CN113635141B - 反光镜制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请涉及反光镜技术领域，提供反光镜制备方法，用于得到反光镜面，反光镜制备方法包括：将金属原料制备出具有反光部分的反光镜加工件；采用目数逐渐增加的抛光结构依次对反光部分进行抛光，得到镜状光泽面；在镜状光泽面镀镍层；采用目数逐渐增加的抛光结构依次对镍层进行抛光，得到反光面；在反光面镀反光膜，得到反光镜面。该反光镜制备方法通过对反光镜加工件的反光部分，采用目数逐渐增加的抛光结构依次进行抛光，使得能够提高加工效率，且抛光面的光洁度能够得以保证，提高了反光镜的反光效果。

Description

反光镜制备方法

技术领域

本申请涉及反光镜技术领域，具体涉及反光镜制备方法。

背景技术

在相关现有技术中，大多数反光镜都包括镜体，在制备镜体后，对镜体的反光部分进行抛光而得到反光镜面。通常的做法是，采用抛光结构，例如抛光轮，对金属抛光面进行抛光直接得到反光镜面，通常只适用于平面的反光面。单一的抛光方法，反光镜面的光洁度不够理想，且不能应用于非平面金属反光镜的加工。

申请内容

有鉴于此，本申请的第一方面的目的在于提供一种反光镜制备方法，解决或改善背景技术中存在的反光镜面的光洁度不够理想的技术问题。

本申请第一方面提供的反光镜制备方法，所述反光镜制备方法包括：将金属原料制备出具有反光部分的反光镜加工件；采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述反光部分进行抛光，得到镜状光泽面；在所述镜状光泽面镀镍层；采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述镍层进行抛光，得到反光面；在所述反光面镀反光膜，得到所述反光镜面。

本申请的第一方面提供的反光镜制备方法，通过对反光镜加工件的反光部分，采用目数逐渐增加的抛光结构依次进行抛光，使得能够提高加工效率，且抛光面的光洁度能够得以保证，提高了反光镜的反光效果。

结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述反光部分进行抛光，得到镜状光泽面，具体包括：采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到暗光泽面；采用10000目及以下的所述第二抛光结构对所述暗光泽面进行抛光，得到所述镜状光泽面。

结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到暗光泽面，具体包括：采用500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述反光部分抛掉加工刀纹，得到粗反光面；采用1500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述粗反光面抛光至所述暗光泽面。

结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述采用500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述反光部分抛掉加工刀纹，得到粗反光面，具体包括：采用500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到所述粗反光面；或依次采用100目、300目和500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到所述粗反光面。

结合第一方面，在一种可能的实现方式中，采用1500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构将所述粗反光面抛光至所述暗光泽面，具体包括：依次采用1000目、1500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述粗反光面进行抛光，得到所述暗光泽面；或依次采用800目、1000目、1200目和1500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述粗反光面进行抛光，得到所述暗光泽面。

结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述采用10000目及以下的所述第二抛光结构对所述暗光泽面进行抛光，得到所述镜状光泽面，具体包括：依次采用3000目、6000目和10000目的所述第二抛光结构对所述暗光泽面进行抛光，得到所述镜状光泽面。

结合第一方面，在一种可能的实现方式中，采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述镍层进行抛光，得到反光面，具体包括：采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构将所述镍层抛光至所述暗光泽面；采用10000目及以下的所述第二抛光结构对所述暗光泽面进行抛光，得到所述镜状光泽面；采用50000目及以下的所述第二抛光结构对所述镜状光泽面进行抛光，得到所述反光面。

结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述采用50000目及以下的所述第二抛光结构对所述镜状光泽面进行抛光，得到所述反光面，具体包括：依次采用20000目、30000目和50000目的所述第二抛光结构对所述镜状光泽面进行抛光，得到所述反光面。

结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述第一抛光结构为砂纸、百洁布或尼龙抛光轮，所述第二抛光结构包括抛光头和膏状或悬浮液，所述抛光头具有凸球面或凹球面，所述膏状或悬浮液涂覆于所述凹球面或所述凸球面。

