CN113210349A - 光学元件的高效清洗工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了光学元件的高效清洗工艺,采用超声波清洗设备进行清洗,将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后,后脱水干燥,具体步骤如下:1)在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物,清洗90‑150s;2)经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入清水槽,清洗60‑90s;3)在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A;清洗90‑150s;4)清水漂洗;5)在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B;清洗90‑150s;6)清水漂洗;7)将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。本发明具有的清洗时间短,清洗效果好和生产效率高等特点。
Description
技术领域
本发明涉及光学元件生产技术领域,具体涉及光学元件的高效清洗工艺。
背景技术
光学镜头是及其视觉***中必不可少的部件,清洗工艺也是必不可少的一个条件,必须达到对产品的清洗不留下任何污垢和杂质,还必须保证产品不会有任何的损伤。
在光学加工中,元件污染主要来源于研磨(粉)液残留,手指印及少量脂肪类油。如CeO2(二氧化铈) 为主要成分的研磨粉是不会对镜片构成腐蚀的,但在进行研磨加工时,研磨液是由水加研磨粉配制而成,因此新配制的研磨液的初始 pH 值是由水和研磨粉的酸碱性共同决定的,一般呈碱性 (pH > 7)。清洗元件上油脂类污染主要是在其他溶剂进行乳化、分解之后的残留,因此通过与碱反应生成可溶于水的肥皂和甘油,可将其除去。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种光学元件的高效清洗工艺,具有的清洗时间短,清洗效果好和生产效率高等特点。
为解决上述技术问题,本发明采取如下技术方案:光学元件的高效清洗工艺,采用超声波清洗设备进行清洗,其特征在于:将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后,后脱水干燥,具体步骤如下:
1)在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物,并通过加热使清洗剂组合物温度保持在55- 65℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗90-150s;
2)经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽,第二个清洗槽内加入纯水,在40-50℃温度条件下,清洗60-90s;
3)在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A;并通过加热使碱性溶A温度保持在45- 55℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽内,清洗90-150s;
4)经过碱液清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第四个清洗槽,以纯水作为清洗介质,在40-50℃温度条件下,清洗时间为60-90s;
5)在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B;并通过加热使碱性溶液B温度保持在30- 45℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽内,清洗90-150s;
6)以清水作为清洗介质,在20-30℃温度条件下,实施清水漂洗,所述清洗时间为60-90s;
7)将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。
进一步地,所述的步骤1)中的清洗剂组合物按照重量份计,包含以下组分:氢氧化钠 1-5份、焦磷酸钠1-3份、二丙二醇甲醚2-6份、五水偏硅酸钠0.5-1份、十二烷基苯磺酸钠0.5-1份、乙氧基化烷基硫酸钠0.5-1份。
进一步地,所述的步骤3)中的碱性溶液A按照重量份计,包含以下组分:氢氧化钠5-10份、氢氧化钾3-5份、EDTA四钠1-3份、烷基糖苷1-3、聚乙烯吡咯烷酮1-3份、甘氨酸0.5-1份、椰油酰二乙醇胺1-2份、葡萄糖酸钠0.5-1份、2,4-二羟基二苯砜0.1-0.3份、1-乙基-3-甲基咪唑乳酸0.1-0.3份。
进一步地,所述的步骤5)中的碱性溶液B为碳酸钠水溶液。
进一步地,所述的超声波清洗机的清洗槽内设置有安装清洗篮的支架,支架固定在转盘上,转盘驱动支架正转3-5s后反转3-5s,如此往复。
进一步地,所述超声波清洗机的超声波功率为1200W,从前至后清洗槽内的频率为分别为25KHZ、50KHz、70KHz、100KHz、120KHz、150KHz、200KHz。
本发明的有益效果为:本发明具有的清洗时间短,清洗效果好和生产效率高等特点,而且还可以节约用水,减少对环境的污染。
具体实施方式
下面将通过具体实施方式对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述。
实施例1
本发明的光学元件的高效清洗工艺,采用超声波清洗设备进行清洗,将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后,后脱水干燥,具体步骤如下:
1)在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物,并通过加热使清洗剂组合物温度保持在55℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗90s;清洗剂组合物按照重量份计,包含以下组分:氢氧化钠 1份、焦磷酸钠1份、二丙二醇甲醚2份、五水偏硅酸钠0.5份、十二烷基苯磺酸钠 0.5份、乙氧基化烷基硫酸钠0.5份。
2)经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽,第二个清洗槽内加入纯水,在40℃温度条件下,清洗60s;
3)在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A;并通过加热使碱性溶A温度保持在45℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽内,清洗90s;碱性溶液A按照重量份计,包含以下组分:氢氧化钠5份、氢氧化钾3份、EDTA四钠1份、烷基糖苷1、聚乙烯吡咯烷酮1份、甘氨酸0.5份、椰油酰二乙醇胺1份、葡萄糖酸钠0.5份、2,4-二羟基二苯砜0.1份、1-乙基-3-甲基咪唑乳酸0.1份。
4)经过碱液清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第四个清洗槽,以纯水作为清洗介质,在40℃温度条件下,清洗时间为60s;
5)在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B;并通过加热使碱性溶液B温度保持在30℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽内,清洗90s;碱性溶液B为碳酸钠水溶液。
6)以清水作为清洗介质,在20℃温度条件下,实施清水漂洗,所述清洗时间为60s;
7)将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。
本发明在超声波清洗机的清洗槽内设置有安装清洗篮的支架,支架固定在转盘上,转盘驱动支架正转3s后反转3s,如此往复。超声波清洗机的超声波功率为1200W,从前至后清洗槽内的频率为 分别为25KHZ、50KHz、70KHz、100KHz、120KHz、150KHz、200KHz。
实施例2
本发明的光学元件的高效清洗工艺,采用超声波清洗设备进行清洗,将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后,后脱水干燥,具体步骤如下:
1)在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物,并通过加热使清洗剂组合物温度保持在60℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗120s;清洗剂组合物按照重量份计,包含以下组分:氢氧化钠 3份、焦磷酸钠2份、二丙二醇甲醚4份、五水偏硅酸钠0.8份、十二烷基苯磺酸钠 0.8份、乙氧基化烷基硫酸钠0.8份。
2)经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽,第二个清洗槽内加入纯水,在45℃温度条件下,清洗80s;
3)在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A;并通过加热使碱性溶A温度保持在50℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽内,清洗120s;碱性溶液A按照重量份计,包含以下组分:氢氧化钠6份、氢氧化钾4份、EDTA四钠2份、烷基糖苷2份、聚乙烯吡咯烷酮2份、甘氨酸0.8份、椰油酰二乙醇胺1.5份、葡萄糖酸钠0.8份、2,4-二羟基二苯砜0.2份、1-乙基-3-甲基咪唑乳酸0.2份。
4)经过碱液清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第四个清洗槽,以纯水作为清洗介质,在45℃温度条件下,清洗时间为75s;
5)在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B;并通过加热使碱性溶液B温度保持在35℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽内,清洗120s;碱性溶液B为碳酸钠水溶液。
6)以清水作为清洗介质,在25℃温度条件下,实施清水漂洗,所述清洗时间为 60-90s;
7)将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。
本发明在超声波清洗机的清洗槽内设置有安装清洗篮的支架,支架固定在转盘上,转盘驱动支架正转4s后反转4s,如此往复。超声波清洗机的超声波功率为1200W,从前至后清洗槽内的频率为 分别为25KHZ、50KHz、70KHz、100KHz、120KHz、150KHz、200KHz。
实施例3
本发明的光学元件的高效清洗工艺,采用超声波清洗设备进行清洗,将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后,后脱水干燥,具体步骤如下:
1)在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物,并通过加热使清洗剂组合物温度保持在65℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗150s;清洗剂组合物按照重量份计,包含以下组分:氢氧化钠5份、焦磷酸钠3份、二丙二醇甲醚6份、五水偏硅酸钠1份、十二烷基苯磺酸钠1份、乙氧基化烷基硫酸钠1份。
