CN112904465A - 光控制构件、显示装置和制造显示装置的方法 - Google Patents

光控制构件、显示装置和制造显示装置的方法 Download PDF

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吕伦钟
金善一
金渊俊
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Abstract

本公开涉及光控制构件、显示装置和制造显示装置的方法。所述光控制构件包括：光控制基板，包括表面；以及不等边棱镜，设置在所述光控制基板上。所述不等边棱镜包括：第一侧表面，相对于所述光控制基板的所述表面以第一角度延伸；以及第二侧表面，相对于所述光控制基板的所述表面以第二角度延伸，所述第二角度大于所述第一角度。所述光控制构件包括：蚀刻停止件，设置在所述不等边棱镜上；以及至少一个吸收图案，设置在位于所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件上。

Description

光控制构件、显示装置和制造显示装置的方法
相关申请的交叉引用
本申请要求于2019年12月4日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0159646号韩国专利申请的优先权和权益，上述韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本公开涉及光控制构件、显示装置和制造显示装置的方法。
背景技术
显示装置用于显示图像，并且可以包括诸如有机发光显示面板或液晶显示面板的显示面板。
光通过显示装置的显示表面出射的出射角可以是对于观看者的视角。较宽的视角提供了这样的优点，即无论观看者的位置如何，都可以观看显示表面而无失真。然而，例如在显示器用于行驶的车辆的情况下，可能有必要在特定环境中限制视角。为此，可以在显示面板上设置用于控制光出射的角度(例如，视角)的光控制构件。
发明内容
本发明的实施例可以提供能够根据需要容易地控制视角的光控制构件。
本发明的另一实施例可以提供包括能够根据需要容易地控制视角的光控制构件的显示装置。
本发明的又一实施例可以提供制造包括能够根据需要容易地控制视角的光控制构件的显示装置的方法。
根据实施例，一种光控制构件可以包括：光控制基板，包括表面；以及不等边棱镜，设置在所述光控制基板上。所述不等边棱镜可以包括：第一侧表面，相对于所述光控制基板的所述表面以第一角度延伸；以及第二侧表面，相对于所述光控制基板的所述表面以第二角度延伸，所述第二角度大于所述第一角度。所述光控制构件可以包括：蚀刻停止件，设置在所述不等边棱镜上；以及至少一个吸收图案，设置在位于所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件上。
所述蚀刻停止件可以设置在所述不等边棱镜的所述第一侧表面和所述第二侧表面上。
所述蚀刻停止件可以包括树脂。
所述至少一个吸收图案可以与位于所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件直接接触。
所述不等边棱镜的折射率可以为近似1.6，所述蚀刻停止件的折射率可以大于所述不等边棱镜的所述折射率，并且所述蚀刻停止件可以包括氧化铟锡(ITO)、氧化锆(ZrOx)、氧化铪(HfOx)和氧化铝(Al2O3)中的至少一种。
所述不等边棱镜可以包括：第一棱镜部分，与所述光控制基板接触；以及至少一个第二棱镜部分，从所述第一棱镜部分延伸并具有三角形的截面形状。
所述第二棱镜部分的所述截面形状可以包括不等边三角形形状。
所述至少一个第二棱镜部分可以包括多个第二棱镜部分，所述至少一个吸收图案可以包括多个吸收图案，并且所述多个吸收图案可以分别设置在所述多个第二棱镜部分的第二侧表面上。
所述多个吸收图案中的每一者的高度可以是所述多个吸收图案中的相邻的吸收图案之间的间距的近似1.1倍至近似1.4倍。
所述至少一个吸收图案的表面高度可以小于所述蚀刻停止件的表面高度。
设置在所述不等边棱镜的所述第一侧表面上的所述蚀刻停止件的厚度可以等于设置在所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件的厚度。
设置在所述不等边棱镜的所述第一侧表面上的所述蚀刻停止件的厚度可以大于设置在所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件的厚度。
所述蚀刻停止件和所述至少一个吸收图案中的每一者可以包括位于其表面上的突起，并且所述至少一个吸收图案的所述突起的深度可以大于所述蚀刻停止件的所述突起的深度。
根据另一实施例，一种显示装置可以包括：第一基板；发光元件，设置在所述第一基板上；以及光控制构件，设置在所述发光元件上。所述光控制构件可以包括：光控制基板，包括表面；不等边棱镜，设置在所述光控制基板上。所述不等边棱镜可以包括：第一侧表面，相对于所述光控制基板的所述表面以第一角度延伸；以及第二侧表面，相对于所述光控制基板的所述表面以第二角度延伸，所述第二角度大于所述第一角度。所述光控制构件可以包括：蚀刻停止件，设置在所述不等边棱镜上；以及吸收图案，设置在位于所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件上。
所述不等边棱镜可以设置在所述光控制基板和所述发光元件之间，并且所述蚀刻停止件可以设置在所述不等边棱镜和所述发光元件之间。
所述发光元件可以包括：第一电极，设置在所述第一基板上；第二电极，面对所述第一电极；以及发射层，设置在所述第一电极和所述第二电极之间。
所述显示装置还可以包括设置在所述第一电极上并具有开口的堤坝层，其中，所述第一电极的上表面的一部分可以通过所述开口而被暴露，并且所述发射层可以设置在所述开口中。
所述显示装置还可以包括：第二基板，面对所述第一基板并设置在所述发光元件上方。所述第二基板密封所述发光元件，并且所述光控制构件可以设置在所述第二基板上。
所述显示装置还可以包括设置在所述发光元件上方并封装所述发光元件的封装层，其中，所述光控制构件可以设置在所述封装层上。
根据又一实施例，一种制造显示装置的方法可以包括：形成光控制构件；以及将所述光控制构件附接到显示面板。所述形成所述光控制构件可以包括：在基板上形成不等边棱镜，所述不等边棱镜包括相对于所述基板的表面以第一角度延伸的第一侧表面和相对于所述基板的所述表面以第二角度延伸的第二侧表面；在所述不等边棱镜上形成蚀刻停止件；以及在位于所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件上形成吸收图案。
