CN113658890B - 提高半导体设备产能的方法和*** - Google Patents
提高半导体设备产能的方法和*** Download PDFInfo
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Abstract
本申请实施例涉及一种提高半导体设备产能的方法和***。半导体设备中各工艺腔室的运行时间包括M1个工艺时间段,半导体设备中各传输机构的运行时间包括M2个传输时间段,各传输时间段包括连续的N1个第一时间点;该方法包括:获取相邻工艺时间段之间的空闲时间段,空闲时间段包括连续的N2个第二时间点;其中,M1、M2、N1、N2均为不小于1的整数;当第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,并对待处理时间段进行调节处理。缩短待处理时间段和空闲时间段重合的部分,达到减小节奏时间,提高半导体设备产能的目的。
Description
技术领域
本申请实施例涉及半导体技术领域,特别是涉及一种提高半导体设备产能的方法和***。
背景技术
在半导体设备内部具有独立完成制程配方各步骤(发生物理或化学反应)的工艺腔室和进行承载、运送、暂存功能的传输机构,典型的半导体设备连续运行相同制程配方(recipe)时,前后两批产品生产结束的时间间隔被称为节奏时间(Takt Time),是由工艺腔室的运行时间和传输机构的传输时间构成的,节奏时间越短半导体设备的产能越高。在工艺腔室的运行时间不变的情况下,节奏时间中传输机构的传输时间越短,节奏时间越短,半导体设备的产能越高。传输机构的传输时间包括不会影响节奏时间的第一传输时间和影响节奏时间的第二传输时间,如何找到影响节奏时间的传输时间成为亟需解决的问题。
发明内容
本申请实施例提供了一种提高半导体设备产能的方法和***,可以快速找出影响半导体设备节奏时间的传输时间,达到提高半导体设备产能的目的。
一种提高半导体设备产能的方法,半导体设备中各工艺腔室的运行时间包括M1个工艺时间段,半导体设备中各传输机构的运行时间包括M2个传输时间段,各传输时间段包括连续的N1个第一时间点;该方法包括:
获取相邻工艺时间段之间的空闲时间段,空闲时间段包括连续的N2个第二时间点;
当第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,并对待处理时间段进行调节处理;
其中,M1、M2、N1、N2均为不小于1的整数。
在其中一个实施例中,当第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,并对待处理时间段进行调节处理,包括:
当待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,将待处理时间段的开始时间点提前至第一预设时间点。
在其中一个实施例中,当待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,获取空闲时间段的空闲开始时间点;
将待处理时间段的开始时间点提前至不晚于空闲开始时间点的第一预设时间点。
在其中一个实施例中,当第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,并对待处理时间段进行调节处理,包括:
当待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,将待处理时间段的结束时间点延迟至第二预设时间点。
在其中一个实施例中,当待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,获取空闲时间段的空闲结束时间点;
将待处理时间段的结束时间点延迟至不早于空闲结束时间点的第二预设时间点。
在其中一个实施例中,第二时间点包括在先时间点和在后时间点;
当第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,并对待处理时间段进行调节处理,包括:
当待处理时间段的部分第一时间点与在先时间点相同时,对待处理时间段的结束时间点进行时间点的提前。
在其中一个实施例中,第二时间点包括在先时间点和在后时间点;
当第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,并对待处理时间段进行调节处理,包括:
当待处理时间段的部分第一时间与在后时间点相同时,对所述待处理时间段的开始时间点进行时间点的延迟。
在其中一个实施例中,调节处理包括提高待处理时间段对应的传输机构的运行速率。
本申请还提供一种提高半导体设备产能的***,半导体设备中各工艺腔室的运行时间包括M1个工艺时间段,半导体设备中各传输机构的运行时间包括M2个传输时间段,各传输时间段包括连续的N1个第一时间点;该***包括:
获取模块,用于获取相邻工艺时间段之间的空闲时间段,空闲时间段包括连续的N2个第二时间点;
判定模块,用于在第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段;
控制模块,用于对待处理时间段进行调节处理;
其中,M1、M2、N1、N2均为不小于1的整数。
在其中一个实施例中,控制模块还用于在待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,将待处理时间段的开始时间点提前至第一预设时间点。
在其中一个实施例中,获取模块还用于在待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的所述第二时间点相同时,获取空闲时间段的空闲开始时间点;控制模块还用于将待处理时间段的开始时间点提前至不晚于空闲开始时间点的第一预设时间点。
在其中一个实施例中,控制模块还用于在待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的所述第二时间点相同时,将待处理时间段的结束时间点延迟至第二预设时间点。
在其中一个实施例中,获取模块还用于在待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的所述第二时间点相同时,获取空闲时间段的空闲结束时间点;控制模块还用于将待处理时间段的结束时间点延迟至不晚于空闲结束时间点的第二预设时间点。
在其中一个实施例中,第二时间点包括在先时间点和在后时间点;控制模块还用于在待处理时间段的部分第一时间点与在先时间点相同时,对待处理时间段的结束时间点进行时间点的提前。
在其中一个实施例中,第二时间点包括在先时间点和在后时间点;控制模块还用于在待处理时间段的部分第一时间点与在后时间点相同时,对待处理时间段的开始时间点进行时间点的延迟。
在其中一个实施例中,控制模块还用于控制提高待处理时间段对应的传输机构的运行速率。
一种计算机设备,包括存储器和处理器,存储器存储有计算机程序,处理器执行计算机程序时实现如上述任一项提高半导体设备产能的方法的步骤。
上述提高半导体设备产能的方法中,半导体设备中各工艺腔室的运行时间包括M1个工艺时间段,半导体设备中各传输机构的运行时间包括M2个传输时间段,各传输时间段包括连续的N1个第一时间点;获取相邻工艺时间段之间的空闲时间段,空闲时间段包括连续的N2个第二时间点;当第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,并对待处理时间段进行调节处理。本申请在空闲时间段中的第二时间点和传输时间段中的第一时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,即找到影响节奏时间的传输时间段,并对待处理时间段(影响节奏时间的传输时间段)进行调节处理,缩短待处理时间段(传输时间段)和空闲时间段重合的部分,达到减小节奏时间,提高半导体设备产能的目的。
