CN113658746B - 一种导电膜及其制备方法 - Google Patents

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CN113658746B CN202110710555.5A CN202110710555A CN113658746B CN 113658746 B CN113658746 B CN 113658746B CN 202110710555 A CN202110710555 A CN 202110710555A CN 113658746 B CN113658746 B CN 113658746B
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Abstract

本发明提供了一种导电膜及其制备方法，该导电膜包括：基材；憎水模板阵列层，导电层和保护层；该导电膜的制备方法为：在基材一侧面制备憎水模板阵列层；在基材一侧面位于相邻憎水模板之间制备导电层；在憎水模板阵列层、导电层远离基材一侧面制备保护层。本发明的方法利用憎水模板阵列层阻隔之后导电液的涂布，使得导电液只停留在之前未被憎水模板阵列层覆盖的地方，从而形成导电线路，来代替传统的激光刻蚀工艺，由于憎水模板阵列层可很好的起到了防止导电层短路，避免出现触控失效；同时由于未使用激光刻蚀工艺，可以实现保护液的厚涂，最终形成的保护层厚度可达0.2~10μm，相比激光刻蚀工艺，本申请的保护层的保护效果大大增强。

Description

一种导电膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示触控模组技术领域，尤其涉及一种导电膜及其制备方法。
背景技术
现有的大尺寸显示触控模组，主要分为两类，一类是纳米银线透明导电膜，一类是金属网格透明导电膜。由于金属网格具有成本高，外观较差，有明显摩尔纹等劣势，现在越来越多的大尺寸触控模组开始使用纳米银线透明导电膜进行替代。现有的纳米银线透明导电膜的制备工艺为：在膜材表面进行纳米银线的精密涂布，在纳米银线表面进行超薄保护层的精密涂布，在膜材边缘进行导电银浆的涂布，进行激光刻蚀出现导电线路；目前的制备工艺存在以下问题：激光刻蚀的线路中间仅有超薄层保护层保护，很容易出现银迁移，导致电路短路，出现触控失效；薄层保护涂层对于老化实验，保护效果一般，但由于需要进行激光刻蚀，无法进行厚涂层保护；激光刻蚀工艺成本较高，并且会一定程度的限制量产速度，并且会对价格昂贵的纳米银线产生浪费。
基于目前的纳米银线透明导电膜的制备存在的技术缺陷，有必要对此进行改进。
发明内容
有鉴于此，本发明提出了一种导电膜及其制备方法，以解决或部分解决现有技术中存在的技术问题。
第一方面，本发明提供了一种导电膜，包括：
基材；
憎水模板阵列层，其位于所述基材一侧面；
导电层，其位于所述基材一侧面并位于相邻憎水模板之间；
保护层，其覆盖于所述憎水模板阵列层、所述导电层远离所述基材一侧面。
优选的是，所述的导电膜，所述保护层的厚度为0.2~10μm。
第二方面，本发明还提供了一种所述的导电膜的制备方法，包括以下步骤：
提供一基材；
在所述基材一侧面制备憎水模板阵列层；
在所述基材一侧面位于相邻憎水模板之间制备导电层；
在所述憎水模板阵列层、所述导电层远离所述基材一侧面制备保护层。
优选的是，所述的导电膜的制备方法，在所述基材一侧面制备憎水模板阵列层具体包括：
配制憎水模板液；
将憎水模板液通过丝网印刷在所述基材上，即在所述基材一侧面制备憎水
模板阵列层；
其中，所述憎水模板液包括以下组分：第一憎水树脂、第一引发剂、第一助剂和第一溶剂。
优选的是，所述的导电膜的制备方法，所述第一憎水树脂为热固型或光固型树脂，所述第一憎水树脂包括硅氧树脂、憎水环氧树脂、氟树脂、丙烯酸树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、有机硅树脂和聚氨酯树脂中的至少一种；
和/或，所述第一助剂包括第一消泡剂、第一流平剂、第一分散剂、第一润
湿剂、第一增稠剂和第一抗污剂中的至少一种；
和/或，所述第一溶剂包括水、甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、丙酮、