所述第二侧表面的所述第二角度可以大于所述第一侧表面的所述第一角度。
所述不等边棱镜可以包括树脂，并且所述形成所述不等边棱镜可以包括：通过压印来形成所述不等边棱镜。
所述形成所述蚀刻停止件可以包括：通过原子层沉积(ALD)、化学气相沉积(CVD)或溅射来形成所述蚀刻停止件。
所述在位于所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件上形成所述吸收图案可以包括：在所述蚀刻停止件上方形成吸收图案材料；以及干蚀刻以暴露位于所述不等边棱镜的所述第一侧表面上的所述蚀刻停止件。
应当注意，本公开不限于上述方面，并且根据以下描述，本公开的其他方面对于本领域技术人员将是显而易见的。
根据本公开的实施例，可以根据需要容易地控制视角。
本发明的特征不限于本文阐述的那些特征。通过参考下面给出的本发明的详细描述，本发明的以上和其他特征对于本发明所属领域的普通技术人员将变得更加明白。
附图说明
通过参考附图详细描述本公开的实施例，本公开的以上以及其他方面和特征将变得更加明白，其中：
图1是根据本公开的实施例的光控制构件的示意性截面图；
图2是示出了穿过图1的光控制构件的光路径的示意图；
图3是详细地示出了图2的(1-1)光的路径的示意图；
图4是图1中示出的区域A的示意性放大图；
图5是示意性地示出了根据本公开的实施例的制造包括光控制构件的显示装置的方法的流程图；
图6至图9是示出了根据本公开的实施例的制造包括光控制构件的显示装置的方法的处理步骤的示意性截面图；
图10是根据另一实施例的光控制构件的示意性截面图；
图11是图10的区域B的示意性放大图；
图12是根据再一实施例的光控制构件的示意性截面图；
图13是图12的区域C的示意性放大图；
图14是根据再一实施例的光控制构件的示意性截面图；
图15是图14的部分D的示意性放大图；
图16是根据再一实施例的光控制构件的示意性截面图；
图17是根据本公开的实施例的显示装置的示意性透视图；
图18是沿着图17的线I-I'截取的示意性截面图；
图19是根据本公开的另一实施例的显示装置的示意性截面图；和
图20是根据本公开的再一实施例的显示装置的示意性截面图。
具体实施方式
本文公开的实施例的具体结构和功能描述仅出于实施例的说明性目的。在不脱离本公开的精神和重要特征的情况下，实施例可以采用许多不同的形式。因此，仅出于说明性目的公开了实施例，并且不应将实施例解释为限制本发明。即，本发明仅由包括任何等同物的权利要求的范围限定。
将理解的是，当元件被称为与另一元件相关诸如被称为“结合”或“连接”到另一元件时，该元件可以直接结合或连接到另一元件，或者可以在它们之间存在中间元件。相比之下，应当理解，当元件被称为与另一元件相关诸如被称为“直接结合”或“直接连接”到另一元件时，可以不存在中间元件。应当以相同的方式解释说明元件之间的关系的其他表述，例如，“在…之间”、“直接在…之间”、“与…相邻”或“与…直接相邻”。
在整个说明书中，相同的附图标记将指代相同的或类似的部件。
将理解的是，尽管在这里可使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述不同的元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语的限制。这些术语可以用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一个元件、组件、区域、层或部分区分开。因此，在不脱离本文教导的情况下，下面讨论的“第一元件”、“第一组件”、“第一区域”、“第一层”或“第一部分”可被命名为第二元件、第二组件、第二区域、第二层或第二部分。
这里使用的术语仅是为了描述特定实施例的目的，而不意图是限制性的。如这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则“一个”、“一种”、“该(所述)”和“至少一个(种)”并不指示对量的限制，而是意图包括单数和复数。例如，除非上下文另外明确指出，否则“元件”与“至少一个元件”具有相同的含义。“至少一个(种)”不应解释为限制性的“一个”或“一种”。术语“和”和“或”通常可以被解释为“和/或”。如这里使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项中的任意组合和所有组合。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包括(comprises，comprising)”、具有(has，have，having)和/或“包含(includes，including)”时，说明存在陈述的特征、区域、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或多个其他特征、区域、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
出于其含义和解释的目的，短语“……中的至少一个(种)”旨在包括“从……的组中选择的至少一个(种)”的含义。例如，“A和B中的至少一个(种)”可以理解为意指“A、B、或者A和B”。
此外，在这里可使用相对术语，诸如“下”或“底”和“上”或“顶”等来描述如图中所示的一个元件与另一元件的关系。将理解的是，相对术语意在涵盖装置的除了在附图中描绘的方位之外的不同方位。例如，如果一幅附图中的装置被翻转，则描述为在其他元件的“下”侧的元件将随后定向在其他元件的“上”侧。因此，根据附图的特定方位，示例性术语“下”可涵盖“下”和“上”这两个方位。类似地，如果一幅附图中的装置被翻转，则描述为“在”其他元件“下方”或“之下”的元件将随后定向为在其他元件“上方”。因此，示例性术语“在…下方”或“在…之下”可以覆盖上方和下方两个方位。
考虑到讨论中的测量和与特定量的测量相关的误差(即，测量***的限制)，如这里所使用的“大约”或“近似”包括列举的值，并且意指在本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差范围内。例如，“大约”或“近似”可以指在一个或更多个标准偏差内，或者在列举的值的±30％、±20％、±10％或±5％内。
除非另有定义，否则这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员所通常理解的意思相同的意思。将进一步理解，除非这里如此明确定义，否则术语(诸如在通用的字典中定义的术语)应该被解释为具有与它们在相关领域和本公开的背景中的意思一致的意思，并且不应解释为理想的或过于形式化的意思。