上述提高半导体设备产能的***中,半导体设备中各工艺腔室的运行时间包括M1个工艺时间段,半导体设备中各传输机构的运行时间包括M2个传输时间段,各传输时间段包括连续的N1个第一时间点;获取模块用于获取相邻工艺时间段之间的空闲时间段,空闲时间段包括连续的N2个第二时间点;判定模块用于在第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段;控制模块用于对待处理时间段进行调节处理。本申请中判定模块在空闲时间段中的第二时间点和传输时间段中的第一时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,即找到影响节奏时间的传输时间段,控制模块对待处理时间段(影响节奏时间的传输时间段)进行调节处理,缩短待处理时间段(传输时间段)和空闲时间段重合的部分,达到减小节奏时间,提高半导体设备产能的目的。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或相关技术中的技术方案,下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为一实施例中提高半导体设备产能的方法的流程示意图;
图2为一实施例中从各工艺腔室的运行时间到空闲时间段的示意图;
图3为一实施例中工艺时间段、空闲时间段和传输时间段之间的对照示意图;
图4为一实施例中步骤S104的流程示意图;
图5为另一实施例中步骤S104的流程示意图;
图6为一实施例中提高半导体设备产能的***的结构框图。
附图标记说明:
102、第一工艺时间段;104、第二工艺时间段;106、第三工艺时间段;108、第四工艺时间段;110、第五工艺时间段;202、第一空闲时间段;204、第二空闲时间段;206、第三空闲时间段;208、第四空闲时间段;302、第一传输时间段;304、第二传输时间段;306、第三传输时间段;308、第四传输时间段;402、获取模块;404、判定模块;406、控制模块。
具体实施方式
为了便于理解本申请实施例,下面将参照相关附图对本申请实施例进行更全面的描述。附图中给出了本申请实施例的首选实施例。但是,本申请实施例可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本申请实施例的公开内容更加透彻全面。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请实施例的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请实施例的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本申请实施例。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
在本申请实施例的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方法或位置关系,仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请实施例的限制。
可以理解,本申请所使用的术语“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各种元件,但这些元件不受这些术语限制。这些术语仅用于将第一个元件与另一个元件区分。举例来说,在不脱离本申请的范围的情况下,可以将第一时间点称为第二时间点,且类似地,可将第二时间点称为第一时间点。第一时间点和第二时间点两者都是时间点,但其不是同一时间点。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。在本申请的描述中,“若干”的含义是至少一个,例如一个,两个等,除非另有明确具体的限定。
半导体设备的产能的计算方法为:WPH=Run size/Takt Time,其中,Run size指的同时派工进站,具有相同任务序列号的每批次生产的产品数量,可以理解为半导体设备的一个加工位置可以同时加工的产品晶圆的产品数量,对于某一确定的半导体设备来说,Run size为常数;Takt Time(生产节拍)指的是半导体设备在满载运行(设备正常、材料充足)的情况下,连续生产同一制程配方(recipe)的时候,前后两个批次产品晶圆的生产结束的时间间隔。Takt Time是由工艺腔室的运行时间和传输机构的传输时间构成的,在工艺腔室的运行时间不变的情况下,通过降低Takt Time中传输机构的传输时间可提高半导体设备的产能。工艺腔室和传输结构是相互独立的两部分,传输机构的传输时间包括与工艺腔室的运行时间重合的部分以及与工艺腔室的运行时间不重合的部分,只有与工艺腔室的运行时间不重合的传输时间才会影响Takt Time,如何获取影响Takt Time的传输时间成为急需解决的问题。
半导体设备包括工艺腔室和传输机构,各工艺腔室的运行时间包括M1个工艺时间段,其中,M1为不小于1的整数,例如各工艺腔室每次运行制程配方的一段连续时间为工艺时间、各工艺腔室两次运行制程配方之间运行清洗制程配方的一段连续时间为清洗时间,按照时间点的先后顺序将工艺时间和清洗时间排序,示例性的,时间点的格式为X年X月X日X时X分X秒,假设工艺时间和清洗时间的排序为工艺时间01、清洗时间01、工艺时间02、工艺时间03……,若工艺时间01和清洗时间01存在相同的时间点,且清洗时间01和工艺时间02的时间点均不相同,则将工艺时间01和清洗时间01作为一个工艺时间段,若工艺时间02和工艺时间03的时间点均不相同,则将工艺时间02作为一个工艺时间段,直至所有的工艺时间和清洗时间都属于工艺时间段为止。各传输机构的运行时间包括M2个传输时间段,其中,M2为不小于1的整数,例如机械手臂(Robot)每次传输产品晶圆的传输时间、工艺腔室传输门(shutter)每次开合的开合时间、承载装置(elevator)每次上下的运动时间,均为一个传输时间段,各传输时间段包括连续的N1个第一时间点,其中,N1为不小于1的整数,即每个传输时间段由多个连续的第一时间点构成。
图1为一实施例中提高半导体设备产能的方法的流程示意图。如图1所示,在本实施例中提供一种提高半导体设备产能的方法,该方法包括:
S102,获取相邻工艺时间段之间的空闲时间段,空闲时间段包括连续的N2个第二时间点。
N2为不小于1的整数,图2为一实施例中从各工艺腔室的运行时间到空闲时间段的示意图。如图2所示,半导体设备的工艺腔室包括腔室CHA、CHB、CHC,腔室CHA的运行时间包括时间段A1、时间段A2、时间段A3、时间段A4,腔室CHB的运行时间包括时间段B1、时间段B2、时间段B3、时间段B4、时间段B5,腔室CHC的运行时间包括时间段C1、时间段C2、时间段C3、时间段C4,其中,时间段B1和时间段A1具有相同的时间点,时间段A1和时间段C1具有相同的时间点,时间段C1和时间段B2的时间点均不相同,将时间段B1、时间段A1和时间段C1作为工艺时间段1,时间段B2和时间段A2具有相同的时间点,时间段A2和时间段C2具有相同的时间点,时间段C2和时间段B2的时间点均不相同,将时间段B2、时间段A2和时间段C2作为工艺时间段2,以此获取工艺时间段3、工艺时间段4和工艺时间段5。
