CN113544762B - 显示面板及其制作方法和显示装置 - Google Patents

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Abstract

一种显示面板及其制作方法和显示装置，显示面板包括衬底基板(10)，以及依次设置于所述衬底基板(10)上的遮光层(19)；遮光层(19)包括成像小孔(H0)；显示面板还包括阵列排布的多个指纹识别传感器(50)，指纹识别传感器(50)设置于衬底基板(10)远离遮光层(19)的一侧；遮光层(19)设置于指纹识别传感器(50)的入光侧；成像小孔(H0)与红色亚像素中的有机发光层(113)之间的最小距离小于成像小孔(H0)与绿色亚像素中的有机发光层(113)之间的最小距离；成像小孔(H0)与红色亚像素中的有机发光层(113)之间的最小距离小于成像小孔(H0)与蓝色亚像素中的有机发光层(113)之间的最小距离，可以提升小孔成像指纹识别的准确度。

Description

显示面板及其制作方法和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法和显示装置。
背景技术
在显示行业，随着技术的不断发展，指纹识别技术正在得到不断地成熟与完善。其中在OLED(有机发光二极管)全面屏手机领域，屏下指纹识别技术正受到越来越多的青睐。为了实现屏下指纹识别，相关的显示面板可以设置遮光层，在所述遮光层上开设成像小孔，根据小孔成像的原理，使指纹反射的光透过有机膜层射向指纹识别传感器，以便进行指纹识别。然而，小孔成像的指纹识别效果有待提升。
发明内容
在一个方面中，本发明实施例提供了一种显示面板，包括衬底基板，以及依次设置于所述衬底基板上的遮光层和像素界定层，所述像素界定层上形成有呈阵列分布的开口区域；所述显示面板还包括形成于所述开口区域中的有机发光层，以及设置于所述有机发光层远离所述遮光层的一侧的光反射层；所述遮光层包括成像小孔；
所述显示面板还包括阵列排布的多个指纹识别传感器，所述指纹识别传感器设置于所述衬底基板远离所述遮光层的一侧；所述遮光层设置于所述指纹识别传感器的入光侧；
所述显示面板中的像素包括红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素；
所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离小于所述成像小孔与所述绿色亚像素中的有机发光层之间的最小距离；
所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离小于所述成像小孔与所述蓝色亚像素中的有机发光层之间的最小距离。
可选的，所述有机发光层发出的光被所述光反射层反射至所述成像小孔的光线与第一方向之间的夹角大于第一角度θ，以使得所述光线不能透过所述成像小孔射向所述指纹识别传感器；
所述第一方向为与所述遮光层垂直并指向所述衬底基板的方向。
可选的，所述第一角度θ大于或等于20度。
可选的，所述有机发光层的厚度大于或等于500nm而小于或等于600nm。
可选的，所述显示面板还包括设置于所述遮光层和所述像素界定层之间的阳极层；
所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影与所述阳极层在所述衬底基板上的正投影不交叠。
可选的，所述显示面板还包括设置于所述衬底基板和所述阳极层之间的薄膜晶体管阵列层；
所述薄膜晶体管阵列层中的金属膜层在与所述衬底基板上的正投影与所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影不交叠。
可选的，所述薄膜晶体管阵列层包括第一源漏金属层和半导体层；所述遮光层为金属层；
距离所述成像小孔最近的红色亚像素的阳极层通过第一过孔连接至所述遮光层，所述遮光层通过第二过孔连接至第一源漏金属层，所述第一源漏金属层通过第三过孔连接至所述半导体层的漏极区，以接收数据电压信号。
可选的，所述薄膜晶体管阵列层包括半导体层；与所述成像小孔相邻的蓝色亚像素的阳极通过一个过孔连接至所述半导体层的漏极区，以接收数据电压信号。
可选的，所述薄膜晶体管阵列层包括半导体层；与所述成像小孔相邻的绿色亚像素的阳极通过一个过孔连接至所述半导体层的漏极区，以接收数据电压信号。
可选的，所述薄膜晶体管阵列层包括半导体层；所述遮光层为金属层；
所述遮光层还包括镂空结构，所述遮光层的图形还包括导电转接图形部分；所述导电转接图形部分在所述衬底基板上的正投影在所述镂空结构在所述衬底基板上的正投影内；
所述阳极层通过所述导电转接图形连接至所述半导体层的漏极区。
可选的，所述遮光层为金属层，所述遮光层的图形还包括电源电压图形部分，用于接收电源电压信号，所述电源电压图形部分与所述导电转接图形部分在所述衬底上的投影不重叠。
可选的，所述夹角大于或等于第二角度θ1而小于或等于第三角度θ2；所述第二角度θ1大于第一角度θ；
θ1＝arctan((c-d)/a)，θ2＝arctan((b-e)/a)；
其中，a为第一距离，b为第二距离，d为第三距离，e为第四距离，c为第五距离；
第一距离a为所述光反射层与所述衬底基板之间的最小距离与所述成像小孔与所述衬底基板之间的最大距离之间的差值；
当所述显示面板中的亚像素的有机发光层沿水平方向放置时，第二距离b为该有机发光层在所述衬底基板上的正投影与所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离与所述成像小孔的宽度的和值；
第三距离d为当所述有机发光层沿水平方向放置时，所述有机发光层的最上端射向所述光反射层的第一光线与所述光反射层的相交点在所述衬底基板上的正投影，与所述有机发光层在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离；
第四距离e为当有机发光层沿水平方向放置时，所述有机发光层的最下端射向所述光反射层的第二光线与所述光反射层的相交点在所述衬底基板上的正投影，与所述有机发光层在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离；