结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述反光镜制备方法还包括：在所述反光面及所述反光镜加工件的其它面，采用物理气相沉积的方法沉积一层厚度不超过1微米的二氧化硅保护层。

附图说明

图1所示为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的流程图。

图2所示为图1所示的本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的采用目数逐渐增加的抛光结构依次对反光部分进行抛光，得到镜状光泽面的流程图。

图3所示为图2所示的本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对加工刀纹进行抛光，得到暗光泽面的流程图。

图4所示为图1所示的本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述镍层进行抛光，得到反光面的流程图。

图5所示为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的具有凸球面的抛光头的结构示意图。

图6所示为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的具有凹球面的抛光头的结构示意图。

图7所示为为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的反光膜的反射光谱图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

申请概述

为了解决背景技术中存在的对反光镜体的反光部分一次性抛光，导致反光镜面的光洁度不够理想的技术问题，可以采用目数更多的抛光结构。但是，由于目数更多，抛光的难度更大，因此会费时费力，降低抛光效率。另外，抛光、镀反光膜都是常规制造反光面的方法，但是，单一的或两种结合的方法不是金属材料，无法达到需要的反光率水平。

针对上述的技术问题，本申请的基本构思是提出一种反光镜制备方法。将反光镜制备方法拆分为两层：第一层采用不同目数的抛光结构依次对反光部分进行抛光，既可以提高效率，又能保证光洁度；第二层镀镍层同样采用分级抛光的方式，进一步提高效率和保证光洁度。

需要说明的是，本申请所提供的反光镜制备方法可以应用于任何场景下的反光镜。具体而言，机械结构的设计目的是要完成具体的工作任务，完成工作任务的方式为通过对应的机械结构或机械结构中的部分或全部组件以完成具体的机械动作或信息传递。

在介绍了本申请的基本原理之后，下面将参考附图来具体介绍本申请的各种非限制性实施例。

示例性反光镜制备方法

图1所示为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的流程图。如图1所示，该反光镜制备方法用于得到反光镜面，该反光镜制备方法包括：

步骤101：将金属原料制备出具有反光部分的反光镜加工件，其中，金属原料为不锈钢、铝合金或铜，易于加工，且反光面的反光效果好。将金属原料通过数控机床制备出反光镜的外形，也就是反光镜加工件，加工工艺简单。

步骤103：采用目数逐渐增加的抛光结构依次对反光部分进行抛光，得到镜状光泽面，镜状光泽面的光洁度为▽11以上、粗糙度Ra<0.08微米，通过多级数目的抛光结构依次对反光部分进行抛光，省时省力，提高了光洁度。

步骤105：在镜状光泽面镀镍层，起到了保护金属层的效果。其中，可采用化学沉积法或电还原法镀一层50微米以上的镍层。

步骤107：采用目数逐渐增加的抛光结构依次对镍层进行抛光，得到反光面，反光面的粗糙度Ra<0.01微米。通过多级数目的抛光结构依次对反光部分进行抛光，省时省力，提高了光洁度。

步骤109：在反光面镀反光膜，得到反光镜面，其中，可采用物理气相沉积法或化学气相沉积法在反光面镀上5埃以上的反光膜。

图2所示为图1所示的本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的对反光部分进行抛光，得到镜状光泽面的流程图。如图2所示，在一种可能的实现方式中，对反光部分进行抛光，得到镜状光泽面，具体包括：

步骤201：采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对加工刀纹进行抛光，得到暗光泽面，通过根据不同原料的硬度选择不同目数的第一抛光结构或第二抛光结构将加工刀纹抛至暗光泽面，暗光泽面可以为1500目以下的纹路不可辨别的抛光面。

步骤203：采用10000目及以下的第二抛光结构对暗光泽面进行抛光，得到镜状光泽面，同样地，通过根据不同金属原料的硬度，选择不同目数的第一抛光结构或第二抛光结构将暗光泽面抛至镜状光泽面，镜状光泽面可以为10000目以下的纹路不可辨别的抛光面。