在此参考作为理想实施例的示意图的截面图来描述示例性实施例。这样，预计这些图的形状出现由于例如制造技术和/或公差而引起的变化。因此，这里描述的实施例不应该被理解为局限于在此示出的区域的具体形状，而应该包括例如由制造导致的形状偏差。例如，示出或描述为平坦的区域可以通常具有粗糙的和/或非线性的特征。此外，示出的尖角可以被倒圆。因此，在图中示出的区域实际上是示意性的，并且它们的形状可以不旨在示出区域的精确形状，且也不旨在限制权利要求的范围。
在下文中，将参考附图描述实施例。
图1是根据本公开的实施例的光控制构件的示意性截面图。
根据实施例的光控制构件10可以用在用于显示图像的显示装置中。显示装置可以被包括在诸如移动电话、智能电话、平板个人计算机(PC)、智能手表、手表电话、移动通信终端、电子笔记本、电子书、便携式多媒体播放器(PMP)、导航装置、超移动PC(UMPC)的便携式电子装置以及诸如电视机、膝上型计算机、监视器、广告牌和物联网装置的各种电子装置中。尽管在所示的示例中，光控制构件10可以用在用于车辆的显示装置中，但是应当理解，光控制构件10可以应用于其他显示装置。
参考图1，根据实施例的光控制构件10可以与包括可以在其上显示图像的屏幕的显示部件结合。显示部件可以包括产生图像以显示图像的显示面板。显示面板可以是包括自发光有机层的有机显示面板，或者可以是包括自发光无机半导体层(例如，纳米LED和微型LED)的无机显示面板。作为另一示例，显示面板可以是液晶显示面板。
当光控制构件10可以与上述显示面板之一组合时，光控制构件10可以控制从显示面板发射的光的路径。例如，在从显示面板发射的光可以在可见光波段内的情况下，光控制构件10可以控制在可见光波段内的光的路径。作为另一示例，在从显示面板发射的光可以在紫外光或红外光波段内的情况下，光控制构件10可以控制紫外光或红外光波段内的光的光学路径。作为又一示例，光控制构件10可以控制涵盖可见光波段和其他波段(紫外光或红外光波段)的光。
根据实施例，光控制构件10可以包括光控制基板11、设置在光控制基板11上的不等边棱镜(scalene prism)13、设置在不等边棱镜13上的蚀刻停止件15和设置在蚀刻停止件15上的吸收图案17。
光控制基板11可以是透明绝缘基板。光控制基板11可以包括诸如玻璃、石英或它们的组合的刚性材料。例如，光控制基板11可以包括透明的绝缘刚性材料。光控制基板11可以具有近似1.5的折射率。然而，应当理解，本公开不限于此。光控制基板11可以是包括诸如聚酰亚胺(PI)的柔性材料的柔性基板。在这种情况下，光控制基板11可以弯曲、弯折、折叠或卷绕。
不等边棱镜13可以设置在光控制基板11上。不等边棱镜13可以设置在(例如，直接设置在)光控制基板11的表面上。不等边棱镜13可以包括设置在(例如，直接设置在)光控制基板11的表面上的第一棱镜部分13a和设置在第一棱镜部分13a上的第二棱镜部分13b。
在附图中，第一棱镜部分13a可以具有矩形的截面形状。第一棱镜部分13a的上表面可以沿着可以布置第二棱镜部分13b的第一方向D1延伸，并且第二棱镜部分13b的侧表面可以在与可以布置第二棱镜部分13b的第一方向D1相交的第三方向D3上延伸。第二棱镜部分13b设置成在第二方向D2上延伸。
每个第二棱镜部分13b可以具有相对于光控制基板11的表面以第一角度θ13a延伸的第一侧表面13S1和以第二角度θ13b延伸的第二侧表面13S2。第二角度θ13b可以大于第一角度θ13a。第一角度θ13a和第二角度θ13b可以根据用于调节出射角的不同设计而改变。例如，第二角度θ13b可以是直角或钝角，而第一角度θ13a可以是锐角。第二角度θ13b可以在近似90°至近似110°或近似90°至近似100°的范围内，或者可以为近似90°。第一角度θ13a可以在近似30°至近似80°或近似60°至近似70°的范围内。作为另一示例，第二角度θ13b可以是锐角。作为另一示例，第二角度θ13b可以是大于第一角度θ13a的锐角。
第二棱镜部分13b可具有三角形的截面形状。具体地，每个第二棱镜部分13b的与第一棱镜部分13a接触的底表面可以形成三角形的底边，并且每个第二棱镜部分13b的侧表面13S1和13S2可以形成三角形的侧边。在第二角度θ13b可以为90°的情况下，第二棱镜部分13b的截面形状可以具有直角三角形形状。
第二棱镜部分13b可以沿着一方向布置。所有第二棱镜部分13b可以具有相同的截面形状。然而，应当理解，本公开不限于此。
不等边棱镜13可以用于控制入射在不等边棱镜13上的光的路径。更具体地，不等边棱镜13可以具有比光在到达不等边棱镜13之前所通过的介质的折射率大的折射率，由此改变光的路径，使得入射在不等边棱镜13上的光更接近垂直方向地行进。例如，不等边棱镜13可以具有比光控制基板11的折射率大的折射率。不等边棱镜13可以具有近似1.6的折射率。
不等边棱镜13可以包括有机绝缘材料。不等边棱镜13可以包括例如绝缘树脂。第一棱镜部分13a和第二棱镜部分13b可以包括相同的绝缘树脂。第一棱镜部分13a和第二棱镜部分13b可以经由相同的制造工艺同时一体地形成。例如，第一棱镜部分13a和第二棱镜部分13b可以通过压印形成。然而，应当理解，本公开不限于此。例如，可以首先在光控制基板11的表面上形成第一棱镜部分13a，并且可以在第一棱镜部分13a上形成第二棱镜部分13b。在第一棱镜部分13a和第二棱镜部分13b可以顺序地形成的情况下，可以形成空气层作为它们之间的边界。然而，应当理解，本公开不限于此。第一棱镜部分13a和第二棱镜部分13b可以形成为在它们之间没有边界，就好像它们是同时形成的一样。
蚀刻停止件15可以设置在不等边棱镜13上。蚀刻停止件15可以与不等边棱镜13一体地形成并设置在不等边棱镜13上。蚀刻停止件15可以设置在不等边棱镜13的第一侧表面13S1和第二侧表面13S2上，并且可以设置在第一棱镜部分13a的两个侧表面上以覆盖不等边棱镜13。在实施例中，蚀刻停止件15可以覆盖不等边棱镜13的包括第一侧表面13S1和第二侧表面13S2的整个表面。由于蚀刻停止件15可以覆盖不等边棱镜13，所以可以防止不等边棱镜13的表面在随后将描述的用于在不等边棱镜13的第二侧表面13S2上形成吸收图案17的干蚀刻工艺期间由于过度蚀刻而被损坏。考虑到以上情况，可期望的是，蚀刻停止件15相对于干蚀刻的蚀刻气体的蚀刻率可以低于吸收图案17的蚀刻率。蚀刻选择性(其可以是蚀刻率之差)可以越大，蚀刻停止件15可以越好地保护不等边棱镜13的表面。
例如，蚀刻停止件15可以包括与稍后将描述的吸收图案17的材料相比相对于用于蚀刻吸收图案17的蚀刻气体具有更低的蚀刻率的氧化铟锡(ITO)、氧化锆(ZrOx)、氧化铪(HfOx)和氧化铝(Al2O3)中的至少一种。
