CN113394066A - 纵向运动平台及具有其的电子束检测设备 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种纵向运动平台，适用于安装在电子束检测设备内，其特征在于，包括从下至上依次设置的平台底板、升降机构、绝缘支撑台及静电吸盘；升降机构的下端与平台底板固定连接，上端与绝缘支撑台固定，且其内部设置有压电陶瓷组件，使升降机构能够在竖直方向产生形变量而改变绝缘支撑台到平台底板之间的距离；静电吸盘下表面与绝缘支撑台固定连接，上表面用以吸附待测晶圆。通过升降机构升降运动，扫描电镜下端到待测晶圆的工作距离时刻在最佳间距，有极高的调节精度，配合电子束检测设备能解决因待测晶圆到扫描电镜下端距离的变化导致失焦的问题，减少了对焦时间，大幅提高检测效率。

Description

纵向运动平台及具有其的电子束检测设备

技术领域

本申请涉及半导体检测技术领域，尤其涉及一种纵向运动平台及具有其的电子束检测设备。

背景技术

随着半导体技术的发展，半导体产品制程越来越小，结构越来越复杂，集成电路晶源工厂开始使用生产中的有图形的产品片进行在线检测监控，以便于更直接的反映工艺流水线中的当前工作情况，为制作团队提供更加精确的信息，且有助于降低无图形硅片的成本。集成电路线宽愈来愈向细微化发展，对电路的生产工艺技术也提出了更高更难的要求，不但要刻蚀出亚微米线条，而且线路缺陷也要控制在一定范围内，以保证芯片的功能和成品率，传统的光学检测设备已不能满足需要，而电子束检测设备克服了光学波长的限制，使分辨率提高到纳米领域，可以检测到极微小的缺陷。

在电子束检测设备实际检测过程中各个扫描点之间具有偏差，当偏差超出了电子束扫描电镜的陷深范围时，电子束扫描电镜检测到的图像会有失焦的现象，为了能够获得清晰的图像，在失焦位置，电子束扫描电镜需重新进行自动对焦，检测时大量的时间处于自动对焦状态，设备真正的有效检测时间少，导致检测效率低。

发明内容

有鉴于此，本申请提出了一种纵向运动平台，适用于安装在电子束检测设备内，包括从下至上依次设置的平台底板、升降机构、绝缘支撑台及静电吸盘；所述升降机构内部设置有压电陶瓷组件，所述压电陶瓷组件能够使所述升降机构能够在纵向上的长度发生改变从而改变所述绝缘支撑台到所述平台底板之间的距离；所述静电吸盘能够吸附待测晶圆。

在一种可能的实现方式中，所述升降机构为两个以上；且相邻的所述升降机构到所述绝缘支撑台的中心夹角相等。

在一种可能的实现方式中，所述升降机构的个数为三个。

在一种可能的实现方式中，所述升降机构还包括驱动关节、弹簧与底座；所述压电陶瓷组件与所述弹簧一同设置在所述驱动关节与所述底座之间，且所述弹簧的两端分别固定在所述驱动关节与所述底座上；所述驱动关节的顶部与所述支撑台固定连接；所述底座的底部与所述平台底板固定连接。

在一种可能的实现方式中，还包括两根以上的晶圆支撑杆；所述绝缘支撑台和所述静电吸盘上开设有与所述晶圆支撑杆相匹配的通孔；所述晶圆支撑杆设置在所述平台底板上，上端能够通过所述绝缘支撑台和所述静电吸盘上的通孔，且所述晶圆支撑杆能够纵向移动伸出到所述静电吸盘上方。

在一种可能的实现方式中，还包括托板及驱动部；所述托板设置在所述平台底板与所述绝缘支撑台之间，且所述晶圆支撑杆设置在所述托板上；所述驱动部与所述托板相抵接，能够驱动所述托板纵向移动。

在一种可能的实现方式中，所述驱动部包括轴架、驱动杆及动力结构；所述轴架设置在所述平台底板上；所述驱动杆的一端与所述轴架转动连接，中部与所述托板下表面相抵接，且另一端延伸出所述平台底板；所述动力结构与所述驱动杆的另一端转动连接，以使所述驱动部构成连杆机构。