按照时间的先后顺序,将工艺时间段1、工艺时间段2、工艺时间段3、工艺时间段4和工艺时间段5排序,其中,工艺时间段5为工艺腔室CHB的运行时间。在其他实施例中,工艺时间段1、工艺时间段2、工艺时间段3、工艺时间段4和工艺时间段5中至少有两个工艺时间段为同一工艺腔室的运行时间,即工艺时间段的数量不小于3时,至少存在两个工艺时间段为同一工艺腔室的运行时间。在其他实施例中,工艺时间段1、工艺时间段2、工艺时间段3、工艺时间段4和工艺时间段5中至少有一个工艺时间段与其他工艺时间段不属于同一工艺腔室的运行时间,即工艺时间段的数量不小于3时,至少存在一个工艺时间段与其他工艺时间段不属于同一工艺腔室的运行时间。将相邻的工艺时间段1的结束时间点和工艺时间段2的开始时间点之间的连续时间点作为一个整体,称为空闲时间段1,工艺时间段1的结束时间点和工艺时间段2的开始时间点之间各时间点称为第二时间点,且工艺时间段1的结束时间点为空闲时间段1的空闲开始时间点1,工艺时间段2的开始时间点为空闲时间段1的空闲结束时间点;依次获取相邻工艺时间段2和工艺时间段3之间的空闲时间段2,相邻工艺时间段3和工艺时间段4之间的空闲时间段3,相邻工艺时间段4和工艺时间段5之间的空闲时间段4,所有工艺时间段和所有空闲时间段一起组合成完整的连续时间。
S104,根据第一时间点和第二时间点得到待处理时间段,并对待处理时间段进行调节处理。
当第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,并对待处理时间段进行调节处理。即当某一传输时间段1中的第一时间点和另一空闲时间段2中的第二时间点至少有一个重合的时间点时,判定传输时间段1会对节奏时间造成影响,为待处理时间段,然后对待处理时间段(传输时间段1)进行调节处理,来减小传输时间段1和空闲时间段2重合的时间点的数量,缩短待处理时间段(传输时间段整体)和空闲时间段(空闲时间段整体)的重合部分。本申请将与空闲时间段具有重合部分的传输时间段作为待处理时间段,并对得到的各待处理时间段进行调节处理,来缩短待处理时间段和空闲时间段的重合部分,达到减小节奏时间,提高半导体设备产能的目的。
图3为一实施例中工艺时间段、空闲时间段和传输时间段之间的对照示意图。如图3所示,按照时间从前到后的顺序,工艺时间段包括第一工艺时间段102、第二工艺时间段104、第三工艺时间段106、第四工艺时间段108和第五工艺时间段110;空闲时间段包括第一空闲时间段202、第二空闲时间段204、第三空闲时间段206和第四空闲时间段208;传输时间段包括第一传输时间段302、第二传输时间段304、第三传输时间段306和第四传输时间段308。具体地,在时间延长线上,第一传输时间段302和第一空闲时间段202存在重合的部分、第二传输时间段304和第二空闲时间段204存在重合的部分、第三传输时间段306和第三空闲时间段206存在重合的部分,即第一传输时间段302中的第一时间点和第一空闲时间段202中的第二时间点存在重合的时间点、第二传输时间段304中的第一时间点和第二空闲时间段204中的第二时间点存在重合的时间点、第三传输时间段306中的第一时间点和第三空闲时间段206中的第二时间点存在重合的时间点,判定第一传输时间段302、第二传输时间段304、第三传输时间段306会对节奏时间造成影响,为待处理时间段,然后对待处理时间段(第一传输时间段302、第二传输时间段304、第三传输时间段306)进行调节处理,来减小第一传输时间段302和第一空闲时间段202、第二传输时间段304和第二空闲时间段204、第三传输时间段306和第三空闲时间段206重合的时间点的数量,进而缩短待处理时间段(传输时间段整体)和空闲时间段(空闲时间段整体)的重合部分。
上述提高半导体设备产能的方法中,半导体设备中各工艺腔室的运行时间包括M1个工艺时间段,半导体设备中各传输机构的运行时间包括M2个传输时间段,各传输时间段包括连续的N1个第一时间点;获取相邻工艺时间段之间的空闲时间段,空闲时间段包括连续的N2个第二时间点;其中,M1、M2、N1、N2均为不小于1的整数;当第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,并对待处理时间段进行调节处理。本申请在空闲时间段中的第二时间点和传输时间段中的第一时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,即找到影响节奏时间的传输时间段,并对待处理时间段(影响节奏时间的传输时间段)进行调节处理,缩短待处理时间段(传输时间段)和空闲时间段重合的部分,达到减小节奏时间,提高半导体设备产能的目的。
继续参考图3,在其中一个实施例中,步骤S102之后还包括:当第一时间点和第二时间点不存在相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为非处理时间段,不会影响半导体设备的产能。具体地,第四传输时间段308中的第一时间点和第一空闲时间段202中的第二时间点、第二空闲时间段204中的第二时间点、第三空闲时间段206中的第二时间点以及第四空闲时间段208中的第二时间点均不存在相同的时间点(在图3中的时间延长线上,第四传输时间段308与第一空闲时间段202、第二空闲时间段204、第三空闲时间段206以及第四空闲时间段208不存在重合的部分),判定第四传输时间段308为非处理时间段,不会影响半导体设备的产能,在提高半导体设备产能的过程中可以忽略第四传输时间段308。通过该方式可以排除不影响半导体设备产能的非处理时间段,从而简化提高半导体设备产能的步骤,缩短提高半导体设备产能的时间,减少工艺人员的工作量,节约成本。
在其中一个实施例中,步骤S104包括:
当待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,将待处理时间段的开始时间点提前至第一预设时间点。继续参考图3,示例性的,第二传输时间段304中的第一时间点均与第二空闲时间段204中的第二时间点相同,即第二传输时间段304中的第一时间点为第二空闲时间段204中的第二时间点的子集,通过将待处理时间段的开始时间点提前至第一预设时间点来缩短第二传输时间段304(待处理时间段)和第二空闲时间段204(空闲时间段)重合的部分。
图4为一实施例中步骤S104的流程示意图。如图4所示,在其中一个实施例中,当待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,将待处理时间段的开始时间点提前至第一预设时间点的步骤包括:
S202,当待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,获取空闲时间段的空闲开始时间点;
S204,将待处理时间段的开始时间点提前至不晚于空闲开始时间点的第一预设时间点。
继续参考图3,示例性的,第二传输时间段304中的第一时间点均与第二空闲时间段204中的第二时间点相同,首先获取第二空闲时间段204的空闲开始时间点T1,然后将第二传输时间段304(待处理时间段)的开始时间点提前到不晚于空闲开始时间点T1的第一预设时间点,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率不降低的情况下,第二传输时间段304(待处理时间段)的结束时间点随第二传输时间段304的开始时间点的提前而提前,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率不变的情况下,将第二传输时间段304(待处理时间段)的开始时间点提前到早于空闲开始时间点T1的第一预设时间点,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率增加的情况下,将第二传输时间段304(待处理时间段)的开始时间点提前到早于或等于空闲开始时间点T1的第一预设时间点,从而缩短第二传输时间段304(待处理时间段)和第二空闲时间段204(空闲时间段)重合的部分,提高半导体设备的产能。
