CN113130556A - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

实施方式涉及一种显示装置，该显示装置包括：基板，该基板包括其中布置有像素的显示区域和其中布置有伪图案的非显示区域，该非显示区域围绕显示区域；发射层，该发射层形成在像素和伪图案中；以及堤部，该堤部围绕发射层，其中，在非显示区域中，堤部包括从堤部的侧面突出至伪图案中的多个突出部。

Description

显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求于2019年12月31日提交的韩国专利申请第10-2019-0179718号的优先权，该韩国专利申请的全部内容出于所有目的通过该引用并入本文中。
技术领域
本公开内容涉及显示装置。
背景技术
随着信息社会的发展，已经开发了各种类型的显示装置。近年来，已经使用了诸如液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)和有机发光二极管(OLED)显示器的各种显示装置。
构成有机发光二极管显示器的有机发光元件是自发光的并且不需要单独的光源，使得显示装置的厚度和重量减小。另外，有机发光二极管显示器具有高质量特性，例如低功耗、高亮度和高响应速率。
近来，已经开发了用于通过使用喷墨设备等的溶液工艺(solution process)形成有机发光元件的发射层的技术。通过在设定区域中施加用于形成发射层的溶液并且然后对该溶液进行干燥来执行溶液工艺。此处，由于在外部处出现的溶液的去湿(dewetting)，发射层可能不会在形成在外部处的像素中适当地形成，这可能导致像素缺陷。
前述内容仅旨在帮助理解本公开内容的背景，而非旨在意指本公开内容落入对于本领域技术人员而言已知的相关技术的范围内。
发明内容
本公开内容的实施方式提供了一种显示装置，该显示装置被配置成使得通过溶液工艺形成的像素均匀地发光。
另外，本公开内容的实施方式提供了一种显示装置，其中，将被施加溶液的区域的外部设置为伪区域，并且防止伪区域中的去湿，从而增强来自像素的光的发射的均匀性。
根据实施方式，提供了一种显示装置，该显示装置包括：基板，该基板包括其中布置有像素的显示区域和其中布置有伪图案的非显示区域，该非显示区域围绕显示区域；发射层，该发射层形成在像素和伪图案中；以及堤部，该堤部围绕发射层，其中，在非显示区域中，堤部包括从堤部的侧面突出至伪图案中的多个突出部。
突出部中的每一个可以包括：第一倾斜侧面；以及第二倾斜侧面，与第一倾斜侧面相比，该第二倾斜侧面被设置成更远离显示区域。第一倾斜侧面可以从堤部的侧面延伸以与堤部的侧面形成钝角，并且第二倾斜侧面可以从堤部的侧面延伸以与堤部的侧面形成锐角或直角。
堤部可以包括：具有亲水性的第一堤部；以及第二堤部，该第二堤部形成在第一堤部上，并且设置有具有疏水性的至少一个区域。
突出部中的每一个可以包括：从第一堤部延伸的延伸部分；以及从第二堤部延伸的延伸部分。
突出部中的每一个可以包括具有亲水性的第三堤部，并且第三堤部的厚度被形成为大于第一堤部的厚度。
突出部中的每一个还可以包括形成在第三堤部上的第二堤部。
第三堤部可以形成为覆盖第一堤部的在其上未形成有第二堤部的上表面的至少一部分，并且与第二堤部的侧面接触。
显示区域中的堤部的厚度被形成为大于非显示区域中的堤部的厚度。
非显示区域中的第一堤部的厚度被形成为等于或大于显示区域中的第一堤部的厚度。
在显示区域中，第一堤部可以设置在显示区域的像素列之间以及显示区域的像素行之间，以及在显示区域中，第二堤部可以设置在像素列之间的第一堤部上。
伪图案中的每一个可以具有从相邻的像素行或相邻的像素列延伸的条的形状。
对于每个像素列，发射层可以在该像素列以及与该像素列相邻的伪图案中一体地形成。
中心区域中的发射层的厚度小于与堤部相邻的边缘区域中的发射层的厚度。
显示装置还可以包括：针对显示区域中的像素中的每一个的阳极电极，阳极电极设置在发射层下方；以及阴极电极，该阴极电极形成在发射层和堤部上。
根据实施方式，显示装置可以增强来自形成在相同像素列中的像素的光发射的均匀性。
附图说明
结合附图，根据以下详细描述，将更清楚地理解本公开内容的上述目的及其他目的、特征、以及其他优点，在附图中：
图1是示出根据实施方式的显示装置的配置的框图；
图2是示出图1所示的像素的实施方式的电路图；
图3是图1所示的显示面板的示意性透视图；
图4是根据实施方式的显示区域和非显示区域的示意性局部放大平面图；
图5是沿图4的线I-I'截取的截面图；
图6是根据第一实施方式的显示面板的平面图；
图7是沿图6的线II-II'截取的截面图；
图8是沿图6的线III-III'截取的截面图；
图9是根据第二实施方式的显示面板的平面图；
图10是根据第三实施方式的显示面板的平面图；
图11是沿图10的线IV-IV'截取的截面图；
图12是沿图10的线V-V'截取的截面图；
图13是根据第四实施方式的显示面板的平面图；