在一种可能的实现方式中，还包括导向立柱；所述托板上设置有与所述导向立柱相匹配的导向孔；所述导向立柱垂直设置在所述平台底板的上表面；所述托板通过所述导向孔与所述导向立柱滑动连接。

在一种可能的实现方式中，所述升降机构上端位于所述绝缘支撑台的靠近外边缘位置，且所述升降机构在所述绝缘支撑台与所述平台底板之间的外圈设置；所述导向立柱在所述绝缘支撑台与所述平台底板之间的内圈设置。

在一种可能的实现方式中，所述托板为圆形板，所述晶圆支撑杆的个数为三根，相邻的所述晶圆支撑杆到所述托板的中心夹角相等。

在一种可能的实现方式中，所述平台底板为方形板，所述导向立柱的个数为三根，相邻的所述平台底板到所述平台底板的中心夹角相等。

在一种可能的实现方式中，还包括运动台反射镜；所述运动台反射镜安装在所述绝缘支撑台的至少一侧顶部，沿边缘设置，用以在水平面定位所述纵向运动平台的位置。

在一种可能的实现方式中，所述运动台反射镜的数量为两个，分别设置在所述绝缘支撑台相邻的两侧。

在一种可能的实现方式中，所述压电陶瓷组件的极化方向为竖直方向。

另一方面，本申请提出了一种电子束检测设备，包括主真空腔室、扫描电镜、纵向检测传感器及上述任一种可能实现方式中所述的纵向运动平台；所述主真空腔室的上部开设有电镜安装位，一侧连通至前端输送模块，用以向腔内输送待测晶圆；所述纵向运动平台设置在所述主真空腔室的内底部；所述扫描电镜与所述电镜安装位相匹配，下端延伸至所述主真空腔室内，且位于所述纵向运动平台上方；所述纵向检测传感器设置在所述扫描电镜的下端旁侧，用以检测所述待测晶圆的高度变化差值；所述纵向运动平台能够根据放置所述待测晶圆先后的高度变化差值，在上下方向移动，以使所述扫描电镜不用重新对焦检测所述待测晶圆。

在一种可能的实现方式中，所述主真空腔室的一侧外部设置有激光干涉仪，所述主真空腔室的内顶部安装有参考反射镜，所述参考反射镜位于所述激光干涉仪与所述纵向精密运动台之间，所述激光干涉仪配合所述参考反射镜用以检测所述待测晶圆的位置偏差。

在一种可能的实现方式中，还包括水平方向运动台，所述水平方向运动台设置在所述主真空腔室的内底部与所述纵向运动平台之间，能够在水平面内沿互相垂直的两个方向移动。

在一种可能的实现方式中，还包括控制单元，所述控制单元分别与所述纵向检测传感器、所述升降机构电连接，所述控制单元能够接收所述待测晶圆的高度变化差值，驱动所述升降机构上升或者下降运动。

本申请的有益效果：通过升降机构内的压电陶瓷组件，驱动绝缘支撑台与静电吸盘进行精密的上升或者下降运动，从而使扫描电镜的物镜极靴下表面到待测晶圆的工作距离时刻保持在最佳间距，有效的解决了因待测晶圆到物镜极靴的下表面距离的变化导致失焦的问题，尤其当检测的扫描点的偏差超出扫描电镜的阱深范围时，减少了对焦时间，大幅提高检测效率。

根据下面参考附图对示例性实施例的详细说明，本申请的其它特征及方面将变得清楚。

附图说明

包含在说明书中并且构成说明书的一部分的附图与说明书一起示出了本申请的示例性实施例、特征和方面，并且用于解释本申请的原理。

图1示出根据本申请一实施例的纵向运动平台的立体结构图；

图2示出根据本申请一实施例的纵向运动平台的***图；

图3示出根据本申请一实施例的升降机构的侧面剖视图；

图4示出根据本申请一实施例的晶圆升降装置的立体结构图；

图5示出根据本申请一实施例的电子束检测设备的剖视图；

图6示出根据本申请一实施例的晶圆支撑杆托起待测晶圆的侧视图。

具体实施方式

以下将参考附图详细说明本申请的各种示例性实施例、特征和方面。附图中相同的附图标记表示功能相同或相似的元件。尽管在附图中示出了实施例的各种方面，但是除非特别指出，不必按比例绘制附图。