图3所示为图2所示的本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对加工刀纹进行抛光，得到暗光泽面的流程图。如图3所示，在一种可能的实现方式中，采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对加工刀纹进行抛光，得到暗光泽面，具体包括：

步骤301：采用500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对反光部分抛掉加工刀纹，得到粗反光面，通过该步骤，根据不同金属原料的硬度，可使用500目以下的第一抛光结构将机加工刀纹抛掉，方法简单、可靠。

步骤303：采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对粗反光面抛光至暗光泽面，以通过分级抛光的方式逐步对反光部分进行抛光。

其中，采用500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对反光部分抛掉加工刀纹，得到粗反光面，具体包括：采用500目的第一抛光结构或第二抛光结构对加工刀纹进行抛光，得到粗反光面，例如，当金属原料为铜，可直接采用500目的第一抛光结构或第二抛光结构抛至加工刀纹不可辨。或依次采用100目、300目和500目的第一抛光结构或第二抛光结构对加工刀纹进行抛光，得到粗反光面，例如，当金属原料为不锈钢，采用100目的第一抛光结构或第二抛光结构对加工刀纹进行抛光，得到第一反光镜面，第一反光镜面的纹路为100目，使得加工刀纹不可辨。然后采用300目的第一抛光结构或第二抛光结构对第一反光镜面进行抛光，得到第二反光镜面，第二反光镜面的纹路为300目，使得100目纹路不可辨。最后采用500目的第一抛光结构或第二抛光结构对第二反光镜面进行抛光，得到粗反光面，粗反光面的纹路为500目，使得300目纹路不可辨，从而通过逐级提高纹路的目数，达到逐级抛光的目的，抛光效果更好。

具体地，采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构将粗反光面抛光至暗光泽面，可以理解为，在1500目及以下，采用目数依次递增的第一抛光结构或第二抛光结构依次对加工刀纹进行抛光，得到暗光泽面。当金属原料为铝合金，具体包括：依次采用1000目、1500目的第一抛光结构或第二抛光结构对粗反光面进行抛光，得到暗光泽面，可以理解为，先用1000目的第一抛光结构或第二抛光结构将500目纹路的反光镜面抛光成1000目的纹路，再用1500目的第二抛光结构将1000目的纹路抛成1500目的纹路，呈暗光泽面，暗光泽面的纹路为1500目。或当金属原料为不锈钢，则依次采用800目、1000目、1200目和1500目的第一抛光结构或第二抛光结构对反光镜面进行抛光，得到暗光泽面。可理解为，采用800目的第一抛光结构或第二抛光结构对粗反光面进行抛光，得到第一过度反光镜面，第一过度反光镜面的纹路为800目，然后采用1000目的第一抛光结构或第二抛光结构对第一过度反光镜面进行抛光，得到第二过度反光镜面，第二过度反光镜面的纹路为1000目，再采用1200目的第一抛光结构或第二抛光结构对第二过度反光镜面进行抛光，得到第三过度反光镜面，第三过度反光镜面的纹路为1200目，最后采用1500目的第二抛光结构对第三过度反光镜面进行抛光，得到暗光泽面。

具体地，采用10000目及以下的第二抛光结构对暗光泽面进行抛光，得到镜状光泽面，具体包括：依次采用3000目、6000目和10000目的第二抛光结构对暗光泽面进行抛光，得到镜状光泽面，可以理解为，当反光镜加工件的金属原料为铝合金，采用3000目的第二抛光结构对暗光泽面进行抛光，得到第一抛光面，第一抛光面的纹路为3000目，然后采用6000目的第二抛光结构对第一抛光面进行抛光，得到第二抛光面，第二抛光面的纹路为6000目，最后采用10000目的第二抛光结构对第二抛光面进行抛光，得到镜状光泽面，镜状光泽面的纹路为10000目。