由于蚀刻停止件15可以设置在不等边棱镜13的第一侧表面13S1上，所以从显示面板出射的光可以在不等边棱镜13的一部分之前到达蚀刻停止件15的一部分。因为蚀刻停止件15可以位于光的路径中，所以可期望的是，蚀刻停止件15的折射率可以等于或大于不等边棱镜13的折射率，以便朝向不等边棱镜13的垂直方向引导光。考虑到以上情况，蚀刻停止件15的折射率可以等于或大于近似1.6，其可以是不等边棱镜13的上面描述的折射率。由于蚀刻停止件15可以由与吸收图案17的材料相比相对于用于蚀刻吸收图案17的蚀刻气体具有更低的蚀刻率的ITO、ZrOx、HfOx和Al2O3(其折射率可以分别为近似1.8、近似2.2，近似1.9和近似1.7)中的至少一种制成，所以蚀刻停止件15可以满足以上条件。
蚀刻停止件15可以通过原子层沉积(ALD)形成在不等边棱镜13的表面上。通过以这种方式在不等边棱镜13的表面上形成蚀刻停止件15，蚀刻停止件15不仅可以具有与不等边棱镜13一致的形状，而且可以具有均匀的厚度。在实施例中，蚀刻停止件15可以在其整个区域中具有均匀的厚度。在位于光路径中的蚀刻停止件15具有均匀的厚度的情况下，可以更容易调节通过光控制构件10入射的光的路径。
吸收图案17可以设置在蚀刻停止件15上，蚀刻停止件15可以设置在不等边棱镜13上。吸收图案17可以设置在蚀刻停止件15上，蚀刻停止件15设置在不等边棱镜13的第二侧表面13S2上。如上所述，因为可以设置蚀刻停止件15并且蚀刻停止件15可以覆盖不等边棱镜13，所以吸收图案17可以不与不等边棱镜13接触。
将参考图4更详细地描述蚀刻停止件15和吸收图案17。
图4是图1中示出的区域A的示意性放大图。
参考图4，如上面参考图1所描述的，蚀刻停止件15可以通过原子层沉积(ALD)形成在不等边棱镜13的表面上，使得其可以具有均匀的厚度。具体地，蚀刻停止件15的可以设置在不等边棱镜13的第一侧表面13S1上的部分的厚度t2可以基本上等于蚀刻停止件15的可以设置在不等边棱镜13的第二侧表面13S2上的部分的厚度t3。具体地，蚀刻停止件15的可以设置在不等边棱镜13的第一侧表面13S1上的部分的厚度t2与蚀刻停止件15的可以设置在不等边棱镜13的第二侧表面13S2上的部分的厚度t3之间的差可以为近似10％、近似5％、近似1％或更小。
根据稍后将描述的制造显示装置的方法，吸收图案17可以形成在具有与不等边棱镜13的形状一致的形状的蚀刻停止件15的表面(或整个表面)上，且然后可以经受干蚀刻。位于不等边棱镜13的第一侧表面13S1上的吸收图案材料可以在厚度方向上比设置在不等边棱镜13的第二侧表面13S2上的吸收图案材料具有更小的厚度，且因此，可以去除位于第一侧表面13S1上的吸收图案材料。甚至在可以去除位于不等边棱镜13的第一侧表面13S1上的吸收图案材料之后，位于不等边棱镜13的第二侧表面13S2上的吸收图案材料也可以保留。因此，可以形成如图1和图4中所示的吸收图案17。如图4所示，吸收图案17可以暴露蚀刻停止件15的上端的一部分。由于也通过干蚀刻来部分地去除设置在不等边棱镜13的第二侧表面13S2上的吸收图案材料，所以可以形成被暴露的部分。被暴露的部分的长度或宽度t17可以大于或小于厚度(第二厚度)t2。也即，吸收图案17的表面高度小于蚀刻停止件15的表面高度。
吸收图案17可以设置在不等边棱镜13的每个第二棱镜部分13b的第二侧表面13S2上。在光可以入射在光控制构件10上的情况下，吸收图案17可以吸收入射到其上的一些光以控制光的路径。在每个第二棱镜部分13b的第二侧表面13S2的第二角度θ13b可以是例如直角的情况下，如上所述，由于蚀刻停止件15的厚度可以在其整个区域上是基本上均匀的，所以吸收图案17可以具有在附图中的垂直方向上延伸的形状。
如图1中所示，吸收图案17可以设置在每一个第二棱镜部分13b的第二侧表面13S2上，并且可以以间距P重复。吸收图案17的长度或高度(表面高度)t1可以考虑相邻的吸收图案17的间距P来设计。例如，吸收图案17的长度t1可以是吸收图案17的间距P的近似1.1倍至1.4倍，近似1.3倍或更大，或近似1.2倍。为了防止超出视角的光通过光控制构件10出射，吸收图案17的长度t1会需要处于以上范围内。
根据本公开的实施例，为了改变光的路径，光控制构件10可以具有比光在到达不等边棱镜13之前所通过的介质的折射率大的折射率。这允许吸收图案17的长度t1减小，因为光可以随着其穿过不等边棱镜13而朝向垂直方向转变。通过减小吸收图案17的长度t1，被吸收图案17吸收的光的量可以减小，由此提高了光控制构件10的整体透射率。
在下文中，将参照图2更详细地描述通过吸收图案17的光吸收过程和通过不等边棱镜13的光路径控制过程。
图2是示出了穿过图1的光控制构件的光路径的示意图。
参考图2，在实施例中，粘附构件AM可以设置在光控制构件10下方，并且玻璃基板UG可以附接在粘附构件AM下方。粘附构件AM可以用于将光控制构件10与玻璃基板UG结合。粘附构件AM可以包括透明的粘附材料，因为玻璃基板UG可能需要无损失地将光传输到光控制构件10。例如，粘附构件AM可以是但不限于光学透明粘附剂(OCA)或光学透明树脂(OCR)。
在图2所示的示例中，为了便于举例说明，玻璃基板UG的折射率可以为近似1.5，粘附构件AM的折射率可以为近似1.5，光控制构件10的不等边棱镜13的折射率可以为近似1.6，光控制基板的折射率可以为近似1.5，并且光控制基板11上方的空气层Air的折射率可以为近似1.0。
穿过玻璃基板UG入射的光L11、L12、L21和L22可以穿过玻璃基板UG和粘附构件AM。因为玻璃基板UG和粘附构件AM具有相同的折射率，所以光L11、L12、L21和L22不会在它们之间的界面上折射。
(1-1)光L11和(1-2)光L12可以入射在吸收图案17上。入射在吸收图案17上的光L11和L12可以被上面参考图1描述的吸收图案17吸收，并且熄灭。将参考图3给出其更详细的描述。
图3是详细地示出了图2的(1-1)光的路径的示意图。
参考图3，吸收图案17可以具有多个层。多个层可以具有至少一个金属层和至少一个绝缘层。吸收图案17可以包括交替地堆叠在彼此之上的金属层和绝缘层的多个层。在图3所示的示例中，参照图3，吸收图案17包括设置在(例如，直接设置在)蚀刻停止件15的侧表面上的第一金属层171、设置在(例如，直接设置在)第一金属层171上的绝缘层173以及设置在(例如，直接设置在)绝缘层173上的第二金属层175。然而，应当理解，本公开不限于此。
金属层171和175可以包括钴(Co)、钽(Ta)和铝(Al)中的至少一种。第一金属层171和第二金属层175可以由相同的材料制成。尽管在所示的示例中第一金属层171和第二金属层175中的每一个包括钽(Ta)，但是本公开不限于此。