其中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请或简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在这里专用的词“示例性”意为“用作例子、实施例或说明性”。这里作为“示例性”所说明的任何实施例不必解释为优于或好于其它实施例。

另外，为了更好的说明本申请，在下文的具体实施方式中给出了众多的具体细节。本领域技术人员应当理解，没有某些具体细节，本申请同样可以实施。在一些实例中，对于本领域技术人员熟知的方法、手段、元件和电路未作详细描述，以便于凸显本申请的主旨。

图1示出根据本申请一实施例的纵向运动平台的立体结构图；图2示出根据本申请一实施例的纵向运动平台的***图；图3示出根据本申请一实施例的升降机构的侧面剖视图；图4示出根据本申请一实施例的晶圆升降装置的立体结构图；图5示出根据本申请一实施例的电子束检测设备的剖视图；图6示出根据本申请一实施例的晶圆支撑杆托起待测晶圆的侧视图。

如图1-6所示，该纵向运动平台1，用于安装在电子束检测设备内，包括从下至上顺次连接的平台底板60、升降机构40、绝缘支撑台30及静电吸盘10，平台底板60用于安装在电子束检测设备的主真空腔室5内，升降机构40的个数两个以上，下端与平台底板60固定连接，且其内部设置有压电陶瓷组件42，极化方向为纵向，升降机构40能够在纵向的长度发生改变，绝缘支撑台30的底部与升降机构40的上端固定连接，静电吸盘10下表面安装在绝缘支撑台30上，上表面用以吸附待测晶圆8。

在此种可能的实现方式中，通过升降机构40内的压电陶瓷组件42，驱动绝缘支撑台30与静电吸盘10进行精密的上升或者下降运动，从而使扫描电镜3的物镜极靴下表面到待测晶圆8的工作距离时刻保持在最佳间距，具有极高的调节精度，尤其当检测的扫描点的偏差超出扫描电镜3的阱深范围，或者是待测晶圆8表面自身翘曲等因素时，配合电子束检测设备能够解决因待测晶圆8到物镜极靴的下表面距离的变化导致失焦的问题，减少了对焦时间，大幅提高检测效率。

优选的，升降机构40的压电陶瓷组件42的极化方向垂直于水平面，也确保较高的调节效率，还需特别强调的是，压电陶瓷组件42的原理为现有技术，本申请中只需确保压电陶瓷组件42能够在纵向具有高度形变量即可，故在本文中不做赘述。

其中，静电吸盘10的材质为导电陶瓷，通电后静电吸盘10表面具有高电压，绝缘支撑台30为陶瓷材质，实现绝缘效果，待测晶圆8固定在静电吸盘10表面后，不会产生相对滑动造成电子束检测偏差。

在一种可能的实现方式中，升降机构40均位于绝缘支撑台30的边角处，且相邻的升降机构40到绝缘支撑台30的中心夹角相等。

在此种可能的实现方式中，设置两个以上的升降机构40位于绝缘支撑台30的边角，且在绝缘支撑台30下等角度设置，确保待测晶圆8能够平稳的上升或者下降移动，避免因结构问题导致待测晶圆8晃动，无法精准对焦的情况。

如图1、图2所示，在一种可能的实现方式中，升降机构40的个数为三个。

优选的，升降机构40的个数为三个，相邻的两个升降机构40到绝缘支撑台30的中心夹角度数为120°，即三个升降机构40所连直线构成等边三角形，在保证升降机构40数量合理，成本尽可能减少的前提下，确保纵向运动平台1在升降移动时的稳定性，能够均速上移或者下移。

如图3所示，在一种可能的实现方式中，升降机构40还包括驱动关节41、弹簧44及底座43，压电陶瓷组件42与所述弹簧44一同设置在驱动关节41与底座43之间，弹簧44位于压电陶瓷组件42的旁侧，驱动关节41的顶部与支撑台固定连接，底座43的底部与平台底板60固定连接。