丁酮、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丁酸丁酯、丁酸乙酯、乙二醇、丙三醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙腈、二甲基甲酰胺、甲苯、二甲苯、三甲苯、石油醚、环己烷、环己酮中的至少一种；
和/或，所述第一憎水树脂、第一引发剂、第一助剂和第一溶剂的质量比为(30~90):(0.01~45):(0.01~5):(8~68)。
优选的是，所述的导电膜的制备方法，在所述基材一侧面位于相邻憎水模板之间制备导电层具体为：
配制导电液；
将导电液涂布在所述基材一侧面即制备得到导电层；
其中，所述导电液包括以下组分：导电纳米材料、第二助剂和第二溶剂。
优选的是，所述的导电膜的制备方法，所述导电纳米材料包括纳米金线、纳米银线、纳米铜线、单层纳米碳管、多层纳米碳管、单层石墨烯、多层石墨烯、单层氧化石墨烯、多层氧化石墨烯、单层还原氧化石墨烯、多层还原氧化石墨烯、纳米金粉、纳米银粉和纳米铜粉中的至少一种；
和/或，所述第二助剂包括第二消泡剂、第二流平剂、第二分散剂、第二润
湿剂、第二增稠剂和第二抗污剂中的至少一种；
和/或，所述第二溶剂包括水、甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、丙
酮、丁酮、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丁酸丁酯、丁酸乙酯、乙二醇、丙三醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙腈、二甲基甲酰胺、甲苯、二甲苯、三甲苯、石油醚、环己烷、环己酮中的至少一种；
和/或，所述导电纳米材料、第二助剂和第二溶剂的质量比为(0.05~15):(0.01~5):(80~99)。
优选的是，所述的导电膜的制备方法，在所述憎水模板阵列层、所述导电层远离所述基材一侧面制备保护层具体为：
配制保护液；
将保护液涂布在所述憎水模板阵列层、所述导电层远离所述基材一侧面即
制备得到保护层；
其中，所述保护液包括以下组分：第二树脂、第二引发剂、第三助剂和第三溶剂。
优选的是，所述的导电膜的制备方法，所述第二树脂为热固型树脂或光固型树脂，所述第二树脂包括丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、聚酯树脂、聚醚树脂和有机硅树脂中的至少一种。
优选的是，所述的导电膜的制备方法，所述第三助剂包括第三消泡剂、第三流平剂、第三分散剂、第三润湿剂、第三增稠剂、第三抗污剂和紫外吸收剂中至少一种；
和/或，所述第三溶剂包括水、甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、丙
酮、丁酮、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丁酸丁酯、丁酸乙酯、乙二醇、丙三醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙腈、二甲基甲酰胺、甲苯、二甲苯、三甲苯、石油醚、环己烷、环己酮中的至少一种；
和/或，所述第二树脂、第二引发剂、第三助剂和第三溶剂的质量比为(15~90):(0.05~45):(0.01~5):(8~84)。
本发明的一种导电膜及其制备方法相对于现有技术具有以下有益效果：
（1）本发明的导电膜的制备方法，利用涂布效率较高、成本低的丝网印刷工艺涂布并制备得到憎水模板阵列层，用来阻隔之后导电液的涂布，使得导电液只停留在之前未被憎水模板阵列层覆盖的地方，从而形成导电线路，来代替传统的激光刻蚀工艺，并且由于憎水模板阵列层可很好的起到了防止导电层短路，避免出现触控失效；同时由于本申请未使用激光刻蚀工艺，可以实现保护液的厚涂，最终形成的保护层厚度可达0.2~10μm，而传统的激光刻蚀工艺的保护层厚度仅为0.05-0.1μm，相比激光刻蚀工艺，本申请的保护层的保护效果大大增强；
