CN113410417A - 显示装置的制造装置以及显示装置的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明为了改善布置于大面积显示器的中央的像素的亮度降低的问题，而提供了一种显示装置的制造装置及显示装置的制造方法，显示装置的制造装置包括：移动部，附着有显示基板，并且移动所述显示基板；测量部，观察借由所述移动部而移动的所述显示基板的表面，并且获知配备于所述显示基板的表面的开口的位置；以及加工部，接收借由所述测量部测量的数据而朝所述显示基板的表面照射激光。

Description

显示装置的制造装置以及显示装置的制造方法

技术领域

本发明的实施例涉及一种装置以及方法，更加详细地涉及一种显示装置的制造装置以及显示装置的制造方法。

背景技术

显示装置是将数据以视觉形式显示的装置。显示装置应用于如手机等的小型产品的显示部，也应用于如电视等的大型产品的显示部。

显示装置为了向外部显示图像而包括接收电信号来发光的多个像素。每个像素包括发光元件，例如，对于有机发光显示装置而言，包括有机发光二极管(OLED)作为发光元件。通常，有机发光显示装置在基板上形成薄膜晶体管以及有机发光二极管，并且有机发光二极管自行发光而启动。

最近，对于显示装置而言，其用途多样化，并且正在试图进行多种提升显示装置的质量的设计。

发明内容

本发明的实施例提供一种显示装置的制造装置以及显示装置的制造方法。

本发明的一实施例公开了一种显示装置的制造装置，包括：移动部，附着有显示基板，并且移动所述显示基板；测量部，观察借由所述移动部而移动的所述显示基板的表面，并且获知配备于所述显示基板的表面的开口的位置；以及加工部，接收借由所述测量部测量的数据而朝所述显示基板的表面照射激光。

在一实施例中，所述加工部可以包括：光源；以及扫描仪，调节从所述光源发出的激光的方向，其中，借由所述测量部测量的数据可以传送至所述扫描仪。

在一实施例中，所述光源可以为多个，并且可以沿第一方向分别布置为两个列，并可以沿与所述第一方向交叉的第二方向彼此交错地布置。

在一实施例中，所述开口可以以分别使包括于所述显示基板的多个像素电极以及辅助电极暴露的方式形成于像素定义膜。

在一实施例中，所述显示装置的制造装置还可以包括：中间层，布置于所述像素电极以及所述辅助电极上，其中，布置于所述辅助电极上的所述中间层的一部分可以被激光去除。

本发明的另一实施例公开了一种显示装置的制造方法，包括如下步骤：沿第一方向移动显示基板；观察所述显示基板的表面；以及比较预设的位置和观察所述显示基板的表面的数据，并基于所述数据改变激光照射的所述显示基板的位置。

在一实施例中，观察所述显示基板的表面的步骤以及基于所述数据改变激光照射的所述显示基板的位置的步骤可以在移动所述显示基板的期间依次进行。

在一实施例中，观察所述显示基板的表面的步骤中，可以观察配备于所述显示基板上并沿所述第一方向以及与所述第一方向交叉的第二方向排列的多个开口。

在一实施例中，所述数据可以是连接所述预设的位置的中心和所述开口的中心的假想的线与沿所述第一方向延伸的假想的线所构成的角度。

在一实施例中，所述数据可以是通过所述预设的位置的中心的假想的第一延伸线和通过所述开口的中心并与所述第一延伸线平行的假想的第二延伸线之间的间距。

在一实施例中，激光照射的位置可以是所述开口的内部。

在一实施例中，可以选择所述开口中的一部分而照射激光。

在一实施例中，所述开口可以以分别使包括于所述显示基板的多个像素电极以及辅助电极暴露的方式形成于像素定义膜。

在一实施例中，可以仅朝暴露所述辅助电极的所述开口照射激光。

在一实施例中，所述显示装置的制造方法还可以包括如下步骤；在所述显示基板上沉积中间层，其中，沉积所述中间层的步骤可以在移动所述显示基板之前进行。

在一实施例中，可以照射激光而去除所述中间层的一部分。

在一实施例中，所述显示装置的制造方法还可以包括如下步骤；在所述显示基板上沉积对向电极，其中，在所述显示基板上沉积所述中间层的步骤、照射激光的步骤以及沉积所述对向电极的步骤可以在所述显示基板沿所述第一方向移动时依次进行。

在一实施例中，激光构成为多个而分别布置为两个列，并布置为彼此交错。

本发明的又一实施例公开了一种显示装置的制造方法，包括如下步骤：调整附着于移动部下表面的显示基板的位置；所述显示基板借由所述移动部而沿第一方向移动；通过布置于所述移动部下部的测量部观察所述显示基板的表面；将借由所述测量部观察的数据传送至加工部；以及所述加工部通过所述数据朝所述表面照射激光。

