CN113564543A - 一种银钯铟靶材及其制备方法 - Google Patents
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- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 63
- 239000013077 target material Substances 0.000 title claims abstract description 43
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 39
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical compound [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 17
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 34
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 30
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 claims abstract description 12
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000003801 milling Methods 0.000 claims description 14
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 11
- 238000007531 graphite casting Methods 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 claims description 5
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 claims description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 5
- 238000004321 preservation Methods 0.000 claims description 4
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 16
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 9
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 8
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 6
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 4
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C5/00—Alloys based on noble metals
- C22C5/06—Alloys based on silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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Abstract
本发明公开了一种银钯铟靶材及其制备方法，包括以下步骤：向中频炉中投入银、铟和钯金进行熔炼；待原料全部熔融且液面呈镜面时进行浇铸，冷却后获得铸锭；对铸锭进行轧制，获得半成品；对半成品进行热处理；后处理获得银钯铟靶材成品。本发明提供的银钯铟靶材及其制备方法，操作简单，所制备的银钯铟靶材抗盐雾和抗氧化能力强，材料晶粒细化程度高。
Description
技术领域
本发明属于靶材技术领域，具体涉及一种银钯铟靶材及其制备方法。
背景技术
随着电子工业的飞速发展，银钯材因其优异的性能，在电子元器件领域具有很高的使用价值和经济价值。但是现有的银钯材抗盐雾能力差、易氧化、晶粒尺寸大，影响靶材的使用寿命和使用效果。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中的不足，提供一种银钯铟靶材及其制备方法，操作简单，所制备的银钯铟靶材抗氧化能力强，材料晶粒细化程度高。
本发明提供了如下的技术方案：
一种银钯铟靶材的制备方法，包括以下步骤：
向中频炉中投入银、铟和钯金进行熔炼；
待原料全部熔融且液面呈镜面时进行浇铸，冷却后获得铸锭；
对铸锭进行轧制，获得半成品；
对半成品进行热处理；
后处理获得银钯铟靶材成品。
进一步的，所述银含量为99.99％以上，所述铟和钯金的含量均为99.95％以上。
进一步的，所述银、铟和钯金的投料质量比为(80.5-99.4)：(0.1-9.5)：(0.5-10)。
进一步的，熔炼时，先投入一半质量的银，银熔融后投入铟，铟熔融后快速投入钯金，待钯金熔融后投入剩下的银，采用石墨搅拌直到合金全部熔融，加入木炭保温10分钟。