（2）本发明制备得到的导电膜，导电层位于基材的一侧面并且位于相邻憎水模板之间，憎水模板阵列层起到了阻碍导电层之间发生短路的可能性，保护层覆盖于憎水模板阵列层、导电层远离基材一侧面，保护层起到了保护导电层和憎水模板阵列层的作用，防止其被物理划伤改变外观或者发生化学反应改变其物理化学性能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1 为本发明其中一个实施例中导电膜的结构示意图；
图2为本发明其中一个实施例中憎水模板阵列层与导电层的俯视图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施方式，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本发明一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本发明中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本发明保护的范围。
本申请实施例提供了一种导电膜，如图1所示，包括：
基材1；
憎水模板阵列层2，其位于基材1一侧面；
导电层3，其位于基材1一侧面并位于相邻憎水模板之间；
保护层4，其覆盖于憎水模板阵列层2、导电层3远离基材1一侧面。
需要说明的是，本申请实施例中，基材1的材料可为柔性材料，比如可采用PET、COP、COC、PI、PMMA、PC等；憎水模板阵列层2包括若干憎水模板，并位于基材1一侧面，导电层3同样位于基材1的一侧面并且位于相邻憎水模板之间，憎水模板阵列层2起到了阻碍导电层3之间发生短路的可能性，保护层4覆盖于憎水模板阵列层2、导电层3远离基材1一侧面，保护层4起到了保护导电层3和憎水模板阵列层2的作用，防止其被物理划伤改变外观，或者发生化学反应改变其物理化学性能。
图2显示了憎水模板阵列层2与导电层3的俯视图，从图2中可以看出，憎水模板阵列层2可使导电层3形成电路。
在一些实施例中，保护层4的厚度为0.2~10μm。
基于同一发明构思，本发明还提供了上述的导电膜的制备方法，包括以下步骤：
S1、提供一基材；
S2、在基材一侧面制备憎水模板阵列层；
S3、在基材一侧面位于相邻憎水模板之间制备导电层；
S4、在憎水模板阵列层、导电层远离基材一侧面制备保护层。
在一些实施例中，在基材一侧面制备憎水模板阵列层具体包括：
配制憎水模板液；
将憎水模板液通过丝网印刷在基材上，即在所基材一侧面制备憎水模板阵
列层；
其中，憎水模板液包括以下组分：第一憎水树脂、第一引发剂、第一助剂和第一溶剂。
需要说明的是，本申请实施例中，通过丝网印刷的方法将憎水模板液涂布至基材上，固化后，于50~150℃下烘干，如果是光固化树脂，则需要能量为200~3000mJ/cm2的UV固化，即制备得到憎水模板阵列层，具体的丝网印刷的图案根据设计的导电层线路确定，丝网印刷的图案与需要被激光刻蚀掉的部分相同，形成一层凸起的模板，起到使得之后涂布的导电液排列成导通的线路；憎水模板液中各组分的具体质量配比，根据实际情况确定，主要依据憎水模板阵列层的厚度以及整体配方是否可以起到一个很好的分散溶解丝网印刷的效果；憎水模板液中第一助剂主要起到第一憎水树脂、第一引发剂在第一溶剂中更好的分散润湿流平，形成更为均一稳定的状态；第一溶剂主要是用来分散各种材料，方便丝印；第一引发剂主要起到加速固化反应的发生，使得第一憎水树脂内部链接更为牢固的作用，第一引发剂分别使用市面上常见的热引发剂或光引发剂。本申请的导电膜的制备方法，利用涂布效率较高、成本低的丝网印刷工艺涂布出憎水模板阵列层，用来阻隔之后导电液的涂布，使得导电液只停留在之前未被憎水模板阵列层覆盖的地方，从而形成导电线路，来代替传统的激光刻蚀工艺，并且由于憎水模板阵列层可很好的起到了防止导电层短路，避免出现触控失效；同时由于本申请未使用激光刻蚀工艺，可以实现保护液的厚涂，最终形成的保护层厚度可达0.2~10μm，而传统的激光刻蚀工艺的保护层厚度仅为0.05-0.1μm，本申请的保护层的保护效果大大增强。
在一些实施例中，第一憎水树脂为热固型或光固型树脂，第一憎水树脂包括硅氧树脂、憎水环氧树脂、氟树脂、丙烯酸树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、有机硅树脂和聚氨酯树脂中的至少一种；
和/或，第一助剂包括第一消泡剂、第一流平剂、第一分散剂、第一润湿剂、
第一增稠剂和第一抗污剂中的至少一种；
