CN113210349A - 光学元件的高效清洗工艺 - Google Patents

光学元件的高效清洗工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN113210349A
CN113210349A CN202110506808.7A CN202110506808A CN113210349A CN 113210349 A CN113210349 A CN 113210349A CN 202110506808 A CN202110506808 A CN 202110506808A CN 113210349 A CN113210349 A CN 113210349A
Authority
CN
China
Prior art keywords
cleaning
optical element
parts
ultrasonic
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202110506808.7A
Other languages
English (en)
Inventor
陈吕勇
马登超
步雪斌
阎国安
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nantong Ruijing Photoelectric Technology Co ltd
Original Assignee
Nantong Ruijing Photoelectric Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nantong Ruijing Photoelectric Technology Co ltd filed Critical Nantong Ruijing Photoelectric Technology Co ltd
Priority to CN202110506808.7A priority Critical patent/CN113210349A/zh
Publication of CN113210349A publication Critical patent/CN113210349A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/045—Cleaning involving contact with liquid using perforated containers, e.g. baskets, or racks immersed and agitated in a liquid bath
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

本发明公开了光学元件的高效清洗工艺，采用超声波清洗设备进行清洗，将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后，后脱水干燥，具体步骤如下：1）在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物，清洗90‑150s；2）经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入清水槽，清洗60‑90s；3）在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A；清洗90‑150s；4）清水漂洗；5）在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B；清洗90‑150s；6）清水漂洗；7）将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。本发明具有的清洗时间短，清洗效果好和生产效率高等特点。

