CN113248157B - 一种光学玻璃的镀膜工艺 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种光学玻璃的镀膜工艺，根据待镀膜的光学玻璃的类型确定真空镀膜单元初始工作参数，真空镀膜单元根据已镀膜玻璃的膜层厚度、膜层平整度和膜层透光率计算出镀膜参考值，若是第一块光学玻璃的镀膜参考值时，则将其与预设镀膜参考值进行比较，确定下一镀膜参数；若不是，则真空镀膜单元根据上一块光学玻璃的镀膜参考值在预设镀膜参考值的不同范围，将当前的镀膜参考值直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定当前光学玻璃的镀膜参考值与上一镀膜参考值的差值，将当前的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，真空镀膜单元根据比较结果对下一工作参数进行确定。通过层层调节的方式，提高了镀膜的合格率。

Description

一种光学玻璃的镀膜工艺

技术领域

本发明涉及光学玻璃的镀膜技术领域，尤其涉及一种光学玻璃的镀膜工艺。

背景技术

随着科技的发展，光学玻璃的应用领域也越来越广泛，已经用于手机、电脑、安防监控、无人驾驶车载应用、体感游戏机、人脸可视终端等摄像头模组，生产车间为千级无尘镀膜车间，主要生产工序为真空镀膜工艺，真空镀膜机工作时，需要先抽真空，使真空室处于真空状态，再进行镀膜；镀膜完成后，需要向真空室充气，而真空镀膜的镀膜过程中时常出现因各种各样的原因导致的镀膜合格率不佳的问题，真空度的过高和过低，镀膜的性能难以稳定。

现有技术中仍缺少一种根据已镀膜玻璃的镀膜情况对镀膜过程调节的反馈机制，以保证镀膜的效率和合格率的镀膜工艺。

发明内容

为此，本发明提供一种光学玻璃的镀膜工艺，用以克服现有技术中仍缺少一种根据已镀膜玻璃的镀膜情况对镀膜过程调节的反馈机制，以保证镀膜的效率和合格率的镀膜工艺的问题。

为实现上述目的，本发明提供一种光学玻璃的镀膜工艺，包括：

步骤S1，传送单元将待镀膜的光学玻璃传送至清洗单元处，清洗单元对待镀膜的光学玻璃进行清洗，所述传送单元将清洗后的光学玻璃传送至吹干单元，所述吹干单元对清洗后的光学玻璃进行吹干；

步骤S2，所述传送单元将吹干后的待镀膜光学玻璃传输至真空镀膜单元，所述真空镀膜单元根据待镀膜的光学玻璃的类型确定真空镀膜单元的初始工作参数，其中，初始工作参数包括真空镀膜单元的真空度、溅射电流和溅射时间；

步骤S3，所述真空镀膜单元接收设置在真空镀膜单元内的真空计的实时真空度并控制真空泵以使真空腔内的真空度达到预设真空度后，对待镀膜的光学玻璃按照预设的溅射电流和溅射时间进行真空溅射镀膜；

步骤S4，所述真空镀膜单元对镀膜后的光学玻璃进行充气操作后经传送单元传送至质检单元，经质检单元检测合格后传输至合格单元，检验不合格的传输至不合格单元，所述质检包括对光学玻璃镀膜后的膜层厚度检测、膜层平整度检测和膜层透光率检测；

步骤S5，所述真空镀膜单元接收质检单元传输的已镀膜玻璃的膜层厚度、膜层平整度和膜层透光率计算出镀膜参考值，若计算出的镀膜参考值是第一块光学玻璃的镀膜参考值时，则直接将第一块光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，确定下一块待镀膜的光学玻璃的镀膜参数；

步骤S6，若计算出的镀膜参考值不是第一块光学玻璃的镀膜参考值时，则所述真空镀膜单元根据上一块光学玻璃的镀膜参考值在预设镀膜参考值的不同范围，将当前光学玻璃的镀膜参考值直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定当前光学玻璃的镀膜参考值与上一块光学玻璃的镀膜参考值的差值范围，再将当前光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，所述真空镀膜单元根据比较结果对下一块光学玻璃的工作参数进行确定。

进一步地，在所述步骤S4中，所述质检单元对镀膜后的光学玻璃进行质检，并将检测到的膜层厚度、平整度和透光率的数据信息传输至真空镀膜单元，所述真空镀膜单元接收镀膜后的光线玻璃的膜层厚度、平整度和透光率信息并计算出镀膜参考值x，

x＝0.3×H/H0+0.4×P/P0+0.3×G/G0

其中，H表示光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，H0表示光线玻璃镀膜后的预设镀膜厚度，P表示光学玻璃镀膜后的实际平整度，P0表示光学玻璃镀膜后的预设平整度，G表示光学玻璃镀膜后的实际透光率，G0表示光学玻璃镀膜后的预设透光率。