图4所示为图1所示的本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述镍层进行抛光，得到反光面。如图4所示，采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述镍层进行抛光，得到反光面，在一种可能的实现方式中，具体包括如下步骤：

步骤401：采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构将镍层抛光至暗光泽面，可以理解为，该步骤的抛光方法与步骤303的步骤相同，此步骤同为半精抛和精抛。当金属原料为铝合金，先用1000目的第一抛光结构或第二抛光结构将500目纹路的镍层抛光成1000目的纹路，再用1500目的第二抛光结构将1000目的纹路抛成1500目的纹路，呈暗光泽面，暗光泽面的纹路为1500目。或当金属原料为不锈钢，则依次采用800目、1000目、1200目和1500目的第一抛光结构或第二抛光结构对镍层进行抛光，得到暗光泽面。具体为，采用800目的第一抛光结构或第二抛光结构对镍层进行抛光，得到第一过度反光镜面，第一过度反光镜面的纹路为800目，然后采用1000目的第一抛光结构或第二抛光结构对第一过度反光镜面进行抛光，得到第二过度反光镜面，第二过度反光镜面的纹路为1000目，再采用1200目的第一抛光结构或第二抛光结构对第二过度反光镜面进行抛光，得到第三过度反光镜面，第三过度反光镜面的纹路为1200目，最后采用1500目的第二抛光结构对第三过度反光镜面进行抛光，得到暗光泽面。

步骤403：采用10000目及以下的第二抛光结构对暗光泽面进行抛光，得到镜状光泽面，镜状光泽面的纹路为10000目，可以理解为，该步骤为精抛。具体为，当反光镜工件的金属原料为铝合金，先采用3000目的第二抛光结构将1500目纹路的暗光泽面抛成3000目纹路，再采用6000目的第二抛光结构将3000目纹路抛成6000目纹路，最后采用10000目的第二抛光结构将将6000目纹路抛成10000目纹路，得到镜状光泽面。

步骤405：采用50000目及以下的第二抛光结构对镜状光泽面进行抛光，得到反光面，反光面的纹路为50000目。使用50000目以下的第二抛光结构对镜状光泽面抛至镜面粗糙度Ra<0.01微米。

具体地，采用50000目及以下的第二抛光结构对镜状光泽面进行抛光，得到反光面，具体为：依次采用20000目、30000目和50000目的第二抛光结构对镜状光泽面进行抛光，得到反光面。也就是，采用20000目的第二抛光结构将10000目纹路抛成20000目纹路，再采用30000目的第二抛光结构将20000目纹路抛成30000目纹路，最后采用50000目的第二抛光结构将30000目纹路抛成50000目纹路。

具体地，反光镜制备方法还包括：在反光面及反光镜加工件的其它面，采用物理气相沉积的方法沉积一层厚度不超过1微米的二氧化硅保护层的步骤，以提高反光镜的抗磨损、抗氧化能力，有效延长反光镜的使用寿命。

图7所示为为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的反光膜的反射光谱图。如图7所示，通过图7可以看出，反光面在对紫外和可见光都有很好的反射效率。

图5所示为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的具有凸球面的抛光头的结构示意图，图6所示为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的具有凹球面的抛光头的结构示意图。第一抛光结构为砂纸、百洁布或尼龙抛光轮，第二抛光结构包括抛光头110和膏状或悬浮液，如图5和图6所示，抛光头110具有凸球面111或凹球面113，膏状或悬浮液涂覆于凹球面113或凸球面111。可以理解为，在使用膏状或悬浮液状的抛光材料时，需使用抛光头110配合，针对凹面的反光镜面，使用凸球面的抛光头110，针对凸面的反光镜面，使用凹球面的抛光头110。其中，膏状、悬浮液状的抛光材料包括但不限于使用金刚石、氧化铈、氧化硅、氧化锆、氧化铝、碳化硅粉末制成的抛光膏或抛光液。