图14是沿图13的线VI-VI'截取的截面图；
图15是沿图13的线VII-VII'截取的截面图；
图16是根据实施方式的显示面板的平面图；
图17是沿图16的线VIII-VIII'截取的截面图；以及
图18是沿图16的线VIIII-VIIII'截取的截面图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图来描述实施方式。在说明书中，当元件(区域、层、部分等)被称为在另一元件“上”、“耦接至”另一元件或“与”另一元件“组合”时，该元件可以直接在另一元件上/耦接至另一元件/与另一元件组合，或者在它们之间可以存在中间元件。
相同的附图标记指代相同的元件。在附图中，为了有效地描述技术细节，放大了元件的厚度、比率和尺寸。术语“和/或(以及/或者)”包括关联的元素可以限定的一个或更多个组合。
术语“第一”、“第二”等可以用于描述各种元件，但是这些元件不被解释为受限于这些术语。这些术语仅用于将一个元件与其他元件区分开。例如，在不脱离实施方式的范围的情况下，“第一”元件可以被命名为“第二”元件，并且“第二”元件也可以类似地被命名为“第一”元件。如本文所使用的，除非上下文另外明确指示，否则单数形式“一”、“一个”和“该”也旨在包括复数形式。
术语“在……下”、“在……下方”、“在……上”、“在……上方”等在本文中用于描述附图中示出的一个或更多个元件之间的关系。这些术语是相对概念，并且是基于附图中的方向来描述的。
应当理解，诸如“包括”、“具有”等的术语旨在指示说明书中所公开的特征、数目、步骤、动作、元件、部件或它们的组合的存在，而非旨在排除可以存在或者可以添加一个或更多个其他特征、数目、步骤、动作、元件、部件或它们的组合的可能性。
图1是示出根据实施方式的显示装置的配置的框图。
参照图1，显示装置1包括时序控制器10、栅极驱动器20、数据驱动器30、电源40和显示面板50。
时序控制器10可以从外部接收图像信号RGB和控制信号CS。图像信号RGB可以包括灰度数据。控制信号CS可以包括例如水平同步信号、垂直同步信号和主时钟信号。
时序控制器10可以对图像信号RGB和控制信号CS进行处理以使这些信号适合于显示面板50的操作条件，使得时序控制器10可以生成并输出图像数据DATA、栅极驱动控制信号CONT1、数据驱动控制信号CONT2和电源控制信号CONT3。
栅极驱动器20可以通过多个栅极线GL1至GLn连接至显示面板50的像素PX。栅极驱动器20可以基于从时序控制器10输出的栅极驱动控制信号CONT1来生成栅极信号。栅极驱动器20可以通过多个栅极线GL1至GLn将所生成的栅极信号提供至像素PX。
数据驱动器30可以通过多个数据线DL1至DLm连接至显示面板50的像素PX。数据驱动器30可以基于从时序控制器10输出的图像数据DATA和数据驱动控制信号CONT2来生成数据信号。数据驱动器30可以通过多个数据线DL1至DLm将所生成的数据信号提供至像素PX。
在各种实施方式中，数据驱动器30还可以通过多个感测线(或参考线)连接至显示面板50的像素PX。数据驱动器30可以通过多个感测线向像素PX提供参考电压(感测电压或初始化电压)，或者可以基于从像素PX反馈的电信号来感测像素PX的状态。
电源40可以通过多个电力线PL1和PL2连接至显示面板50的像素PX。电源40可以基于电源控制信号CONT3来生成要提供至显示面板50的驱动电压。驱动电压可以包括例如高电位驱动电压ELVDD和低电位驱动电压ELVSS。电源40可以通过相应的电力线PL1和PL2向像素PX提供所生成的驱动电压ELVDD和ELVSS。
在显示面板50中，布置有多个像素PX(或者被称为子像素)。像素PX可以例如以矩阵形式布置在显示面板50上。
像素PX中的每一个可以电连接至相应的栅极线和相应的数据线。这样的像素PX可以发射具有与分别通过栅极线GL1至GLn和数据线DL1至DLm供应的栅极信号和数据信号对应的亮度的光。
每个像素PX可以显示第一颜色至第三颜色中的任意一种。在实施方式中，每个像素PX可以显示红色、绿色和蓝色中的任意一种。在另一实施方式中，每个像素PX可以显示青色、品红色和黄色中的任意一种。在各种实施方式中，像素PX可以被配置成显示四种或更多种颜色中的任意一种。例如，每个像素PX可以显示红色、绿色、蓝色和白色中的任意一种。
时序控制器10、栅极驱动器20、数据驱动器30和电源40可以被配置为单独的集成电路(IC)或者其中集成有时序控制器10、栅极驱动器20、数据驱动器30和电源40中的至少一些的IC。例如，数据驱动器30和电源40中的至少一个可以被配置为与时序控制器10集成的集成电路。
另外，在图1中，栅极驱动器20和数据驱动器30被示出为与显示面板50分开的元件，但是栅极驱动器20和数据驱动器30中的至少一个可以按与显示面板50整体地形成的面板内方式被配置。例如，栅极驱动器20可以根据面板内栅极(GIP)方式与显示面板50整体地形成。
图2是示出图1所示的像素的实施方式的电路图。作为示例，图2示出了连接至第i个栅极线GLi和第j个数据线DLj的像素PXij。
