的极微量TOC或溶出到超纯水中的TOC成分的抑制控制，这一点不同于仅使用洗涤用功能水的情形。

进一步对将本发明的洗涤水处理装置应用于玻璃基板制造装置的情况进行说明。图19示意性地显示水平搬运方式的玻璃基板洗涤装置51。玻璃基板52边通过搬运辊53进行搬运边从洗涤用喷嘴54吹喷纯水进行洗涤。用于洗涤的纯水作为被处理水收纳在设于玻璃基板洗涤装置51的下部的洗涤水回收水槽55中。

因此，在图的玻璃基板洗涤装置51中，洗涤用喷嘴54和搬运辊53是洗涤处理部11，设于玻璃基板洗涤装置51的下部的洗涤水回收水槽55成为洗涤水收纳部13。

在该玻璃基板洗涤装置51中，与图17的电镀处理步骤或图18的单片式洗涤装置41同样，作为洗涤水收纳部13的洗涤水回收水槽55所收纳的洗涤水边在洗涤水回收水槽55与除菌净化单元14之间循环边进行除菌净化处理，同时边在洗涤水回收水槽55与过滤机构部15之间循环边进行过滤处理，再根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度，通过TOC浓度调节设备22对被处理水进行纯水的供给、或者进行被处理水的排水和纯水的供给，以进行TOC浓度的抑制，从而将洗涤水回收水槽55内的洗涤水维持成作为满足水质要求的纯水可再利用。

如以上所说明，根据本发明的洗涤水处理装置和洗涤水处理方法，对在洗涤处理部中用于洗涤被洗涤构件的纯水进行除菌净化处理和过滤处理以将细菌和有机物保持在低水平，同时将TOC浓度抑制在规定浓度以下，因此可使再利用的洗涤水的除菌过滤处理与从过滤器的壳体等溶出TOC的所谓相反的功能并存，作为满足作为纯水的水质要求的洗涤水进行再利用。

另外，由于被返送至洗涤处理部的被处理水含有低浓度的臭氧，所以可防止在洗涤处理部或洗涤水处理装置内的细菌的增殖，延长洗涤处理部的清扫和纯水的交换间隔，同时可延长洗涤水处理装置的过滤器或离子交换树脂的寿命。由此，可提高使用本发明的洗涤水处理装置和洗涤水处理方法的制造装置的运转率，以谋求削减制造成本。

另外，在本实施例中，关于对由上述实验得到的见解进行数据化而得的运算式或进行数据化而得的数据表，即使在使用树脂制过滤器壳体或树脂制储罐的情况下、即设想的TOC溶出最多的条件、例如过滤器壳体由不锈钢制成、或储罐由不锈钢制成的情况下，TOC浓度也较实际少，因此可使用这些运算式或数据表。

而且，关于运算式或数据表中使用的臭氧水浓度与TOC浓度的关系，可使用在为了洗涤半导体晶片基板、液晶玻璃基板、玻璃基板、电镀处理过的电子部件等而在实际的现场使用的洗涤水处理装置，通过实验进行获取(所谓现场调整)。

需要说明的是，TOC浓度调节设备22只要位于循环流路20内即可，可设在任何位置，但若设在过滤机构部15的后段，则洗涤处理前的洗涤水的TOC浓度变为最低，因此优选设在该位置。

另外，在本实施例中，主要对被处理水为纯水的洗涤水处理装置和其方法进行了说明，但即使被处理水为超纯水也可应用。这种情况下，如果将TOC浓度调节设备的基准值例如设定为0.01 (mg/L)，并根据洗涤水处理装置中使用的臭氧水浓度，控制被处理水的排水和纯水或超纯水的供给，使TOC浓度抑制在基准值以下，则可提供满足水质的洗涤水，而不会浪费地使用纯水或超纯水。

符号说明

11：洗涤处理部；

12：洗涤水处理装置；

13：洗涤水收纳部；

14：除菌净化单元(除菌/净水处理装置)；

15：过滤机构部；

16：控制装置；

17：流入流路；

18：流出流路；

19：过滤流路；

20：循环流路；

22：TOC浓度调节设备；

26：过滤装置；

27：离子交换树脂。

Claims (2)

1.半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理方法，其特征在于，包括以下的步骤：

小循环***的循环步骤，所述小循环***具有：洗涤处理部，其用于半导体制造用或液晶制造时的洗涤，或洗涤电子部件；洗涤水收纳部，其经由循环流路与所述洗涤处理部进行连接，用于使洗涤后的纯水作为被处理水流入并收纳，并且，在具有臭氧供给部的除菌净化单元中循环，所述臭氧供给部经由流入流路和流出流路与所述洗涤水收纳部进行连接以使被处理水能够循环；

大循环***的循环步骤，所述大循环***具有：过滤机构部，其经由过滤流路与所述洗涤水收纳部的后段进行连接，且由过滤器和离子交换树脂构成；设在连接所述过滤机构部的后段和所述洗涤处理部的循环流路的中途的TOC浓度测定设备和TOC浓度调节设备，其中，连接所述洗涤处理部和所述洗涤水收纳部和所述过滤机构部、以及所述过滤机构部和所述洗涤处理部，可循环地构成洗涤水处理装置整体以进行循环，

所述TOC浓度调节设备是用于进行被处理水的排水和纯水的供给以抑制来自构成所述洗涤水收纳部和所述过滤机构部的各部位的TOC的溶出的调节设备；以及

控制步骤，其具备控制装置，所述控制装置具有存储部，所述存储部存储有根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度求出被处理水的排水量和纯水的供给量的运算式，

在通过所述洗涤水收纳部和所述除菌净化单元的循环对所述洗涤水收纳部内的被处理水的细菌类进行除菌分解的同时，通过从洗涤处理部流入并收纳在洗涤水收纳部的被处理水与除菌分解处理后的被处理水的混合及臭氧的自身分解将臭氧水浓度控制在低浓度，

且同时利用所述控制装置控制所述臭氧供给部使来自所述洗涤水收纳部的具有小于5.37mg/L的臭氧水浓度的低浓度臭氧水通过所述过滤器和所述离子交换树脂，

从而抑制过滤器或离子交换树脂的氧化劣化，抑制所述过滤机构部的过滤性能的降低，同时抑制所述过滤器或所述离子交换树脂自身产生的粘液的发生，

而且，根据从构成所述洗涤水收纳部和所述过滤机构部的各部位溶出的TOC浓度，利用所述TOC浓度调节设备通过被处理水的排水和纯水的供给，在所述洗涤处理部之前，将所使用的洗涤水的TOC浓度在纯水中控制在1.0mg/L以下的管理值，使得可用于所述洗涤处理部的洗涤。

2.权利要求1所述的半导体制造用/液晶制造用和电子部件用洗涤水处理方法，其中，所述控制装置使用存储有数据表的存储部根据被处理水的臭氧水浓度和TOC浓度求出被处理水的排水量和纯水的供给量。