和/或，第一溶剂包括水、甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、丙酮、丁酮、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丁酸丁酯、丁酸乙酯、乙二醇、丙三醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙腈、二甲基甲酰胺、甲苯、二甲苯、三甲苯、石油醚、环己烷、环己酮中的至少一种；
和/或，第一憎水树脂、第一引发剂、第一助剂和第一溶剂的质量比为(30~90):(0.01~45):(0.01~5):(8~68)。
需要说明的是，本申请实施例中第一消泡剂可具体采用BYK-014、BYK-016、BYK-019、BYK-052、BYK-054、DC163、DB310、defom 5300、defom 6800等；第一流平剂可具体采用BYK-300、BYK-306、BYK-323、BYK-331、DC11、DC29、DC30、DC57、tego-435、tego-455等；第一分散剂可具体采用
BYK-2008、BYK-2015、BYK-2020、tego-610s、tego-680uv、tego-688等；第一润湿剂可具体采用BYK-101、BYK-102、BYK-P104、tego-715w、tego-656等；第一增稠剂可具体采用淀粉、***胶、果胶、琼脂、明胶、海藻胶、角叉胶、糊精、羧甲基纤维素、丙二醇藻蛋白酸酯、甲基纤维素、淀粉磷酸钠、羧甲基纤维素钠、藻蛋白酸钠、酪蛋白、聚丙烯酸钠、聚氧乙烯、聚乙烯吡咯烷酮等；第一抗污剂具体可采用tego-he328、tego-he100、tego-1000、tego-5000等。
在一些实施例中，在基材一侧面位于相邻憎水模板之间制备导电层具体为：
配制导电液；
将导电液涂布在基材一侧面即制备得到导电层；
其中，导电液包括以下组分：导电纳米材料、第二助剂和第二溶剂。
需要说明的是，本申请实施例中通过配制导电液，然后将导电液涂布在基材一侧面，在40~180℃下烘干后即制备得到导电层，具体的涂布方式可为微凹涂布、逗号涂布、狭缝挤出式涂布、喷枪涂布、丝网印刷等，由于憎水模板阵列层表面是憎水的，因此在涂布过程中，导电液不会覆盖到憎水模板阵列层表面，只能覆盖在相邻的憎水模板之间，从而形成导电通路，从而实现触控的效果。导电液中第二助剂主要起到导电纳米材料更好的分散润湿流平，形成更为均一稳定的状态；第二溶剂主要是用来分散各种材料，方便涂布。
在一些实施例中，导电纳米材料包括纳米金线、纳米银线、纳米铜线、单层纳米碳管、多层纳米碳管、单层石墨烯、多层石墨烯、单层氧化石墨烯、多层氧化石墨烯、单层还原氧化石墨烯、多层还原氧化石墨烯、纳米金粉、纳米银粉和纳米铜粉中的至少一种；
和/或，所述第二助剂包括第二消泡剂、第二流平剂、第二分散剂、第二润
湿剂、第二增稠剂和第二抗污剂中的至少一种；
和/或，所述第二溶剂包括水、甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、丙
酮、丁酮、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丁酸丁酯、丁酸乙酯、乙二醇、丙三醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙腈、二甲基甲酰胺、甲苯、二甲苯、三甲苯、石油醚、环己烷、环己酮中的至少一种；
和/或，导电纳米材料、第二助剂和第二溶剂的质量比为(0.05~15):(0.01~5):(80~99)。
需要说明的是，第二消泡剂具体可采用BYK-014、BYK-016、BYK-019、
BYK-052、BYK-054、DC163、DB310、defom 5300、defom 6800等；第二流平剂具体可采用BYK-300、BYK-306、BYK-323、BYK-331、DC11、DC29、DC30、DC57、tego-435、tego-455等；第二分散剂具体可采用BYK-2008、BYK-2015、BYK-2020、tego-610s、tego-680uv、tego-688等；第二润湿剂具体可采用BYK-101、BYK-102、BYK-P104、tego-715w、tego-656等；第二增稠剂具体可采用淀粉、***胶、果胶、琼脂、明胶、海藻胶、角叉胶、糊精、羧甲基纤维素、丙二醇藻蛋白酸酯、甲基纤维素、淀粉磷酸钠、羧甲基纤维素钠、藻蛋白酸钠、酪蛋白、聚丙烯酸钠、聚氧乙烯、聚乙烯吡咯烷酮等；第二抗污剂中具体可采用tego-he328、tego-he100、tego-1000、tego-5000等。