第五距离c为所述有机发光层在所述衬底基板上的正投影与所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离；
当所述有机发光层沿水平方向放置时，所述第一光线射向所述光反射层，被所述光反射层反射后而形成第一反射光线，该第一反射光线射向所述成像小孔的第一端部；
当所述有机发光层沿水平方向放置，所述第二光线射向所述光反射层，被所述光反射层反射后而形成第二反射光线，该第二反射光线射向所述成像小孔的第二端部；所述成像小孔的第二端部在所述衬底基板上的正投影与该有机发光层在所述衬底基板上的正投影的距离大于所述成像小孔的第一端部在所述衬底基板上的正投影与该有机发光层在所述衬底基板上的正投影的距离。
在第二个方面中，本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素；所述显示面板的制作方法包括：
在衬底基板上依次形成遮光层和像素界定层；所述像素界定层上形成有呈阵列分布的开口区域；所述遮光层包括成像小孔；
在所述开口区域中形成有机发光层；
在所述有机发光层远离所述遮光层的一侧设置光反射层；
所述衬底基板远离所述遮光层的一侧设置阵列排布的多个指纹识别传感器；
将所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离设置为小于所述成像小孔与所述绿色亚像素中的有机发光层之间的最小距离；
将所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离设置为小于所述成像小孔与所述蓝色亚像素中的有机发光层之间的最小距离。
在第三个方面中，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。
与相关技术相比，本发明实施例所述的显示面板及其制作方法和显示装置通过设置所述成像小孔的位置，以提升小孔成像的指纹识别效果。
附图说明
图1A是本发明至少一实施例所述的显示面板的第一截面图；
图1B是本发明至少一实施例所述的显示面板的第二截面图；
图2A是在制作本发明至少一实施例所述的显示面板时，显示面板的至少一实施例的俯视图；
图2B是图2A中的遮光层的俯视图；
图2C是图2A中的第一源漏金属层的俯视图；
图2D是图2A中的阳极图形以及像素界定层开口区域的俯视图；
图3是本发明至少一实施例所述的显示面板的截面图；
图4是用于检测第一角度θ的显示面板的模型的截面图；
图5A是在制作本发明至少一实施例所述的显示面板时，显示面板的至少一实施例的俯视图；
图6是在图5A的基础上设置了阳极层111的显示面板的俯视图；
图7A是在图6的基础上示出了各开口区域的显示面板的俯视图；
图7B是在图7A的基础上增加了第一切线Q1的示意图；
图7C是在图7A的基础上增加了第二切线Q2的示意图；
图8是本发明至少一实施例所述的显示面板中亚像素包括的像素电路的一实施例的电路图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明至少一实施例所述的显示面板包括衬底基板，以及依次设置于所述衬底基板上的遮光层和像素界定层，像素界定层上形成有呈阵列分布的开口区域；所述显示面板还包括形成于所述开口区域中的有机发光层，以及设置于所述有机发光层远离所述遮光层的一侧的光反射层；所述遮光层包括成像小孔；
所述显示面板还包括阵列排布的多个指纹识别传感器，所述指纹识别传感器设置于所述衬底基板远离所述遮光层的一侧；所述遮光层设置于所述指纹识别传感器的入光侧；
所述显示面板中的像素包括红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素；
所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离小于所述成像小孔与所述绿色亚像素中的有机发光层之间的最小距离；
所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离小于所述成像小孔与所述蓝色亚像素中的有机发光层之间的最小距离。
本发明至少一实施例所述的显示面板将所述成像小孔设置为更接近于红色亚像素，以消除红色杂散光对小孔成像指纹识别的影响，通过设置所述成像小孔的位置，以提升小孔成像的指纹识别效果。
在本发明至少一实施例中，所述有机发光层发出的光被所述光反射层反射至所述成像小孔的光线与第一方向之间的夹角大于第一角度θ，以使得所述光线不能透过所述成像小孔射向所述指纹识别传感器；
所述第一方向为与所述遮光层垂直并指向所述衬底基板的方向。
本发明至少一实施例所述的显示面板通过设置所述成像小孔的位置，使得所述有机发光层发出的光被所述光反射层反射至所述成像小孔的光线与第一方向之间的夹角大于第一角度θ，从而能够控制所述光线(该光线为杂散光)不能透过所述成像小孔射向所述指纹识别传感器，以提升小孔成像指纹识别的准确度。
在本发明至少一实施例中，θ可以大于或等于20度，但不以此为限。
可选的，θ可以等于20度、25度、30度、35度、40度或45度，但不以此为限。
在具体实施时，本发明至少一实施例所述的显示面板还可以包括阵列排布的多个指纹识别传感器；所述指纹识别传感器设置于所述衬底基板远离所述遮光层的一侧；所述遮光层设置于所述指纹识别传感器的入光侧，所述成像小孔允许光经由其入射至所述指纹识别传感器。所述有机发光层发出的光被所述光反射层反射至所述成像小孔的光线为杂散光，如果该杂散光通过所述成像小孔射入所述指纹识别传感器，则会影响指纹识别的准确度。
本发明至少一实施例能够缓解相关技术中由于在显示面板包括的有机发光层的远离所述遮光层的一侧会设有光反射层，有机发光层发出的光被所述光反射层反射后形成杂散光，该杂散光可能会通过所述成像小孔射向所述指纹识别传感器，从而影响指纹识别效果的问题，优化小孔成像结构设计。
在本发明至少一实施例中，可以复用第二源漏金属层为所述遮光层，所述第二源漏金属层的图形可以包括电源电压图形部分，所述电源电压图形部分用于接收电源电压信号VDD，也即所述遮光层可以为VDD走线层，但不以此为限。
图1A是本发明至少一实施例所述的显示面板的第一截面图。