进一步地，在所述步骤S2中，所述真空镀膜单元内预设有玻璃的类型A1,A2,A3,…,An,其中，A1表示第一预设光学玻璃，A2表示第二预设光学玻璃，A3表示第三预设光学玻璃，An表示第n预设光学玻璃；

所述真空镀膜单元内预设有工作参数B(B1,B2,B3,…,Bn)，其中，B1表示第一预设工作参数，B2表示第二预设工作参数，B3表示第三预设工作参数，Bn表示第n预设工作参数；

对于第i工作参数Bi(Zi，Di，Ti)，设定i＝1,2,3,…,n,其中，Zi表示第i预设真空度，Di表示第i预设溅射电流，Ti表示第i预设溅射时间。

进一步地，所述真空镀膜单元根据待镀膜光学玻璃的类型初步确定工作参数，设定待镀膜的光学玻璃的类型为A，则，

若A＝A1时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为B1，并从B1中选取Z1为需要达到的真空度，选取D1为镀膜时的溅射电流，选取T1为镀膜时的溅射时间；

若A＝A2时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为B2，并从B2中选取Z2为需要达到的真空度，选取D2为镀膜时的溅射电流，选取T2为镀膜时的溅射时间；

若A＝A3时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为B3，并从B3中选取Z3为需要达到的真空度，选取D3为镀膜时的溅射电流，选取T3为镀膜时的溅射时间；

若A＝An时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为Bn，并从Bn中选取Zn为需要达到的真空度，选取Dn为镀膜时的溅射电流，选取Tn为镀膜时的溅射时间；

所述真空镀膜单元根据待镀膜光学玻璃的类型对真空镀膜单元的初始工作参数Bi进行确定，并按照初始确定的工作参数Bi对第一块待镀膜光学玻璃进行镀膜。

进一步地，在所述步骤S5中，所述真空镀膜单元根据第一块镀膜后的光学玻璃的膜层厚度、平整度和透光率根据镀膜参考值的计算公式计算出第一块光学玻璃的镀膜参考值x1，x1＝H1/H0+P1/P0+G1/G0，其中，H1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，P1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际平整度，G1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际透光率；

所述真空镀膜单元将第一块光学玻璃的镀膜参考值x1与预设镀膜参考值进行比较，根据比较结果对第二块光学玻璃的工作参数进行确定，设定镀膜第一参考值xc1，设定镀膜第二参考值xc2，设定xc2大于xc1，设定第一块光学玻璃的镀膜工作参数为Bi，

若x1≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为B(i+1)，并调整Z(i+1)为需要达到的真空度，选取D(i+1)为镀膜时的溅射电流，选取T(i+1)为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x1≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为第一块光学玻璃的工作参数；

若x1＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为B(i-1)，并调整Z(i-1)为需要达到的真空度，选取D(i-1)为镀膜时的溅射电流，选取T(i-1)为镀膜时的溅射时间。

进一步地，所述真空镀膜单元根据调整后的工作参数对第二块光学玻璃进行镀膜，并根据第二块光学玻璃镀膜后的膜层厚度、平整度和透光率计算出第二块光学玻璃的镀膜参考值x2，x2＝H2/H0+P2/P0+G2/G0，其中，H2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，P2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际平整度，G2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际透光率；

所述真空镀膜单元根据第一块光学玻璃的镀膜参考值x1在预设镀膜参考值的不同范围，将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定第二块光学玻璃的镀膜参考值x2与第一块光学玻璃的镀膜参考值x1的差值范围，再将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2与预设镀膜参考值进行比较，所述真空镀膜单元根据比较结果对第三块光学玻璃的工作参数进行确定。

进一步地，所述真空镀膜单元根据x2与x1差值的不同范围结合x2与预设镀膜参考值的比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，设定镀膜差值参考值xcc，设定xcc小于xc2-xc1，则，设定第二块光学玻璃的镀膜工作参数为Bk，

若0＜x2-x1＜xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k+2)，并调整Z(k+2)为需要达到的真空度，选取D(k+2)为镀膜时的溅射电流，选取T(k+2)为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2-x1≥xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k+1)，并调整Z(k+1)为需要达到的真空度，选取D(k+1)为镀膜时的溅射电流，选取T(k+1)为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2-x1＜0或x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元判定发生故障。

进一步地，若xc1＜x1≤xc2时，所述真空镀膜单元将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2直接与预设镀膜参考值进行比较，并根据比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k+1)，并调整Z(k+1)为需要达到的真空度，选取D(k+1)为镀膜时的溅射电流，选取T(k+1)为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k-1)，并调整Z(k-1)为需要达到的真空度，选取D(k-1)为镀膜时的溅射电流，选取T(k-1)为镀膜时的溅射时间。