在一些实施例中，在憎水模板阵列层、导电层远离所述基材一侧面制备保护层具体为：
配制保护液；
将保护液涂布在憎水模板阵列层、导电层远离所述基材一侧面即制备得到保护层；
其中，保护液包括以下组分：第二树脂、第二引发剂、第三助剂和第三溶剂。
需要说明的是，本申请实施例中，利用保护液涂布在憎水模板阵列层、导电层表面，固化后，再于50~150℃下烘干，如果是光固化树脂，则需要能量为200~3000mJ/cm2的UV固化，即制备得到保护层，保护层主要是用来保护导电层，防止被物理划伤改变外观，或者发生化学反应改变其物理化学性能，第二引发剂主要起到加速固化反应的发生，使得第二树脂内部链接更为牢固的作用，第二树脂热固型树脂或光固型树脂，第二引发剂使用市面上常见的热引发剂或光引发剂。第三助剂主要是辅助第二树脂、第二引发剂在第三溶剂中更好的分散润湿流平，形成更为均一稳定的状态。第三溶剂主要是用来分散各种材料，方便涂布。
在一些实施例中，第二树脂为热固型树脂或光固型树脂，第二树脂包括丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、聚酯树脂、聚醚树脂和有机硅树脂中的至少一种。
在一些实施例中，第三助剂包括第三消泡剂、第三流平剂、第三分散剂、第三润湿剂、第三增稠剂、第三抗污剂和紫外吸收剂中至少一种；
和/或，所述第三溶剂包括水、甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、丙
酮、丁酮、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丁酸丁酯、丁酸乙酯、乙二醇、丙三醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙腈、二甲基甲酰胺、甲苯、二甲苯、三甲苯、石油醚、环己烷、环己酮中的至少一种；
和/或，所述第二树脂、第二引发剂、第三助剂和第三溶剂的质量比为(15~90):(0.05~45):(0.01~5):(8~84)。
需要说明的是，本申请实施例中，第三消泡剂具体可采用BYK-014、BYK-016、BYK-019、BYK-052、BYK-054、DC163、DB310、defom 5300、defom 6800等；第三流平剂具体可采用BYK-300、BYK-306、BYK-323、BYK-331、DC11、DC29、DC30、DC57、tego-435、tego-455等；第三分散剂具体可采用BYK-2008、BYK-2015、BYK-2020、tego-610s、tego-680uv、tego-688等；第三润湿剂具体可采用BYK-101、BYK-102、BYK-P104、tego-715w、tego-656等；第三增稠剂具体可采用淀粉、***胶、果胶、琼脂、明胶、海藻胶、角叉胶、糊精、羧甲基纤维素、丙二醇藻蛋白酸酯、甲基纤维素、淀粉磷酸钠、羧甲基纤维素钠、藻蛋白酸钠、酪蛋白、聚丙烯酸钠、聚氧乙烯、聚乙烯吡咯烷酮等；第三抗污剂具体可采用tego-he328、tego-he100、tego-1000、tego-5000等；紫外吸收剂具体可采用邻羟基苯甲酸苯酯、2,4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、六甲基磷酰三胺等。
以下进一步以具体实施例说明本申请的导电膜的制备方法。
实施例1
本申请实施例提供了一种导电膜的制备方法，包括以下步骤：
S1、提供一厚度为125μm的PET基材；
S2、配制憎水模板液，利用丝网印刷方法将憎水模板液涂布在PET基材一侧面，使用500mJ/cm2的UV光固化后，并于80℃下烘干，即制备得到憎水模板阵列层；其中憎水模板液包括以下质量分数的组分：60%的聚氨酯丙烯酸树脂、1.5%的光引发剂184、1.5%光引发剂651、0.2%tego-5000、0.6%聚乙烯吡咯烷酮、0.2%BYK-054，36%的乙酸乙酯；