Description

光学元件的高效清洗工艺
技术领域
本发明涉及光学元件生产技术领域，具体涉及光学元件的高效清洗工艺。
背景技术
光学镜头是及其视觉***中必不可少的部件，清洗工艺也是必不可少的一个条件，必须达到对产品的清洗不留下任何污垢和杂质，还必须保证产品不会有任何的损伤。
在光学加工中，元件污染主要来源于研磨(粉)液残留，手指印及少量脂肪类油。如CeO2(二氧化铈) 为主要成分的研磨粉是不会对镜片构成腐蚀的，但在进行研磨加工时，研磨液是由水加研磨粉配制而成，因此新配制的研磨液的初始 pH 值是由水和研磨粉的酸碱性共同决定的，一般呈碱性 (pH ＞ 7)。清洗元件上油脂类污染主要是在其他溶剂进行乳化、分解之后的残留，因此通过与碱反应生成可溶于水的肥皂和甘油，可将其除去。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种光学元件的高效清洗工艺，具有的清洗时间短，清洗效果好和生产效率高等特点。
为解决上述技术问题，本发明采取如下技术方案：光学元件的高效清洗工艺，采用超声波清洗设备进行清洗，其特征在于：将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后，后脱水干燥，具体步骤如下：
1）在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物，并通过加热使清洗剂组合物温度保持在55- 65℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗90-150s；
2）经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽，第二个清洗槽内加入纯水，在40-50℃温度条件下，清洗60-90s；
3）在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A；并通过加热使碱性溶A温度保持在45- 55℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗90-150s；
4）经过碱液清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第四个清洗槽，以纯水作为清洗介质，在40-50℃温度条件下，清洗时间为60-90s；
5）在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B；并通过加热使碱性溶液B温度保持在30- 45℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗90-150s；
6）以清水作为清洗介质，在20-30℃温度条件下，实施清水漂洗，所述清洗时间为60-90s；
7）将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。
进一步地，所述的步骤1）中的清洗剂组合物按照重量份计，包含以下组分：氢氧化钠 1-5份、焦磷酸钠1-3份、二丙二醇甲醚2-6份、五水偏硅酸钠0.5-1份、十二烷基苯磺酸钠0.5-1份、乙氧基化烷基硫酸钠0.5-1份。
进一步地，所述的步骤3）中的碱性溶液A按照重量份计，包含以下组分：氢氧化钠5-10份、氢氧化钾3-5份、EDTA四钠1-3份、烷基糖苷1-3、聚乙烯吡咯烷酮1-3份、甘氨酸0.5-1份、椰油酰二乙醇胺1-2份、葡萄糖酸钠0.5-1份、2，4-二羟基二苯砜0.1-0.3份、1-乙基-3-甲基咪唑乳酸0.1-0.3份。
进一步地，所述的步骤5）中的碱性溶液B为碳酸钠水溶液。
进一步地，所述的超声波清洗机的清洗槽内设置有安装清洗篮的支架，支架固定在转盘上，转盘驱动支架正转3-5s后反转3-5s，如此往复。
进一步地，所述超声波清洗机的超声波功率为1200W，从前至后清洗槽内的频率为分别为25KHZ、50KHz、70KHz、100KHz、120KHz、150KHz、200KHz。
本发明的有益效果为：本发明具有的清洗时间短，清洗效果好和生产效率高等特点，而且还可以节约用水，减少对环境的污染。
具体实施方式
下面将通过具体实施方式对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述。
实施例1
本发明的光学元件的高效清洗工艺，采用超声波清洗设备进行清洗，将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后，后脱水干燥，具体步骤如下：
1）在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物，并通过加热使清洗剂组合物温度保持在55℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗90s；清洗剂组合物按照重量份计，包含以下组分：氢氧化钠 1份、焦磷酸钠1份、二丙二醇甲醚2份、五水偏硅酸钠0.5份、十二烷基苯磺酸钠 0.5份、乙氧基化烷基硫酸钠0.5份。
2）经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽，第二个清洗槽内加入纯水，在40℃温度条件下，清洗60s；
3）在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A；并通过加热使碱性溶A温度保持在45℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗90s；碱性溶液A按照重量份计，包含以下组分：氢氧化钠5份、氢氧化钾3份、EDTA四钠1份、烷基糖苷1、聚乙烯吡咯烷酮1份、甘氨酸0.5份、椰油酰二乙醇胺1份、葡萄糖酸钠0.5份、2，4-二羟基二苯砜0.1份、1-乙基-3-甲基咪唑乳酸0.1份。
4）经过碱液清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第四个清洗槽，以纯水作为清洗介质，在40℃温度条件下，清洗时间为60s；
5）在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B；并通过加热使碱性溶液B温度保持在30℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗90s；碱性溶液B为碳酸钠水溶液。
6）以清水作为清洗介质，在20℃温度条件下，实施清水漂洗，所述清洗时间为60s；
7）将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。
本发明在超声波清洗机的清洗槽内设置有安装清洗篮的支架，支架固定在转盘上，转盘驱动支架正转3s后反转3s，如此往复。超声波清洗机的超声波功率为1200W，从前至后清洗槽内的频率为 分别为25KHZ、50KHz、70KHz、100KHz、120KHz、150KHz、200KHz。
实施例2
本发明的光学元件的高效清洗工艺，采用超声波清洗设备进行清洗，将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后，后脱水干燥，具体步骤如下：
1）在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物，并通过加热使清洗剂组合物温度保持在60℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗120s；清洗剂组合物按照重量份计，包含以下组分：氢氧化钠 3份、焦磷酸钠2份、二丙二醇甲醚4份、五水偏硅酸钠0.8份、十二烷基苯磺酸钠 0.8份、乙氧基化烷基硫酸钠0.8份。
2）经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽，第二个清洗槽内加入纯水，在45℃温度条件下，清洗80s；
3）在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A；并通过加热使碱性溶A温度保持在50℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗120s；碱性溶液A按照重量份计，包含以下组分：氢氧化钠6份、氢氧化钾4份、EDTA四钠2份、烷基糖苷2份、聚乙烯吡咯烷酮2份、甘氨酸0.8份、椰油酰二乙醇胺1.5份、葡萄糖酸钠0.8份、2，4-二羟基二苯砜0.2份、1-乙基-3-甲基咪唑乳酸0.2份。
4）经过碱液清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第四个清洗槽，以纯水作为清洗介质，在45℃温度条件下，清洗时间为75s；
5）在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B；并通过加热使碱性溶液B温度保持在35℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗120s；碱性溶液B为碳酸钠水溶液。
6）以清水作为清洗介质，在25℃温度条件下，实施清水漂洗，所述清洗时间为 60-90s；
7）将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。
本发明在超声波清洗机的清洗槽内设置有安装清洗篮的支架，支架固定在转盘上，转盘驱动支架正转4s后反转4s，如此往复。超声波清洗机的超声波功率为1200W，从前至后清洗槽内的频率为 分别为25KHZ、50KHz、70KHz、100KHz、120KHz、150KHz、200KHz。
实施例3
本发明的光学元件的高效清洗工艺，采用超声波清洗设备进行清洗，将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后，后脱水干燥，具体步骤如下：
1）在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物，并通过加热使清洗剂组合物温度保持在65℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗150s；清洗剂组合物按照重量份计，包含以下组分：氢氧化钠5份、焦磷酸钠3份、二丙二醇甲醚6份、五水偏硅酸钠1份、十二烷基苯磺酸钠1份、乙氧基化烷基硫酸钠1份。
2）经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽，第二个清洗槽内加入纯水，在50℃温度条件下，清洗90s；
3）在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A；并通过加热使碱性溶A温度保持在55℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗150s；碱性溶液A按照重量份计，包含以下组分：氢氧化钠10份、氢氧化钾5份、EDTA四钠3份、烷基糖苷3、聚乙烯吡咯烷酮1-3份、甘氨酸1份、椰油酰二乙醇胺2份、葡萄糖酸钠1份、2，4-二羟基二苯砜0.3份、1-乙基-3-甲基咪唑乳酸0.3份。
4）经过碱液清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第四个清洗槽，以纯水作为清洗介质，在50℃温度条件下，清洗时间为90s；
5）在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B；并通过加热使碱性溶液B温度保持45℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗150s；碱性溶液B为碳酸钠水溶液。
6）以清水作为清洗介质，在30℃温度条件下，实施清水漂洗，所述清洗时间为90s；
7）将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。
本发明在超声波清洗机的清洗槽内设置有安装清洗篮的支架，支架固定在转盘上，转盘驱动支架正转5s后反转5s，如此往复。超声波清洗机的超声波功率为1200W，从前至后清洗槽内的频率为 分别为25KHZ、50KHz、70KHz、100KHz、120KHz、150KHz、200KHz。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，不用于限制本发明，本领域技术人员可以在本发明的实质和保护范围内，对本发明做出各种修改或等同替换，这种修改或等同替换也应视为落在本发明技术方案的保护范围内。