在此种可能的实现方式中，压电陶瓷组件42与弹簧44一同设置在驱动关节41与底座43之间，弹簧上下两端分别固定至驱动关节41与底座43上，增设的弹簧44，不论是处于张开或者锁紧状态，都能够很好的辅助压电陶瓷组件42进行均速升降调节，提高该升降机构40的稳定性，不对检测时的对焦造成影响。

具体的，驱动关节41与压电陶瓷组件42以及底座43与压电陶瓷组件42为可拆卸的连接方式，装配简单，便于更换以及损坏时的维修。

在一种可能的实现方式中，还包括两根以上的晶圆支撑杆54，绝缘支撑台30和静电吸盘10上开设有与晶圆支撑杆54相匹配的通孔，晶圆支撑杆54设置在平台底板60上，上端能够通过绝缘支撑台30和静电吸盘10上的通孔，且晶圆支撑杆54能够纵向移动伸出到静电吸盘10上方。

在一种可能的实现方式中，还包括托板52及驱动部，托板52设置在平台底板60与绝缘支撑台30之间，且晶圆支撑杆54设置在托板52上，驱动部与托板52相抵接，能够驱动托板52纵向移动。

在一种可能的实现方式中，还包括导向立柱53，托板52上设置有与导向立柱53相匹配的导向孔，导向立柱53垂直设置在平台底板60的上表面，托板52通过导向孔与导向立柱53滑动连接。

在一种可能的实现方式中，驱动部包括轴架、驱动杆51及动力结构，轴架设置在平台底板60上，驱动杆51的一端与轴架转动连接，中部与托板52下表面相抵接，且另一端延伸出平台底板60，动力结构与驱动杆51的另一端转动连接，以使驱动部构成连杆机构。

在上述可能的实现方式中，优选的，平台底板60与绝缘支撑台30之间还设置有晶圆升降装置50，适用于从前端机构取待测晶圆8至静电吸盘10上，包括驱动杆51、托板52、导向立柱53及晶圆支撑杆54，平台底板60上设置有轴架，驱动杆51的一端与轴架转动连接，托板52下表面与驱动杆51相抵接，上表面安装有晶圆支撑杆54，导向立柱53的下端安装在平台底板60上，上端贯穿托板52，升降机构40设置在导向立柱53的外侧，二者不相干涉，驱动杆51能够驱动托板52在导向立柱53的升降方向运动，以使晶圆支撑杆54上升托起待测晶圆8或者下降待测晶圆8下落至静电吸盘10上。

其中，绝缘支撑台30和平台底板60之间除设置有升降机构40外，还设置有晶圆升降装置50，其主要用于将待测晶圆8从前端的机械手上取下，并放置到静电吸盘10上。

具体的，托板52向外延伸有三个外延耳，相邻的外延耳与托板52中心夹角为120°，外延耳上开设内置有导向轴承的导向孔，托板52与导向立柱53通过导向轴承连接。

优选的，导向立柱53内部具有非金属导向轴承，其在运动过程中无需润滑，无有机污染。导向立柱53对托板52在纵向运动的方向起导向作用，保证了托板52升降运动过程中的直线度，稳定性好，避免托板52偏移，还降低了振动对检测的影响，从而保证检测时装置的准确性。

在一种可能的实现方式中，升降机构40上端位于绝缘支撑台30的靠近外边缘位置，且升降机构40在绝缘支撑台30与平台底板60之间的外圈设置，导向立柱53在绝缘支撑台30与平台底板60之间的内圈设置。

在此种可能的实现方式中，升降机构40与晶圆升降装置50的位置不相干涉，优选的，升降机构40固定在绝缘支撑台30靠近外侧边缘处，相较于在绝缘支撑台30靠近中部位置设置，稳定性更好，在纵向投影中，具体为：升降机构40设置在绝缘支撑台30的下部外圈，晶圆升降机构50位于绝缘支撑台30的下部内圈，安装位置更靠近绝缘支撑台30的中心处。

如图4所示，更具体的，绝缘支撑台30、静电吸盘10上具有通孔，位于托板52上的晶圆支撑杆54位置与通孔位置相匹配，晶圆支撑杆54穿过通孔，直接与待测晶圆8下部接触，在托板52下的驱动杆51驱动下，托起或者下放待测晶圆8至静电吸盘10。