S3、配制导电液，将导电液涂布在PET基材制备有憎水模板阵列层的一侧面，然后于80℃下烘干，即得导电层；其中导电液包括以下质量分数的组分：0.5%的纳米银线（直径为30nm，长度为50μm）、0.5%的纳米金线（直径为5nm，长度为5μm）、1%的聚乙烯吡咯烷酮、50%的去离子水、48%的乙醇；
S4、配制保护液，在导电层和憎水模板阵列层表面涂布保护液，使用500mJ/cm2的UV光固化后，并于80℃下烘干，即制备得到保护层；其中，保护液包括以下质量分数的组分：60%的聚氨酯丙烯酸树脂、1.5%的光引发剂184、1.5%的光引发剂651、1%的邻羟基苯甲酸苯酯、36%的乙酸乙酯。
实施例2
本申请实施例提供了一种导电膜的制备方法，包括以下步骤：
S1、提供一厚度为125μm的PET基材；
S2、配制憎水模板液，利用丝网印刷方法将憎水模板液涂布在PET基材一侧面，并于80℃下烘3min，再于120℃下熟化1h，即制备得到憎水模板阵列层；其中憎水模板液包括以下质量分数的组分：50%的丙烯酸树脂，25%的聚异氰酸酯、0.5%的tego-5000、0.5%的DB310、24%的丁酮；
S3、配制导电液，将导电液涂布在PET基材制备有憎水模板阵列层的一侧面，然后于80℃下烘干，即得导电层；其中导电液包括以下质量分数的组分：5%的纳米银线（直径为30nm，长度为50μm）、1%的单层石墨烯（厚度为0.5nm，直径为5μm）、1%的羧甲基纤维素、1%的BYK-2020、46%的乙酸乙酯、46%的乙醇；
S4、配制保护液，在导电层和憎水模板阵列层表面涂布保护液，并于80℃下烘3min，再于120℃下熟化1h，即制备得到保护层；其中，保护液包括以下质量分数的组分：60%的丙烯酸树脂、20%的过氧化月桂酰、0.4%的羧甲基纤维素、0.4%的BYK-300、0.2%的DB310、19%的乙酸丁酯。
实施例3
本申请实施例提供了一种导电膜的制备方法，包括以下步骤：
S1、提供一厚度为50μm的PET基材；
S2、配制憎水模板液，利用丝网印刷方法将憎水模板液涂布在PET基材一侧面，并于80℃下烘3min，再于120℃下熟化1h，即制备得到憎水模板阵列层；其中憎水模板液包括以下质量分数的组分：30%的硅氧树脂、5%的偶氮二异丁腈、1%的BYK-300、64%的乙醇；
S3、配制导电液，将导电液涂布在PET基材制备有憎水模板阵列层的一侧面，然后于80℃下烘干，即得导电层；其中导电液包括以下质量分数的组分：0.1%的纳米铜线（直径为150nm，长度为35μm），0.1%的纳米铜粉（直径为5nm）、1.5%的***胶、0.5%的tego-715w，97.8%的去离子水；
S4、配制保护液，在导电层和憎水模板阵列层表面涂布保护液，使用500mJ/cm2的UV光固化后，并于80℃下烘干，即制备得到保护层；其中，保护液包括以下质量分数的组分：20%的聚氨酯树脂、0.2%的TPO、0.5%的羧甲基纤维素、0.5%的tego-5000，78.8%的异丙醇。
实施例4
本申请实施例提供了一种导电膜的制备方法，包括以下步骤：
S1、提供一厚度为125μm的PET基材；
S2、配制憎水模板液，利用丝网印刷方法将憎水模板液涂布在PET基材一侧面，使用500mJ/cm2的UV光固化后，并于80℃下烘干，即制备得到憎水模板阵列层；其中憎水模板液包括以下质量分数的组分：30%的丙烯酸树脂、3%的光引发剂184、0.01%tego-1000、0.8%羧甲基纤维素、66.19%的丁酮；
S3、配制导电液，将导电液涂布在PET基材制备有憎水模板阵列层的一侧面，然后于80℃下烘干，即得导电层；其中导电液包括以下质量分数的组分：1%的纳米银线（直径为20nm，长度为40μm）、0.25%的纳米银片（厚度为3nm，直径为4μm）、0.5%的tego-688、45%的乙醇、53.25%的异丁醇；
S4、配制保护液，在导电层和憎水模板阵列层表面涂布保护液，使用500mJ/cm2的UV光固化后，并于80℃下烘干，即制备得到保护层；其中，保护液包括以下质量分数的组分：40%的聚氨酯树脂、1%的光引发剂184、1%的光引发剂651、1%的BYK-052、57%的乙酸乙酯。
实施例5
本申请实施例提供了一种导电膜的制备方法，包括以下步骤：