在一实施例中，所述加工部可以包括光源以及扫描仪，其中，通过借由所述测量部而接收的所述数据可以调节所述扫描仪。

前述以外的其他方面、特征、优点将通过用于实施本发明的具体的内容、权利要求书以及附图而变得明确。

根据如上所述地构成的本发明的一实施例，从利用显示基板的键的大容积补正方式所具有的加工精度极限，可以通过线性地实时检测显示基板的加工实际目标地点的前馈(feed-forward)方式而实现最大化加工精度的显示装置的制造装置以及显示装置的制造方法。并且，借由激光加工而使对向电极和辅助电极的接触面积最大，以有效地通过辅助电极向对向电极传送电力，从而可以实现改善布置于大面积显示装置的中央的像素的亮度降低的问题的显示装置的制造装置以及显示装置的制造方法。当然，本发明的范围并不会被这样的效果而限定。

附图说明

图1是示意性地图示根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置的剖视图。

图2是示意性地图示根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置的剖视图。

图3是示出通过根据本发明的实施例的显示装置的制造装置制造的显示装置的平面图。

图4是示意性地图示沿图3的A-A'线截取的截面的剖视图。

图5是关于根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的流程图。

图6a至图6c是依次示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的剖视图。

图7a至图7c是示意性地示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的平面图。

图8是关于根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的流程图。

符号说明：

1：显示装置的制造装置

100：有机物沉积部

110、210、310：第一腔室至第三腔室

110A、110B、110C、110D：第一闸阀至第四闸阀

120：有机物沉积源

130、230、330：第一影像部至第三影像部

180：压力调节部

200：激光加工部

240：测量部

250：加工部

260：控制部

300：电极沉积部

320：电极沉积源

230'、230”、240'、250'：第一透射窗至第四透射窗

28A：像素电极

28A'：辅助电极

OP1、OP2：开口

AK：对准键

具体实施方式

本发明可以进行多种变换，并且可以具有多种实施例，但是将特定实施例示出于附图中并在具体说明中详细地说明。本发明的效果和特征以及实现这些的方法将通过参照与附图一起详细地后述的实施例而变得明确。然而，本发明并不限于以下公开的实施例，而是可以以多种形态实现。

以下，将参照附图对本发明的实施例进行详细说明，在参照附图说明时，对相同或者相应的构成要素赋予相同的附图符号并省略对其的重复说明。

在以下实施例中，第一、第二等术语并不被使用为限定性含义，而是以将一个构成要素与其他构成要素进行区分为目的而使用。

在以下的实施例中，只要在上下文中没有明确表示其他含义，则单数的表述包括复数的表述。

在以下的实施例中，“包括”或者“具有”等术语表示说明书上记载的特征或者构成要素的存在，并不预先排除附加一个以上的其他特征或者构成要素的可能性。

在附图中，为了便于说明，构成要素的大小可能被夸大或者缩小。例如，为了便于说明，在附图中示出的各个构成的大小以及厚度被任意地示出，因此本发明并不一定限于图示的内容。

在某个实施例能够以不同方式实现的情形下，特定工序顺序可以按不同于所说明的顺序而执行。例如，连续说明的两个工序可以实质上同时进行，也可以按与说明的顺序相反的顺序进行。

本说明书中，“A和/或B”表示是A或者B或者A和B的情形。并且，“A以及B中的至少一个”表示是A或者B或者A和B的情形

在以下的实施例中，当提到膜、区域、构成要素等形成了连接时，包括膜、区域、构成要素直接连接的情形和/或在膜、区域、构成要素中间夹设其他膜、区域、构成要素而间接连接的情形。例如，在本说明书中，当提到膜、区域、构成要素等形成了电连接时，表示膜、区域、构成要素等直接电连接的情形和/或在其中间夹设其他膜、区域、构成要素等而间接电连接的情形。

x轴、y轴以及z轴并不限于直角坐标系上的三个轴，可以被解释为包括其的广义含义。例如，x轴、y轴以及z轴可以彼此垂直相交，但也可以指代彼此不垂直相交的彼此不同的方向。

以下参照附图对本发明的优选的实施例进行更加详细的说明。

图1是示意性地图示根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置的剖视图，图2是放大图示图1所示的一区域的剖视图。

参照图1以及图2，显示装置的制造装置1可以包括有机物沉积部100、激光加工部200以及电极沉积部300。

显示装置的制造装置1可以包括附着有显示基板D的移动部220，移动部220可以配备有附着部222以及使附着部222旋转的旋转部221。

移动部220可以通过贯通有机物沉积部100、激光加工部200以及电极沉积部300的轨道移动并在显示基板D的表面依次进行有机物沉积、激光加工以及电极沉积工序。

图中图示为通过一个轨道移动，轨道可以是多个，移动部220可以通过磁悬浮无线充电***移动，而无需轨道。

有机物沉积部100可以包括第一腔室110、有机物沉积源120、第一影像部130以及压力调节部180，激光加工部200可以包括第二腔室210、压力调节部180、第二影像部230、测量部240、加工部250以及控制部260。并且，电极沉积部300可以包括第三腔室310、压力调节部180、电极沉积源320以及第三影像部330。