在另一个实施例中,步骤S202之后还包括:
获取以空闲开始时间点为工艺结束时间点的工艺时间段对应的工艺开始时间点;第一预设时间点不早于工艺开始时间点。继续参考图3,获取以空闲开始时间点T1为工艺结束时间点的第二工艺时间段104的工艺开始时间点T2,第一预设时间点不晚于空闲开始时间点T1(第二工艺时间段104的工艺结束时间点),且不早于工艺开始时间点T2,即第一预设时间点为第二工艺时间段104中的任一时间点,例如第一预设时间点为空闲开始时间点T1(第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率增加)、工艺开始时间点T2、时间点T3等。
在其中一个实施例中,步骤S104包括:
当待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,将待处理时间段的结束时间点延迟至第二预设时间点。继续参考图3,示例性的,第二传输时间段304中的第一时间点均与第二空闲时间段204中的第二时间点相同,即第二传输时间段304中的第一时间点为第二空闲时间段204中的第二时间点的子集,通过将待处理时间段的开始时间点延迟至第二预设时间点来缩短第二传输时间段304(待处理时间段)和第二空闲时间段204(空闲时间段)重合的部分。
图5为另一实施例中步骤S104的流程示意图。如图5所示,在其中一个实施例中,当待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,将待处理时间段的结束时间点延迟至第二预设时间点的步骤包括:
S302,当待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,获取空闲时间段的空闲结束时间点;
S304,将待处理时间段的结束时间点延迟至不早于空闲结束时间点的第二预设时间点。
继续参考图3,示例性的,第二传输时间段304中的第一时间点均与第二空闲时间段204中的第二时间点相同,首先获取第二空闲时间段204的空闲结束时间点T4,然后将第二传输时间段304(待处理时间段)的结束时间点延迟到不晚于空闲结束时间点T4的第二预设时间点,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率不降低的情况下,第二传输时间段304(待处理时间段)的开始时间点随第二传输时间段304的结束时间点的延迟而延迟,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率不变的情况下,将第二传输时间段304(待处理时间段)的结束时间点延迟到晚于空闲结束时间点T4的第二预设时间点,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率增加的情况下,将第二传输时间段304(待处理时间段)的结束时间点延迟到晚于或等于空闲结束时间点T4的第二预设时间点,从而缩短第二传输时间段304(待处理时间段)和第二空闲时间段204(空闲时间段)重合的部分,提高半导体设备的产能。
在另一个实施例中,步骤S302之后还包括:
获取以空闲结束时间点为工艺开始时间点的工艺时间段对应的工艺结束时间点;第二预设时间点不早于工艺结束时间点。继续参考图3,获取以空闲结束时间点T4为工艺开始时间点的第三工艺时间段106的工艺结束时间点T5,第二预设时间点不早于空闲结束时间点T4(第三工艺时间段106的工艺开始时间点),且不晚于工艺结束时间点T5,即第二预设时间点为第三工艺时间段106中的任一时间点,例如第二预设时间点为空闲结束时间点T4(第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率增加)、工艺结束时间点T5、时间点T6等。
在其中一个实施例中,第二时间点包括在先时间点和在后时间点;步骤S104包括:当待处理时间段的部分第一时间点与在先时间点相同时,对待处理时间段的结束时间点进行时间点的提前。
继续参考图3,将空闲时间段中的第二时间点划分成时间点靠前(开始时间早,靠近空闲时间段的空闲开始时间点)的在先时间点和时间点靠后(开始时间较晚,靠近空闲时间段的空闲结束时间点)的在后时间点。第一传输时间段302中与第一空闲时间段202重合的部分从第一空闲时间段202的空闲开始时间点T7开始,即待处理时间段的部分第一时间点与在先时间点相同(空闲开始时间点T7至第一传输时间段302的结束时间点之间包括端点的连续时间点均为在先时间点),对第一传输时间段302的结束时间点进行时间点的提前,可以缩短第一传输时间段302(待处理时间段)和第一空闲时间段202(空闲时间段)重合的部分,达到提高半导体设备产能的目的。示例性的,在第一传输时间段302对应的传输机构的运行速率不变的情况下,第一传输时间段302的开始时间点随第一传输时间段302的结束时间点的提前而提前。在第一传输时间段302对应的传输机构的运行速率增加的情况下,第一传输时间段302的开始时间点随第一传输时间段302的结束时间点的提前保持不变或提前。
在其中一个实施例中,第二时间点包括在先时间点和在后时间点,步骤S104包括:当待处理时间段的部分第一时间与在后时间点相同时,对所述待处理时间段的开始时间点进行时间点的延迟。
继续参考图3,将空闲时间段中的第二时间点划分成时间点靠前(开始时间早,靠近空闲时间段的空闲开始时间点)的在先时间点和时间点靠后(开始时间较晚,靠近空闲时间段的空闲结束时间点)的在后时间点。第三传输时间段306中与第三空闲时间段206重合的部分从第二空闲时间段206的空闲结束时间点T8结束,即待处理时间段的部分第一时间点与在后时间点相同(第三传输时间段306的开始时间点至第三空闲时间段206的空闲结束时间点T8之间包括端点的连续时间点均为在后时间点),对第三传输时间段306的开始时间点进行时间点的延迟,可以缩短第三传输时间段306(待处理时间段)和第三空闲时间段206(空闲时间段)重合的部分,达到提高半导体设备产能的目的。示例性的,在第三传输时间段306对应的传输机构的运行速率不变的情况下,第三传输时间段306的结束时间点随第三传输时间段306的开始时间点的延迟而延迟。在第三传输时间段306对应的传输机构的运行速率增加的情况下,第三传输时间段306的结束时间点随第三传输时间段306的开始时间点的延迟保持不变或延迟。
在其中一个实施例中,调节处理包括提高待处理时间段对应的传输机构的运行速率。通过提高待处理时间段对应的传输机构的运行速率可以缩短待处理时间段的长度,进而缩短待处理时间段和空闲时间段重合的部分,达到提高半导体设备产能的目的。
应该理解的是,虽然图1、图4、图5的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示,但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明,这些步骤的执行并没有严格的顺序限制,这些步骤可以以其它的顺序执行。而且,图1、图4、图5中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤或者多个阶段,这些子步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成,而是可以在不同的时刻执行,这些子步骤或者阶段的执行顺序也不必然是依次进行,而是可以与其它步骤或者其它步骤的子步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。