进一步地，若x1＞xc2时，所述真空镀膜单元根据x2与x1差值的不同范围结合x2与预设镀膜参考值的比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，设定镀膜差值参考值xcc，则，

若0＜x1-x2＜xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k-2)，并调整Z(k-2)为需要达到的真空度，选取D(k-2)为镀膜时的溅射电流，选取T(k-2)为镀膜时的溅射时间；

若x1-x2≥xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k-1)，并调整Z(k-1)为需要达到的真空度，选取D(k-1)为镀膜时的溅射电流，选取T(k-1)为镀膜时的溅射时间；

若x2-x1＜0或x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元判定发生故障。

进一步地，所述真空镀膜单元按照调整后的工作参数对第三块光学玻璃进行镀膜后，计算出第三块光学玻璃的镀膜参考值x3，所述真空镀膜单元根据第三光学玻璃的镀膜参考值x3在预设镀膜参考值的不同范围，将第三块光学玻璃的镀膜参考值x3直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定第三块光学玻璃的镀膜参考值x3与第二块光学玻璃的镀膜参考值x2的差值范围，再将第三块光学玻璃的镀膜参考值x3与预设镀膜参考值进行比较，所述真空镀膜单元根据比较结果对第四块光学玻璃的工作参数进行确定，依次类推，直至完成光学玻璃的镀膜或判定所述真空镀膜单元故障。

与现有技术相比，本发明的有益效果在于，本发明通过提供一种光学玻璃的镀膜工艺，首先，根据待镀膜的光学玻璃的类型确定真空镀膜单元的初始工作参数并按初始工作参数开始运行，其次，所述真空镀膜单元接收质检单元传输的已镀膜玻璃的膜层厚度、膜层平整度和膜层透光率计算出镀膜参考值，若计算出的镀膜参考值是第一块光学玻璃的镀膜参考值时，则直接将第一块光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，确定下一块待镀膜的光学玻璃的镀膜参数；若计算出的镀膜参考值不是第一块光学玻璃的镀膜参考值时，则所述真空镀膜单元根据上一块光学玻璃的镀膜参考值在预设镀膜参考值的不同范围，将当前光学玻璃的镀膜参考值直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定当前光学玻璃的镀膜参考值与上一块光学玻璃的镀膜参考值的差值范围，再将当前光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，所述真空镀膜单元根据比较结果对下一块光学玻璃的工作参数进行确定，通过层层调节的方式，提高了镀膜的合格率。

尤其，本发明通过设置镀膜参考值，结合镀膜后的光线玻璃的膜层厚度、平整度和透光率计算出镀膜后的光学玻璃的镀膜参考值，以对下一待镀膜玻璃的镀膜工作参数进行调整，而且，本发明通过设置第一镀膜参考值和第二镀膜参考值，将镀膜参考值在预设要求范围内的，以当前镀膜工作参数直接为下一镀膜工作参数，即不需要对下一工作参数进行调节的，在提高镀膜的合格率的基础上，提高了镀膜的镀膜效率。

进一步地，本发明所述的一种光学玻璃的镀膜工艺，通过对光学玻璃的类型对第一块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，接收第一块镀膜后的光学玻璃的镀膜数据计算出镀膜参考值，并将镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，若在预设范围内，则不对下一镀膜工作参数进行调整，若不在，则调整下一镀膜工作参数，并按调整后的工作参数对第二块光学玻璃进行镀膜，第二块光学玻璃镀膜后计算出第二块光学玻璃的镀膜参考值，若第一块光学玻璃的镀膜参考值在预设范围时，则直接将第二块光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，确定第三块光学玻璃的镀膜参考值。若第一块光学玻璃的镀膜参考值不在预设范围时，则首先确定第二块光学玻璃的镀膜参考值与第一光学玻璃的镀膜参考值的差值是否满足预设镀膜差值参考值，若差值大于预设镀膜差值参考值，则说明第二块光学玻璃的镀膜效果明显，再将第二块光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，根据比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行调整。若差值小于预设镀膜差值参考值，则说明对第二块光学玻璃的镀膜效果不太明显，再将第二块光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，根据比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行调整，调整的力度要大于第一次的调整区间，以使镀膜工作参数能够尽快地与待镀膜玻璃的需求匹配，提高调整效率，从而提高镀膜合格率。

附图说明

图1为本发明所述光学玻璃的镀膜工艺的流程示意图；

图2为本发明所述光学玻璃的镀膜工艺对应装置的结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的和优点更加清楚明白，下面结合实施例对本发明作进一步描述；应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，并不用于限定本发明。