腔室110、210、310可以在内部形成空间，腔室110、210、310的一部分可以形成开口。在腔室110、210、310的开口的部分可以设置闸阀110A、110B、110C、110D而选择性地开闭腔室110、210、310的开口的部分。

在图1中，第二腔室210的大小图示为与第一腔室110以及第三腔室310的大小不同，然而腔室110、210、310的大小可以均相同。并且，图1中，图示为第一腔室110及第三腔室310的大小相同，然而腔室110、210、310的大小可以彼此不同。

影像部130、230、330可以拍摄显示基板D的位置。此时，可以基于由影像部130、230、330拍摄的图像来移动显示基板D而对准显示基板D。作为一例，在显示基板D倾斜的情况下，可以基于由影像部130、230、330拍摄对准键AK而拍摄的图像来移动显示基板D，从而调整显示基板D的位置以与预设的位置对应。在此情况下，移动部220可以配备有变更显示基板D的位置或者可以细微地调整移动部220自身的位置的姿势调整部(未图示)。

包括于激光加工部200的第二影像部230可以布置于第二腔室210外部。布置于第二腔室210外部的第二影像部230可以通过第一透射窗230'以及第二透射窗230”而拍摄显示基板D的位置。

压力调节部180可以分别连接于腔室110、210、310，以使腔室110、210、310内部的压力调节为与大气压或者真空类似。此时，压力调节部180可以包括与腔室110、210、310连接的连接配管181和布置于连接配管181的压力调节泵182。

有机物沉积源120以及电极沉积源320可以形成为多种形态。例如，有机物沉积源120以及电极沉积源320可以是排出沉积物质的喷嘴为一个的点沉积源形态。并且，有机物沉积源120以及电极沉积源320可以形成得较长，可以是喷嘴形成为多个或者形成为长孔形态等的线沉积源形态。

测量部240作为拍摄装置，可以观察附着于移动部220的显示基板D的表面，可以将观察对象的位置数值化。测量部240可以观察显示基板D的表面整体，或者可以观察一部分。并且，在显示基板D借由移动部220而移动的期间，测量部240也可以连续地拍摄观察对象的位置并将其数值化。

测量部240可以布置于第二腔室210外部，可以通过第三透射窗240'观察显示基板D的表面，并将观察对象的位置数值化。这是为了在第二腔室210内部由于压力调节部180而维持高真空状态的情况下，防止测量部240操作不良以及受损。

加工部250可以包括光源250A以及调节从光源250A发出的激光的方向的扫描仪250B，并且可以向显示基板D的表面照射激光。

对于一实施例而言，光源250A可以是多个。此时，光源250A可以分别沿第一方向(例如，x方向)布置为两列，并且可以沿与第一方向交叉的第二方向(例如，y方向)彼此交错布置。作为一例，第一方向的两列分别包括5至15个光源250A，总共可以包括10至30个光源250A。

加工部250可以布置于第二腔室210外部，可以通过第四透射窗250'向显示基板D的表面照射激光。这是为了在第二腔室210内部由于压力调节部180而维持高真空状态的情况下，防止加工部250的操作不良以及受损。

控制部260可以变换从测量部240接收的针对观察对象的位置的数据而传送至加工部250。

虽然图中图示为测量部240以及加工部250并未固定于第二腔室210内的情形，然而测量部240以及加工部250可以固定于第二腔室210下部，作为另一例，可以通过支撑部(未图示)而被固定。与此相同，控制部260也可以布置于第二腔室210外部，并可以通过支撑部等而被固定。

另外，观察通过如上的显示装置的制造装置1而制造显示装置20(参照图3)的方法的话，可以准备制造显示基板D。

压力调节部180可以将第一腔室110内部维持在大气压状态，并且在第一闸阀110A开放之后，显示基板D可以附着于移动部220而***于第一腔室110内部。

压力调节部180可以维持第一腔室110内部几乎与真空相似。并且，第一影像部130可以拍摄显示基板D来细微地驱动移动部220而对准显示基板D。

在对准显示基板D之后，由有机物沉积源120供应的沉积物质可以沉积于显示基板D而形成中间层28B、28B'(参照图4)。

压力调节部180可以维持第二腔室210内部几乎与真空相似，并且在第二闸阀110B开放之后，显示基板D可以附着于移动部220而从第一腔室110***至第二腔室210的内部。

第二影像部230可以通过第一透射窗230'以及第二透射窗230”而拍摄显示基板D上的对准键AK，并可以细微地驱动移动部220而对准显示基板D。

在对准显示基板D之后，显示基板D具有恒定的速度而沿第一方向(例如，-y方向)移动。显示基板D可以与测量部240相邻，并且测量部240可以通过第三透射窗240'观察形成于显示基板D的表面的开口OP1、OP2(参照图4)。