入射在吸收图案17上的(1-1)光L11可以被第二金属层175反射，或者可以穿过第二金属层175和绝缘层173以被第一金属层171反射。可以基于由第二金属层175反射的光和由第一金属层171反射的光之间的路径差来确定第一金属层171和第二金属层175之间的间隔，即绝缘层173的宽度或厚度，以允许相消干涉。
例如，相对于由第一金属层171反射的光，由第二金属层175反射的光的相对于时间(x轴)的幅值(y轴)可以具有相同的量，但是具有相反的极性。例如，由第二金属层175反射的光和由第一金属层171反射的光可以彼此抵消，且由此，反射的(1-1)光L11可以被吸收。
根据本公开的实施例，穿过光控制构件10的光的出射发射角θ1或视角可以在近似0°至近似30°的范围内。(2-1)光L21可以以比(2-2)光L22的入射角θ4大的入射角θ3入射在玻璃基板UG上。(2-1)光L21和(2-2)光L22可以在玻璃基板UG和空气之间的界面处折射，使得它们更接近垂直方向地行进。它们可以无折射地穿过玻璃基板UG和粘附构件AM之间的界面，并且可以入射在光控制构件10上。
因为光控制构件10的不等边棱镜13的折射率可以大于其下方的粘附构件AM的折射率，所以入射在光控制构件10上的(2-1)光L21和(2-2)光L22可以进一步向上折射，并且可以朝向不等边棱镜13和光控制基板11之间的界面行进。因为光控制基板11的折射率可以小于不等边棱镜13的折射率，所以光可以在不等边棱镜13和光控制基板11之间的界面处进一步向下折射。已经穿过光控制基板11的(2-1)光L21和(2-2)光L22可以在光控制基板11和空气层之间的界面处朝向下侧折射，并且出射。为了使(2-1)光L21(例如，R3)和(2-2)光L22(例如，R4)的出射角θ1在近似0°至近似30°的范围内，可以将入射角设置在近似7.6°至近似69.4°的范围内。
如果可能不存在不等边棱镜13，则为了使出射角θ1在近似0°至近似30°的范围内，入射角也应当在近似0°至近似30°的范围内。相比之下，通过采用根据实施例的不等边棱镜13，入射角可以大大地增加，且因此，入射区域可以增大。以这种方式，光可以在更大的入射区域上入射，且因此可以改善透光率。
如上面参考图1描述的，光在穿过不等边棱镜13的同时可以朝向垂直方向改变，且因此可以无需大大增加吸收图案17的长度t1。因此，可以减小吸收图案17的长度t1。通过减小吸收图案17的长度t1，可以减少由吸收图案17吸收的光的量，由此提高了光控制构件10的整体透射率。
在下文中，将描述根据本公开的实施例的制造包括光控制构件的显示装置的方法。在下面的描述中，相同或相似的元件将由相同或相似的附图标记指示，并且将省略或简要描述冗余的描述。
图5是示意性地示出了根据本公开实施例的制造包括光控制构件的显示装置的方法的流程图。图6至图9是示出了根据本公开的实施例的制造包括光控制构件的显示装置的方法的处理步骤的示意性截面图。
首先结合图1参考图5和图6，可以在光控制基板11上形成不等边棱镜13，其可以包括相对于光控制基板11的表面以第一角度θ13a延伸的第一侧表面13S1和以大于第一角度θ13a的第二角度θ13b延伸的第二侧表面13S2(步骤S10)。
上面已经描述了不等边棱镜13的构造、形状、功能和材料；并且因此，将省略冗余的描述。
不等边棱镜13可以用于控制入射在不等边棱镜13上的光的路径。更具体地，不等边棱镜13可以具有比光在不等边棱镜13之前行进所通过的介质的折射率大的折射率，由此改变光的路径，使得入射在不等边棱镜13上的光更接近垂直方向地行进。例如，不等边棱镜13可以具有比光控制基板11的折射率大的折射率。棱镜13可以具有近似1.6的折射率。
棱镜13可以包括有机绝缘材料。棱镜13可以包括例如绝缘树脂。第一棱镜部分13a和第二棱镜部分13b可以包括相同的绝缘树脂。第一棱镜部分13a和第二棱镜部分13b可以经由相同的制造工艺同时一体地形成。例如，第一棱镜部分13a和第二棱镜部分13b可以通过压印形成。然而，应当理解，本公开不限于此。可以首先在光控制基板11的表面上形成第一棱镜部分13a，并且可以在第一棱镜部分13a上形成第二棱镜部分13b。在第一棱镜部分13a和第二棱镜部分13b可以顺序地形成的情况下，可以形成空气层作为它们之间的边界。然而，应当理解，本公开不限于此。第一棱镜部分13a和第二棱镜部分13b可以形成为在它们之间没有边界，就好像它们是同时形成的一样。
参考图5和图7，可以在不等边棱镜13上形成蚀刻停止件15(步骤S20)。
上面已经描述了蚀刻停止件15的位置、材料和功能；且因此，将省略冗余的描述。
蚀刻停止件15可以包括与吸收图案17的材料相比相对于用于蚀刻吸收图案17的蚀刻气体具有更低的蚀刻率的ITO、ZrOx、HfOx和Al2O3中的至少一种。
由于蚀刻停止件15可以设置在不等边棱镜13的第一侧表面13S1上，所以从显示面板出射的光可以在不等边棱镜13的一部分之前到达蚀刻停止件15的一部分。因为蚀刻停止件15可以位于光的路径中，所以可期望的是，蚀刻停止件15的折射率可以等于或大于不等边棱镜13的折射率，以便朝向不等边棱镜13的垂直方向引导光。考虑到以上情况，蚀刻停止件15的折射率可以等于或大于近似1.6，其可以是不等边棱镜13的上面描述的折射率。被选择为与吸收图案17的材料相比相对于用于蚀刻吸收图案17的蚀刻气体具有更低的蚀刻率的ITO、ZrO、HfO或Al2O3可以分别具有近似1.8、近似2.2、近似1.9和近似1.7的折射率。因此，它们可以满足条件。
蚀刻停止件15可以通过原子层沉积(ALD)形成在不等边棱镜13的表面上。通过以这种方式在不等边棱镜13的表面上形成蚀刻停止件15，蚀刻停止件15不仅可以具有与不等边棱镜13一致的形状，而且可以具有均匀的厚度。在位于光路径中的蚀刻停止件15具有均匀的厚度的情况下，可以更容易调节通过光控制构件10入射的光的路径。
随后，结合图1参考图5、图8和图9，可以在位于不等边棱镜13的第二侧表面13S2上的蚀刻停止件15上形成吸收图案17(步骤S30)。
形成吸收图案17的步骤S30可以包括在蚀刻停止件15上形成吸收图案材料17a以及蚀刻形成在蚀刻停止件15上的吸收图案材料17a。
在蚀刻停止件15上形成吸收图案材料17a可以包括在蚀刻停止件15的表面(或整个表面)上形成吸收图案材料17a。
可以通过原子层沉积(ALD)来实施在蚀刻停止件15上形成吸收图案材料17a。通过经由原子层沉积(ALD)形成吸收图案材料17a，吸收图案材料17a可以在蚀刻停止件15的表面上具有基本均匀的厚度，并且可以具有与蚀刻停止件15的表面一致的形状。