如图1A所示，本发明至少一实施例所述的显示面板包括衬底基板10、第一绝缘层12、第一栅绝缘层14、第二栅绝缘层16、第二绝缘层18、遮光层19、平坦层110、阳极层111、像素界定层112、有机发光层113、光反射层114和指纹识别传感器50，其中，
所述遮光层19也即第二源漏金属层，所述遮光层19的图形包括电源电压图形部分，并所述遮光层19包括成像小孔H0；
所述第一绝缘层12、所述第一栅绝缘层14、所述第二栅绝缘层16、所述第二绝缘层18、所述遮光层19、所述平坦层110、所述阳极层111和像素界定层112依次设置于所述衬底基板10上；
所述像素界定层12上形成有呈阵列分布的开口区域；所述有机发光层113形成于所述开口区域中；
在所述有机发光层113远离所述遮光层19的一侧设置有光反射层114；
所述指纹识别传感器50设置于所述衬底基板10远离所述遮光层19的一侧；
所述遮光层19设置于所述指纹识别传感器50的入光侧，所述成像小孔H0允许光经由其入射至所述指纹识别传感器50；
所述有机发光层113发出的光被所述光反射层114反射至所述成像小孔H0的光线与第一方向S1之间的夹角大于第一角度θ，以使得所述光线不能透过所述成像小孔H0射向所述指纹识别传感器50；
所述第一方向S1为与所述遮光层19垂直并指向所述衬底基板10的方向；
其中，θ等于45度，但不以此为限。
在本发明至少一实施例中，所述光反射层114可以为阴极层、偏光片层或用于封装的封装膜层，但不以此为限。
在本发明至少一实施例中，在所述遮光层19下方，还可以设置有与数据线延伸方向大致垂直的栅极电压线和复位信号线等。
在图1中示出的有机发光层113为显示面板包括的红色亚像素中的有机发光层，但不以此为限。在具体实施时，所述有机发光层113也可以为显示面板包括的其他颜色的亚像素中的有机发光层。
在具体实施时，所述衬底基板远离所述遮光层的一侧设置有指纹识别传感器，由于指纹识别传感器对红色光比较敏感，因此优选为将成像小孔设置为接近红色亚像素中的有机发光层，以降低其他杂散光对小孔成像指纹识别的影响。
在图1中，仅示出了一个成像小孔H0和一个指纹识别传感器50，在实际操作时，所述遮光层19可以包括多个成像小孔，所述显示面板可以包括阵列排布的多个指纹识别传感器。
在图1所示的实施例中，所述第一绝缘层12的厚度可以大于或等于1116埃米而小于或等于1284埃米，所述第一栅绝缘层14的厚度可以大于或等于1235埃米而小于或等于1365埃米，所述第二栅金属层16的厚度可以大于或等于4650埃米而小于或等于5350埃米，所述第二绝缘层18的厚度可以大于或等于10200埃米而小于或等于15000埃米，所述平坦层110的厚度可以大于或等于14550埃米而小于或等于15450埃米，所述像素界定层112的厚度可以大于或等于19400埃米而小于或等于30000埃米，所述有机发光层113的厚度可以大于或等于500nm(纳米)而小于或等于600nm，但不以此为限。
可选的，在图1A所示的实施例中，在所述衬底基板10与所述第一绝缘层12之间可以设置有源层，在所述第一绝缘层12与所述第一栅绝缘层14之间可以设置有第一栅金属层，在所述第一栅绝缘层14和所述第二栅绝缘层16之间可以设置有第二栅金属层，在所述第二栅绝缘层16与所述第二绝缘层18之间可以设置有第一源漏金属层，但不以此为限。
图1B是本发明至少一实施例所述的显示面板的第二截面图。
如图1B所示，本发明至少一实施例所述的显示面板包括衬底基板10、有源层11、第一绝缘层12、第一栅绝缘层14、第二栅绝缘层16、第一源漏金属层17、第二绝缘层18、遮光层19、平坦层110、阳极层111、像素界定层112、有机发光层113和光反射层114，其中，
所述遮光层19也即第二源漏金属层，所述遮光层19的图形包括电源电压图形部分以及导电连接图形部分；
所述有源层11、所述第一绝缘层12、所述第一栅绝缘层14、所述第二栅绝缘层16、所述第一源漏金属层17、所述第二绝缘层18、所述遮光层19、所述平坦层110、所述阳极层111和像素界定层112依次设置于所述衬底基板10上；
所述像素界定层12上形成有呈阵列分布的开口区域；所述有机发光层113形成于所述开口区域中；
在所述有机发光层113远离所述遮光层19的一侧设置有光反射层114；
所述指纹识别传感器50设置于所述衬底基板10远离所述遮光层19的一侧；
所述遮光层19设置于所述指纹识别传感器50的入光侧。
如图1B所示，所述阳极层113为与成像小孔相邻的红色亚像素的阳极层，所述阳极层13通过贯穿所述平坦层110的第一过孔H1与所述遮光层19电连接，所述遮光层19通过贯穿所述第二绝缘层18的第二过孔H2与所述第一源漏金属层17电连接，所述第一源漏金属层17通过贯穿所述第二栅绝缘层16、所述第一栅绝缘层14和所述第一绝缘层12的第三过孔H3与所述有源层11电连接。
如图1B所示，与成像小孔相邻的红色亚像素的阳极层通过H1与遮光层19电连接，遮光层19通过H2与第一源漏金属层17电连接，第一源漏金属层通过H3与有源层11电连接，由于该红色亚像素与成像小孔相邻，并该红色亚像素与所述成像小孔的距离较近，因此为了避免该成像小孔与过孔之间相互影响，需要在遮光层19与第一源漏金属层17之间设置第二过孔H2以转接。
而对于与成像小孔相邻的绿色亚像素或蓝色亚像素来说，由于其与成像小孔的距离较远，因此不需要设置转接的过孔，因此该绿色亚像素的阳极层或该蓝色亚像素的阳极层可以通过一个过孔与有源层的漏极区电连接，以接收数据电压信号。
在图1B所示的显示面板的实施例中，在所述遮光层19下方，还可以设置有与数据线延伸方向大致垂直的栅极电压线和复位信号线等。
图2A是在制作本发明至少一实施例所述的显示面板时，形成了有机发光层后的产品(此时还未制作光反射层114)的俯视图。
在图2A中，标号为H0的为成像小孔，标号为113的为图1中的红色亚像素的有机发光层；由图2可知，c为所述有机发光层113在所述衬底基板10上的正投影与所述成像小孔H0在所述衬底基板10上的正投影之间的最短距离；在图2A中，标号为17的是第一源漏金属层，标号为19的为遮光层，标号为111的为阳极层；
并在图2A中，标号为b的为第二距离；