可以使通过测量部240观察的形成于显示基板D的表面的开口OP1、OP2的位置数值化并传送至控制部260，并且在控制部260变换的数据可以传送至加工部250的扫描仪250B。对此在图7a至图7c中进行更加仔细的说明。

从加工部250的光源250A发出的激光可以借由扫描仪250B而调整照射的方向，并且可以通过第四透射窗250'而去除在显示基板D的表面存在的一部分层。作为一例，沉积于第一腔室110内并布置于开口OP1、OP2内的中间层28B、28B'的一部分可以通过激光而被去除。

显示基板D可以附着于移动部220而贯通第二腔室210并行进，在显示基板D移动的期间，测量部240可以观察显示基板D的表面，加工部250可以去除在显示基板D的表面存在的一部分层。

压力调节部180可以维持第三腔室310内部几乎与真空相似，在第三闸阀110C开放之后，显示基板D可以附着于移动部220而从第二腔室***至第三腔室310的内部。

第三影像部330可以拍摄显示基板D来细微地驱动移动部220而对准显示基板D。在对准显示基板D之后，从电极沉积源320供应的沉积物质可以沉积于显示基板D而形成对向电极28C(参照图4)。随后，在对向电极28C上可以布置薄膜封装层E(参照图4)，从而可以制造显示装置20。

压力调节部180可以将第三腔室310内部维持在大气压状态，在第四闸阀110D开放之后，显示装置20可以朝外部移动。

在制造显示装置20的过程中，虽然将每个闸阀110A、110B、110C、110D调节为大气压或者真空之后开放，然而由于有机物沉积部100、激光加工部200以及电极沉积部300均可以在真空中进行工序，从而可以始终开放布置于腔室110、210、310之间的第二闸阀110B以及第三闸阀110C。

根据本发明的一实施例，附着于移动部220的显示基板D可以一次贯通有机物沉积部100、激光加工部200以及电极沉积部300，从而可以依次进行有机物沉积、激光加工以及电极沉积工序而移动。据此可以增加每小时显示装置20的制造量。并且，每工序仅配备有一个腔室，而不是多个腔室，从而可以缩小显示装置的制造装置1的大小。

图3是示出通过根据本发明的实施例的显示装置的制造装置制造的显示装置的平面图，图4是示意性地图示沿图3的A-A'线截取的截面的剖视图。

参照图3以及图4，显示装置20可以在基板21上定义显示区域DA和显示区域DA的***的非显示区域NDA。在显示区域DA可以布置子像素PX，在非显示区域NDA可以布置电源配线(未图示)等。并且，在非显示区域NDA可以布置垫部PA。

并且，在显示装置20的顶点可以布置对准键AK，如上所述，通过对准键AK以及影像部230可以对准显示基板D。

显示装置20可以包括显示基板D以及布置于显示基板D上的密封部件(未图示)。此时，密封部件可以包括：密封部，布置于显示基板D；以及封装基板(未图示)，连接于密封部，并且布置为与基板21对向。作为另一例，密封部件可以包括阻挡显示基板D的至少一部分的薄膜封装层E。

如上的显示基板D可以包括基板21、布置于基板21上的薄膜晶体管TFT以及有机发光元件(organic light-emitting diode)28。

基板21可以包括玻璃或者高分子树脂。高分子树脂可以包括诸如聚醚砜(polyethersulfone)、聚丙烯酸酯(polyacrylate)、聚醚酰亚胺(polyetherimide)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethyelenen napthalate)、聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyeleneterepthalate)、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide)、聚芳酯(polyarylate)、聚酰亚胺(polyimide)、聚碳酸酯或(polycarbonate)或者醋酸丙酸纤维素(cellulose acetate propionate)的高分子树脂。包括高分子树脂的基板21可以具有柔性、可卷性或者可折叠性特性。基板21可以是包括具有之前所述的高分子树脂的层以及无机层(未图示)的多层结构。

在基板21上可以布置薄膜晶体管TFT，并且以覆盖薄膜晶体管TFT的方式布置钝化膜27，在此钝化膜27上可以布置有机发光元件28。

在基板21的上表面还可以布置利用有机化合物和/或无机化合物构成的缓冲层22，可以利用SiO_x(x≥1)、SiN_x(x≥1)形成。

在此缓冲层22上布置以预定的图案排列的活性层23之后，活性层23被栅极绝缘层24填埋。活性层23具有源极区域23A和漏极区域23C，在源极区域23A和漏极区域23C之间还包括沟道区域23B。

这样的活性层23可以形成为含有多种物质。例如，活性层23可以含有诸如非晶硅或者结晶硅的无机半导体物质。作为另一例，活性层23可以含有氧化物半导体。作为又一例，活性层23可以含有有机半导体物质。然而，以下为了便于说明，以活性层23以非晶硅形成的情形作为中心进行详细的说明。

这样的活性层23可以以如下方式形成：在缓冲层22上布置非晶硅之后，将其结晶化而形成多晶硅膜，并将该多晶硅膜图案化。所述活性层23根据驱动晶体管(未图示)、开关晶体管(未图示)等晶体管种类而使其源极区域23A以及漏极区域23C被杂质掺杂。