S1、提供一厚度为125μm的PET基材；
S2、配制憎水模板液，利用丝网印刷方法将憎水模板液涂布在PET基材一侧面，使用500mJ/cm2的UV光固化后，并于80℃下烘干，即制备得到憎水模板阵列层；其中憎水模板液包括以下质量分数的组分：60%的丙烯酸树脂、3%的光引发剂TPO、0.8%tego-5000、0.8%羧甲基纤维素钠、30%的异丙醇、5.4%乙二醇；
S3、配制导电液，将导电液涂布在PET基材制备有憎水模板阵列层的一侧面，然后于80℃下烘干，即得导电层；其中导电液包括以下质量分数的组分：0.2%的纳米铜线（直径为100nm，长度为100μm）、0.1%的单层氧化石墨烯（厚度为0.5nm，直径为4μm）、0.2%的BYK-014、1%羧甲基纤维素钠、98.5%的去离子水；
S4、配制保护液，在导电层和憎水模板阵列层表面涂布保护液，并于80℃下烘3min，再于120℃下熟化1h，即制备得到保护层；其中，保护液包括以下质量分数的组分：25%的丙烯酸树脂、0.5%的过氧化月桂酰、0.5%的羧甲基纤维素、0.5%的DB310、73.5%的丁酮。
对比例1
本申请实施例提供了一种导电膜的制备方法，包括以下步骤：
S1、提供一厚度为125μm的PET基材；
S2、配制非憎水模板液，利用丝网印刷方法将憎水模板液涂布在PET基材一侧面，并于80℃下烘3min，再于120℃下熟化1h，即制备得到非憎水模板阵列层；其中非憎水模板液包括以下质量分数的组分：60%的环氧树脂、15%的氨基树脂、1%的defom 5300、24%的乙酸乙酯；
S3、配制导电液，将导电液涂布在PET基材制备有憎水模板阵列层的一侧面，然后于80℃下烘干，即得导电层；其中导电液包括以下质量分数的组分：2%的纳米银线（直径为18nm，长度为15μm）、0.5%的tego-688、97.5%的乙醇；
S4、配制保护液，在导电层和憎水模板阵列层表面涂布保护液，使用500mJ/cm2的UV光固化后，并于80℃下烘干，即制备得到保护层；其中，保护液包括以下质量分数的组分：40%的聚氨酯树脂、1%的光引发剂184、1%的光引发剂651、1%的BYK-052、57%的乙酸乙酯。
对比例2
本申请实施例提供了一种导电膜的制备方法，包括以下步骤：
S1、提供一厚度为125μm的PET基材；
S2、配制憎水模板液，利用丝网印刷方法将憎水模板液涂布在PET基材一侧面，并于80℃下烘3min，再于120℃下熟化1h，即制备得到憎水模板阵列层；其中憎水模板液包括以下质量分数的组分：60%的环氧树脂，15%的聚异氰酸酯、0.2%的BYK-331、24.8%的乙酸乙酯；
S3、配制导电液，将导电液涂布在PET基材制备有憎水模板阵列层的一侧面，然后于80℃下烘干，即得导电层；其中导电液包括以下质量分数的组分：0.5%的纳米银线（直径为30nm，长度为50μm）、1%的纤维素、0.5%的BYK-2000、98%的乙醇；
S4、配制保护液，在导电层和憎水模板阵列层表面涂布保护液，并于80℃下烘3min，再于120℃下熟化1h，即制备得到保护层；其中，保护液包括以下质量分数的组分：15%的聚氨酯树脂、1.5%的过氧化月桂酰、0.5%的DC163、83%的丁酮。
实施例1制备得到的导电膜光学性能十分优异、电学性能优异、老化性能十分稳定。经测试实施例1中制备得到的导电膜透过率损失在2%以内，整个导电膜透过率在89%以上，雾度增加量在2%以下。在实施例1中制备完成导电层后测试其方阻，测试结果为28±1Ω，并使用氙灯在1500W/m2下，照射480h，结果显示其方阻变化率≤5%。
实施例2制备得到的导电膜由于添加了更多量的导电纳米材料，并且添加了一部分二维导电材料，电学性能提升十分明显，光学性能与实例1相比有所下降，老化性能十分稳定；经过测试实施例2中制备得到的导电膜透过率损失在10%以内，整个导电膜透过率在80%以上，雾度增加量在4%以下。实施例1中制备完成导电层后测试其方阻，测试结果为8±1Ω，并使用氙灯在1500W/m2下，照射480h，结果显示其方阻变化率≤5%。