2)经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽,第二个清洗槽内加入纯水,在50℃温度条件下,清洗90s;
3)在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A;并通过加热使碱性溶A温度保持在55℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽内,清洗150s;碱性溶液A按照重量份计,包含以下组分:氢氧化钠10份、氢氧化钾5份、EDTA四钠3份、烷基糖苷3、聚乙烯吡咯烷酮1-3份、甘氨酸1份、椰油酰二乙醇胺2份、葡萄糖酸钠1份、2,4-二羟基二苯砜0.3份、1-乙基-3-甲基咪唑乳酸0.3份。
4)经过碱液清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第四个清洗槽,以纯水作为清洗介质,在50℃温度条件下,清洗时间为90s;
5)在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B;并通过加热使碱性溶液B温度保持45℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽内,清洗150s;碱性溶液B为碳酸钠水溶液。
6)以清水作为清洗介质,在30℃温度条件下,实施清水漂洗,所述清洗时间为90s;
7)将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。
本发明在超声波清洗机的清洗槽内设置有安装清洗篮的支架,支架固定在转盘上,转盘驱动支架正转5s后反转5s,如此往复。超声波清洗机的超声波功率为1200W,从前至后清洗槽内的频率为 分别为25KHZ、50KHz、70KHz、100KHz、120KHz、150KHz、200KHz。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,不用于限制本发明,本领域技术人员可以在本发明的实质和保护范围内,对本发明做出各种修改或等同替换,这种修改或等同替换也应视为落在本发明技术方案的保护范围内。
Claims (6)
1.光学元件的高效清洗工艺,采用超声波清洗设备进行清洗,其特征在于:将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后,后脱水干燥,具体步骤如下:
1)在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物,并通过加热使清洗剂组合物温度保持在55- 65℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗90-150s;
2)经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽,第二个清洗槽内加入纯水,在40-50℃温度条件下,清洗60-90s;
3)在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A;并通过加热使碱性溶A温度保持在45- 55℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽内,清洗90-150s;
4)经过碱液清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第四个清洗槽,以纯水作为清洗介质,在40-50℃温度条件下,清洗时间为60-90s;
5)在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B;并通过加热使碱性溶液B温度保持在30- 45℃的范围内,将待清洗的光学元件放入清洗槽内,清洗90-150s;
6)以清水作为清洗介质,在20-30℃温度条件下,实施清水漂洗,所述清洗时间为 60-90s;
7)将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。
2.根据权利要求1所述的光学元件的高效清洗工艺,其特征在于:所述的步骤1)中的清洗剂组合物按照重量份计,包含以下组分:氢氧化钠 1-5份、焦磷酸钠1-3份、二丙二醇甲醚2-6份、五水偏硅酸钠0.5-1份、十二烷基苯磺酸钠 0.5-1份、乙氧基化烷基硫酸钠0.5-1份。
3.根据权利要求1所述的光学元件的高效清洗工艺,其特征在于:所述的步骤3)中的碱性溶液A按照重量份计,包含以下组分:氢氧化钠5-10份、氢氧化钾3-5份、EDTA四钠1-3份、烷基糖苷1-3份、聚乙烯吡咯烷酮1-3份、甘氨酸0.5-1份、椰油酰二乙醇胺1-2份、葡萄糖酸钠0.5-1份、2,4-二羟基二苯砜0.1-0.3份、1-乙基-3-甲基咪唑乳酸0.1-0.3份。
4.根据权利要求1所述的光学元件的高效清洗工艺,其特征在于:所述的步骤5)中的碱性溶液B为碳酸钠水溶液。
5.根据权利要求1所述的光学元件的高效清洗工艺,其特征在于:所述的超声波清洗机的清洗槽内设置有安装清洗篮的支架,支架固定在转盘上,转盘驱动支架正转3-5s后反转3-5s,如此往复。
6.根据权利要求1所述的光学元件的高效清洗工艺,其特征在于:所述超声波清洗机的超声波功率为1200W,从前至后清洗槽内的频率为 分别为25KHZ、50KHz、70KHz、100KHz、120KHz、150KHz、200KHz。
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