下面参照附图来描述本发明的优选实施方式。本领域技术人员应当理解的是，这些实施方式仅仅用于解释本发明的技术原理，并非在限制本发明的保护范围。

需要说明的是，在本发明的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系，这仅仅是为了便于描述，而不是指示或暗示所述单元或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，还需要说明的是，在本发明的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域技术人员而言，可根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

请参阅图1所示，本发明提供一种光学玻璃的镀膜工艺，包括：

步骤S1，传送单元将待镀膜的光学玻璃传送至清洗单元处，清洗单元对待镀膜的光学玻璃进行清洗，所述传送单元将清洗后的光学玻璃传送至吹干单元，所述吹干单元对清洗后的光学玻璃进行吹干；

步骤S2，所述传送单元将吹干后的待镀膜光学玻璃传输至真空镀膜单元，所述真空镀膜单元根据待镀膜的光学玻璃的类型确定真空镀膜单元的初始工作参数，其中，初始工作参数包括真空镀膜单元的真空度、溅射电流和溅射时间；

步骤S3，所述真空镀膜单元接收设置在真空镀膜单元内的真空计的实时真空度并控制真空泵以使真空腔内的真空度达到预设真空度后，对待镀膜的光学玻璃按照预设的溅射电流和溅射时间进行真空溅射镀膜；

步骤S4，所述真空镀膜单元对镀膜后的光学玻璃进行充气操作后经传送单元传送至质检单元，经质检单元检测合格后传输至合格单元，检验不合格的传输至不合格单元，所述质检包括对光学玻璃镀膜后的膜层厚度检测、膜层平整度检测和膜层透光率检测；

步骤S5，所述真空镀膜单元接收质检单元传输的已镀膜玻璃的膜层厚度、膜层平整度和膜层透光率计算出镀膜参考值，若计算出的镀膜参考值是第一块光学玻璃的镀膜参考值时，则直接将第一块光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，确定下一块待镀膜的光学玻璃的镀膜参数；

步骤S6，若计算出的镀膜参考值不是第一块光学玻璃的镀膜参考值时，则所述真空镀膜单元根据上一块光学玻璃的镀膜参考值在预设镀膜参考值的不同范围，将当前光学玻璃的镀膜参考值直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定当前光学玻璃的镀膜参考值与上一块光学玻璃的镀膜参考值的差值范围，再将当前光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，所述真空镀膜单元根据比较结果对下一块光学玻璃的工作参数进行确定。

具体而言，本发明实施例中，所述传送单元可以为传送带，传送带上，也可以为能够承载待镀膜玻璃的小车，清洗单元为使用光学玻璃清洗剂通过超声波对玻璃进行清洗，可以设置为清洗机，具体清洗机为现有的对镀膜前玻璃的清洗机的装置和结构即可，所述吹干单元为通过烘干将清洗后的玻璃变干燥的过程，所述真空镀膜单元为镀膜机，所述真空镀膜单元内设置有控制芯片，能够对镀膜机的工作参数进行调节，而且能够接收质检单元传输的数据信息。

具体而言，本发明实施例中，在所述步骤S2中，所述真空镀膜单元内预设有玻璃的类型A1,A2,A3,…,An,其中，A1表示第一预设光学玻璃，A2表示第二预设光学玻璃，A3表示第三预设光学玻璃，An表示第n预设光学玻璃。

具体而言，本发明实施例中，所述真空镀膜单元内预设有工作参数B(B1,B2,B3,…,Bn)，其中，B1表示第一预设工作参数，B2表示第二预设工作参数，B3表示第三预设工作参数，Bn表示第n预设工作参数；对于第i工作参数Bi(Zi，Di，Ti)，设定i＝1,2,3,…,n,其中，Zi表示第i预设真空度，Di表示第i预设溅射电流，Ti表示第i预设溅射时间。

具体而言，本发明实施例中，所述光学玻璃的类型可以根据轻冕玻璃、冕玻璃、磷冕玻璃、钡冕玻璃、重冕玻璃等进行分类，也可以根据轻冕玻璃的不同牌号进行分类，本发明并不限定具体的类型区分方法和标准，以具体实施为准。

具体而言，本发明实施例中，所述真空镀膜单元根据待镀膜光学玻璃的类型初步确定工作参数，设定待镀膜的光学玻璃的类型为A，则，

若A＝A1时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为B1，并从B1中选取Z1为需要达到的真空度，选取D1为镀膜时的溅射电流，选取T1为镀膜时的溅射时间；

若A＝A2时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为B2，并从B2中选取Z2为需要达到的真空度，选取D2为镀膜时的溅射电流，选取T2为镀膜时的溅射时间；