在图2A所示的实施例中，所述有机发光层113位于所述成像小孔H0的左侧，则在图2A中，第二距离b为该有机发光层113在所述衬底基板10上的正投影与所述成像小孔H0在所述衬底基板10上的正投影之间的最短距离与所述成像小孔H0的宽度f的和值。
在图2A中，标号为80的为绿色亚像素的有机发光层，标号为90的为蓝色亚像素的有机发光层。
如图2A所示，所述有机发光层113设置于所述成像小孔H0的左侧。
在图2A所示的显示面板的至少一实施例中，遮光层(也即第二源漏金属层)设置于第一源漏金属层上方，阳极层设置于所述遮光层上方。
图2B是图2A中的遮光层的俯视图，图2C是图2A中的第一源漏金属层的俯视图，图2D是图2A中的阳极图形以及像素界定层开口区域(此开口区域为设置了有机发光层的区域)的俯视图。
在图2B中，标号为H0的为成像小孔，标号为L01的为所述遮光层包括的第一漏光区，标号为L02的为所述遮光层包括的第二漏光区，标号为L03的为所述遮光层包括的第三漏光区，标号为L04的为所述遮光层包括的第四漏光区，标号为L05的为所述遮光层包括的第五漏光区，标号为L06的为所述遮光层包括的第六漏光区。
如图2B所示，所述遮光层包括成像小孔H0、第一镂空结构S01、第二镂空结构S02、第三镂空结构S03、第四镂空结构S04、第五镂空结构S05和第六镂空结构S06，并所述遮光层的图形还包括第一导电转接图形部分N01、第二导电转接图形部分N02、第三导电转接图形部分N03、第四导电转接图形部分N04、第五导电转接图形部分N05和第六导电转接图形部分N06；N01在所述衬底基板上的正投影在S01在所述衬底基板上的正投影内；N02在所述衬底基板上的正投影在S02在所述衬底基板上的正投影内；N03在所述衬底基板上的正投影在S03在所述衬底基板上的正投影内；N04在所述衬底基板上的正投影在S04在所述衬底基板上的正投影内；N05在所述衬底基板上的正投影在S05在所述衬底基板上的正投影内；N06在所述衬底基板上的正投影在S06在所述衬底基板上的正投影内；
所述阳极层通过导电转接图形部分连接至所述半导体层的漏极；
并且，所述遮光层的图形包括的除了各导电转接图形部分之外的部分可以作为VDD信号功能层。
在图2C中，标号为D1的为第一数据线、标号为V1的为第一电源电压线，标号为D2的为第二数据线，标号为V2的为第二电源电压线，标号为M0的区域是与成像小孔H0对应的区域，M0在衬底基板上的正投影与H0在衬底基板上的正投影大致重合。
在图2D，标号为B1的是待设置红色亚像素的有机发光层的像素界定层开口区域，标号为B2的是待设置蓝色亚像素的有机发光层的像素界定层开口区域，标号为B3的是待设置绿色亚像素的有机发光层的像素界定层开口区域。
具体的，所述夹角可以大于或等于第二角度θ1而小于或等于第三角度θ2；所述第二角度θ1大于第一角度θ；
θ1＝arctan((c-d)/a)，θ2＝arctan((b-e)/a)；
其中，a为第一距离，b为第二距离，d为第三距离，e为第四距离，c为第五距离；
第一距离a为所述光反射层与所述衬底基板之间的最小距离与所述成像小孔与所述衬底基板之间的最大距离之间的差值；
当所述显示面板中的亚像素的有机发光层沿水平方向放置，第二距离b为该有机发光层在所述衬底基板上的正投影与所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离与所述成像小孔的宽度的和值；
第三距离d为当所述有机发光层沿水平方向放置时，所述有机发光层的最上端射向所述光反射层的第一光线与所述光反射层的相交点在所述衬底基板上的正投影，与所述有机发光层在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离；
第四距离e为当有机发光层沿水平方向放置时，所述有机发光层的最下端射向所述光反射层的第二光线与所述光反射层的相交点在所述衬底基板上的正投影，与所述有机发光层在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离；
第五距离c为所述有机发光层在所述衬底基板上的正投影与所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离；
当所述有机发光层沿水平方向放置时，所述第一光线射向所述光反射层，被所述光反射层反射后而形成第一反射光线，该第一反射光线射向所述成像小孔的第一端部；
当所述有机发光层沿水平方向放置时，所述第二光线射向所述光反射层，被所述光反射层反射后而形成第二反射光线，该第二反射光线射向所述成像小孔的第二端部；所述成像小孔的第二端部在所述衬底基板上的正投影与该有机发光层在所述衬底基板上的正投影的距离大于所述成像小孔的第一端部在所述衬底基板上的正投影与该有机发光层在所述衬底基板上的正投影的距离。
如图3所示，在图1A所示的显示面板的至少一实施例中，所述有机发光层113沿水平方向放置，并所述有机发光层113位于所述成像小孔H0的左侧；
如图3所示，第一距离a为所述光反射层114与所述衬底基板10之间的最小距离与所述成像小孔H0与所述衬底基板10之间的最大距离之间的差值；
第五距离c为所述有机发光层113在所述衬底基板10上的正投影与所述成像小孔H0在所述衬底基板10上的正投影之间的最短距离；
第二距离b是该有机发光层113在所述衬底基板10上的正投影与所述成像小孔H0在所述衬底基板10上的正投影之间的最短距离(也即第五距离c)与所述成像小孔H0的宽度f的和值；
第三距离d是该有机发光层113的最上端射向所述光反射层114的第一光线S11与所述光反射层114的相交点在所述衬底基板10上的正投影，与所述有机发光层113在所述衬底基板10上的正投影之间的最短距离；
第四距离e为所述有机发光层113的最下端射向所述光反射层14的第二光线S12与所述光反射层14的相交点在所述衬底基板10上的正投影，与所述有机发光层113在所述衬底基板10上的正投影之间的最短距离；
在图3所示的实施例中，所述第一光线S11射向所述光反射层114，被所述光反射层114反射后而形成第一反射光线S41，该第一反射光线S41射向所述成像小孔H0的第一端部；