在可以在蚀刻停止件15的表面(或整个表面)上形成吸收图案材料17a之后，可以蚀刻吸收图案材料17a。蚀刻吸收图案材料17a可以包括干蚀刻步骤。可以使用诸如氯(Cl2)和氟(F2)的蚀刻气体来实施干蚀刻。
蚀刻停止件15可以覆盖不等边棱镜13的表面(或整个表面)，由此防止不等边棱镜13的表面在工艺过程中由于蚀刻气体的过度蚀刻而被损坏。考虑到上述情况，可期望的是，蚀刻停止件15相对于干蚀刻的蚀刻气体的蚀刻率可以低于吸收图案17的蚀刻率。蚀刻选择性(其可以是蚀刻率之差)可以越大，蚀刻停止件15可以越好地保护不等边棱镜13的表面。
如上所述，位于不等边棱镜13的第一侧表面13S1上的吸收图案材料可以在厚度方向上比设置在不等边棱镜13的第二侧表面13S2上的吸收图案材料具有更小的厚度，并且因此，可以去除位于第一侧表面13S1上的吸收图案材料。甚至在可以去除位于不等边棱镜13的第一侧表面13S1上的吸收图案材料之后，位于不等边棱镜13的第二侧表面13S2上的吸收图案材料可以保留。因此，可以形成如图1和图4中所示的吸收图案17。如图4中所示，吸收图案17可以暴露蚀刻停止件15的上端的一部分。由于也可以通过干蚀刻来部分地去除设置在不等边棱镜13的第二侧表面13S2上的吸收图案材料，所以可以形成被暴露的部分。被暴露的部分的长度或宽度t17可以大于或小于厚度(第二厚度)t2。
随后，可以将光控制构件10和显示面板附接在一起(步骤S40)。
显示面板可以是包括自发光的有机层的有机显示面板，或者可以是包括自发光的无机半导体层(例如，纳米LED和微型LED)的无机显示面板。作为另一示例，显示面板可以是液晶显示面板。
光控制构件10和显示面板可以经由结合构件或透明粘附构件结合在一起。透明粘附构件可以包括但不限于光学透明粘附剂(OCA)、光学透明树脂(OCR)或它们的组合。
在下文中，将描述根据另一实施例的光控制构件。
图10是根据另一实施例的光控制构件的示意性截面图。图11是图10的区域B的示意性放大图。
图10和图11的实施例与图1的实施例的不同之处可以在于，光控制构件10_1还可以包括位于其上方的表面上或蚀刻停止件15_1和吸收图案17_1的上表面上的突起。
更具体地，在实施干蚀刻以形成吸收图案17_1的情况下，可以在吸收图案17_1和蚀刻停止件15_1的每一者中形成突起。
如上面参考图9描述的，蚀刻气体相对于吸收图案17_1的选择性可以高于蚀刻气体相对于蚀刻停止件15_1的选择性。由于此原因，蚀刻停止件15_1的表面上的突起的深度d1可以小于吸收图案17_1的表面的突起的深度d2。
图12是根据再一实施例的光控制构件的示意性截面图。图13是图12的区域C的示意性放大图。
图12和图13的实施例与图1的实施例的不同之处可以在于，光控制构件10_2可以通过化学气相沉积(CVD)或溅射而不是原子层沉积(ALD)来形成，并且因此，蚀刻停止件15_2可以具有不均匀的厚度。
更具体地，位于不等边棱镜13的第一侧表面13S1上的蚀刻停止件15_2的厚度t4可以大于位于不等边棱镜13的第二侧表面13S2上的蚀刻停止件15_2的厚度t3。
此外，在通过化学气相沉积(CVD)或溅射来形成蚀刻停止件15_2的情况下，与通过原子层沉积(ALD)形成的蚀刻停止件相比，台阶覆盖率(反映表面下方的特征的台阶差的程度)可以降低。因此，不等边棱镜13的端部或弯曲点可以不反映其下方的特征的端部或弯曲部分的形状，而是可以具有可以向外凸出的基本上弯曲的形状。
图14是根据再一实施例的光控制构件的示意性截面图。图15是图14的部分D的示意性放大图。
图14和图15的实施例与图12和图13的实施例的不同之处可以在于，形成在不等边棱镜13的第二侧表面12S2上的蚀刻停止件15_3可以具有不同的厚度。
更具体地，在根据该实施例的光控制构件10_3中，设置在不等边棱镜13的第二侧表面13S2上的蚀刻停止件15_3可以具有不同的厚度。换言之，蚀刻停止件15_3的更靠近不等边棱镜13的端部(附图中的上部)的部分的厚度t5可以大于蚀刻停止件15_3的远离不等边棱镜13的端部(附图中的下部)的部分的厚度t3。在通过上面描述的化学气相沉积(CVD)或溅射形成蚀刻停止件15_3的情况下可能发生这种情况，因为沉积设备可能从上方喷射沉积材料，并且因此沉积材料可以首先沉积在靠近不等边棱镜13的端部的部分上。因此，其下方的部分可能被沉积材料阻挡，并且可能在下部沉积少量的沉积材料，并且吸收图案17_2可以与下部接触。
图16是根据再一实施例的光控制构件的示意性截面图。
图16的实施例与图14和图15的实施例的不同之处可以在于，蚀刻停止件15_4可以暴露不等边棱镜13的第二侧表面13S2的一部分。
更具体地，在根据该实施例的光控制构件10_4中，蚀刻停止件15_4可以暴露不等边棱镜13的第二侧表面13S2的一部分，并且吸收图案17_3可以与不等边棱镜13的第二侧表面13S2的被暴露的部分接触。
在下文中，将描述包括上面描述的光控制构件的显示装置。在下面的描述中，相同或相似的元件将由相同或相似的附图标记指示，并且将省略冗余的描述。
图17是根据本公开的实施例的显示装置的示意性透视图。图18是沿着图17的线I-I'截取的示意性截面图。
参考图17和图18，根据该实施例的显示装置100可以是包括光控制构件10'的显示装置100。显示装置100还可以包括显示部件20以及设置在显示部件20和光控制构件10'之间以将它们结合在一起的结合构件30。
光控制构件10'可以与上面参照图1描述的光控制构件10具有基本上相同的构造。在不脱离本公开的范围的情况下，可以采用图10的光控制构件10_1、图12的光控制构件10_2、图14的光控制构件10_3和图16的光控制构件10_4中的任何一者作为光控制构件10'。
在实施例中，第一方向DR1可以与第二方向DR2相交。在图17的透视图中，为了便于举例说明，第一方向DR1和第二方向DR2可以被限定为显示装置100所在水平平面内的两个方向，而第三方向DR3可以被限定为显示装置100的垂直方向(垂直于第一方向D1和第二方向D2)。应当理解，关于实施例参考的方向可以是相对方向，并且实施例不限于所提及的方向。
根据本公开的实施例的显示装置100可以是包括有机显示面板的有机发光显示装置，有机显示面板包括自发光有机层。
显示装置100可以包括用于显示图像的显示区域DA和围绕显示区域DA设置的非显示区域NDA。显示区域DA可以包括像素。
尽管显示装置100可以具有从顶部观看的矩形形状，但是本公开不限于此。应当理解，显示装置100可以具有正方形形状、圆形形状、椭圆形形状或其他多边形形状。
显示部件20可以包括第一基板21和设置在第一基板21上的发光元件。