若A＝A3时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为B3，并从B3中选取Z3为需要达到的真空度，选取D3为镀膜时的溅射电流，选取T3为镀膜时的溅射时间；

若A＝An时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为Bn，并从Bn中选取Zn为需要达到的真空度，选取Dn为镀膜时的溅射电流，选取Tn为镀膜时的溅射时间。

具体而言，本发明实施例中，所述真空镀膜单元根据待镀膜光学玻璃的类型对真空镀膜单元的初始工作参数Bi进行确定，并按照初始确定的工作参数Bi对第一块待镀膜光学玻璃进行镀膜。

具体而言，本发明实施例中，所述真空镀膜单元根据光学玻璃的类型确定初始工作参数，能够使其贴合光学玻璃的特性，使其镀膜效果符合要求，产品的合格率上升，避免出现初始工作参数与光学玻璃特性相差甚多的情况发生，提高了所述镀膜的效率和合格率。

具体而言，本发明实施例中，真空度是真空镀膜时严格管理的指标之一，真空度对镀膜玻璃的颜色、耐磨性能、牢固度都有非常重要的影响，而且，真空度越高意味着真空腔内的杂气分子越少，镀膜膜层成份越趋向于需求的占比，也就是纯净度及结晶体情况会更加精密，而且真空度较高也能够有效避免板材表层空气氧化或渗氮，对结合性有非常大的协助，针对不同的产品要求设置不同要求的真空度，在一定范围内对真空度进行调整，使其镀膜更加贴近需求效果。

具体而言，本发明实施例中，镀膜时，可以通过对电弧电源的控制增加靶材在真空室的离化率，还可通过磁场控制电弧等以改变产品的外观和内在品质。本领域人员可知的是，溅射电流一定的情况下，溅射时间越长，厚度越厚，溅射时间越短，厚度越薄，而溅射时间一定的情况下，一定范围内的溅射电流越大，厚度越厚，溅射电流越小，厚度越薄，本发明通过调整溅射电流的大小，从而改变光学玻璃上的镀膜厚度，以使镀膜厚度符合需求，提高镀膜效果。

具体而言，本发明实施例中，真空计可以使用电阻真空计，也可以使用磁控放电真空计，本发明并不限定具体的使用方式，只要能够测量出真空度即可。

具体而言，本发明实施例中，在所述步骤S4中，所述质检单元对镀膜后的光学玻璃进行质检，并将检测到的膜层厚度、平整度和透光率的数据信息传输至真空镀膜单元，所述真空镀膜单元接收镀膜后的光线玻璃的膜层厚度、平整度和透光率信息并计算出镀膜参考值x，

x＝0.3×H/H0+0.4×P/P0+0.3×G/G0

其中，H表示光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，H0表示光线玻璃镀膜后的预设镀膜厚度，P表示光学玻璃镀膜后的实际平整度，P0表示光学玻璃镀膜后的预设平整度，G表示光学玻璃镀膜后的实际透光率，G0表示光学玻璃镀膜后的预设透光率。

具体而言，本发明实施例中，预设镀膜厚度可以根据光学玻璃的类型进行设置，可以设置为0.5mm，也可以设置为0.1mm，本发明并不对预设厚度、预设平整度和预设透光率进行限定，以具体实施为准。

具体而言，本发明实施例中，在所述步骤S5中，所述真空镀膜单元根据第一块镀膜后的光学玻璃的膜层厚度、平整度和透光率根据镀膜参考值的计算公式计算出第一块光学玻璃的镀膜参考值x1，x1＝H1/H0+P1/P0+G1/G0，其中，H1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，P1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际平整度，G1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际透光率。

具体而言，本发明实施例中并不限定具体的膜层厚度测量方式，可以采用石英晶体振荡法对膜层厚度进行检测，也可以采用螺旋测微法，还可以采用精密轮廓扫描法，还可以使用光谱仪对膜层厚度进行监测，以具体实施为准。

具体而言，本发明实施例中对于膜层表面的平整度的检测可以通过气动测平仪或氦氖激光干涉仪的方式对玻璃的镀膜平整度进行检测，测试原理为现有技术，国标中均有仪器使用方法介绍，在此不赘述，而且本发明不限定检测的方式，以具体实施为准。

具体而言，本发明实施例中对于膜层的透光率的检测可以通过积分球式透光率测试仪的方法进行测定，同样本发明并不限定具体的测定方法，只要能够对膜层的厚度、膜层的表面平整度和摩擦的透光率进行检测的，都属于本发明的保护范围，具体的检测方法以具体实施为准。