在栅极绝缘层24的上表面布置有与活性层23对应的栅极电极25和填埋栅极电极25的层间绝缘层26。

并且，在层间绝缘层26和栅极绝缘层24形成接触孔H1之后，在层间绝缘层26上将源极电极27A以及漏极电极27B以分别与源极区域23A以及漏极区域23C接触的方式布置。

在这样布置的所述薄膜晶体管的上部布置有钝化膜27，并且在此钝化膜27上部布置有有机发光元件(OLED)28的像素电极28A以及辅助电极28A'。此像素电极28A借由形成于钝化膜27的过孔H2而与晶体管的漏极电极27B接触。

所述钝化膜27可以形成为无机物和/或有机物的单层或者两层以上，然而与下部膜的弯曲无关地，上表面可以形成为平坦化膜而使其平整，相反，可以根据位于下部的膜的弯曲而形成为具有弯曲。并且，优选地，该钝化膜27可以利用透明绝缘体形成，以能够实现共振效果。

在钝化膜27上布置像素电极28A以及辅助电极28A'之后，像素定义膜29可以以覆盖像素电极28A、辅助电极28A'以及钝化膜27的方式借由有机物和/或无机物形成，像素定义膜29可以配备有开口OP1、OP2，以使像素电极28A以及辅助电极28A'暴露。

并且，至少在所述像素电极28A以及辅助电极28A'上布置有中间层28B、28B'以及对向电极28C。作为另一实施例，也能够实现为对向电极28C布置于显示基板D的前表面。在此情况下，对向电极28C可以布置于中间层28B、28B'、像素定义膜29上。

并且，图中图示为布置于像素电极28A上的第一中间层28B和布置于辅助电极28A'上的第二中间层28B'图案化而被分离，然而第一中间层28B和第二中间层28B'可以连接为一体而布置。

以下为了便于说明，以对向电极28C布置于中间层28B、28B'、像素定义膜29上的情形作为中心进行详细说明。

像素电极28A起到阳极电极的功能，对向电极28C起到阴极电极的功能，当然这些像素电极28A和对向电极28C的极性变为相反的极性也无妨。

像素电极28A和对向电极28C借由所述第一中间层28B而彼此绝缘，并且对第一中间层28B施加彼此不同极性的电压而实现在有机发光层发光。

并且，辅助电极28A'可以通过去除布置于辅助电极28A'上的第二中间层28B'的一部分而形成的接触孔H3而与对向电极28C接触。在此情况下，通过辅助电极28A'向对向电极28C供应追加的电力，从而可以改善在大面积显示装置20中，中间地点的子像素PX的亮度减少的问题。

中间层28B、28B'可以配备有有机发光层。作为选择性的另一例，中间层28B、28B'可以配备有有机发光层(organic emission layer)，并且除此之外还可以配备有空穴注入层(HIL：hole injection layer)、空穴输送层(hole transport layer)、电子输送层(electron transport layer)以及电子注入层(electron injection layer)中的至少一个。本实施例并不局限于此，中间层28B、28B'可以配备有有机发光层，并且还可以配备有其他多种功能层(未图示)。

如上的中间层28B、28B'可以配备为多个，多个第一中间层28B可以形成显示区域DA。此时，多个第一中间层28B可以以在显示区域DA内部彼此相隔的方式布置。

另外，一个单位像素可以由多个子像素PX构成，多个子像素PX可以发出多种颜色的光。例如，多个子像素PX可以配备有分别发出红色、绿色以及蓝色的光的子像素PX，可以配备有分别发出红色、绿色、蓝色以及白色的光的子像素PX。这样的每个子像素PX分别可以包括如上所述的像素电极28A、第一中间层28B以及对向电极28C。

另外，薄膜封装层E可以包括多个无机层，或者可以包括无机层以及有机层。

薄膜封装层E的所述有机层可以包括聚合物(polymer)系列的物质。作为聚合物系列的材料可以包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚乙烯磺酸盐、聚甲醛、聚芳酯、六甲基二硅氧烷、丙烯酸树脂(例如，聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸等)或者这些材质的任意组合。

薄膜封装层E的所述无机层可以包括氧化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铪、氧化锌、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的一个以上的无机绝缘物。

薄膜封装层E中的朝外部暴露的最上层可以为了防止针对有机发光元件的透湿而利用无机层形成。

薄膜封装层E可以包括至少一个在至少两个无机层之间***有至少一个有机层的三明治结构。作为另一例，薄膜封装层E可以包括至少一个在至少两个有机层之间***有至少一个无机层的三明治结构。作为又一例，薄膜封装层E也可以包括在至少两个无机层之间***有至少一个有机层的三明治结构以及在至少两个有机层之间***有至少一个无机层的三明治结构。