第一基板21可以是绝缘基板。第一基板21可以包括透明材料。例如，第一基板21可以包括透明绝缘材料，诸如玻璃、石英或它们的组合。第一基板21可以是刚性基板。然而，第一基板21不限于上面描述的那些。第一基板21可以包括诸如聚酰亚胺的塑料。第一基板21可以是柔性的，从而其可以弯曲、弯折、折叠或卷绕。
像素电极22可以设置在第一基板21的表面上。每个像素电极22可以设置在相应的像素中。一个像素的像素电极22可以与相邻一个像素的像素电极间隔开。用于驱动像素电极22的电路层(未示出)可以设置在第一基板21和像素电极22之间。电路层可以包括薄膜晶体管和电容器。
像素电极22可以是发光元件(或发光二极管)的第一电极，例如，阳极。像素电极22可以具有诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)和氧化铟(In2O3)的具有高功函数的材料层和诸如银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、铅(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、锂(Li)、钙(Ca)或其混合物的反射材料层的堆叠结构。具有较高功函数的材料层可以设置在比反射材料层更高的层上，使得其可以更靠近发射层24。像素电极22可以具有但不限于ITO/Mg、ITO/MgF、ITO/Ag和ITO/Ag/ITO的多层结构。
堤坝层23可以沿着像素的边界设置在第一基板21的表面上。堤坝层23可以设置在像素电极22上方，并且可以包括分别暴露像素电极22的开口。堤坝层23可以包括有机绝缘材料，诸如聚丙烯酸酯树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚苯醚树脂、聚苯硫醚树脂、苯并环丁烯(BCB)或它们的组合。堤坝层23可以包括无机材料。
发射层24可以设置在经由堤坝层23暴露的像素电极22上。在显示装置可以是有机发光显示装置的实施例中，发射层24可以包括有机层，有机层包括有机材料。有机层可以包括有机发射层，并且在一些实施方式中还可以包括空穴注入/传输层和/或电子注入/传输层作为辅助层，以促进发射。在显示装置可以是微型LED显示装置、纳米LED显示装置等的另一实施例中，发射层24可以包括诸如无机半导体的无机材料。
公共电极25可以设置在发射层24上。公共电极25可以与堤坝层23以及发射层24的上表面接触。
公共电极25可以跨像素延伸。公共电极25可以是布置在全部像素中的单个连续件。公共电极25可以是发光二极管的第二电极，即，阴极。
公共电极25可以包括具有小的功函数的材料层，诸如Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Mg、Ag、Pt、Pd、Ni、Au、Nd、Ir、Cr、BaF和Ba、或者其化合物或混合物(例如，Ag和Mg的混合物)。公共电极25还可以包括设置在具有小的功函数的材料层上的透明金属氧化物层。
像素电极22、发射层24和公共电极25可以形成发光元件，例如有机发光元件。从发射层24发射的光可以穿过公共电极25以向上出射。
薄膜封装特征27可以设置在公共电极25上方。薄膜封装特征27可以包括封装基板或第二基板。封装基板可以是绝缘基板。封装基板可以包括透明材料。例如，封装基板可以包括透明绝缘材料，诸如玻璃、石英或它们的组合。封装基板可以是刚性基板。封装基板可以是与第一基板21相同的种类，也可以是与第一基板21的材料、厚度、透射率等不同的材料、厚度、透射率等的基板。例如，封装基板可以具有高于第一基板21的透射率的透射率。封装基板可以比第一基板21厚或薄。
然而，封装基板不限于上面描述的那些。封装基板可以包括诸如聚酰亚胺的塑料。封装基板可以是柔性的，从而其可以弯曲、弯折、折叠或卷绕。
密封构件26可以设置在薄膜封装特征27和第一基板21之间。密封构件26可以设置在非显示区域NDA中。密封构件26可以设置在堤坝层23的上表面和薄膜封装特征27之间，并且还可以与堤坝层23的上表面和薄膜封装特征27接触，以将第一基板21与薄膜封装特征27结合。
上面描述的光控制构件10'可以设置在薄膜封装特征27上。结合构件30可以设置在光控制构件10'和薄膜封装特征27之间。不等边棱镜13'可以设置在光控制构件10'的光控制基板11'和结合构件30之间。蚀刻停止件15'可以设置在不等边棱镜13'和结合构件30之间。结合构件30可以与光控制构件10'的暴露的吸收图案17'和蚀刻停止件15'接触。
图19是根据本公开的另一实施例的显示装置的示意性截面图。
根据图19的实施例的显示装置100_1与图18的实施例的不同之处可以在于，显示部件20_1的薄膜封装特征28可以不同于图18的薄膜封装特征27。
更具体地，根据该实施例的薄膜封装特征28可以包括至少一个薄膜封装层。例如，薄膜封装层可以包括第一无机层28a、有机层28b和第二无机层28c。第一无机层28a和第二无机层28c中的每一个可以包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅或它们的组合。有机层28b可以包括有机绝缘材料，诸如聚丙烯酸酯树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚苯醚树脂、聚苯硫醚树脂、苯并环丁烯(BCB)或它们的组合。
结合构件30可以设置在光控制构件10'和薄膜封装特征28之间。结合构件30可以与光控制构件10'的暴露的吸收图案17'和蚀刻停止件15'接触并且与薄膜封装特征28的第二无机层28c接触。
图20是根据本公开的再一实施例的显示装置的示意性截面图。
图20的实施例与图18的实施例的不同之处可以在于，显示装置100_2可以为液晶显示装置，其中，显示部件20_2可以包括液晶显示面板。
更具体地，根据该实施例的显示装置100_2可以为液晶显示装置，其中，显示部件20_2可以包括液晶显示面板。
显示部件20_2可以包括第一基板21、面对第一基板21的第二基板(薄膜封装特征)27、设置在第一基板21上的堤坝层23、分别设置在堤坝层23的开口中的像素电极22'、设置在第二基板(薄膜封装特征)27的下表面上的公共电极CME、以及设置在公共电极CME和像素电极22'之间并包括液晶分子LC的液晶层LCL。
像素电极22'与图18的像素电极22的不同之处可以在于，像素电极22'可以设置在堤坝层23上，即，设置在堤坝层23的侧表面和上表面的一部分上。
公共电极CME与图18的公共电极CME的不同之处可以在于，公共电极CME可以不设置在第一基板21上，而是设置在第二基板(薄膜封装特征)27上。