具体而言，本发明实施例中，所述质检单元可以通过由膜层厚度测量仪器、膜层平整度测量仪器和膜层厚度的透光率的仪器组成，也可以由其他可以测量出膜层厚度、平整度和透光率的仪器组成，本发明并不限定具体的测量方式和结构，以具体实施为准。

具体而言，本发明实施例中，所述真空镀膜单元将第一块光学玻璃的镀膜参考值x1与预设镀膜参考值进行比较，根据比较结果对第二块光学玻璃的工作参数进行确定，设定镀膜第一参考值xc1，设定镀膜第二参考值xc2，设定xc2大于xc1，设定第一块光学玻璃的镀膜工作参数为Bi，

若x1≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为B(i+1)，并调整Z(i+1)为需要达到的真空度，选取D(i+1)为镀膜时的溅射电流，选取T(i+1)为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x1≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为第一块光学玻璃的工作参数；

若x1＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为B(i-1)，并调整Z(i-1)为需要达到的真空度，选取D(i-1)为镀膜时的溅射电流，选取T(i-1)为镀膜时的溅射时间。

具体而言，本发明实施例中通过预设镀膜参考值，使其实际镀膜参考值若在预设镀膜参考值的范围，则不对下一镀膜工作参数进行调整，若不在，则对下一镀膜工作参数进行调整的过程，从而提高所述真空镀膜单元的镀膜效率和镀膜的合格率。

具体而言，本发明实施例中，所述真空镀膜单元根据调整后的工作参数对第二块光学玻璃进行镀膜，并根据第二块光学玻璃镀膜后的膜层厚度、平整度和透光率计算出第二块光学玻璃的镀膜参考值x2，x2＝H2/H0+P2/P0+G2/G0，其中，H2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，P2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际平整度，G2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际透光率。

具体而言，本发明实施例中，所述真空镀膜单元根据第一块光学玻璃的镀膜参考值x1在预设镀膜参考值的不同范围，将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定第二块光学玻璃的镀膜参考值x2与第一块光学玻璃的镀膜参考值x1的差值范围，再将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2与预设镀膜参考值进行比较，所述真空镀膜单元根据比较结果对第三块光学玻璃的工作参数进行确定。

具体而言，本发明实施例中，在对第三块光学玻璃的工作参数进行确定时，若x1≤xc1时，所述真空镀膜单元根据x2与x1差值的不同范围结合x2与预设镀膜参考值的比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，设定镀膜差值参考值xcc，设定xcc小于xc2-xc1，设定第二块光学玻璃的镀膜工作参数为Bk，则，

若0＜x2-x1＜xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k+2)，并调整Z(k+2)为需要达到的真空度，选取D(k+2)为镀膜时的溅射电流，选取T(k+2)为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数。

具体而言，本发明实施例中，若x2-x1≥xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k+1)，并调整Z(k+1)为需要达到的真空度，选取D(k+1)为镀膜时的溅射电流，选取T(k+1)为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数。

具体而言，本发明实施例中，若x2-x1＜0或x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元判定发生故障。

具体而言，本发明实施例中，在对第三块光学玻璃的工作参数进行确定时，若xc1＜x1≤xc2时，所述真空镀膜单元将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2直接与预设镀膜参考值进行比较，并根据比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k+1)，并调整Z(k+1)为需要达到的真空度，选取D(k+1)为镀膜时的溅射电流，选取T(k+1)为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k-1)，并调整Z(k-1)为需要达到的真空度，选取D(k-1)为镀膜时的溅射电流，选取T(k-1)为镀膜时的溅射时间。

具体而言，本发明实施例中，在对第三块光学玻璃的工作参数进行确定时，若x1＞xc2时，所述真空镀膜单元根据x2与x1差值的不同范围结合x2与预设镀膜参考值的比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，设定镀膜差值参考值xcc，则，

若0＜x1-x2＜xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k-2)，并调整Z(k-2)为需要达到的真空度，选取D(k-2)为镀膜时的溅射电流，选取T(k-2)为镀膜时的溅射时间；

若x1-x2≥xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B(k-1)，并调整Z(k-1)为需要达到的真空度，选取D(k-1)为镀膜时的溅射电流，选取T(k-1)为镀膜时的溅射时间；

若x2-x1＜0或x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元判定发生故障。

具体而言，本发明实施例中，所述真空镀膜单元按照调整后的工作参数对第三块光学玻璃进行镀膜后，计算出第三块光学玻璃的镀膜参考值x3，所述真空镀膜单元根据第三光学玻璃的镀膜参考值x3在预设镀膜参考值的不同范围，将第三块光学玻璃的镀膜参考值x3直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定第三块光学玻璃的镀膜参考值x3与第二块光学玻璃的镀膜参考值x2的差值范围，再将第三块光学玻璃的镀膜参考值x3与预设镀膜参考值进行比较，所述真空镀膜单元根据比较结果对第四块光学玻璃的工作参数进行确定，依次类推，直至完成光学玻璃的镀膜或判定所述真空镀膜单元故障。