Claims (6)

1.光学元件的高效清洗工艺，采用超声波清洗设备进行清洗，其特征在于：将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后，后脱水干燥，具体步骤如下：
1）在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物，并通过加热使清洗剂组合物温度保持在55- 65℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗90-150s；
2）经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽，第二个清洗槽内加入纯水，在40-50℃温度条件下，清洗60-90s；
3）在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A；并通过加热使碱性溶A温度保持在45- 55℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗90-150s；
4）经过碱液清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第四个清洗槽，以纯水作为清洗介质，在40-50℃温度条件下，清洗时间为60-90s；
5）在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B；并通过加热使碱性溶液B温度保持在30- 45℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗90-150s；
6）以清水作为清洗介质，在20-30℃温度条件下，实施清水漂洗，所述清洗时间为 60-90s；
7）将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。
2.根据权利要求1所述的光学元件的高效清洗工艺，其特征在于：所述的步骤1）中的清洗剂组合物按照重量份计，包含以下组分：氢氧化钠 1-5份、焦磷酸钠1-3份、二丙二醇甲醚2-6份、五水偏硅酸钠0.5-1份、十二烷基苯磺酸钠 0.5-1份、乙氧基化烷基硫酸钠0.5-1份。
3.根据权利要求1所述的光学元件的高效清洗工艺，其特征在于：所述的步骤3）中的碱性溶液A按照重量份计，包含以下组分：氢氧化钠5-10份、氢氧化钾3-5份、EDTA四钠1-3份、烷基糖苷1-3份、聚乙烯吡咯烷酮1-3份、甘氨酸0.5-1份、椰油酰二乙醇胺1-2份、葡萄糖酸钠0.5-1份、2，4-二羟基二苯砜0.1-0.3份、1-乙基-3-甲基咪唑乳酸0.1-0.3份。
4.根据权利要求1所述的光学元件的高效清洗工艺，其特征在于：所述的步骤5）中的碱性溶液B为碳酸钠水溶液。
5.根据权利要求1所述的光学元件的高效清洗工艺，其特征在于：所述的超声波清洗机的清洗槽内设置有安装清洗篮的支架，支架固定在转盘上，转盘驱动支架正转3-5s后反转3-5s，如此往复。
6.根据权利要求1所述的光学元件的高效清洗工艺，其特征在于：所述超声波清洗机的超声波功率为1200W，从前至后清洗槽内的频率为 分别为25KHZ、50KHz、70KHz、100KHz、120KHz、150KHz、200KHz。
CN202110506808.7A 2021-05-10 2021-05-10 光学元件的高效清洗工艺 Pending CN113210349A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110506808.7A CN113210349A (zh) 2021-05-10 2021-05-10 光学元件的高效清洗工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110506808.7A CN113210349A (zh) 2021-05-10 2021-05-10 光学元件的高效清洗工艺

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN113210349A true CN113210349A (zh) 2021-08-06

Family

ID=77094254

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110506808.7A Pending CN113210349A (zh) 2021-05-10 2021-05-10 光学元件的高效清洗工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113210349A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114247699A (zh) * 2021-12-13 2022-03-29 安徽光智科技有限公司 晶振片超声波脱膜方法
CN114558837A (zh) * 2022-02-23 2022-05-31 惠州市飞世尔实业有限公司 一种LCD Panel清洗方法及清洗设备
CN114733845A (zh) * 2022-04-25 2022-07-12 安徽光智科技有限公司 一种涂墨镜片的超声波清洗工艺