所述第二光线S12射向所述光反射层114，被所述光反射层114反射后而形成第二反射光线S42，该第二反射光线S42射向所述成像小孔H0的第二端部。在图3所示的实施例中，所述第一反射光线S41与第一方向S1之间的夹角为第二角度θ1；
第二反射光线S42与第一方向S1之间的夹角为第三角度θ2；
所述第一方向S1为与所述遮光层19垂直并指向所述衬底基板10的方向。
在图3所示的实施例中，a等于3.5微米，b等于12.13微米，c等于8.98微米，d等于1.62微米，e等于3.29微米，而θ等于45度；
θ1＝arctan((c-d)/a)＝arctan((8.98-1.62)/3.5)＝51.3°；
θ2＝arctan((b-e)/a)＝arctan((12.13-3.29)/3.5)＝68.4°；
由上可知，θ1大于θ，θ2大于θ，则所述有机发光层113发出的光被所述光反射层114反射后，得到的反射光线不会射入所述成像小孔H0中，减少杂散光。
图3是沿着图7B中的第一切线Q1的截面图，在图7B中，标号为P1的为第一端部，标号为P2的为第二端部，所述第一切线Q1的延伸方向大致与数据线的延伸方向平行(在图7B的实施例中，所述第一源漏金属层17包括的从上至下第一条沿横向设置的信号线为数据线)。并且，在图7B中，成像小孔H0的宽度为第一端部P1和第二端部P2之间的距离。
在本发明至少一实施例中，当改变第一切线Q1时，第一端部和第二端部相应改变，在第一切线Q1改变时，该第一切线Q1需要经过成像小孔H0，则第一端部可以为所述第一切线Q1与所述成像小孔H0的边缘接触的端部中与有机发光层距离最近的端部，第二端部可以为所述第一切线Q1与所述成像小孔H0的边缘接触的端部中与有机发光层距离最远的端部，在检测θ1和θ2时，可以仅选取一个第一切线，然后根据该第一切线确定的第一端部和第二端部检测θ1和θ2，也可以选取多个第一切线，然后根据该多个第一切线分别确定的第一端部和第二端部检测多个θ1和多个θ2，通过将多个θ1平均而得到最终的θ1，通过将多个θ2平均而得到最终的θ2，或者，将该多个θ1中的最大值设置为最终的θ1，将该多个θ2中的最大值设置为最终的θ2，但不以此为限。
并在本发明如图1A和图3所示的至少一实施例中，将所述成像小孔H0设置为接近于红色亚像素中的有机发光层113，以使得指纹识别阵列层50包括的指纹识别传感器对红色亚像素中的有机发光层113发出的红色光的敏感度下降，减少杂散光，有效提升指纹识别成像效果。
在图1A和图3所示的实施例中，所述第一绝缘层12的厚度可以大于或等于1116埃米而小于或等于1284埃米，所述第一栅绝缘层14的厚度可以大于或等于1235埃米而小于或等于1365埃米，所述第二栅金属层16的厚度可以大于或等于4650埃米而小于或等于5350埃米，所述第二绝缘层18的厚度可以大于或等于10200埃米而小于或等于15000埃米，所述平坦层110的厚度可以大于或等于14550埃米而小于或等于15450埃米，所述像素界定层112的厚度可以大于或等于19400埃米而小于或等于30000埃米，所述有机发光层113的厚度可以大于或等于500nm(纳米)而小于或等于600nm，但不以此为限。
在本发明至少一实施例中，在优选情况下，所述有机发光层的厚度大于或等于500nm(纳米)而小于或等于600nm，但不以此为限。
在本发明至少一实施例中，可以根据如下方法来检测得到第一角度θ：
提供用于检测第一角度θ的显示面板的模型，所述显示面板的模型的结构与本发明如图1A所示的显示面板的至少一实施例的区别仅在于：所述有机发光层113在所述衬底基板10上的正投影与所述成像小孔H0在所述衬底基板10上的正投影之间的最短距离(也即第五距离c)不同；
当该第五距离c较短时，则有机发光层113发出的光，被所述光反射层113反射而形成的光会比较容易射入所述成像小孔H0内；
在检测第一角度θ时，提供不同的第五距离c的值，找出临界距离c0，也即当c等于c0时，有机发光层113发出的光，被所述光反射层113反射而形成的光不会通过所述成像小孔H0射入设置于所述衬底基板10上的指纹识别传感器，而当c小于c0时，有机发光层113发出的光，被所述光反射层113反射而形成的光会通过所述成像小孔H0射入设置于所述衬底基板10上的指纹识别传感器；
经过试验，对应于图1A所示的显示面板的至少一实施例，临界距离c0等于5.98微米，并如图4所示，在用于检测第一角度θ的显示面板的模型中，a0为所述有机发光层113与所述衬底基板10之间的最大距离与所述成像小孔H0与所述衬底基板10之间的最大距离之间的差值，a0等于2.42微米，则θ＝arctan(c0/a0)＝45°。
在具体实施时，当本发明至少一实施例所述的显示面板中的各膜层的厚度、第一距离a、第二距离b、第三距离d、第四距离e、所述有机发光层113与所述衬底基板10之间的最大距离与所述成像小孔H0与所述衬底基板10之间的最大距离a0中的一个或多个改变时，第一角度θ会相应变化。
在具体实施时，所述显示面板还可以包括设置于所述遮光层和所述像素界定层之间的阳极层；
所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影与所述阳极层在所述衬底基板上的正投影不交叠。
在本发明至少一实施例中，所述阳极层可以由能够反射光的金属材料制成，例如，可以由银制成，因此所述成像小孔需不被所述阳极层覆盖，以使得光能够通过所述成像小孔射至指纹识别传感器。
具体的，所述显示面板还可以包括设置于所述衬底基板和所述阳极层之间的薄膜晶体管阵列层；
所述薄膜晶体管阵列层中的金属膜层在与所述衬底基板上的正投影与所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影不交叠。
在本发明至少一实施例中，所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影需要与所述薄膜晶体管阵列层中的金属膜层在与所述衬底基板上的正投影不交叠，以使得经过所述成像小孔的光线能够射入指纹识别传感器。
在本发明至少一实施例中，所述薄膜晶体管阵列层可以包括第一栅金属层、第一栅绝缘层、第二栅金属层、第二栅绝缘层、第一源漏金属层和第二绝缘层，所述薄膜晶体管阵列层中的金属膜层可以包括第一栅金属层、第二栅金属层和第一源漏金属层，但不以此为限。