具体而言，本发明实施例中，若所述真空镀膜单元判定故障时，发出报警指令，若所述真空镀膜单元检修完成后，开始进行镀膜作业时，按照需要镀膜的光学玻璃的类型重新确定初始工作参数。

具体而言，本发明实施例中，本发明还提供一种用以光学玻璃的镀膜工艺的真空镀膜机，包括真空腔体1、玻璃放置处2、靶材3、靶材电源5和设置在真空腔体内的真空计6，本发明通过真空腔体1内的空气被不断的抽走，通入氩气，使真空腔体1内产生氩气氛围，在靶材3周围形成磁场，在电子束4的作用下且通过电子的不断撞击不断产生带电离子，使其靶材上的电子被撞击溅射到玻璃的表面，完成镀膜的工作。

以上所述仅为本发明的优选实施例，并不用于限制本发明；对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种光学玻璃的镀膜工艺，其特征在于，包括：

步骤S1，传送单元将待镀膜的光学玻璃传送至清洗单元处，清洗单元对待镀膜的光学玻璃进行清洗，所述传送单元将清洗后的光学玻璃传送至吹干单元，所述吹干单元对清洗后的光学玻璃进行吹干；

步骤S2，所述传送单元将吹干后的待镀膜光学玻璃传输至真空镀膜单元，所述真空镀膜单元根据待镀膜的光学玻璃的类型确定真空镀膜单元的初始工作参数，其中，初始工作参数包括真空镀膜单元的真空度、溅射电流和溅射时间；

步骤S3，所述真空镀膜单元接收设置在真空镀膜单元内的真空计的实时真空度并控制真空泵以使真空腔内的真空度达到预设真空度后，对待镀膜的光学玻璃按照预设的溅射电流和溅射时间进行真空溅射镀膜；

步骤S4，所述真空镀膜单元进行充气操作后，镀膜后的光学玻璃经传送单元传送至质检单元，经质检单元检测合格后传输至合格单元，检验不合格的传输至不合格单元，所述质检包括对光学玻璃镀膜后的膜层厚度检测、膜层平整度检测和膜层透光率检测；

步骤S5，所述真空镀膜单元接收质检单元传输的已镀膜玻璃的膜层厚度、膜层平整度和膜层透光率计算出镀膜参考值，

若计算出的镀膜参考值是第一块光学玻璃的镀膜参考值时，则直接将第一块光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，确定下一块待镀膜的光学玻璃的镀膜参数；

步骤S6，若计算出的镀膜参考值不是第一块光学玻璃的镀膜参考值时，则所述真空镀膜单元根据上一块光学玻璃的镀膜参考值在预设镀膜参考值的不同范围，将当前光学玻璃的镀膜参考值直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定当前光学玻璃的镀膜参考值与上一块光学玻璃的镀膜参考值的差值范围，再将当前光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，所述真空镀膜单元根据比较结果对下一块光学玻璃的工作参数进行确定；

在所述步骤S4中，所述质检单元对镀膜后的光学玻璃进行质检，并将检测到的膜层厚度、平整度和透光率的数据信息传输至真空镀膜单元，所述真空镀膜单元接收镀膜后的光线玻璃的膜层厚度、平整度和透光率信息并计算出镀膜参考值x，

x=0.3×H/H0+0.4×P/P0+0.3×G/G0

其中，H表示光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，H0表示光线玻璃镀膜后的预设镀膜厚度，P表示光学玻璃镀膜后的实际平整度，P0表示光学玻璃镀膜后的预设平整度，G表示光学玻璃镀膜后的实际透光率，G0表示光学玻璃镀膜后的预设透光率；

在所述步骤S5中，所述真空镀膜单元根据第一块镀膜后的光学玻璃的膜层厚度、平整度和透光率根据镀膜参考值的计算公式计算出第一块光学玻璃的镀膜参考值x1，x1= H1/H0+P1/P0+G1/G0，其中，H1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，P1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际平整度，G1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际透光率；

所述真空镀膜单元将第一块光学玻璃的镀膜参考值x1与预设镀膜参考值进行比较，根据比较结果对第二块光学玻璃的工作参数进行确定，设定镀膜第一参考值xc1，设定镀膜第二参考值xc2，设定xc2大于xc1，设定第一块光学玻璃的镀膜工作参数为Bi，

若x1≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为B（i+1），并调整Z（i+1）为需要达到的真空度，选取D（i+1）为镀膜时的溅射电流，选取T（i+1）为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x1≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为第一块光学玻璃的工作参数；