图6为一实施例中提高半导体设备产能的***的结构框图。如图6所示,本申请还提供一种提高半导体设备产能的***,该***包括:获取模块402、判定模块404和控制模块406。获取模块402用于获取相邻工艺时间段之间的空闲时间段,空闲时间段包括连续的N2个数第二时间点,其中,N2为不小于1的整数。判定模块404用于在第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段。控制模块406用于对待处理时间段进行调节处理。
如图2所示,半导体设备的工艺腔室包括腔室CHA、CHB、CHC,腔室CHA的运行时间包括时间段A1、时间段A2、时间段A3、时间段A4,腔室CHB的运行时间包括时间段B1、时间段B2、时间段B3、时间段B4、时间段B5,腔室CHC的运行时间包括时间段C1、时间段C2、时间段C3、时间段C4,其中,时间段B1和时间段A1具有相同的时间点,时间段A1和时间段C1具有相同的时间点,时间段C1和时间段B2的时间点均不相同,将时间段B1、时间段A1和时间段C1作为工艺时间段1,时间段B2和时间段A2具有相同的时间点,时间段A2和时间段C2具有相同的时间点,时间段C2和时间段B2的时间点均不相同,将时间段B2、时间段A2和时间段C2作为工艺时间段2,以此获取工艺时间段3、工艺时间段4和工艺时间段5。按照时间的先后顺序,将工艺时间段1、工艺时间段2、工艺时间段3、工艺时间段4和工艺时间段5排序,其中,工艺时间段5为工艺腔室CHB的运行时间。在其他实施例中,工艺时间段1、工艺时间段2、工艺时间段3、工艺时间段4和工艺时间段5中至少有两个工艺时间段为同一工艺腔室的运行时间,即工艺时间段的数量不小于3时,至少存在两个工艺时间段为同一工艺腔室的运行时间。在其他实施例中,工艺时间段1、工艺时间段2、工艺时间段3、工艺时间段4和工艺时间段5中至少有一个工艺时间段与其他工艺时间段不属于同一工艺腔室的运行时间,即工艺时间段的数量不小于3时,至少存在一个工艺时间段与其他工艺时间段不属于同一工艺腔室的运行时间。获取模块402将相邻的工艺时间段1的结束时间点和工艺时间段2的开始时间点之间的连续时间点作为一个整体,称为空闲时间段1,工艺时间段1的结束时间点和工艺时间段2的开始时间点之间各时间点称为第二时间点,且工艺时间段1的结束时间点为空闲时间段1的空闲开始时间点1,工艺时间段2的开始时间点为空闲时间段1的空闲结束时间点;依次获取相邻工艺时间段2和工艺时间段3之间的空闲时间段2,相邻工艺时间段3和工艺时间段4之间的空闲时间段3,相邻工艺时间段4和工艺时间段5之间的空闲时间段4,所有工艺时间段和所有空闲时间段一起组合成完整的连续时间。判定模块404在第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,控制模块406对待处理时间段进行调节处理。即当某一传输时间段1中的第一时间点和另一空闲时间段2中的第二时间点至少有一个重合的时间点时,判定模块404判定传输时间段1会对节奏时间造成影响,为待处理时间段,控制模块406控制对待处理时间段(传输时间段1)进行调节处理,来减小传输时间段1和空闲时间段2重合的时间点的数量,缩短待处理时间段(传输时间段整体)和空闲时间段(空闲时间段整体)的重合部分。本申请中判定模块404将与空闲时间段具有重合部分的传输时间段判定为待处理时间段,控制模块406控制对得到的各待处理时间段进行调节处理,来缩短待处理时间段和空闲时间段的重合部分,达到减小节奏时间,提高半导体设备产能的目的。
图3为一实施例中工艺时间段、空闲时间段和传输时间段之间的对照示意图。如图3所示,按照时间从前到后的顺序,工艺时间段包括第一工艺时间段102、第二工艺时间段104、第三工艺时间段106、第四工艺时间段108和第五工艺时间段110;空闲时间段包括第一空闲时间段202、第二空闲时间段204、第三空闲时间段206和第四空闲时间段208;传输时间段包括第一传输时间段302、第二传输时间段304、第三传输时间段306和第四传输时间段308。具体地,在时间延长线上,判定模块404在第一传输时间段302和第一空闲时间段202存在重合的部分、第二传输时间段304和第二空闲时间段204存在重合的部分、第三传输时间段306和第三空闲时间段206存在重合的部分,即第一传输时间段302中的第一时间点和第一空闲时间段202中的第二时间点存在重合的时间点、第二传输时间段304中的第一时间点和第二空闲时间段204中的第二时间点存在重合的时间点、第三传输时间段306中的第一时间点和第三空闲时间段206中的第二时间点存在重合的时间点,判定第一传输时间段302、第二传输时间段304、第三传输时间段306会对节奏时间造成影响,为待处理时间段,控制模块406控制对待处理时间段(第一传输时间段302、第二传输时间段304、第三传输时间段306)进行调节处理,来减小第一传输时间段302和第一空闲时间段202、第二传输时间段304和第二空闲时间段204、第三传输时间段306和第三空闲时间段206重合的时间点的数量,进而缩短待处理时间段(传输时间段整体)和空闲时间段(空闲时间段整体)的重合部分。
示例性的,获取模块402包括处理器、单片机或计算器,通过执行处理器、单片机或计算器中存储的计算机程序获取相邻工艺时间段之间的空闲时间段。判定模块404包括处理器、单片机、计算器或比较器,通过执行处理器、单片机、计算器或比较器中存储的计算机程序,在第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段。控制模块406包括处理器、单片机或存储器,通过执行处理器、单片机或存储器中存储的计算机程序,对判定模块404判定为待处理时间段的传输时间段进行调节处理。
上述提高半导体设备产能的***中,半导体设备中各工艺腔室的运行时间包括M1个工艺时间段,半导体设备中各传输机构的运行时间包括M2个传输时间段,各传输时间段包括连续的N1个第一时间点;获取模块用于获取相邻工艺时间段之间的空闲时间段,空闲时间段包括连续的N2个第二时间点;判定模块用于在第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段;控制模块406用于对待处理时间段进行调节处理。本申请判定模块在空闲时间段中的第二时间点和传输时间段中的第一时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段,即找到影响节奏时间的传输时间段,控制模块对待处理时间段(影响节奏时间的传输时间段)进行调节处理,缩短待处理时间段(传输时间段)和空闲时间段重合的部分,达到减小节奏时间,提高半导体设备产能的目的。
继续参考3所示,在其中一个实施例中,判定模块404还用于在第一时间点和第二时间点不存在相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为非处理时间段,不会影响半导体设备的产能。具体地,第四传输时间段308中的第一时间点和第一空闲时间段202中的第二时间点、第二空闲时间段204中的第二时间点、第三空闲时间段206中的第二时间点以及第四空闲时间段208中的第二时间点均不存在相同的时间点(在图3中的时间延长线上,第四传输时间段308与第一空闲时间段202、第二空闲时间段204、第三空闲时间段206以及第四空闲时间段208不存在重合的部分),判定第四传输时间段308为非处理时间段,不会影响半导体设备的产能,在提高半导体设备产能的过程中可以忽略第四传输时间段308。通过该方式可以排除不影响半导体设备产能的非处理时间段,从而简化提高半导体设备产能的步骤,缩短提高半导体设备产能的时间,减少工艺人员的工作量,节约成本。