在一种可能的实现方式中，托板52为圆形板，晶圆支撑杆54的个数为三根，相邻的晶圆支撑杆54到托板52的中心夹角相等。

在此种可能的实现方式中，相邻的两个晶圆支撑杆54到绝缘支撑台30的中心夹角度数为120°，三根晶圆支撑杆54所连直线构成等边三角形，与前文中所述的三个升降机构40作用相同，用以保证待测晶圆8的平稳升降，在此不做赘述。

在一种可能的实现方式中，平台底板60为方形板，导向立柱53的个数为三根，相邻的导向立柱53到平台底板60的中心夹角相等。

在此种可能的实现方式中，相邻的两个导向立柱53到绝缘支撑台30的中心夹角度数为120°，三根导向立柱53所连直线构成等边三角形，与前文中所述的三个升降机构40、三根晶圆支撑杆54作用相同，用以保证托板52的平稳升降，在此不做赘述。

如图6所示，本申请的纵向精密移动平台的具体工作流程为：驱动杆51向上顶起托板52及晶圆支撑杆54，晶圆支撑杆54将待测晶圆8从机械手上托起，机械手收回，驱动杆51下降，晶圆支撑杆54顶部不超过静电吸盘10上表面，待测晶圆8固定至静电吸盘10上，控制单元能够接收放置待测晶圆8前后的高度变化差值，升降机构40与控制单元相配合，完成精密的调节绝缘支撑台30、静电吸盘10及待测晶圆8的上升或下降，以使待测晶圆8处于扫描电镜3的最佳焦距位置，检测结束后，晶圆升降装置50将待测晶圆8托起，由后续设备送出别本申请的纵向运动平台1。

在一种可能的实现方式中，还包括运动台反射镜20，运动台反射镜20安装在绝缘支撑台30的至少一侧顶部，沿边缘设置，用以定位纵向运动平台1的位置。

优选的，运动台反射镜20的数量为两个，分别设置在绝缘支撑台30相邻的两侧，且二者相互垂直，运动台反射镜20能够配合电子检测设备中的水平运动平台4在水平面内的两垂直方向(检测设备内在水平面内实现运动补偿的x轴方向与y轴方向)进行运动补偿。

进一步的，升降机构40外接有控制单元(如PLC或嵌入式控制单元等)，控制单元接收纵向检测传感器2实时反馈的高度变化信息，驱动压电陶瓷组件42实现伸长和缩短的精确运动。当压电陶瓷组件42伸长时，向上顶起驱动关节41，驱动绝缘支撑台30和静电吸盘10向上运动，实现待测晶圆8的向上运动，进行高度的补偿，当压电陶瓷组件42缩短时，驱动关节41在弹簧44的恢复作用下，跟随压电陶瓷组件42向下运动，驱动绝缘支撑台30和静电吸盘10向下运动，实现待测晶圆8的向下运动。

还需特别强调的是，控制单元所进行的控制动作、收到的信号及其处理均为现有技术，在本文中对控制单元不做过多赘述。

如图5所示，另一方面，本申请提出了一种电子束检测设备，包括主真空腔室5、扫描电镜3、纵向检测传感器2及上述任一可能实现方式中的纵向运动平台1，主真空腔室5的上部开设有电镜安装位，一侧连通至前端输送模块，用以向腔内输送待测晶圆8，纵向运动平台1设置在主真空腔室5的内底部，扫描电镜3与电镜安装位相匹配，下端延伸至主真空腔室5内，且位于纵向运动平台1上方，纵向检测传感器2设置在扫描电镜3的下端旁侧，用以检测待测晶圆8的高度变化差值，纵向运动平台1能够根据放置待测晶圆8先后的高度变化差值，在上下方向移动，以使扫描电镜3不用重新对焦检测待测晶圆8。