若x1＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为B（i-1），并调整Z（i-1）为需要达到的真空度，选取D（i-1）为镀膜时的溅射电流，选取T（i-1）为镀膜时的溅射时间；

所述真空镀膜单元根据调整后的工作参数对第二块光学玻璃进行镀膜，并根据第二块光学玻璃镀膜后的膜层厚度、平整度和透光率计算出第二块光学玻璃的镀膜参考值x2，x2=H2/H0+P2/P0+G2/G0，其中，H2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，P2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际平整度，G2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际透光率；

所述真空镀膜单元根据第一块光学玻璃的镀膜参考值x1在预设镀膜参考值的不同范围，将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定第二块光学玻璃的镀膜参考值x2与第一块光学玻璃的镀膜参考值x1的差值范围，再将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2与预设镀膜参考值进行比较，所述真空镀膜单元根据比较结果对第三块光学玻璃的工作参数进行确定；

（1）若x1≤xc1时，所述真空镀膜单元根据x2与x1差值的不同范围结合x2与预设镀膜参考值的比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，设定镀膜差值参考值xcc，设定xcc小于xc2-xc1，设定第二块光学玻璃的镀膜工作参数为Bk，则，

①若0＜x2-x1＜xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k+2），并调整Z（k+2）为需要达到的真空度，选取D（k+2）为镀膜时的溅射电流，选取T（k+2）为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

②若x2-x1≥xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k+1），并调整Z（k+1）为需要达到的真空度，选取D（k+1）为镀膜时的溅射电流，选取T（k+1）为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

③若x2-x1＜0或x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元判定发生故障；

（2）若xc1＜x1≤xc2时，所述真空镀膜单元将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2直接与预设镀膜参考值进行比较，并根据比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k+1），并调整Z（k+1）为需要达到的真空度，选取D（k+1）为镀膜时的溅射电流，选取T（k+1）为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k-1），并调整Z（k-1）为需要达到的真空度，选取D（k-1）为镀膜时的溅射电流，选取T（k-1）为镀膜时的溅射时间；

（3）若x1＞xc2时，所述真空镀膜单元根据x2与x1差值的不同范围结合x2与预设镀膜参考值的比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，设定镀膜差值参考值xcc，则，

①若0＜x1-x2＜xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k-2），并调整Z（k-2）为需要达到的真空度，选取D（k-2）为镀膜时的溅射电流，选取T（k-2）为镀膜时的溅射时间；

②若x1-x2≥xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k-1），并调整Z（k-1）为需要达到的真空度，选取D（k-1）为镀膜时的溅射电流，选取T（k-1）为镀膜时的溅射时间；

③若x1-x2＜0或x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元判定发生故障。

2.根据权利要求1所述的光学玻璃的镀膜工艺，其特征在于，在所述步骤S2中，所述真空镀膜单元内预设有玻璃的类型A1,A2,A3,…,An,其中，A1表示第一预设光学玻璃，A2表示第二预设光学玻璃，A3表示第三预设光学玻璃，An表示第n预设光学玻璃；

所述真空镀膜单元内预设有工作参数B1,B2,B3,…,Bn，其中，B1表示第一预设工作参数，B2表示第二预设工作参数，B3表示第三预设工作参数，Bn表示第n预设工作参数；

对于第i工作参数Bi，其由Zi，Di，Ti组成，设定i=1,2,3,…,n,其中，Zi表示第i预设真空度，Di表示第i预设溅射电流，Ti表示第i预设溅射时间。

3.根据权利要求2所述的光学玻璃的镀膜工艺，其特征在于，所述真空镀膜单元根据待镀膜光学玻璃的类型初步确定工作参数，设定待镀膜的光学玻璃的类型为A，则，

若A=A1时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为B1，并从B1中选取Z1为需要达到的真空度，选取D1为镀膜时的溅射电流，选取T1为镀膜时的溅射时间；

若A=A2时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为B2，并从B2中选取Z2为需要达到的真空度，选取D2为镀膜时的溅射电流，选取T2为镀膜时的溅射时间；

若A=A3时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为B3，并从B3中选取Z3为需要达到的真空度，选取D3为镀膜时的溅射电流，选取T3为镀膜时的溅射时间；

若A=An时，则所述真空镀膜单元确定工作参数为Bn，并从Bn中选取Zn为需要达到的真空度，选取Dn为镀膜时的溅射电流，选取Tn为镀膜时的溅射时间；

所述真空镀膜单元根据待镀膜光学玻璃的类型对真空镀膜单元的初始工作参数Bi进行确定，并按照初始确定的工作参数Bi对第一块待镀膜光学玻璃进行镀膜。

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