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101767097A (zh) * 2009-12-25 2010-07-07 常州市好利莱光电科技有限公司 光学透镜圆柱坯料粘合平切片的清洗方法
CN102029272A (zh) * 2010-11-10 2011-04-27 江苏淘镜有限公司 一种光学镜片的洗液方法
CN102102050A (zh) * 2009-12-22 2011-06-22 江西凤凰富士能光学有限公司 光学元件清洗剂及其清洗方法
CN102412172A (zh) * 2011-11-01 2012-04-11 浙江光益硅业科技有限公司 切割、研磨硅片表面清洗方法
CN104178816A (zh) * 2014-08-08 2014-12-03 蓝思科技股份有限公司 一种蓝宝石晶片褪镀工艺
CN106216308A (zh) * 2016-08-08 2016-12-14 泉州市三星消防设备有限公司 一种抛光后的光学零件的清洗方法
CN109585272A (zh) * 2018-11-29 2019-04-05 扬州荣德新能源科技有限公司 一种提高光电效率的硅片清洗方法
CN111286742A (zh) * 2020-04-03 2020-06-16 德阳天和机械制造有限责任公司 一种金属铸件的机械加工方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102102050A (zh) * 2009-12-22 2011-06-22 江西凤凰富士能光学有限公司 光学元件清洗剂及其清洗方法
CN101767097A (zh) * 2009-12-25 2010-07-07 常州市好利莱光电科技有限公司 光学透镜圆柱坯料粘合平切片的清洗方法
CN102029272A (zh) * 2010-11-10 2011-04-27 江苏淘镜有限公司 一种光学镜片的洗液方法
CN102412172A (zh) * 2011-11-01 2012-04-11 浙江光益硅业科技有限公司 切割、研磨硅片表面清洗方法
CN104178816A (zh) * 2014-08-08 2014-12-03 蓝思科技股份有限公司 一种蓝宝石晶片褪镀工艺
CN106216308A (zh) * 2016-08-08 2016-12-14 泉州市三星消防设备有限公司 一种抛光后的光学零件的清洗方法
CN109585272A (zh) * 2018-11-29 2019-04-05 扬州荣德新能源科技有限公司 一种提高光电效率的硅片清洗方法
CN111286742A (zh) * 2020-04-03 2020-06-16 德阳天和机械制造有限责任公司 一种金属铸件的机械加工方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114247699A (zh) * 2021-12-13 2022-03-29 安徽光智科技有限公司 晶振片超声波脱膜方法
CN114558837A (zh) * 2022-02-23 2022-05-31 惠州市飞世尔实业有限公司 一种LCD Panel清洗方法及清洗设备
CN114733845A (zh) * 2022-04-25 2022-07-12 安徽光智科技有限公司 一种涂墨镜片的超声波清洗工艺

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN113210349A (zh) 光学元件的高效清洗工艺
CN101709476B (zh) 铝或铝工件连续碱洗去除毛刺及表面钝化保护的生产方法及设备
CN104745327B (zh) 一种水性光学镜片清洗、脱膜剂及其制备和使用方法
CN104695003A (zh) 金属快速除垢清洗方法及用于金属快速除垢清洗剂
JP2018104752A (ja) 鋼板用洗浄剤組成物
CN104152934A (zh) 复合皂化碳氢清洗工艺
CN101096619A (zh) 一种陶瓷清洗液
CN103952246A (zh) 一种用于太阳能硅片制造的清洗液
CN102151669A (zh) 太阳能硅电池镀膜片碎料的处理方法
CN103170467B (zh) 铸锭循环料清洁处理方法
CN109321921A (zh) 一种汽车模具pvd用的退镀液及其制备方法
CN107221581B (zh) 一种黑硅制绒清洗机及其工艺
CN105521958A (zh) 一种单晶硅片的清洗方法
CN108587800A (zh) 一种手机塑胶机壳镭雕后残渣的清洗方法
CN104028503B (zh) 硅原材料的清洗方法
CN108080332A (zh) 一种镜片的洗净工艺
CN101691650B (zh) 一种真空电镀用脱脂剂
CN113214915A (zh) 一种除油剂及制备方法
CN106554858A (zh) 一种汽车内装饰件表面污渍清洗剂
CN112410723A (zh) 一种锯片pvd涂层前清洗方法
CN108179427A (zh) 一种机械零件的清洗方法
CN101289640A (zh) 晶圆研磨用清洗剂
CN108018135A (zh) 一种镜片专用清洗液及其洗液方法
CN106694497A (zh) 一种用于干膜/阻焊油墨的显影槽的清洗工艺
CN103701423A (zh) 石英晶体频率片清洗工艺

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20210806