参照图2，像素PXij包括开关晶体管ST、驱动晶体管DT、存储电容器Cst和发光元件LD。
开关晶体管ST的第一电极(例如，源电极)电连接至第j个数据线DLj，并且开关晶体管ST的第二电极(例如，漏电极)电连接至第一节点N1。开关晶体管ST的栅电极电连接至第i个栅极线GLi。当通过第i个栅极线GLi被施加处于栅极导通电平的栅极信号时，开关晶体管ST导通，并且通过第j个数据线DLj施加的数据信号发送至第一节点N1。
存储电容器Cst的第一电极电连接至第一节点N1，并且存储电容器Cst的第二电极接收高电位驱动电压ELVDD。存储电容器Cst可以充加有与施加至第一节点N1的电压与高电位驱动电压ELVDD之间的差对应的电压。
驱动晶体管DT的第一电极(例如，源电极)接收高电位驱动电压ELVDD，并且驱动晶体管DT的第二电极(例如，漏电极)电连接至发光元件LD的第一电极(例如，阳极电极)。驱动晶体管DT的栅电极电连接至第一节点N1。当通过第一节点N1被施加处于栅极导通电平的电压时，驱动晶体管DT导通，并且可以根据施加至栅电极的电压来控制流向发光元件LD的驱动电流的量。
发光元件LD输出与驱动电流对应的光。发光元件LD可以输出与红色、绿色、蓝色和白色中的任意一种对应的光。发光元件LD可以是具有在微米至纳米级范围内的尺寸的超小型无机发光二极管或有机发光二极管(OLED)，但是本实施方式不限于此。在下文中，将参照其中发光元件LD是有机发光二极管的实施方式来描述本实施方式的技术理念。
在本实施方式中，像素PXij的结构不限于图2所示的结构。根据实施方式，像素PXij还可以包括至少一个元件，上述至少一个元件用于对驱动晶体管DT的阈值电压进行补偿或者对驱动晶体管DT的栅电极的电压和/或发光元件LD的阳极电极的电压进行初始化。
图2示出了其中开关晶体管ST和驱动晶体管DT是NMOS晶体管的示例，但是本实施方式不限于此。例如，构成每个像素PXij的晶体管中的至少一些或全部可以被配置为PMOS晶体管。在各种实施方式中，开关晶体管ST和驱动晶体管DT中的每一个可以被实现为低温多晶硅(LTPS)薄膜晶体管、氧化物薄膜晶体管或低温多晶氧化物(LTPO)薄膜晶体管。
图3是图1所示的显示面板的示意性透视图。
参照图3以及图1和图2，将更详细地描述显示装置1的元件。
显示装置1可以按各种形状实现。例如，显示装置1可以按矩形板的形状实现。然而，本实施方式不限于此。显示装置1可以按例如正方形、圆形、椭圆形、多边形等的各种形状设置。显示装置1可以具有下述形状：其中边缘的一部分要被加工成曲面或者至少一个区域中的厚度发生改变。另外，显示装置1的全部或一部分可以具有柔性。
显示面板50可以包括显示区域AA和非显示区域NDA。显示区域AA是其中布置有像素PX的区域，并且可以被称为有源区域。非显示区域NDA可以与显示区域AA相邻设置。例如，非显示区域NDA可以沿显示区域AA的边界设置。非显示区域NDA可以综合地指代显示面板50上的除显示区域AA以外的区域，并且可以被称为非有源区域。
在非显示区域NDA中，例如，栅极驱动器20可以被设置作为用于驱动像素PX的驱动器。在非显示区域NDA中，栅极驱动器20可以设置成与显示区域AA的一侧或两侧相邻。栅极驱动器20可以如图3所示的那样按面板内栅极方式形成在显示面板50的非显示区域NDA中。然而，在另一实施方式中，栅极驱动器20可以被制造为驱动器IC，并且因此可以被安装在柔性膜等上，并且可以按带式自动接合(TAB)方式附接至非显示区域NDA。
在非显示区域NDA中，可以设置多个焊盘(未示出)。焊盘可以不被绝缘层覆盖，而是可以暴露于显示面板50的外部并且可以电连接至稍后将描述的数据驱动器30、电路板70等。
显示面板50可以包括用于将电信号供应至像素PX的配线。配线可以包括例如栅极线GL1至GLn、数据线DL1至DLm、以及电力线PL1和PL2。
电力线PL1和PL2可以通过所连接的焊盘电连接至电源40(或时序控制器10)，并且可以向像素PX提供从电源40(或时序控制器10)提供的高电位驱动电压ELVDD和低电位驱动电压ELVSS。
柔性膜60设置有附接至显示面板50的焊盘区域PA的第一端部，并且设置有附接至电路板70的第二端部，使得显示面板50和电路板70可以电连接。柔性膜60可以包括用于将形成在焊盘区域PA中的焊盘与电路板70的配线电连接的多个配线。在实施方式中，柔性膜60可以通过各向异性导电膜(ACF)附接在焊盘上。
在数据驱动器30被制造为驱动器IC的情况下，数据驱动器30可以按膜上芯片(COF)方式或塑料上芯片(COP)方式安装在柔性膜60上。数据驱动器30可以基于从时序控制器10接收的图像数据DATA和数据驱动控制信号CONT2来生成数据信号，并且可以通过所连接的焊盘将所生成的数据信号输出至数据线DL1至DLm。
在电路板70上，可以安装实现为驱动器IC的许多电路。电路板70可以是印刷电路板或柔性印刷电路板，但是电路板70的类型不限于此。