薄膜封装层E可以从有机发光元件(OLED)28的上部依次包括第一无机封装层、第一有机封装层、第二无机封装层。

作为另一例，薄膜封装层E可以从有机发光元件(OLED)28的上部依次包括第一无机封装层、第一有机封装层、第二无机封装层、第二有机封装层、第三无机封装层。

作为另一例，薄膜封装层E可以从有机发光元件(OLED)28的上部依次包括第一无机封装层、第一有机封装层、第二无机封装层、第二有机封装层、第三无机封装层、第三有机封装层、第四无机封装层。

在有机发光元件(OLED)28和第一无机封装层之间可以追加地包括包含有LiF的卤化金属层。所述卤化金属层可以防止当以溅射方式形成第一无机封装层时所述有机发光元件(OLED)28受损。

第一有机封装层可以形成为面积比第二无机封装层小，所述第二有机封装层也可以形成为面积比第三无机封装层小。

如上所述，在无机层配备为多个的情况下，无机层可以在显示装置20的边缘区域以彼此直接接触的方式沉积，并且可以使有机层不会暴露于外部。

图5是关于根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的流程图，图6a至图6c是依次示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的剖视图。

参照图5，根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法可以包括如下步骤：对准显示基板D的步骤(S10)；通过测量部240的监测步骤(S20)；通过扫描仪250B的激光调整步骤(S30)；以及激光钻孔步骤(S40)。

一实施例中，如在图1中所述，在对准显示基板D的步骤(S10)之前可以包括在显示基板D上沉积中间层28B、28B'的步骤。并且，在激光钻孔步骤(S40)之后可以包括在显示基板D上使对向电极28C沉积的步骤。

以下，参照图6a至图6c针对根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法进行详细说明。在图6a至图6c中，与图2相同的参照符号表示相同的部件，因此省略对此的重复说明。

根据本发明的一实施例的激光加工部200可以包括第二腔室210、压力调节部180、影像部230、测量部240、加工部250以及控制部260。

参照图6a，影像部230可以通过第一透射窗230'以及第二透射窗230”拍摄显示基板D上的对准键AK。如图6a所示，可以细微驱动移动部220，以使对准键AK在由影像部230拍摄的图像中位于中央，来对准显示基板D(S10)。

参照图6b，在对准显示基板D之后，显示基板D具有恒定的速度而沿第一方向(例如，-y方向)移动。显示基板D可以与测量部240相邻，测量部240可以通过第三透射窗240'观察显示基板D的表面。作为一例，测量部240可以观察以使像素电极28A以及辅助电极28A'的一部分暴露的方式形成于像素定义膜29的开口OP1、OP2(参照图4)(S20)。

通过测量部240观察的形成于显示基板D的表面的开口OP1、OP2的位置可以被数值化并传送至控制部260。

参照图6c，从测量部240接收数值化的数据的控制部260可以将所述数据变化而传送至加工部250。准确地，可以传送至加工部250的扫描仪250B。

从加工部250的光源250A发出的激光可以借由扫描仪250B而调节照射的方向，并且可以通过第四透射窗250'去除在显示基板D的表面存在的一部分层(S30及S40)。作为一例，布置于开口OP1、OP2内的中间层28B、28B'的一部分可以通过激光去除。

在一实施例中，可以选择形成于显示基板D的表面的开口OP1、OP2中的一部分而照射激光，并且可以仅朝暴露辅助电极28A'的开口OP2照射激光。并且，可以朝暴露辅助电极28A'的所有开口OP2照射激光，并且可以仅对一部分选择性地照射激光。

在形成于显示基板D的表面的开口OP1、OP2的下部可以布置像素电极28A或者辅助电极28A'，对此的区别可以通过离对准键AK的距离进行区分。这是由于，借由预设的值而形成开口OP1、OP2，从而通过此可以区分在形成于显示基板D的表面的开口OP1、OP2的下部是否布置有像素电极28A或者布置有辅助电极28A'。

显示基板D可以附着于移动部220并具有恒定的速度而沿第一方向(例如，-y方向)贯通第二腔室210而进行，在显示基板D移动的期间，测量部240可以观察显示基板D的表面，并且加工部250可以去除在显示基板D的表面存在的一部分层。

作为比较例，通过测量仪可以不用直接观察显示基板的表面，而可以仅进行对准显示基板的过程。在这样的情况下，虽然位于显示基板的对准键和对准相机对齐，然而对准键和实际在显示基板形成的开口的位置差异不会始终恒定，从而如果按照预设的值照射激光，则可能超出开口而去除并不需要的区域的一部分层。即，补正对准键和实际开口所在的位置的差存在困难。

根据本发明的一实施例的显示装置20的制造方法可以通过测量部240直接观察形成于显示基板D的表面的开口OP1、OP2，并且可以将观察的数据传送至控制部260，接收借由控制部260而变换的数据的加工部250可以基于接收的数据来朝显示基板D的表面照射激光。在这样的情况下，通过测量部240可以实时监测显示基板D的表面，从而可以不超出开口OP1、OP2而朝开口OP1、OP2内照射激光。