本申请中涉及的器件、装置、设备、***的方框图仅作为例示性的例子并且不意图要求或暗示必须按照方框图示出的方式进行连接、布置、配置。如本领域技术人员将认识到的，可以按任意方式连接、布置、配置这些器件、装置、设备、***。诸如“包括”、“包含”、“具有”等等的词语是开放性词汇，指“包括但不限于”，且可与其互换使用。这里所使用的词汇“或”和“和”指词汇“和/或”，且可与其互换使用，除非上下文明确指示不是如此。这里所使用的词汇“诸如”指词组“诸如但不限于”，且可与其互换使用。

还需要指出的是，在本申请的装置、设备和方法中，各部件或各步骤是可以分解和/或重新组合的。这些分解和/或重新组合应视为本申请的等效方案。

提供所公开的方面的以上描述以使本领域的任何技术人员能够做出或者使用本申请。对这些方面的各种修改对于本领域技术人员而言是非常显而易见的，并且在此定义的一般原理可以应用于其他方面而不脱离本申请的范围。因此，本申请不意图被限制到在此示出的方面，而是按照与在此公开的原理和新颖的特征一致的最宽范围。

为了例示和描述的目的已经给出了以上描述。此外，此描述不意图将本申请的实施例限制到在此公开的形式。尽管以上已经讨论了多个示例方面和实施例，但是本领域技术人员将认识到其某些变型、修改、改变、添加和子组合。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种反光镜制备方法，其特征在于，所述反光镜制备方法包括：

将金属原料制备出具有反光部分的反光镜加工件；

采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对所述反光部分的加工刀纹进行抛光，得到暗光泽面；

依次采用3000目、6000目和10000目的所述第二抛光结构对所述暗光泽面进行抛光，得到镜状光泽面；

在所述镜状光泽面镀镍层；

采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述镍层进行抛光，得到反光面；

在所述反光面镀反光膜，得到反光镜面。

2.根据权利要求1所述的反光镜制备方法，其特征在于，所述采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到暗光泽面，具体包括：

采用500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述反光部分抛掉加工刀纹，得到粗反光面；

采用1500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述粗反光面抛光至所述暗光泽面。

3.根据权利要求2所述的反光镜制备方法，其特征在于，所述采用500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述反光部分抛掉加工刀纹，得到粗反光面，具体包括：

采用500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到所述粗反光面；或

依次采用100目、300目和500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到所述粗反光面。

4.根据权利要求2所述的反光镜制备方法，其特征在于，采用1500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构将所述粗反光面抛光至所述暗光泽面，具体包括：

依次采用1000目、1500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述粗反光面进行抛光，得到所述暗光泽面；或

依次采用800目、1000目、1200目和1500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述粗反光面进行抛光，得到所述暗光泽面。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的反光镜制备方法，其特征在于，采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述镍层进行抛光，得到反光面，具体包括：

采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构将所述镍层抛光至所述暗光泽面；

采用10000目及以下的所述第二抛光结构对所述暗光泽面进行抛光，得到所述镜状光泽面；

采用50000目及以下的所述第二抛光结构对所述镜状光泽面进行抛光，得到所述反光面。

6.根据权利要求5所述的反光镜制备方法，其特征在于，所述采用50000目及以下的所述第二抛光结构对所述镜状光泽面进行抛光，得到所述反光面，具体包括：

依次采用20000目、30000目和50000目的所述第二抛光结构对所述镜状光泽面进行抛光，得到所述反光面。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的反光镜制备方法，其特征在于，所述第一抛光结构为砂纸、百洁布或尼龙抛光轮，所述第二抛光结构包括抛光头和膏状或悬浮液，所述抛光头具有凸球面或凹球面，所述膏状或悬浮液涂覆于所述凹球面或所述凸球面。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的反光镜制备方法，其特征在于，所述反光镜制备方法还包括：

在所述反光面及所述反光镜加工件的其它面，采用物理气相沉积的方法沉积一层厚度不超过1微米的二氧化硅保护层。

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