电路板70可以包括以集成电路形式安装的时序控制器10和电源40。图3示出时序控制器10和电源40是单独的元件，但是本实施方式不限于此。也就是说，在各种实施方式中，电源40可以与时序控制器10整体地形成，或者时序控制器10可以被配置成执行电源40的功能。
图4是根据实施方式的显示区域和非显示区域的示意性局部放大平面图。图5是沿图4的线I-I'截取的截面图。
参照图4，像素PX可以在显示区域AA内布置为多个像素行和多个像素列，并且因此可以按矩阵形式设置。在本文中，如图4所示，相同的像素PX被布置在一个像素列中。在一个像素行中，如所示出的，R、G和B像素以该顺序重复地布置(条纹类型(stripe type))。然而，本实施方式不限于所示出的实施方式。在各种实施方式中，在一个像素行中，R、G、B和G像素以该顺序重复地布置(像素排列类型(PenTile type))。
在非显示区域NDA中，布置了伪图案DP。伪图案DP可以与布置在显示区域AA中的像素行和像素列相邻布置。
在所示出的实施方式中，伪图案DP中的每一个被示出为具有从附近的像素行或像素列延伸的条的形状。然而，伪图案DP的形状不限于所示出的形状。伪图案DP可以具有各种形状，例如比像素列或像素行宽的形状，或者具有彼此连接的多个伪图案DP。
在下文中，将描述像素PX和伪图案DP的更详细的结构。
参照图5，基板100是显示面板50的基底构件，并且可以是透光基板。基板100可以是包括玻璃或钢化玻璃的刚性基板，或者可以是由塑料材料制成的柔性基板。
在实施方式中，在基板100上可以形成缓冲层(未示出)。该缓冲层可以防止离子或杂质从基板100扩散，并且可以阻挡湿气渗透。
基板100可以包括显示区域AA和非显示区域NDA。在基板100上的显示区域AA中，可以形成电路元件层和发光元件层。
电路元件层可以包括电路元件(例如，开关晶体管ST、驱动晶体管DT、存储电容器Cst等)和构成像素PXij的信号线。在形成缓冲层的情况下，电路元件层可以形成在缓冲层上。
首先，在基板100上，可以形成有源图案210。有源图案210可以由基于硅的半导体材料或基于氧化物的半导体材料制成。
在有源图案210上，可以形成栅极绝缘层220。在栅极绝缘层220上，可以形成栅电极211。在栅电极211上，可以形成层间绝缘层230。在层间绝缘层230上，可以形成源电极212和漏电极213。源电极212和漏电极213可以通过穿透层间绝缘层230和栅极绝缘层220的接触孔连接至有源图案210。
源电极212、漏电极213、栅电极211以及与它们对应的有源图案210可以构成晶体管T。晶体管T可以是例如驱动晶体管DT或开关晶体管ST。作为示例，图5示出了漏电极213连接至发光元件LD的第一电极261的驱动晶体管DT。
在源电极212和漏电极213上，可以形成钝化层240。钝化层240是用于保护下部元件的绝缘层，并且可以由无机材料或有机材料制成。
在钝化层240上，可以形成外涂层250。外涂层250可以是用于减小下部结构中的台阶差的平坦化膜。
在电路元件层中，还可以形成未示出的诸如各种信号线和电容器的电路元件。信号线可以包括例如参照图1和图2描述的栅极线GL、数据线DL等。
在外涂层250上形成有发光元件层，并且发光元件层包括发光元件LD。发光元件LD包括第一电极261、发射层262和第二电极263。第一电极261可以是阳极电极，并且第二电极263可以是阴极电极。
第一电极261形成在外涂层250上。第一电极261通过穿透外涂层250和钝化层240的通孔连接至晶体管T的漏电极213。
在外涂层250上，还可以形成堤部300。在显示区域AA中，堤部300被形成为覆盖第一电极261的边缘的一部分。
在各种实施方式中，堤部300可以包括具有亲水特性的第一堤部310和具有疏水特性的第二堤部320。在实施方式中，第一堤部310可以按比第二堤部320薄的方式形成，并且可以按比第二堤部320宽的方式形成。通过具有亲水特性的第一堤部310，当通过溶液工艺形成将在稍后描述的发射层262时，用于形成发射层262的溶液可以容易地扩散。
可以在施加作为具有亲水性的有机绝缘材料和诸如氟的疏水材料的混合物的溶液之后，通过光刻工艺以图案形式形成第二堤部320。由于在光刻工艺期间发射的光，诸如氟的疏水材料可以移动至第二堤部320的顶部，并且第二堤部320的顶部可以具有疏水特性。然而，本实施方式不限于此。第二堤部320的整个部分可以形成为具有疏水特性。
在上述实施方式中，第一堤部310可以被安置成围绕像素PX中的每一个，并且第二堤部320可以被安置成围绕像素列中的每一个。
在第一电极261上，形成发射层262。发射层262形成在第一电极261的未被堤部300覆盖的暴露的部分区域上。
在实施方式中，发射层262可以形成在未被第二堤部320覆盖的暴露的第一电极261和暴露的第一堤部310上。也就是说，发射层262可以形成在由第二堤部320限定的像素列区域内。例如，包括能够发射红色光的有机材料的发射层262可以形成在由第二堤部320限定的第一像素列中。包括能够发射绿色光的有机材料的发射层262可以形成在由第二堤部320限定的第二像素列中。包括能够发射蓝色光的有机材料的发射层262可以形成在由第二堤部320限定的第三像素列中。