基于前面任一所述的纵向运动平台1，本申请还提供了一种电子束检测设备。其中，本申请实施例的电子束检测设备包括如上任一所述的纵向运动平台1。通过将前面任一所述的纵向运动平台1安装到电子束检测设备的主真空腔5内，在进行晶圆检测时，具有压电陶瓷组件42的升降机构40配合纵向检测传感器2，实现垂直方向的位置偏差闭环控制，精确控制待测晶圆8垂直方向的位置精度，精确的垂向的位置精度在扫描电镜3对待测晶圆8的检测中，避免扫描电镜3重新对焦，提高检测效率。

在一种可能的实现方式中，主真空腔室5的一侧外部设置有激光干涉仪7，主真空腔室5的内顶部安装有参考反射镜6，参考反射镜6位于激光干涉仪7与纵向精密运动台之间，激光干涉仪7配合参考反射镜6用以检测待测晶圆8的位置偏差。

在此种可能的实现方式中，参考反射镜6仅做为待测晶圆8在静电吸盘10上运动时的参考，与运动台反射镜20在激光干涉仪7，激光反射镜23能够有效检测运动台反射镜30与参考反射镜6在各个位置的相对位置偏差，并将误差信息反馈到x轴方向、y轴方向实现运动补偿保证了待测晶圆8运动位置的准确性。

优选的，在主真空腔室5的外部x轴方向和y轴方向各安装一个激光干涉仪7，再安装两个参考反射镜6，分别与激光干涉仪7相对应，每组又分别与两个垂直设置的运动台反射镜20相匹配，构成x轴补偿***及y轴补偿***，分别将误差信息反馈到控制单元进行运动补偿，进一步提升待测晶圆8运动的精准度。

在一种可能的实现方式中，还包括水平方向运动台4，水平方向运动台4设置在主真空腔室5的内底部与纵向运动平台1之间，能够在水平面内沿互相垂直的两个方向移动。

在一种可能的实现方式中，还包括控制单元，控制单元分别与纵向检测传感器2、升降机构40电连接，控制单元能够接收待测晶圆8的高度变化差值，驱动升降机构40上升或者下降运动。

在上述可能的实现方式中，安装在主真空腔室5外侧的激光干涉仪7、升降机构40绝缘支撑盘上的运动台反射镜20及安装在主真空腔室5内顶部，位于激光干涉仪7与运动台反射镜20二者之间的参考反射镜6，三者相配合，均与控制单源电连接，实现在水平面的x方向和y方向运动的闭环控制，有效保证了设备运动的准确性。

以上已经描述了本申请的各实施例，上述说明是示例性的，并非穷尽性的，并且也不限于所披露的各实施例。在不偏离所说明的各实施例的范围和精神的情况下，对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的。本文中所用术语的选择，旨在最好地解释各实施例的原理、实际应用或对市场中的技术的改进，或者使本技术领域的其它普通技术人员能理解本文披露的各实施例。

Claims (18)

1.一种纵向运动平台，适用于安装在电子束检测设备内，其特征在于，包括从下至上依次设置的平台底板、升降机构、绝缘支撑台及静电吸盘；

所述升降机构内部设置有压电陶瓷组件，所述压电陶瓷组件能够使所述升降机构能够在纵向上的长度发生改变从而改变所述绝缘支撑台到所述平台底板之间的距离；

所述静电吸盘能够吸附待测晶圆。

2.根据权利要求1所述的纵向运动平台，其特征在于，所述升降机构为两个以上；且相邻的所述升降机构到所述绝缘支撑台的中心夹角相等。

3.根据权利要求2所述的纵向运动平台，其特征在于，所述升降机构的个数为三个。

4.根据权利要求1-3任一项所述的纵向运动平台，其特征在于，所述升降机构还包括驱动关节、弹簧与底座；

所述压电陶瓷组件与所述弹簧一同设置在所述驱动关节与所述底座之间，且所述弹簧的两端分别固定在所述驱动关节与所述底座上；

所述驱动关节的顶部与所述支撑台固定连接；

所述底座的底部与所述平台底板固定连接。

5.根据权利要求1-3任一项所述的纵向运动平台，其特征在于，还包括两根以上的晶圆支撑杆；

所述绝缘支撑台和所述静电吸盘上开设有与所述晶圆支撑杆相匹配的通孔；所述晶圆支撑杆设置在所述平台底板上，上端能够通过所述绝缘支撑台和所述静电吸盘上的通孔，且所述晶圆支撑杆能够纵向移动伸出到所述静电吸盘上方。