图7a至图7c是示意性地示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的平面图，图8是关于根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的流程图。

参照图7a至图7c，形成于显示基板D的表面的开口OP1、OP2可以分别沿第一方向(例如，y方向)以及与第一方向交叉的第二方向(例如，x方向)排列而布置有多个。在附图中为了便于说明而仅图示了暴露辅助电极28A'的一部分的开口OP2。在图中所示的开口OP2的数量不过是一示例，在显示基板D的表面可以形成有图示的数量以上的开口OP1、OP2。

并且，在图中将开口OP2的形状图示为圆形，然而开口OP2的形状可以为多种形状(四角形、椭圆形、六角形等)。

随着显示基板D沿第一方向(例如，-y方向)移动，测量部240可以沿与第一方向相反的第二方向(例如，+y方向)依次观察形成于显示基板D的表面的开口OP2。

测量部240可以观察形成于显示基板D的表面的开口OP2，并且可以测量连接预设的位置的中心B与开口OP2的中心C的假想的线

和沿与显示基板D平行的第三方向(例如，y方向)延伸的假想的线

构成的角度θ。

并且，可以测量通过预设的位置的中心B的假想的第一延伸线

和通过开口OP2的中心C并与第一延伸线l'平行的假想的第二延伸线

之间的间距d。

由测量部240测量的角度θ以及间距d可以传送至控制部260，控制部260可以将由测量部240测量的角度θ以及间距d变换为能够使加工部250的扫描仪250B调节的数据。控制部260可以将变换的数据传送至扫描仪250B，扫描仪250B可以通过所述数据调节激光照射的方向。即，加工部250可以接收通过测量部240观察的数据而调节激光照射至显示基板D的区域。

在一实施例中，光源250A(参照图2)可以是多个，并且可以调节借由多个光源250A而照射激光的区域。

如图7a所示，在预设的位置和观察的位置相同的情况下，没有由测量部240测量的角度θ以及间距d的变化，从而激光朝预设的方向照射。

如图7b所示，在观察的位置比预设的位置倾斜的情况下，由测量部240测量的每个角度θ₁、θ₂、θ₃、θ₄以及间距d₁、d₂、d₃、d₄可以传送至控制部260。控制部260可以分析测量的每个角度θ₁、θ₂、θ₃、θ₄以及间距d₁、d₂、d₃、d₄来以能够使激光方向被调节的方式变换数据，并可以将此传送至扫描仪250B。可以通过扫描仪250B调节照射激光的区域。

如图7c所示，在观察的位置比预设的位置形成得更接近于曲线的情况下，由测量部240测量的每个角度θ₁、θ₂、θ₃、θ₄以及间距d₁、d₂、d₃、d₄可以传送至控制部260。控制部260可以分析测量的每个角度θ₁、θ₂、θ₃、θ₄以及间距d₁、d₂、d₃、d₄来以能够使激光方向被调节的方式变换数据，并可以将此传送至扫描仪250B。可以通过扫描仪250B调节照射激光的区域。

参照图8，根据本发明的一实施例，测量部240可以观察形成于像素定义膜29的开口OP2的位置，而将比较预设的位置和观察的位置的位置变化量导出为角度θ以及间距d。所述角度θ以及间距d可以传送至控制部260，控制部260可以将其变换为能够调节加工部250的扫描仪250B的数据。通过接收变换的数据的扫描仪250B可以调节从光源250A发出的激光所照射的位置，并且可以以与形成于像素定义膜29的开口OP2的中心相邻的方式形成接触孔H3(参照图4)。

对于大面积显示装置而言，布置于大面积显示装置的中央的像素的亮度低于布置于边缘的像素的亮度。这是因为从大面积显示装置的边缘到中央产生电压下降，而对布置于中央的像素无法传送最大电力。为了改善此问题，可以在与像素电极同一层布置辅助电极，并且可以使布置于辅助电极上的对向电极和辅助电极接触，从而可以提供不足的电力。为了使对向电极和辅助电极接触，应去除布置于对向电极和辅助电极之间的有机物层的一部分而形成接触孔，这可以通过激光去除。

作为比较例，可以不通过测量仪直接观察显示基板的表面，而仅进行对准显示基板的过程。在这样的情况下，虽然位于显示基板的对准键和对准相机对齐，然而对准键和实际上形成于显示基板的开口的位置差始终并不恒定，从而若以预设的值照射激光，则可能超出开口而去除不期望的区域的一部分层。

即，若使辅助电极暴露的开口并不存在于预设的位置，则不仅无法将有机物层去除需要的程度，而且可能超出开口而去除并不期望的区域的一部分层(例如，像素定义膜)。若不去除预设的程度的有机物层，则对向电极和辅助电极接触的面积将减少，从而可能无法充分地提供不足的电力。