在本发明至少一实施例中，所述遮光层可以为金属层，所述遮光层的图形可以包括电源电压图形部分，该电源电压图形部分用于接收电源电压信号，所述电源电压图形部分与所述导电转接图形部分在所述衬底上的投影不重叠，但不以此为限。
具体的，所述电源电压图形部分与所述导电转接图形部分不直接电。
具体的，本发明至少一实施例所述的显示面板还可以包括指纹识别阵列层；所述指纹识别阵列层设置于所述衬底基板远离所述遮光层的一侧，所述指纹识别阵列层包括阵列排布的指纹识别传感器；
所述遮光层设置于所述指纹识别传感器的入光侧。
在制作本发明至少一实施例所述的显示面板时，在衬底基板上依次形成有源层、第一绝缘层、第一栅金属层、第一栅绝缘层、第二栅金属层、第二栅绝缘层、第一源漏金属层、第二绝缘层和遮光层，图5A是形成了遮光层19的显示面板(此时还未制作阳极层)的俯视图，在图5A中，标号为17的为第一源漏金属层，标号为19的为遮光层，标号为H0的为成像小孔，标号为L01的为所述遮光层19包括的第一漏光区，标号为L02的为所述遮光层19包括的第二漏光区，标号为L03的为所述遮光层19包括的第三漏光区，标号为L04的为所述遮光层19包括的第四漏光区，标号为L05的为所述遮光层19包括的第五漏光区，标号为L06的为所述遮光层19包括的第六漏光区；
如图6所示，继续制作阳极层111，所述阳极层111覆盖所述遮光层19上的各漏光区；并由图6所示，所述阳极层111并不覆盖所述成像小孔H0；
如图7A所示，继续制作像素界定层，在图7A中示出所述像素界定层上形成的各开口区域；
在图7A中，标号为71的是第一开口区域，在第一开口区域71中待形成红色亚像素包括的有机发光层，标号为721的为第二开口区域的第一部分，标号为722的为第二开口区域的第二部分，在所述第二开口区域中待形成绿色亚像素包括的有机发光层，标号为73的为第三开口区域，在第三开口区域73中待形成蓝色亚像素包括的有机发光层，由图7A所示，所述成像小孔H0与所述第一开口区域71之间的最小距离小于所述成像小孔H0与所述第二开口区域之间的最小距离，所述成像小孔H0与所述第一开口区域71之间的最小距离小于所述成像小孔H0与所述第三开口区域73之间的最小距离。
在本发明至少一实施例中，所述遮光层19包括的各漏光区可以是：所述遮光层19包括的除了成像小孔之外的能够透过光线的区域。
图1A是沿着图7B中的第一切线Q1的截面图，图1B是沿着图7C中的第二切线Q2的截面图。
在图7B中，标号为P1的为所述成像小孔H0的第一端部，标号为P2的为所述成像小孔H0的第二端部。
可选的，所述薄膜晶体管阵列层可以包括第一源漏金属层和半导体层；
距离所述成像小孔最近的红色亚像素的阳极层通过第一过孔连接至所述遮光层，所述遮光层通过第二过孔连接至第一源漏金属层，所述第一源漏金属层通过第三过孔连接至所述半导体层的漏极区，以接收数据信号。
在本发明至少一实施例中，所述遮光层可以为金属层。
在本发明至少一实施例中，所述半导体层可以为有源层，但不以此为限。
由于红色亚像素与成像小孔相邻，并该红色亚像素与所述成像小孔的距离较近，因此为了避免该成像小孔与过孔之间相互影响，需要在遮光层与第一源漏金属层之间设置第二过孔以转接。
可选的，所述薄膜晶体管阵列层包括半导体层；与所述成像小孔相邻的蓝色亚像素的阳极通过一个过孔连接至所述半导体层的漏极区，以接收数据电压信号。
可选的，所述薄膜晶体管阵列层包括半导体层；与所述成像小孔相邻的绿色亚像素的阳极通过一个过孔连接至所述半导体层的漏极区，以接收数据电压信号。
对于与成像小孔相邻的绿色亚像素或蓝色亚像素来说，由于其与成像小孔的距离较远，因此不需要设置转接的过孔，因此该绿色亚像素的阳极层或该蓝色亚像素的阳极层可以通过一个过孔与有源层的漏极区电连接，以接收数据电压信号。
可选的，所述薄膜晶体管阵列层包括半导体层；
所述遮光层还包括镂空结构，所述遮光层的图形还包括导电转接图形部分；所述导电转接图形部分在所述衬底基板上的正投影在所述镂空结构在所述衬底基板上的正投影内；
所述阳极层通过所述导电转接图形部分连接至所述半导体层的漏极区。如图2B所示，遮光层可以包括镂空结构，遮光层的图形还可以包括导电转接图形部分，该导电转接图形部分设置于所述镂空结构内，以使得该导电连接图形与VDD信号功能层(所述遮光层的图形包括的除了各导电转接图形部分之外的部分可以作为VDD信号功能层)相互绝缘。
本发明至少一实施例所述的显示面板中亚像素包括的像素电路的一实施例的电路图可以如图8所示。
如图8所示，该像素电路121可以包括发光元件120、驱动电路122、第一发光控制电路123和第二发光控制电路124。驱动电路122包括控制端、第一端和第二端，且被配置为发光元件120提供驱动发光元件120发光的驱动电流。例如，第一发光控制电路123与驱动电路122的第一端和用于提供电源电压信号VDD的电源电压端连接，且被配置为控制驱动电路122和用于提供电源电压信号VDD的电源电压端之间的连通或断开，第二发光控制电路124与驱动电路122的第二端和发光元件120的第一发光电压施加电极电连接，且被配置为控制驱动电路122和发光元件120之间连通或断开。
如图8所示，该像素电路121还包括数据写入电路126、存储电路127、阈值补偿电路128和复位电路129。数据写入电路126与驱动电路122的第一端电连接，且被配置为在扫描信号的控制下将数据线Vd上的数据电压写入存储电路127；存储电路127与驱动电路122的控制端和所述电源电压端电连接，且被配置为存储数据电压；阈值补偿电路128与驱动电路122的控制端和驱动电路122的第二端电连接，且被配置为对驱动电路122进行阈值补偿；复位电路129与驱动电路122的控制端和发光元件120的第一发光电压施加电极电连接，且配置为在复位控制信号的控制下对驱动电路122的控制端和发光元件120的第一发光电压施加电极进行复位。
例如，如图8所示，驱动电路122包括驱动晶体管T1，驱动电路122的控制端包括驱动晶体管T1的栅极，驱动电路122的第一端包括驱动晶体管T1的第一极，驱动电路122的第二端包括驱动晶体管T1的第二极。