6.根据权利要求5所述的纵向运动平台，其特征在于，还包括托板及驱动部；

所述托板设置在所述平台底板与所述绝缘支撑台之间，且所述晶圆支撑杆设置在所述托板上；

所述驱动部与所述托板相抵接，能够驱动所述托板纵向移动。

7.根据权利要求6所述的纵向运动平台，其特征在于，所述驱动部包括轴架、驱动杆及动力结构；

所述轴架设置在所述平台底板上；

所述驱动杆的一端与所述轴架转动连接，中部与所述托板下表面相抵接，且另一端延伸出所述平台底板；

所述动力结构与所述驱动杆的另一端转动连接，以使所述驱动部构成连杆机构。

8.根据权利要求7所述的纵向运动平台，其特征在于，还包括导向立柱；所述托板上设置有与所述导向立柱相匹配的导向孔；

所述导向立柱垂直设置在所述平台底板的上表面；所述托板通过所述导向孔与所述导向立柱滑动连接。

9.根据权利要求8所述的纵向运动平台，其特征在于，所述升降机构上端位于所述绝缘支撑台的靠近外边缘位置，且所述升降机构在所述绝缘支撑台与所述平台底板之间的外圈设置；

所述导向立柱在所述绝缘支撑台与所述平台底板之间的内圈设置。

10.根据权利要求6所述的纵向运动平台，其特征在于，所述托板为圆形板，所述晶圆支撑杆的个数为三根，相邻的所述晶圆支撑杆到所述托板的中心夹角相等。

11.根据权利要求9所述的纵向运动平台，其特征在于，所述平台底板为方形板，所述导向立柱的个数为三根，相邻的所述平台底板到所述平台底板的中心夹角相等。

12.根据权利要求1-3任一项所述的纵向运动平台，其特征在于，还包括运动台反射镜；

所述运动台反射镜安装在所述绝缘支撑台的至少一侧顶部，沿边缘设置，用以在水平面定位所述纵向运动平台的位置。

13.根据权利要求12所述的纵向运动平台，其特征在于，所述运动台反射镜的数量为两个，分别设置在所述绝缘支撑台相邻的两侧。

14.根据权利要求1-3所述的纵向运动平台，其特征在于，所述压电陶瓷组件的极化方向为竖直方向。

15.一种电子束检测设备，其特征在于，包括主真空腔室、扫描电镜、纵向检测传感器及权利要求1-14任一项所述的纵向运动平台；

所述主真空腔室的上部开设有电镜安装位，一侧连通至前端输送模块，用以向腔内输送待测晶圆；

所述纵向运动平台设置在所述主真空腔室的内底部；

所述扫描电镜与所述电镜安装位相匹配，下端延伸至所述主真空腔室内，且位于所述纵向运动平台上方；

所述纵向检测传感器设置在所述扫描电镜的下端旁侧，用以检测所述待测晶圆的高度变化差值；

所述纵向运动平台能够根据放置所述待测晶圆先后的高度变化差值，在上下方向移动，以使所述扫描电镜不用重新对焦检测所述待测晶圆。

16.根据权利要求15所述的电子束检测设备，其特征在于，所述主真空腔室的一侧外部设置有激光干涉仪，所述主真空腔室的内顶部安装有参考反射镜，所述参考反射镜位于所述激光干涉仪与所述纵向精密运动台之间，所述激光干涉仪配合所述参考反射镜用以检测所述待测晶圆的位置偏差。

17.根据权利要求15所述的电子束检测设备，其特征在于，还包括水平方向运动台，所述水平方向运动台设置在所述主真空腔室的内底部与所述纵向运动平台之间，能够在水平面内沿互相垂直的两个方向移动。

18.根据权利要求15所述的电子束检测设备，其特征在于，还包括控制单元，所述控制单元分别与所述纵向检测传感器、所述升降机构电连接，所述控制单元能够接收所述待测晶圆的高度变化差值，驱动所述升降机构上升或者下降运动。

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