发射层262可以具有包括光生成层的多层薄膜结构。例如，发射层262可以包括空穴传输层(HTL)、有机发射层和电子传输层(ETL)。另外，发射层262还可以包括空穴注入层(HIL)、空穴阻挡层(HBL)、电子注入层(EIL)和电子阻挡层(EBL)。
在本实施方式中，可以通过使用喷墨设备等的溶液工艺来形成发射层262。特别地，对于布置在同一像素列中的相同颜色的像素PX，发射层262可以通过单个溶液工艺来形成。在本实施方式中，喷墨设备可以通过单个工艺将溶液施加至布置在同一像素列中的像素PX。
当通过溶液工艺来形成发射层262时，由于溶液与堤部300之间的张力，在发射层262的中心区域和与堤部300相邻的边缘区域之间出现厚度差。例如，发射层262可能形成为其中中心部分最薄且与堤部300接触的区域最厚的凹入形状。然而，本实施方式不限于此。也就是说，在各种实施方式中，可以安置用于增强发射层262的厚度的均匀性的结构，并且发射层262可以具有完全均匀的厚度。
第二电极263形成在发射层262和堤部300上。也就是说，第二电极263可以形成为覆盖发射层262和堤部300。
尽管未示出，但是在第二电极263上，可以形成封装层。封装层防止外部湿气渗透至发射层262中。封装层可以由无机绝缘材料制成，或者可以按其中无机绝缘材料和有机绝缘材料交替地堆叠的结构形成，但是不必限于此。
在基板100上的非显示区域NDA中，可以形成电路元件层、发射层262、第二电极263、堤部300和封装层。
电路元件层可以按与形成在显示区域AA中的电路元件层相同的结构并且通过与形成在显示区域AA中的电路元件层相同的单个工艺来形成。然而，在非显示区域NDA中，信号线和电路元件中的至少一些或全部可以不形成在电路元件层中。
在电路元件层的外涂层250上，可以形成堤部300。在非显示区域NDA中，堤部300可以是限定伪图案DP的形状的限定膜。如上面参照图3所描述的，由堤部300限定的伪图案DP可以具有从像素行或像素列延伸的条的形状。
在非显示区域NDA中，堤部300可以被配置成比在显示区域AA中的堤部厚。例如，第一堤部310和第二堤部320中的至少一个在非显示区域NDA中可以比在显示区域AA中厚。
下面将参照附图描述在非显示区域NDA中的堤部300的更详细的结构。
在外涂层250上，还可以形成发射层262。发射层262形成在未被堤部300覆盖的暴露的外涂层250上。也就是说，发射层262可以形成在由堤部300限定的伪图案DP内。
与显示区域AA不同，在非显示区域NDA中，信号线和电路元件中的至少一些或全部未形成在电路元件层中。另外，如所示出的，在伪图案DP中未形成第一电极261。因此，伪图案DP的发射层262不发射光。
发射层262可以通过其中将溶液施加至伪图案DP并且对所施加的溶液进行干燥的溶液工艺来形成。在本文中，伪图案DP的发射层262可以与相应像素列的发射层262通过单个溶液工艺来形成。也就是说，喷墨设备等可以通过单个工艺将溶液施加至布置在一个像素列中的相同颜色的像素PX以及与该像素列相邻设置的伪图案DP。之后，当对所施加的溶液进行干燥时，发射层262以沿像素列方向从像素PX延伸至伪图案DP的形状形成。
如上所述，关于发射层262，由于溶液与堤部300之间的张力，在发射层262的中心区域和与堤部300相邻的边缘区域之间可能出现厚度差。
在发射层262上，可以形成第二电极263和封装层。第二电极263和封装层可以按与形成在显示区域AA中的第二电极263和封装层相同的结构并且与形成在显示区域AA中的第二电极263和封装层通过单个工艺来形成。也就是说，第二电极263和封装层可以按从显示区域AA延伸至非显示区域NDA的结构形成。然而，在各种实施方式中，第二电极263可以不形成在非显示区域NDA中。
在显示面板50的这样的结构中，设置伪图案DP以解决显示区域AA中的像素列的外部与中心部分之间的发光方面的不均衡。如上所述，针对一个像素列，发射层262可以通过单个溶液工艺来形成。当对溶液进行干燥时，可能出现其中溶液从外部开始经历去湿的去湿。当去湿的程度大时，发射层262没有正确地形成在布置在像素列的外部(具体地，像素列的相对端部)处的预定像素中，这可能导致像素缺陷。
为了解决该问题，可以超出像素列区域，将溶液施加至伪图案DP。于是，在伪图案DP中出现去湿，从而可以防止显示区域AA中的像素缺陷。
如果伪图案DP的区域宽，则会有效地防止由去湿导致的像素缺陷。然而，如果伪图案DP的区域过宽，则显示面板50的非显示区域NDA因此也宽，从而难以实现窄边框。另外，如果将伪图案DP的区域设置得窄，则根据干燥环境，去湿扩散至显示区域AA的外部，这可能导致像素缺陷。
在以下实施方式中，提出了非显示区域NDA中的堤部300的结构，其中通过使伪图案DP中的去湿最小化来减小伪图案DP的区域，同时防止由去湿导致的像素缺陷。