例如，如图8所示，数据写入电路126包括数据写入晶体管T2，存储电路127包括存储电容C2，阈值补偿电路128包括阈值补偿晶体管T3，第一发光控制电路123包括第一发光控制晶体管T4，第二发光控制电路124包括第二发光控制晶体管T5，复位电路129包括第一复位晶体管T6和第二复位晶体管T7，复位控制信号可以包括第一子复位控制信号和第二子复位控制信号。
例如，如图8所示，数据写入晶体管T2的第一极与驱动晶体管T1的第一极电连接，数据写入晶体管T2的第二极被配置为与数据线Vd电连接以接收数据电压，数据写入晶体管T2的栅极被配置为与第一栅线Ga1电连接以接收扫描信号；存储电容C2的第一极板CC1a与所述电源电压端电连接，存储电容C2的第二极板CC2a与驱动晶体管T1的栅极电连接；阈值补偿晶体管T3的第一极与驱动晶体管T1的第二极电连接，阈值补偿晶体管T3的第二极与驱动晶体管T1的栅极电连接，阈值补偿晶体管T3的栅极被配置为与第二栅线Ga2电连接以接收补偿控制信号；第一复位晶体管T6的第一极被配置为与第一复位电源端Vinit1电连接以接收第一复位信号，第一复位晶体管T6的第二极与驱动晶体管T1的栅极电连接，第一复位晶体管T6的栅极被配置为与第一复位控制信号线Rst1电连接以接收第一子复位控制信号；第二复位晶体管T7的第一极被配置为与第二复位电源端Vinit2电连接以接收第二复位信号，第二复位晶体管T7的第二极与发光元件120的第一发光电压施加电极电连接，第二复位晶体管T7的栅极被配置为与第二复位控制信号线Rst2电连接以接收第二子复位控制信号；第一发光控制晶体管T4的第一极接入电源电压信号VDD，第一发光控制晶体管T4的第二极与驱动晶体管T1的第一极电连接，第一发光控制晶体管T4的栅极被配置为与第一发光控制信号线EM1电连接以接收第一发光控制信号；第二发光控制晶体管T5的第一极与驱动晶体管T1的第二极电连接，第二发光控制晶体管T5的第二极与发光元件120的第一发光电压施加电极电连接，第二发光控制晶体管T5的栅极被配置为与第二发光控制信号线EM2电连接以接收第二发光控制信号；发光元件120的第二发光电压施加电极与低电压端VSS电连接。
需要说明的是，本发明的实施例中采用的晶体管可以为薄膜晶体管或场效应晶体管或其他特性相同的开关器件，薄膜晶体管可以包括氧化物半导体薄膜晶体管、非晶硅薄膜晶体管或多晶硅薄膜晶体管等。晶体管的源极、漏极在结构上可以是对称的，所以其源极、漏极在物理结构上可以是没有区别的。在本发明的实施例中，为了区分晶体管，除作为控制极的栅极，直接描述了其中一极为第一极，另一极为第二极，所以本发明的实施例中全部或部分晶体管的第一极和第二极根据需要是可以互换的。
在本发明至少一实施例中，所述发光元件120的第一发光电压施加电极可以为阳极，所述发光元件120的第二发光电压施加电极可以为阴极；所述阳极层通过过孔连接至所述第二发光控制晶体管T5。
本发明至少一实施例所述的显示面板的制作方法用于制作显示面板，所述显示面板包括红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素；所述显示面板的制作方法包括：
在衬底基板上依次形成遮光层和像素界定层；所述像素界定层上形成有呈阵列分布的开口区域；所述遮光层包括成像小孔；
在所述开口区域中形成有机发光层；
在所述有机发光层远离所述遮光层的一侧设置光反射层；
所述衬底基板远离所述遮光层的一侧设置阵列排布的多个指纹识别传感器；
将所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离设置为小于所述成像小孔与所述绿色亚像素中的有机发光层之间的最小距离；
将所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离设置为小于所述成像小孔与所述蓝色亚像素中的有机发光层之间的最小距离。
本发明至少一实施例所述的显示面板的制作方法将所述成像小孔设置为更接近于红色亚像素，以消除红色杂散光对小孔成像指纹识别的影响，通过设置所述成像小孔的位置，以提升小孔成像的指纹识别效果。
可选的，将所述有机发光层发出的光被所述光反射层反射至所述成像小孔的光线与第一方向之间的夹角设置为大于第一角度θ，以使得所述光线不能透过所述成像小孔射向所述指纹识别传感器；
所述第一方向为与所述遮光层垂直并指向所述衬底基板的方向。
本发明至少一实施例所述的显示面板的制作方法通过设置所述成像小孔的位置，使得所述有机发光层发出的光被所述光反射层反射至所述成像小孔的光线与第一方向之间的夹角大于第一角度θ，从而能够控制所述光线(该光线为杂散光)不能透过所述成像小孔射向所述指纹识别传感器，以提升小孔成像指纹识别的准确度。
具体的，θ可以大于20度，但不以此为限。
本发明至少一实施例所述的显示装置包括上述的显示面板。
本发明至少一实施例所提供的显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (14)

1.一种显示面板，其特征在于，包括衬底基板，以及依次设置于所述衬底基板上的遮光层和像素界定层，所述像素界定层上形成有呈阵列分布的开口区域；所述显示面板还包括形成于所述开口区域中的有机发光层，以及设置于所述有机发光层远离所述遮光层的一侧的光反射层；所述遮光层包括成像小孔；
所述显示面板还包括阵列排布的多个指纹识别传感器，所述指纹识别传感器设置于所述衬底基板远离所述遮光层的一侧；所述遮光层设置于所述指纹识别传感器的入光侧；
所述显示面板中的像素包括红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素；
所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离小于所述成像小孔与所述绿色亚像素中的有机发光层之间的最小距离；
所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离小于所述成像小孔与所述蓝色亚像素中的有机发光层之间的最小距离。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述有机发光层发出的光被所述光反射层反射至所述成像小孔的光线与第一方向之间的夹角大于第一角度θ，以使得所述光线不能透过所述成像小孔射向所述指纹识别传感器；