其他元件可以与上面参考图18描述的那些元件相同；并且因此，将省略冗余的描述。
其他元件可以与上面参考图4描述的那些元件相同；并且因此，将省略冗余的描述。
尽管出于说明性目的已经公开了本发明的实施例，但是本领域技术人员将理解，在不脱离在包括任何等同物的所附权利要求中公开的本发明的范围和精神的情况下，可以进行各种修改、添加和替换。

Claims (24)

1.一种光控制构件，其中，所述光控制构件包括：
光控制基板，包括表面；
不等边棱镜，设置在所述光控制基板上并且包括：
第一侧表面，相对于所述光控制基板的所述表面以第一角度延伸；以及
第二侧表面，相对于所述光控制基板的所述表面以第二角度延伸，所述第二角度大于所述第一角度；
蚀刻停止件，设置在所述不等边棱镜上；以及
至少一个吸收图案，设置在位于所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件上。
2.根据权利要求1所述的光控制构件，其中，所述蚀刻停止件设置在所述不等边棱镜的所述第一侧表面和所述第二侧表面上。
3.根据权利要求2所述的光控制构件，其中，所述不等边棱镜包括树脂。
4.根据权利要求2所述的光控制构件，其中，所述至少一个吸收图案与位于所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件直接接触。
5.根据权利要求1所述的光控制构件，其中，
所述不等边棱镜的折射率为1.6，
所述蚀刻停止件的折射率大于所述不等边棱镜的所述折射率，并且
所述蚀刻停止件包括氧化铟锡、氧化锆、氧化铪和氧化铝中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的光控制构件，其中，所述不等边棱镜包括：
第一棱镜部分，与所述光控制基板接触；以及
至少一个第二棱镜部分，从所述第一棱镜部分延伸并具有三角形的截面形状。
7.根据权利要求6所述的光控制构件，其中，所述第二棱镜部分的所述截面形状包括不等边三角形形状。
8.根据权利要求6所述的光控制构件，其中，
所述至少一个第二棱镜部分包括多个第二棱镜部分，
所述至少一个吸收图案包括多个吸收图案，并且
所述多个吸收图案分别设置在所述多个第二棱镜部分的第二侧表面上。
9.根据权利要求8所述的光控制构件，其中，所述多个吸收图案中的每一者的高度是所述多个吸收图案中的相邻的吸收图案之间的间距的1.1倍至1.4倍。
10.根据权利要求1所述的光控制构件，其中，所述至少一个吸收图案的表面高度小于所述蚀刻停止件的表面高度。
11.根据权利要求1所述的光控制构件，其中，设置在所述不等边棱镜的所述第一侧表面上的所述蚀刻停止件的厚度等于设置在所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件的厚度。
12.根据权利要求1所述的光控制构件，其中，设置在所述不等边棱镜的所述第一侧表面上的所述蚀刻停止件的厚度大于设置在所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件的厚度。
13.根据权利要求1所述的光控制构件，其中，
所述蚀刻停止件和所述至少一个吸收图案中的每一者包括位于其表面上的突起，并且
所述至少一个吸收图案的所述突起的深度大于所述蚀刻停止件的所述突起的深度。
14.一种显示装置，其中，所述显示装置包括：
第一基板；
发光元件，设置在所述第一基板上；以及
光控制构件，设置在所述发光元件上，
其中，所述光控制构件包括：
光控制基板，包括表面；
不等边棱镜，设置在所述光控制基板上并且包括：
第一侧表面，相对于所述光控制基板的所述表面以第一角度延伸；以及
第二侧表面，相对于所述光控制基板的所述表面以第二角度延伸，所述第二角度大于所述第一角度；
蚀刻停止件，设置在所述不等边棱镜上；以及
吸收图案，设置在位于所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件上。
15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，
所述不等边棱镜设置在所述光控制基板和所述发光元件之间，并且
所述蚀刻停止件设置在所述不等边棱镜和所述发光元件之间。
16.根据权利要求15所述的显示装置，其中，所述发光元件包括：
第一电极，设置在所述第一基板上；
第二电极，面对所述第一电极；以及
发射层，设置在所述第一电极和所述第二电极之间。
17.根据权利要求16所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：堤坝层，设置在所述第一电极上并具有开口，其中，
所述第一电极的上表面的一部分通过所述开口而被暴露，并且
所述发射层设置在所述开口中。
18.根据权利要求17所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：第二基板，面对所述第一基板并设置在所述发光元件上方，其中，
所述第二基板密封所述发光元件，并且
所述光控制构件设置在所述第二基板上。
19.根据权利要求17所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：封装层，设置在所述发光元件上方并封装所述发光元件，其中，所述光控制构件设置在所述封装层上。
20.一种制造显示装置的方法，其中，所述方法包括：
形成光控制构件；以及
将所述光控制构件附接到显示面板，
其中，形成所述光控制构件包括：
在基板上形成不等边棱镜，所述不等边棱镜包括相对于所述基板的表面以第一角度延伸的第一侧表面和相对于所述基板的所述表面以第二角度延伸的第二侧表面；
在所述不等边棱镜上形成蚀刻停止件；以及
在位于所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件上形成吸收图案。
21.根据权利要求20所述的方法，其中，所述第二侧表面的所述第二角度大于所述第一侧表面的所述第一角度。
22.根据权利要求20所述的方法，其中，
所述不等边棱镜包括树脂，并且
所述形成所述不等边棱镜包括：通过压印来形成所述不等边棱镜。
23.根据权利要求20所述的方法，其中，所述形成所述蚀刻停止件包括：通过原子层沉积、化学气相沉积或溅射来形成所述蚀刻停止件。
24.根据权利要求20所述的方法，其中，所述在位于所述不等边棱镜的所述第二侧表面上的所述蚀刻停止件上形成所述吸收图案包括：
在所述蚀刻停止件上方形成吸收图案材料；以及
干蚀刻以暴露位于所述不等边棱镜的所述第一侧表面上的所述蚀刻停止件。
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