图6是根据第一实施方式的显示面板50a的平面图。图7是沿图6的线II-II'截取的截面图。图8是沿图6的线III-III'截取的截面图。
参照图6至图8，在非显示区域NDA中，堤部300限定了沿像素列方向延伸的条的形状的伪图案DP。该堤部300可以包括第一堤部310和第二堤部320。
第一堤部310可以具有亲水特性。例如，第一堤部310可以由诸如氧化硅的无机绝缘材料制成。
在第一实施方式中，第一堤部310可以按比第二堤部320厚(高)的方式来形成，并且可以按比第二堤部320宽的方式来形成。在本实施方式中，在非显示区域NDA中，第一堤部310可以比在显示区域AA中厚。
堤部300可以通过单个工艺形成在显示区域AA和非显示区域NDA中。例如，第一堤部310可以通过光刻工艺以图案形式形成。在本文中，由于第一堤部310在显示区域AA和非显示区域NDA中具有不同的厚度，因此在光刻工艺中应用半色调掩模。
在另一实施方式中，在显示区域AA和非显示区域NDA中具有不同厚度的第一堤部310可以通过单独的工艺形成在显示区域AA和非显示区域NDA中。例如，在显示区域AA中，第一厚度的第一堤部310可以通过光刻工艺来形成。之后，在非显示区域NDA中，第二厚度的第一堤部310可以通过光刻工艺来形成。
第二堤部320形成在第一堤部310上。可以在施加作为具有亲水性的有机绝缘材料和诸如氟的疏水材料的混合物的溶液之后，通过光刻工艺以图案形式形成第二堤部320。由于在光刻工艺期间发射的光，诸如氟的疏水材料可以移动至第二堤部320的顶部，并且因此第二堤部320的顶部可以具有疏水特性。然而，本实施方式不限于此。第二堤部320的整个部分可以形成为具有疏水特性。
第二堤部320可以按在非显示区域NDA中比在显示区域AA中薄的方式形成，并且可以按在非显示区域NDA中比在显示区域AA中窄的方式形成。在实施方式中，第二堤部320可以在显示区域AA和非显示区域NDA中具有相同的厚度，但是不限于此。
在实施方式中，第二堤部320可以通过单个工艺形成在显示区域AA和非显示区域NDA中。例如，第二堤部320可以通过光刻工艺以图案形式形成。
在各种实施方式中，堤部300可以包括从堤部300的侧面突出至伪图案DP中的至少一个突出部PR。每个突出部PR可以具有多面体的形状，例如，五面体、六面体等。在本文中，每个突出部PR可以具有第一倾斜侧面PR1以及与第一倾斜侧面PR相比、被设置成更远离显示区域AA的第二倾斜侧面PR2。
第一倾斜侧面PR1沿X轴方向(X)从堤部300的侧面朝向伪图案DP的内部延伸。在本文中，第一倾斜侧面PR1可以按与堤部300的侧面成钝角的方式安置。也就是说，第一倾斜侧面PR1至少沿显示区域AA的相对方向从堤部300的侧面延伸。第一倾斜侧面PR1与堤部300的侧面之间的角度α可以超过至少90°。
在与第二倾斜侧面PR2相比、被设置成更靠近显示区域AA的第一倾斜侧面PR1被安置成与堤部300的侧面成钝角的情况下，施加至伪图案DP的溶液可以容易地在伪图案的端部的方向(具体地，Y轴方向(Y))上沿第一倾斜侧面PR1移动。也就是说，第一倾斜侧面PR1与堤部300的侧面成钝角，从而不能防止伪图案DP内的溶液在Y轴方向(Y)上扩散。在本文中，溶液扩散的方向可以是伪图案DP延伸的方向。
第二倾斜侧面PR2从堤部300的侧面朝向伪图案DP的内部延伸。在本文中，第二倾斜侧面PR2可以按与堤部300的侧面成锐角或至少成直角的方式安置。也就是说，第二倾斜侧面PR2至少竖直地或沿显示区域AA的相对方向从堤部300的侧面延伸。第二倾斜侧面PR2与堤部300之间的角度β可以等于或小于90°。
在远离显示区域AA设置的第二倾斜侧面PR2被安置成与堤部300的侧面成锐角或直角的情况下，由于第二倾斜侧面PR2，可以限制施加至伪图案DP的溶液沿显示区域AA的方向(具体地，X轴方向(X))的移动。也就是说，第二倾斜侧面PR2与堤部300的侧面成锐角或直角，从而防止了伪图案内的溶液在X轴方向(X)上经历去湿。
在图6至图8所示的第一实施方式中，突出部PR可以大体上具有包括第一倾斜侧面PR1和第二倾斜侧面PR2的三角形的形状。然而，本实施方式不限于此。
图9是根据第二实施方式的显示面板50b的平面图。
如图9的第二实施方式所示，突出部PR可以具有诸如平行四边形等的各种多边形形状。甚至在本实施方式中，与第二倾斜侧面PR2相比、被设置成更靠近显示区域AA的第一倾斜侧面PR1被安置成与堤部300的侧面成钝角。远离显示区域AA设置的第二倾斜侧面PR2被安置成与堤部300的侧面成锐角或至少成直角。
在堤部300包括具有亲水性的第一堤部310和具有疏水性的第二堤部320的情况下，突出部PR可以是第一堤部310和第二堤部320的延伸部分，如图9所示。也就是说，突出部PR可以是第一堤部310和第二堤部320的一部分。在本实施方式中，可以通过对第一堤部310和第二堤部320进行图案化来形成突出部PR。
图10是根据第三实施方式的显示面板50c的平面图。图11是沿图10的线IV-IV'截取的截面图。图12是沿图10的线V-V'截取的截面图。