进一步的，浇筑时采用石墨浇铸模具，浇筑前将石墨浇铸模具置于280℃恒温预热15分钟。
进一步的，轧制时，将铸锭置于冷轧机平台上，轧辊开口开到铸锭厚度后下降3mm，每次轧制的延压方向一致，每次轧制均下降3mm-4mm，轧制到成品厚度基础上预留2-3mm作为加工余量。
进一步的，热处理时，半成品放置于加热炉中，温度调节到400℃，保温时间为1h。
进一步的，后处理包括：去头尾、铣削加工、清洗和干燥。
进一步的，熔炼和轧制后均需取样进行样品质量检测。
一种银钯铟靶材，采用所述的银钯铟靶材的制备方法制备获得。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
(1)本发明所提供的银钯铟靶材的制备方法，操作简单，制备效率高；
(2)本发明所制备的银钯铟靶材成品，因钯材料的添加提高了惰性和抗氧化性，因铟材料的添加提高了材料晶粒细化，弥补了现有银靶材抗盐雾和抗氧化性能差的不足。
具体实施方式
以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。
实施例1
一种银钯铟靶材的制备方法，包括以下步骤：
步骤一、备料，准备含量为99.99％以上的银、99.95％以上的铟和钯金。
步骤二、熔炼，启动水循环冷却***，依据70KW中频炉操作说明书，完成前置作业，按银：铟：钯金＝94.5：5：0.5的质量比进行投料；先投入一半质量的银，银熔融后投入铟，铟熔融后快速投入钯金(因为钯比重大容易下沉)，待钯金熔融后投入剩下的银，采用石墨搅拌直到合金全部熔融，加入木炭保温10分钟。
步骤三、浇筑，待原料的熔融液面呈镜面时进行浇铸，冷却后获得铸锭。浇筑时采用石墨浇铸模具，浇筑前将石墨浇铸模具置于280℃恒温预热15分钟。另外，原料的熔融液面呈镜面时，取真空棒夹住***熔液中取出进行质量检测和分析。
步骤四、对铸锭进行轧制，获得半成品，具体的，将铸锭置于冷轧机平台上，轧辊开口开到铸锭厚度后下降3mm，每次轧制的延压方向一致，每次轧制均下降3mm-4mm，轧制到成品厚度基础上预留2-3mm作为加工余量。轧制时候需要注意防止材料开裂。
步骤五、将半成品置于检验台用游标卡尺量测量其外径与内径，用卷尺测量长度，检测合格后进行下一步。
步骤六、热处理，将检测合格的半成品放置于加热炉(本实施例中为无氧化退火炉)中，温度调节到400℃，保温时间为1h。
步骤七、后处理，包括去头尾、铣削加工、清洗和干燥。具体的，将挤型好的半成品放置于带锯机上，先将一端锯切好(尽量锯切到壁厚看起来一样的位置)，用卷尺测量好需要尺寸，将另一端去除，操作过程尽量保证两端壁厚一致，误差在0.5mm以内；将锯切好的靶材半成品夹于铣床台签上，依铣床床操作说明书，完成切削作业，完成后需再于车床和钻床作铣切和钻孔作业；然后将靶材置于清洗篮，依超音波清洗机操作说明书，完成清洗作业；最后用烘箱烘干，获得银钯铟靶材银钯铟靶材。
步骤八、根据需要在银钯铟靶材成品上雕刻，然后包装，抽检，最后入库储存。
实施例2
一种银钯铟靶材的制备方法，包括以下步骤：
步骤一、备料，准备含量为99.99％以上的银、99.95％以上的铟和钯金。
步骤二、熔炼，启动水循环冷却***，依据70KW中频炉操作说明书，完成前置作业，按银：铟：钯金＝96.5：3：0.5的质量比进行投料；先投入一半质量的银，银熔融后投入铟，铟熔融后快速投入钯金，待钯金熔融后投入剩下的银，采用石墨搅拌直到合金全部熔融，加入木炭保温10分钟。
步骤三、浇筑，待原料的熔融液面呈镜面时进行浇铸，冷却后获得铸锭。浇筑时采用石墨浇铸模具，浇筑前将石墨浇铸模具置于280℃恒温预热15分钟。另外，原料的熔融液面呈镜面时，取真空棒夹住***熔液中取出进行质量检测和分析。
步骤四、对铸锭进行轧制，获得半成品，具体的，将铸锭置于冷轧机平台上，轧辊开口开到铸锭厚度后下降3mm，每次轧制的延压方向一致，每次轧制均下降3mm-4mm，轧制到成品厚度基础上预留2-3mm作为加工余量。轧制时候需要注意防止材料开裂。
步骤五、将半成品置于检验台用游标卡尺量测量其外径与内径，用卷尺测量长度，检测合格后进行下一步。
步骤六、热处理，将检测合格的半成品放置于加热炉(本实施例中为无氧化退火炉)中，温度调节到400℃，保温时间为1h。
步骤七、后处理，包括去头尾、铣削加工、清洗和干燥。具体的，将挤型好的半成品放置于带锯机上，先将一端锯切好(尽量锯切到壁厚看起来一样的位置)，用卷尺测量好需要尺寸，将另一端去除，操作过程尽量保证两端壁厚一致，误差在0.5mm以内；将锯切好的靶材半成品夹于铣床台签上，依铣床床操作说明书，完成切削作业，完成后需再于车床和钻床作铣切和钻孔作业；然后将靶材置于清洗篮，依超音波清洗机操作说明书，完成清洗作业；最后用烘箱烘干，获得银钯铟靶材银钯铟靶材。
步骤八、根据需要在银钯铟靶材成品上雕刻，然后包装，抽检，最后入库储存。
实施例3
一种银钯铟靶材的制备方法，包括以下步骤：
步骤一、备料，准备含量为99.99％以上的银、99.95％以上的铟和钯金。
步骤二、熔炼，启动水循环冷却***，依据70KW中频炉操作说明书，完成前置作业，按银：铟：钯金＝90：9.5：0.5的质量比进行投料；先投入一半质量的银，银熔融后投入铟，铟熔融后快速投入钯金，待钯金熔融后投入剩下的银，采用石墨搅拌直到合金全部熔融，加入木炭保温10分钟。
步骤三、浇筑，待原料的熔融液面呈镜面时进行浇铸，冷却后获得铸锭。浇筑时采用石墨浇铸模具，浇筑前将石墨浇铸模具置于280℃恒温预热15分钟。另外，原料的熔融液面呈镜面时，取真空棒夹住***熔液中取出进行质量检测和分析。