在其中一个实施例中,控制模块406还用于在待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的第二时间点相同时,控制将待处理时间段的开始时间点提前至第一预设时间点。继续参考图3,示例性的,在第二传输时间段304中的第一时间点均与第二空闲时间段204中的第二时间点相同,即第二传输时间段304中的第一时间点为第二空闲时间段204中的第二时间点的子集,控制模块406通过将待处理时间段的开始时间点提前至第一预设时间点来缩短第二传输时间段304(待处理时间段)和第二空闲时间段204(空闲时间段)重合的部分。
在其中一个实施例中,获取模块402还用于在待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的所述第二时间点相同时,获取空闲时间段的空闲开始时间点;控制模块406还用于将待处理时间段的开始时间点提前至不晚于空闲开始时间点的第一预设时间点。继续参考图3,示例性的,在第二传输时间段304中的第一时间点均与第二空闲时间段204中的第二时间点相同,获取第二空闲时间段204的空闲开始时间点T1,控制模块406控制将第二传输时间段304(待处理时间段)的开始时间点提前到不晚于空闲开始时间点T1的第一预设时间点,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率不降低的情况下,第二传输时间段304(待处理时间段)的结束时间点随第二传输时间段304的开始时间点的提前而提前,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率不变的情况下,控制模块406控制将第二传输时间段304(待处理时间段)的开始时间点提前到早于空闲开始时间点T1的第一预设时间点,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率增加的情况下,控制模块406控制将第二传输时间段304(待处理时间段)的开始时间点提前到早于或等于空闲开始时间点T1的第一预设时间点,从而缩短第二传输时间段304(待处理时间段)和第二空闲时间段204(空闲时间段)重合的部分,提高半导体设备的产能。
在其中一个实施例中,获取模块402还用于在待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的所述第二时间点相同时,获取以空闲开始时间点为工艺结束时间点的工艺时间段对应的工艺开始时间点;控制模块406控制将待处理时间段的开始时间点提前至不早于工艺开始时间点的第一预设时间点。继续参考图3,获取模块402获取以空闲开始时间点T1为工艺结束时间点的第二工艺时间段104的工艺开始时间点T2,控制模块406控制将待处理时间段的开始时间点提前至不晚于空闲开始时间点T1(第二工艺时间段104的工艺结束时间点),且不早于工艺开始时间点T2的第一预设时间点,即第一预设时间点为第二工艺时间段104中的任一时间点,例如第一预设时间点为空闲开始时间点T1(第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率增加)、工艺开始时间点T2、时间点T3等。
在其中一个实施例中,控制模块406还用于在待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的所述第二时间点相同时,将待处理时间段的结束时间点延迟至第二预设时间点。继续参考图3,示例性的,控制模块406在第二传输时间段304中的第一时间点均与第二空闲时间段204中的第二时间点相同,即第二传输时间段304中的第一时间点为第二空闲时间段204中的第二时间点的子集,通过将待处理时间段的开始时间点延迟至第二预设时间点来缩短第二传输时间段304(待处理时间段)和第二空闲时间段204(空闲时间段)重合的部分。
在其中一个实施例中,获取模块402还用于在待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的所述第二时间点相同时,获取空闲时间段的空闲结束时间点;控制模块406还用于将待处理时间段的结束时间点延迟至不晚于空闲结束时间点的第二预设时间点。继续参考图3,示例性的,获取模块402在第二传输时间段304中的第一时间点均与第二空闲时间段204中的第二时间点相同时,获取第二空闲时间段204的空闲结束时间点T4,控制模块406控制将第二传输时间段304(待处理时间段)的结束时间点延迟到不晚于空闲结束时间点T4的第二预设时间点,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率不降低的情况下,第二传输时间段304(待处理时间段)的开始时间点随第二传输时间段304的结束时间点的延迟而延迟,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率不变的情况下,控制模块406控制将第二传输时间段304(待处理时间段)的结束时间点延迟到晚于空闲结束时间点T4的第二预设时间点,在第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率增加的情况下,控制模块406控制将第二传输时间段304(待处理时间段)的结束时间点延迟到晚于或等于空闲结束时间点T4的第二预设时间点,从而缩短第二传输时间段304(待处理时间段)和第二空闲时间段204(空闲时间段)重合的部分,提高半导体设备的产能。
在其中一个实施例中,获取模块402还用于在待处理时间段的第一时间点均与空闲时间段的所述第二时间点相同时,获取以空闲结束时间点为工艺开始时间点的工艺时间段对应的工艺结束时间点;控制模块406控制将待处理时间段的结束时间点延迟至不早于工艺结束时间点的第二预设时间点。继续参考图3,获取模块402获取以空闲结束时间点T4为工艺开始时间点的第三工艺时间段106的工艺结束时间点T5,控制模块406控制将待处理时间段的结束时间点延迟至不早于空闲结束时间点T4(第三工艺时间段106的工艺开始时间点),且不晚于工艺结束时间点T5的第二预设时间点,即第二预设时间点为第三工艺时间段106中的任一时间点,例如第二预设时间点为空闲结束时间点T4(第二传输时间段304对应的传输机构的运行速率增加)、工艺结束时间点T5、时间点T6等。
在其中一个实施例中,第二时间点包括在先时间点和在后时间点;控制模块406还用于在待处理时间段的部分第一时间点与在先时间点相同时,对待处理时间段的结束时间点进行时间点的提前。继续参考图3,将空闲时间段中的第二时间点划分成时间点靠前(开始时间早,靠近空闲时间段的空闲开始时间点)的在先时间点和时间点靠后(开始时间较晚,靠近空闲时间段的空闲结束时间点)的在后时间点。控制模块406在第一传输时间段302中与第一空闲时间段202重合的部分从第一空闲时间段202的空闲开始时间点T7开始,即待处理时间段的部分第一时间点与在先时间点相同(空闲开始时间点T7至第一传输时间段302的结束时间点之间包括端点的连续时间点均为在先时间点),对第一传输时间段302的结束时间点进行时间点的提前,可以缩短第一传输时间段302(待处理时间段)和第一空闲时间段202(空闲时间段)重合的部分,达到提高半导体设备产能的目的。示例性的,在第一传输时间段302对应的传输机构的运行速率不变的情况下,第一传输时间段302的开始时间点随第一传输时间段302的结束时间点的提前而提前。在第一传输时间段302对应的传输机构的运行速率增加的情况下,第一传输时间段302的开始时间点随第一传输时间段302的结束时间点的提前保持不变或提前。