除了突出部PR的结构不同以外，本公开内容的第三实施方式与参照图6至图8描述的第一实施方式基本相同。因此，与第一实施方式中的元件相同的元件由相同的附图标记表示，并且将省略相同元件的详细描述。
参照图10至图12，在非显示区域NDA中，堤部300包括第一堤部310和第二堤部320。在本实施方式中，第一堤部310在显示区域AA和非显示区域NDA中可以具有相同的厚度。在本实施方式中，第一堤部310可以通过单个工艺形成在显示区域AA和非显示区域NDA中。
堤部300可以包括从堤部300的侧面突出至伪图案DP中的至少一个突出部PR。每个突出部PR可以具有多面体的形状，并且可以包括第一倾斜侧面PR1以及与第一倾斜侧面PR1相比、被设置成更远离显示区域AA的第二倾斜侧面PR2。第一倾斜侧面PR1可以被安置成与堤部300的侧面成钝角，并且第二倾斜侧面PR2可以被安置成与堤部300的侧面成锐角或至少成直角。
在第三实施方式中，突出部PR可以包括具有亲水性的第三堤部330，如图10和图12所示。第三堤部330可以包括与构成堤部300的另一区域的、具有亲水性的第一堤部310相同的材料。在第三实施方式中，第三堤部330可以比第一堤部310厚。
具有不同厚度的第一堤部310和第三堤部330可以通过应用半色调掩模的单个光刻工艺来形成。可替选地，第一堤部310和第三堤部330可以通过单独的工艺来形成。例如，可以在形成第一厚度的第一堤部310之后形成第二厚度的第三堤部330。
在第一堤部310和第三堤部330上形成第二堤部320。在层压第二堤部320的情况下，堤部300可以在所有区域中具有均匀的厚度。为此，第一堤部310上的第二堤部320以比在第三堤部330上的第二堤部320厚的方式形成。
图13是根据第四实施方式的显示面板50d的平面图。图14是沿图13的线VI-VI'截取的截面图。图15是沿图13的线VII-VII'截取的截面图。
除了突出部PR的结构不同以外，本公开内容的第四实施方式与参照图6至图8描述的第一实施方式基本相同。因此，与第一实施方式中的元件相同的元件由相同的附图标记表示，并且将省略相同元件的详细描述。
参照图13至图15，在非显示区域NDA中，堤部300包括第一堤部310和第二堤部320。在本实施方式中，第一堤部310在显示区域AA和非显示区域NDA中可以具有相同的厚度。另外，第二堤部320在显示区域AA和非显示区域NDA中可以具有相同的厚度。在本实施方式中，第一堤部310可以通过单个工艺形成在显示区域AA和非显示区域NDA中。第二堤部320可以通过单个工艺形成在显示区域AA和非显示区域NDA中。
堤部300可以包括从堤部300的侧面突出至伪图案DP中的至少一个突出部PR。每个突出部PR可以具有多面体的形状，并且可以包括第一倾斜侧面PR1以及与第一倾斜侧面PR1相比、被设置成更远离显示区域AA的第二倾斜侧面PR2。第一倾斜侧面PR1可以被安置成与堤部300的侧面成钝角，并且第二倾斜侧面PR2可以被安置成与堤部300的侧面成锐角或至少成直角。
在第四实施方式中，突出部PR可以包括具有亲水性的第三堤部330，如图14和图15所示。第三堤部330可以包括与构成堤部300的另一区域的、具有亲水性的第一堤部310相同的材料。
与第一实施方式不同，在第四实施方式中，突出部PR包括单层堤部。然而，为了有效地防止去湿，突出部PR的高度可以与第一实施方式的突出部PR的高度相同或至少相似。因此，第三堤部330可以形成为具有与包括具有第一堤部310和第二堤部320的多层堤部的另一区域的厚度相同或至少相似的厚度。
在实施方式中，可以通过与第一堤部310和第二堤部320分开的工艺来形成第三堤部330。例如，可以在形成第一堤部310和第二堤部320之后，通过单独的光刻工艺以图案形式形成第三堤部330。在本文中，第二堤部320仅形成在第一堤部310上，并且第三堤部330覆盖第一堤部310的在其上未形成有第二堤部320的暴露的上表面的至少一部分，使得第三堤部330可以与第一堤部310和第二堤部320的侧面接触。
图16是根据实施方式的显示面板50e的平面图。图17是沿图16的线VIII-VIII'截取的截面图。图18是沿图16的线VIIII-VIIII'截取的截面图。
图16至图18示出形成在显示区域AA中的堤部300的更详细的配置。在各种实施方式中，堤部300可以包括具有亲水特性的第一堤部310和具有疏水特性的第二堤部320。在实施方式中，第一堤部310可以按比第二堤部320薄的方式来形成，并且可以按比第二堤部320宽的方式来形成。
可以在施加作为具有亲水性的有机绝缘材料和诸如氟的疏水材料的混合物的溶液之后，通过光刻工艺以图案形式形成第二堤部320。由于在光刻工艺期间发射的光，诸如氟的疏水材料可以移动至第二堤部320的顶部，并且第二堤部320的顶部可以具有疏水特性。然而，本实施方式不限于此。第二堤部320的整个部分可以形成为具有疏水特性。