实施例3制备得到的导电膜由于降低了导电纳米材料的添加，光学性能提升十分明显，电学性能与实例1相比有所下降，老化性能十分稳定。经过测试实施例3中制备得到的导电膜的透过率损失在0.2%以内，整个导电膜的透过率在90%以上，雾度增加量在1%以下。实施例3中制备完成导电层后测试其方阻，测试结果为60±5Ω，并使用氙灯在1500W/m2下，照射480h，结果显示其方阻变化率≤5%。实施例3中制备导电膜的方法，使用价格较低的纳米铜材料，使用量又偏低，可以大幅降低材料成本，得到光学性能优异的导电薄膜。
实施例4制备得到的导电膜由于降低了憎水模板液里面主体树脂的含量，并且降低了抗污助剂的含量，成本得到了一定量的下降，与实施例1相比，电学性能接近，光学性能接近，但老化性能会有所损失；经测试实施例4中制备得到的导电膜透过率损失在2%以内，整个导电膜透过率在89%以上，雾度增加量在2%以下。在实施例4中制备完成导电层后测试其方阻，测试结果为30±1Ω，并使用氙灯在1500W/m2下，照射480h，结果显示其方阻变化率≤25%。
实施例5制备得到的导电膜由于降低了导电液中纳米材料的含量，并且降低了保护液中树脂以及固化剂的含量，非常有效的降低了成本，与实施例1相比，电学性能稍差，光学性能更优，但老化性能会有所损失；经测试实施例5中制备得到的导电膜透过率损失在0.5%以内，整个导电膜透过率在90%以上，雾度增加量在1%以下。在实施例5中制备完成导电层后测试其方阻，测试结果为45±1Ω，并使用氙灯在1500W/m2下，照射480h，结果显示其方阻变化率≤25%。
对比例1制备得到的导电膜由于使用了非憎水模板液与实施例1相比，光学性能接近，但容易出现短路现象，并且老化性能会有所损失；经测试对比例1中制备得到的导电膜透过率损失在2%以内，整个导电膜透过率在89%以上，雾度增加量在2%以下。在对比例1中制备完成导电层后测试其方阻，测试结果为25±1Ω，但是会有75%的导电膜出现短路，无法使用的情况，在可以使用的导电膜中，使用氙灯在1500W/m2下，照射480h，结果显示其方阻变化率≤50%，并且短路现象依旧会进一步出现。
对比例2制备得到的导电膜由于在保护液中使用了更少量的树脂，得到的保护膜非常薄，可以降低成本，减少厚度，与实施例1相比，光学性能接近，电学性能接近，但老化性能明显下降；经测试对比例2中制备得到的导电膜透过率损失在2%以内，整个导电膜透过率在89%以上，雾度增加量在2%以下。在对比例2中制备完成导电层后测试其方阻，测试结果为32±1Ω，使用氙灯在1500W/m2下，照射480h，结果显示会有80%的导电膜测不出方阻，其余可以测试出方阻的变化率≤90%。
综上，采用实施例1中的方法制备得到的导电膜的综合性能最优。
以上所述仅为本发明的较佳实施方式而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (1)

1.一种导电膜的制备方法，其特征在于，所述导电膜包括：
基材；
憎水模板阵列层，其位于所述基材一侧面；
导电层，其位于所述基材一侧面并位于相邻憎水模板之间；
保护层，其覆盖于所述憎水模板阵列层、所述导电层远离所述基材一侧面；所述基材为厚度为125μm的PET基材；
所述导电膜的制备方法，包括以下步骤：
S1、提供一厚度为125μm的PET基材；
S2、配制憎水模板液，利用丝网印刷方法将憎水模板液涂布在PET基材一侧面，使用500mJ/cm2的UV光固化后，并于80℃下烘干，即制备得到憎水模板阵列层；其中憎水模板液包括以下质量分数的组分：60％的聚氨酯丙烯酸树脂、1.5％的光引发剂184、1.5％的光引发剂651、0.2％的tego-5000、0.6％的聚乙烯吡咯烷酮、0.2％的BYK-054，36％的乙酸乙酯；
S3、配制导电液，将导电液涂布在PET基材制备有憎水模板阵列层的一侧面，然后于80℃下烘干，即得导电层；其中导电液包括以下质量分数的组分：0.5％的纳米银线、0.5％的纳米金线、1％的聚乙烯吡咯烷酮、50％的去离子水、48％的乙醇；纳米银线的直径为30nm，长度为50μm；纳米金线的直径为5nm，长度为5μm；
S4、配制保护液，在导电层和憎水模板阵列层表面涂布保护液，使用500mJ/cm2的UV光固化后，并于80℃下烘干，即制备得到保护层；其中，保护液包括以下质量分数的组分：60％的聚氨酯丙烯酸树脂、1.5％的光引发剂184、1.5％的光引发剂651、1％的邻羟基苯甲酸苯酯、36％的乙酸乙酯。
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