所述第一方向为与所述遮光层垂直并指向所述衬底基板的方向。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一角度θ大于或等于20度。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有机发光层的厚度大于或等于500nm而小于或等于600nm。
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述遮光层和所述像素界定层之间的阳极层；
所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影与所述阳极层在所述衬底基板上的正投影不交叠。
6.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述衬底基板和所述阳极层之间的薄膜晶体管阵列层；
所述薄膜晶体管阵列层中的金属膜层在与所述衬底基板上的正投影与所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影不交叠。
7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管阵列层包括第一源漏金属层和半导体层；所述遮光层为金属层；
距离所述成像小孔最近的红色亚像素的阳极层通过第一过孔连接至所述遮光层，所述遮光层通过第二过孔连接至第一源漏金属层，所述第一源漏金属层通过第三过孔连接至所述半导体层的漏极区，以接收数据电压信号。
8.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管阵列层包括半导体层；与所述成像小孔相邻的蓝色亚像素的阳极通过一个过孔连接至所述半导体层的漏极区，以接收数据电压信号。
9.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管阵列层包括半导体层；与所述成像小孔相邻的绿色亚像素的阳极通过一个过孔连接至所述半导体层的漏极区，以接收数据电压信号。
10.如权利要求7至9中任一权利要求所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管阵列层包括半导体层；所述遮光层为金属层；
所述遮光层还包括镂空结构，所述遮光层的图形还包括导电转接图形部分；所述导电转接图形部分在所述衬底基板上的正投影在所述镂空结构在所述衬底基板上的正投影内；
所述阳极层通过所述导电转接图形连接至所述半导体层的漏极区。
11.如权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述遮光层为金属层，所述遮光层的图形还包括电源电压图形部分，用于接收电源电压信号，所述电源电压图形部分与所述导电转接图形部分在所述衬底上的投影不重叠。
12.如权利要求2或3所述的显示面板，其特征在于，所述夹角大于或等于第二角度θ1而小于或等于第三角度θ2；所述第二角度θ1大于第一角度θ；
θ1＝arctan((c-d)/a)，θ2＝arctan((b-e)/a)；
其中，a为第一距离，b为第二距离，d为第三距离，e为第四距离，c为第五距离；
第一距离a为所述光反射层与所述衬底基板之间的最小距离与所述成像小孔与所述衬底基板之间的最大距离之间的差值；
当所述显示面板中的亚像素的有机发光层沿水平方向放置时，第二距离b为该有机发光层在所述衬底基板上的正投影与所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离与所述成像小孔的宽度的和值；
第三距离d为当所述有机发光层沿水平方向放置时，所述有机发光层的最上端射向所述光反射层的第一光线与所述光反射层的相交点在所述衬底基板上的正投影，与所述有机发光层在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离；
第四距离e为当有机发光层沿水平方向放置时，所述有机发光层的最下端射向所述光反射层的第二光线与所述光反射层的相交点在所述衬底基板上的正投影，与所述有机发光层在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离；
第五距离c为所述有机发光层在所述衬底基板上的正投影与所述成像小孔在所述衬底基板上的正投影之间的最短距离；
当所述有机发光层沿水平方向放置时，所述第一光线射向所述光反射层，被所述光反射层反射后而形成第一反射光线，该第一反射光线射向所述成像小孔的第一端部；
当所述有机发光层沿水平方向放置，所述第二光线射向所述光反射层，被所述光反射层反射后而形成第二反射光线，该第二反射光线射向所述成像小孔的第二端部；所述成像小孔的第二端部在所述衬底基板上的正投影与该有机发光层在所述衬底基板上的正投影的距离大于所述成像小孔的第一端部在所述衬底基板上的正投影与该有机发光层在所述衬底基板上的正投影的距离。
13.一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素；其特征在于，所述显示面板的制作方法包括：
在衬底基板上依次形成遮光层和像素界定层；所述像素界定层上形成有呈阵列分布的开口区域；所述遮光层包括成像小孔；
在所述开口区域中形成有机发光层；
在所述有机发光层远离所述遮光层的一侧设置光反射层；
所述衬底基板远离所述遮光层的一侧设置阵列排布的多个指纹识别传感器；
将所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离设置为小于所述成像小孔与所述绿色亚像素中的有机发光层之间的最小距离；
将所述成像小孔与所述红色亚像素中的有机发光层之间的最小距离设置为小于所述成像小孔与所述蓝色亚像素中的有机发光层之间的最小距离。
14.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至12中任一权利要求所述的显示面板。
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