在其中一个实施例中,第二时间点包括在先时间点和在后时间点;控制模块406还用于在待处理时间段的部分第一时间点与在后时间点相同时,对待处理时间段的开始时间点进行时间点的延迟。继续参考图3,将空闲时间段中的第二时间点划分成时间点靠前(开始时间早,靠近空闲时间段的空闲开始时间点)的在先时间点和时间点靠后(开始时间较晚,靠近空闲时间段的空闲结束时间点)的在后时间点。控制模块406在第三传输时间段306中与第三空闲时间段206重合的部分从第二空闲时间段206的空闲结束时间点T8结束,即待处理时间段的部分第一时间点与在后时间点相同(第三传输时间段306的开始时间点至第三空闲时间段206的空闲结束时间点T8之间包括端点的连续时间点均为在后时间点),对第三传输时间段306的开始时间点进行时间点的延迟,可以缩短第三传输时间段306(待处理时间段)和第三空闲时间段206(空闲时间段)重合的部分,达到提高半导体设备产能的目的。示例性的,在第三传输时间段306对应的传输机构的运行速率不变的情况下,第三传输时间段306的结束时间点随第三传输时间段306的开始时间点的延迟而延迟。在第三传输时间段306对应的传输机构的运行速率增加的情况下,第三传输时间段306的结束时间点随第三传输时间段306的开始时间点的延迟保持不变或延迟。
在其中一个实施例中,控制模块406还用于控制提高待处理时间段对应的传输机构的运行速率。通过提高待处理时间段对应的传输机构的运行速率可以缩短待处理时间段的长度,进而缩短待处理时间段和空闲时间段重合的部分,达到提高半导体设备产能的目的。
本申请还提供提高半导体设备产能的***的另一种实施例,在本实施例中,提高半导体设备产能的***包括:处理器,其中,处理器用于执行存储在存储器中的以下程序模块:
获取模块402、判定模块404和控制模块406。获取模块402用于获取相邻工艺时间段之间的空闲时间段,空闲时间段包括连续的N2个数第二时间点,其中,N2为不小于1的整数。判定模块404用于在第一时间点和第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定第一时间点对应的传输时间段为待处理时间段。控制模块406用于对待处理时间段进行调节处理。
本申请还提供一种计算机设备,包括存储器和处理器,存储器存储有计算机程序,处理器执行计算机程序时实现如上述任一项提高半导体设备产能的方法的步骤。
本申请还提供一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,计算机程序被处理器执行时实现如上述任一项所述的方法的步骤。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请实施例的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请实施例构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本申请实施例的保护范围。因此,本申请实施例专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (17)
1.一种提高半导体设备产能的方法,其特征在于,所述半导体设备中各工艺腔室的运行时间包括M1个工艺时间段,所述半导体设备中各传输机构的运行时间包括M2个传输时间段,各所述传输时间段包括连续的N1个第一时间点;所述方法包括:
获取相邻所述工艺时间段之间的空闲时间段,所述空闲时间段包括连续的N2个第二时间点;
当所述第一时间点和所述第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的所述传输时间段为待处理时间段,并对所述待处理时间段进行调节处理;
其中,M1、M2、N1、N2均为不小于1的整数。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述当所述第一时间点和所述第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的所述传输时间段为待处理时间段,并对所述待处理时间段进行调节处理,包括:
当所述待处理时间段的第一时间点均与所述空闲时间段的所述第二时间点相同时,将所述待处理时间段的开始时间点提前至第一预设时间点。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,当所述待处理时间段的第一时间点均与所述空闲时间段的所述第二时间点相同时,获取所述空闲时间段的空闲开始时间点;
将所述待处理时间段的开始时间点提前至不晚于所述空闲开始时间点的第一预设时间点。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述当所述第一时间点和所述第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的所述传输时间段为待处理时间段,并对所述待处理时间段进行调节处理,包括:
当所述待处理时间段的第一时间点均与所述空闲时间段的所述第二时间点相同时,将所述待处理时间段的结束时间点延迟至第二预设时间点。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,当所述待处理时间段的第一时间点均与所述空闲时间段的所述第二时间点相同时,获取所述空闲时间段的空闲结束时间点;
将所述待处理时间段的结束时间点延迟至不早于所述空闲结束时间点的第二预设时间点。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第二时间点包括在先时间点和在后时间点;
所述当所述第一时间点和所述第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的所述传输时间段为待处理时间段,并对所述待处理时间段进行调节处理,包括:
当所述待处理时间段的部分第一时间点与所述在先时间点相同时,对所述待处理时间段的结束时间点进行时间点的提前。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第二时间点包括在先时间点和在后时间点;
所述当所述第一时间点和所述第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的所述传输时间段为待处理时间段,并对所述待处理时间段进行调节处理,包括:
当所述待处理时间段的部分第一时间点与所述在后时间点相同时,对所述待处理时间段的开始时间点进行时间点的延迟。
8.根据权利要求1-7任一项所述的方法,其特征在于,所述调节处理包括提高所述待处理时间段对应的所述传输机构的运行速率。
9.一种提高半导体设备产能的***,其特征在于,所述半导体设备中各工艺腔室的运行时间包括M1个工艺时间段,所述半导体设备中各传输机构的运行时间包括M2个传输时间段,各所述传输时间段包括连续的N1个第一时间点;所述***包括:
获取模块,用于获取相邻所述工艺时间段之间的空闲时间段,所述空闲时间段包括连续的N2个第二时间点;
判定模块,用于在所述第一时间点和所述第二时间点至少存在一个相同时间点时,判定所述第一时间点对应的所述传输时间段为待处理时间段;
控制模块,用于对所述待处理时间段进行调节处理;
其中,M1、M2、N1、N2均为不小于1的整数。
10.根据权利要求9所述的***,其特征在于,所述控制模块还用于在所述待处理时间段的第一时间点均与所述空闲时间段的所述第二时间点相同时,将所述待处理时间段的开始时间点提前至第一预设时间点。