在各种实施方式中，第一堤部310可以按沿行方向和列方向延伸的网格的形状形成，以限定像素PX中的每一个。也就是说，第一堤部310可以安置在像素列与像素行之间。在本实施方式中，沿着以网格的形状形成的具有亲水性的第一堤部310，可以增强显示区域AA中的溶液沿Y轴方向(Y)和X轴方向(X)的扩散。
第二堤部320形成在第一堤部310上并且形成为沿列方向延伸。也就是说，第二堤部320形成在第一堤部310的沿列方向延伸的区域上。沿列方向形成的具有疏水性的第二堤部320可以防止沿行方向相邻的像素PX之间的溶液的混合。
在实施方式中，第二堤部320可以包括延伸至像素列区域中的一个或更多个延伸部分EX。延伸部分EX可以形成在第一堤部310的沿行方向延伸的区域中。在本实施方式中，第二堤部320可以具有宽度在相邻的延伸部分EX之间变窄的瓶颈的形状。当通过将溶液施加至由第二堤部320围绕的区域来形成发射层262时，发射层262具有与第二堤部320的形状对应的瓶颈的形状。
本领域技术人员将理解，在不改变本公开内容的技术理念或基本特性的情况下，本公开内容可以按其他具体形式来实施。因此，应当理解，上述实施方式在所有方面都是说明性的，而非限制性的。本公开内容的范围由所附权利要求书而不是上述详细描述来表征，并且应当解释为从所附权利要求书及其等同物的含义和范围得到的所有改变或修改都落入本公开内容的范围内。

Claims (14)

1.一种显示装置，包括：
基板，所述基板包括其中布置有像素的显示区域和其中布置有伪图案的非显示区域，所述非显示区域围绕所述显示区域；
发射层，所述发射层形成在所述像素和所述伪图案中；以及
堤部，所述堤部围绕所述发射层，
其中，在所述非显示区域中，所述堤部包括从所述堤部的侧面突出至所述伪图案中的多个突出部。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述突出部中的每一个包括：
第一倾斜侧面；以及
第二倾斜侧面，与所述第一倾斜侧面相比，所述第二倾斜侧面被设置成更远离所述显示区域；
其中，所述第一倾斜侧面从所述堤部的侧面延伸以与所述堤部的侧面形成钝角，并且所述第二倾斜侧面从所述堤部的侧面延伸以与所述堤部的侧面形成锐角或直角。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述堤部包括：
具有亲水性的第一堤部；以及
第二堤部，所述第二堤部形成在所述第一堤部上，并且设置有具有疏水性的至少一个区域。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述突出部中的每一个包括：
从所述第一堤部延伸的延伸部分；以及
从所述第二堤部延伸的延伸部分。
5.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述突出部中的每一个包括具有亲水性的第三堤部，并且
所述第三堤部的厚度形成为大于所述第一堤部的厚度。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述突出部的每一个还包括形成在所述第三堤部上的所述第二堤部。
7.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述第三堤部被形成为覆盖所述第一堤部的在其上未形成有所述第二堤部的上表面的至少一部分，并且与所述第二堤部的侧面接触。
8.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述显示区域中的所述堤部的厚度被形成为大于所述非显示区域中的所述堤部的厚度。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述非显示区域中的所述第一堤部的厚度被形成为等于或大于所述显示区域中的所述第一堤部的厚度。
10.根据权利要求8所述的显示装置，其中，在所述显示区域中，所述第一堤部设置在所述显示区域的像素列之间以及所述显示区域的像素行之间，以及
在所述显示区域中，所述第二堤部设置在所述像素列之间的所述第一堤部上。
11.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述伪图案中的每一个具有从相邻的像素行或相邻的像素列延伸的条的形状。
12.根据权利要求1所述的显示装置，其中，对于每个像素列，所述发射层在该像素列以及与该像素列相邻的伪图案中一体地形成。
13.根据权利要求1所述的显示装置，其中，中心区域中的所述发射层的厚度小于与所述堤部相邻的边缘区域中的所述发射层的厚度。
14.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：
针对所述显示区域中的所述像素中的每一个的阳极电极，所述阳极电极设置在所述发射层下方；以及
阴极电极，所述阴极电极形成在所述发射层和所述堤部上。
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