然而，在根据本发明的一实施例的显示装置20的制造方法中，通过测量部240可以直接观察形成于显示基板D的表面的开口OP1、OP2，并且可以将观察的数据传送至控制部260，接收借由控制部260而变换的数据的加工部250可以基于接收的数据来朝显示基板D的表面照射激光。在这样的情况下，通过测量部240可以实时地监测显示基板D的表面，从而可以不超出开口OP1、OP2而朝开口OP1、OP2内照射激光，并且对向电极28C(参照图4)和辅助电极28A'(参照图4)的接触面积将变得最大，从而可以通过辅助电极28A'有效地向对向电极28C传送电力，并且可以改善布置于大面积显示装置的中央的像素的亮度降低的问题。

本发明虽然参考附图中示出的实施例进行了说明，但其仅为示例性的，只要是在本技术领域中具有普通知识的技术人员，便可以理解能够据此实现多种变形以及等同的其他实施例。因此，本发明的真正的技术保护范围应当根据所记载的权利要求书的技术思想而被确定。

Claims (20)

1.一种显示装置的制造装置，包括：

移动部，附着有显示基板，并且移动所述显示基板；

测量部，观察借由所述移动部而移动的所述显示基板的表面，并且获知配备于所述显示基板的表面的开口的位置；以及

加工部，接收借由所述测量部测量的数据而朝所述显示基板的表面照射激光。

2.如权利要求1所述的显示装置的制造装置，其中，

所述加工部包括：

光源；以及

扫描仪，调节从所述光源发出的激光的方向，

其中，借由所述测量部测量的数据传送至所述扫描仪。

3.如权利要求2所述的显示装置的制造装置，其中，

所述光源为多个，并且沿第一方向分别布置为两个列，并沿与所述第一方向交叉的第二方向彼此交错地布置。

4.如权利要求1所述的显示装置的制造装置，其中，

所述开口以分别使包括于所述显示基板的多个像素电极以及辅助电极暴露的方式形成于像素定义膜。

5.如权利要求4所述的显示装置的制造装置，还包括：

中间层，布置于所述像素电极以及所述辅助电极上，

其中，布置于所述辅助电极上的所述中间层的一部分被激光去除。

6.一种显示装置的制造方法，包括如下步骤：

沿第一方向移动显示基板；

观察所述显示基板的表面；以及

比较预设的位置和观察所述显示基板的表面的数据，并基于所述数据改变激光照射的所述显示基板的位置。

7.如权利要求6所述的显示装置的制造方法，其中，

观察所述显示基板的表面的步骤以及基于所述数据改变激光照射的所述显示基板的位置的步骤在移动所述显示基板的期间依次进行。

8.如权利要求6所述的显示装置的制造方法，其中，

观察所述显示基板的表面的步骤中，

观察配备于所述显示基板上并沿所述第一方向以及与所述第一方向交叉的第二方向排列的多个开口。

9.如权利要求8所述的显示装置的制造方法，其中，

所述数据是连接所述预设的位置的中心和所述开口的中心的假想的线与沿所述第一方向延伸的假想的线所构成的角度。

10.如权利要求8所述的显示装置的制造方法，其中，

所述数据是通过所述预设的位置的中心的假想的第一延伸线和通过所述开口的中心并与所述第一延伸线平行的假想的第二延伸线之间的间距。

11.如权利要求8所述的显示装置的制造方法，其中，

激光照射的位置是所述开口的内部。

12.如权利要求11所述的显示装置的制造方法，其中，

选择所述开口中的一部分而照射激光。

13.如权利要求8所述的显示装置的制造方法，其中，

所述开口以分别使包括于所述显示基板的多个像素电极以及辅助电极暴露的方式形成于像素定义膜。

14.如权利要求13所述的显示装置的制造方法，其中，

仅朝暴露所述辅助电极的所述开口照射激光。

15.如权利要求6所述的显示装置的制造方法，还包括如下步骤；

在所述显示基板上沉积中间层，

其中，沉积所述中间层的步骤在移动所述显示基板之前进行。

16.如权利要求15所述的显示装置的制造方法，其中，

照射激光而去除所述中间层的一部分。

17.如权利要求15所述的显示装置的制造方法，还包括如下步骤；

在所述显示基板上沉积对向电极，

其中，在所述显示基板上沉积所述中间层的步骤、照射激光的步骤以及沉积所述对向电极的步骤在所述显示基板沿所述第一方向移动时依次进行。

18.如权利要求6所述的显示装置的制造方法，其中

激光构成为多个而分别布置为两个列，并布置为彼此交错。

19.一种显示装置的制造方法，包括如下步骤：

调整附着于移动部下表面的显示基板的位置；

所述显示基板借由所述移动部而沿第一方向移动；

通过布置于所述移动部下部的测量部观察所述显示基板的表面；

将借由所述测量部观察的数据传送至加工部；以及

所述加工部通过所述数据朝所述表面照射激光。

20.如权利要求19所述的显示装置的制造方法，其中

所述加工部包括光源以及扫描仪，

通过借由所述测量部而接收的所述数据调节所述扫描仪。

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