11.根据权利要求10所述的***,其特征在于,所述获取模块还用于在所述待处理时间段的第一时间点均与所述空闲时间段的所述第二时间点相同时,获取所述空闲时间段的空闲开始时间点;所述控制模块还用于将所述待处理时间段的开始时间点提前至不晚于所述空闲开始时间点的第一预设时间点。
12.根据权利要求9所述的***,其特征在于,所述控制模块还用于在所述待处理时间段的第一时间点均与所述空闲时间段的所述第二时间点相同时,将所述待处理时间段的结束时间点延迟至第二预设时间点。
13.根据权利要求12所述的***,其特征在于,所述获取模块还用于在所述待处理时间段的第一时间点均与所述空闲时间段的所述第二时间点相同时,获取所述空闲时间段的空闲结束时间点;所述控制模块还用于将所述待处理时间段的结束时间点延迟至不晚于所述空闲结束时间点的第二预设时间点。
14.根据权利要求9所述的***,其特征在于,所述第二时间点包括在先时间点和在后时间点;所述控制模块还用于在所述待处理时间段的部分第一时间点与所述在先时间点相同时,对所述待处理时间段的结束时间点进行时间点的提前。
15.根据权利要求9所述的***,其特征在于,所述第二时间点包括在先时间点和在后时间点;所述控制模块还用于在所述待处理时间段的部分第一时间点与所述在后时间点相同时,对所述待处理时间段的开始时间点进行时间点的延迟。
16.根据权利要求9-15任一项所述的***,其特征在于,所述控制模块还用于控制提高所述待处理时间段对应的所述传输机构的运行速率。
17.一种计算机设备,包括存储器和处理器,所述存储器存储有计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至8中任一项所述的方法的步骤。
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---|---|---|---|
CN202110943474.XA CN113658890B (zh) | 2021-08-17 | 2021-08-17 | 提高半导体设备产能的方法和*** |
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Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10199960A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-07-31 | Kokusai Electric Co Ltd | 半導体製造装置の基板搬送制御方法 |
CN101960581A (zh) * | 2008-01-01 | 2011-01-26 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 在腔室中搬运工件的方法及*** |
CN105762100A (zh) * | 2014-12-17 | 2016-07-13 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 用于真空加工设备的基片传输方法 |
CN105810618A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-07-27 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 提高晶圆传输效率的***及方法 |
CN107026077A (zh) * | 2016-01-29 | 2017-08-08 | 株式会社日立国际电气 | 半导体器件的制造方法、衬底处理装置及气体供给*** |
CN110248878A (zh) * | 2017-02-07 | 2019-09-17 | 村田机械株式会社 | 输送***和输送方法 |
CN112286235A (zh) * | 2020-10-30 | 2021-01-29 | 广东利元亨智能装备股份有限公司 | 基于轨迹的控制方法 |
CN112582306A (zh) * | 2020-12-14 | 2021-03-30 | 长江存储科技有限责任公司 | 存储介质、半导体机台的控制方法及控制装置 |
CN112987674A (zh) * | 2021-04-27 | 2021-06-18 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体加工设备的物料调度方法和装置 |
Family Cites Families (1)
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---|---|---|---|---|
DE102006025407A1 (de) * | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | Verfahren und System zum dynamischen Ändern der Transportsequenz in einer Cluster-Anlage |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10199960A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-07-31 | Kokusai Electric Co Ltd | 半導体製造装置の基板搬送制御方法 |
CN101960581A (zh) * | 2008-01-01 | 2011-01-26 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 在腔室中搬运工件的方法及*** |
CN105762100A (zh) * | 2014-12-17 | 2016-07-13 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 用于真空加工设备的基片传输方法 |
CN107026077A (zh) * | 2016-01-29 | 2017-08-08 | 株式会社日立国际电气 | 半导体器件的制造方法、衬底处理装置及气体供给*** |
CN105810618A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-07-27 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 提高晶圆传输效率的***及方法 |
CN110248878A (zh) * | 2017-02-07 | 2019-09-17 | 村田机械株式会社 | 输送***和输送方法 |
CN112286235A (zh) * | 2020-10-30 | 2021-01-29 | 广东利元亨智能装备股份有限公司 | 基于轨迹的控制方法 |
CN112582306A (zh) * | 2020-12-14 | 2021-03-30 | 长江存储科技有限责任公司 | 存储介质、半导体机台的控制方法及控制装置 |
CN112987674A (zh) * | 2021-04-27 | 2021-06-18 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体加工设备的物料调度方法和装置 |
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