步骤四、对铸锭进行轧制，获得半成品，具体的，将铸锭置于冷轧机平台上，轧辊开口开到铸锭厚度后下降3mm，每次轧制的延压方向一致，每次轧制均下降3mm-4mm，轧制到成品厚度基础上预留2-3mm作为加工余量。轧制时候需要注意防止材料开裂。
步骤五、将半成品置于检验台用游标卡尺量测量其外径与内径，用卷尺测量长度，检测合格后进行下一步。
步骤六、热处理，将检测合格的半成品放置于加热炉(本实施例中为无氧化退火炉)中，温度调节到400℃，保温时间为1h。
步骤七、后处理，包括去头尾、铣削加工、清洗和干燥。具体的，将挤型好的半成品放置于带锯机上，先将一端锯切好(尽量锯切到壁厚看起来一样的位置)，用卷尺测量好需要尺寸，将另一端去除，操作过程尽量保证两端壁厚一致，误差在0.5mm以内；将锯切好的靶材半成品夹于铣床台签上，依铣床床操作说明书，完成切削作业，完成后需再于车床和钻床作铣切和钻孔作业；然后将靶材置于清洗篮，依超音波清洗机操作说明书，完成清洗作业；最后用烘箱烘干，获得银钯铟靶材银钯铟靶材。
步骤八、根据需要在银钯铟靶材成品上雕刻，然后包装，抽检，最后入库储存。
取实施例1～3中所制备获得的银钯铟靶材进行中性盐水喷雾试验，试验温度为35±2℃，喷雾压力为0.7-1.7Kgf/cm2，喷雾沉淀量为1-2ml/80cm2/H，喷雾进行24H(小时)，观察样品表面形貌变化并判断腐蚀级别(9.9级表示腐蚀面积率＜0.01％，9.8级表示腐蚀面积率为0.01～0.02％)，结果如下表1：
表1
由表1可知，实施例1-3所制备获得的银钯铟靶材，中性盐水喷雾试验进行到8H时样品表面无变化，进行至24H后，腐蚀级别在9.8级以上，即中性盐水喷雾试验结果优异(判定标准依据QB/T3832-1999)，证明本发明所制备的银钯铟靶材抗盐雾和抗氧化性能优异。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变形，这些改进和变形也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
向中频炉中投入银、铟和钯金进行熔炼；
待原料全部熔融且液面呈镜面时进行浇铸，冷却后获得铸锭；
对铸锭进行轧制，获得半成品；
对半成品进行热处理；
后处理获得银钯铟靶材成品。
2.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，所述银含量为99.99%以上，所述铟和钯金的含量均为99.95%以上。
3.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，所述银、铟和钯金的投料质量比为（80.5-99.4）：（0.1-9.5）：（0.5-10）。
4.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，熔炼时，先投入一半质量的银，银熔融后投入铟，铟熔融后快速投入钯金，待钯金熔融后投入剩下的银，采用石墨搅拌直到合金全部熔融，加入木炭保温10分钟。
5.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，浇筑时采用石墨浇铸模具，浇筑前将石墨浇铸模具置于280℃恒温预热15分钟。
6.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，轧制时，将铸锭置于冷轧机平台上，轧辊开口开到铸锭厚度后下降3mm，每次轧制的延压方向一致，每次轧制均下降3mm-4mm，轧制到成品厚度基础上预留2-3mm作为加工余量。
7.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，热处理时，半成品放置于加热炉中，温度调节到400℃，保温时间为1h。
8.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，后处理包括：去头尾、铣削加工、清洗和干燥。
9.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，熔炼和轧制后均需取样进行样品质量检测。
10.一种银钯铟靶材，其特征在于，采用权利要求1~9中任一项所述的银钯铟靶材的制备方法制备获得。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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|---|---|
| CN113564543A true CN113564543A (zh) | 2021-10-29 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202110818657.9A Pending CN113564543A (zh) | 2021-07-20 | 2021-07-20 | 一种银钯铟靶材及其制备方法 |
Country Status (1)
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|---|---|
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