CN112786516A - 具有芯片吸附功能的芯片承载结构 - Google Patents

具有芯片吸附功能的芯片承载结构 Download PDF

Info

Publication number
CN112786516A
CN112786516A CN201911390065.0A CN201911390065A CN112786516A CN 112786516 A CN112786516 A CN 112786516A CN 201911390065 A CN201911390065 A CN 201911390065A CN 112786516 A CN112786516 A CN 112786516A
Authority
CN
China
Prior art keywords
chip
substrate
circuit substrate
micro
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201911390065.0A
Other languages
English (en)
Inventor
廖建硕
卢俊安
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asti Global Inc Taiwan
Original Assignee
Asti Global Inc Taiwan
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asti Global Inc Taiwan filed Critical Asti Global Inc Taiwan
Publication of CN112786516A publication Critical patent/CN112786516A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67103Apparatus for thermal treatment mainly by conduction
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67115Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67144Apparatus for mounting on conductive members, e.g. leadframes or conductors on insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/0008Soldering, e.g. brazing, or unsoldering specially adapted for particular articles or work
    • B23K1/0016Brazing of electronic components
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/005Soldering by means of radiant energy
    • B23K1/0056Soldering by means of radiant energy soldering by means of beams, e.g. lasers, E.B.
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • H01L2224/81001Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector involving a temporary auxiliary member not forming part of the bonding apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • H01L2224/8119Arrangement of the bump connectors prior to mounting
    • H01L2224/81191Arrangement of the bump connectors prior to mounting wherein the bump connectors are disposed only on the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • H01L2224/8119Arrangement of the bump connectors prior to mounting
    • H01L2224/81192Arrangement of the bump connectors prior to mounting wherein the bump connectors are disposed only on another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

本发明公开一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其包括:一非电路基板以及多个微加热器。非电路基板具有多个开口以及分别连通于多个开口的多个抽气通道。多个微加热器设置在非电路基板上,以被非电路基板所承载。非电路基板的每一开口接触且吸住一芯片,且非电路基板与芯片之间并无黏着层。借此,当多个抽气通道进行抽气时,非电路基板的每一开口能接触且吸住一芯片,并且能利用微加热器加热至少一芯片所接触的至少一锡球。

Description

具有芯片吸附功能的芯片承载结构
技术领域
本发明涉及一种芯片承载结构,特别是涉及一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构。
背景技术
近年来,随着电子及半导体技术的日新月异,使得电子产品不断地推陈出新,并朝向轻、薄、短、小的趋势设计。而电路板广泛地使用于各种电子设备当中。电路板表面上通常具有多个焊接垫,在制程中将焊料形成于电路板的焊接垫上,接着利用回焊处理将各种电子零件固定于电路板上,而各个电子零件通过电路板内的线路层彼此电性连接。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于,针对现有技术的不足提供一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构。
为了解决上述的技术问题,本发明所采用的其中一技术方案是,提供一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其包括:一非电路基板以及多个微加热器。所述非电路基板具有多个开口以及分别连通于多个所述开口的多个抽气通道。多个所述微加热器设置在所述非电路基板上,以被所述非电路基板所承载。其中,所述非电路基板的每一所述开口接触且吸住一芯片,且所述非电路基板与所述芯片之间并无黏着层。
更进一步来说,所述非电路基板为单一基板或是复合式基板;其中,多个所述芯片分别对应地设置在多个所述微加热器的下方,且所述芯片为IC芯片或者LED芯片;其中,每一所述微加热器对多个所述芯片之中的至少一个进行加热,以使得所述芯片通过锡球而固接在一电路基板上。
更进一步来说,所述非电路基板包括一第一基板以及一连接于所述第一基板的第二基板,所述第一基板的硬度大于、等于或者小于所述第二基板的硬度,多个所述开口设置在所述第一基板上,且每一所述抽气通道贯穿所述第一基板与所述第二基板;其中,所述第一基板的外表面上具有一接触所述芯片的环形凸部,且多个所述抽气通道彼此连通。
更进一步来说,所述非电路基板的外表面上具有一接触所述芯片的环形凸部,且多个所述抽气通道彼此连通。
为了解决上述的技术问题,本发明所采用的另外一技术方案是,提供一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其包括:一非电路基板以及至少一微加热器。所述非电路基板承载至少一芯片。至少一所述微加热器被所述非电路基板所承载,以加热至少一所述芯片所接触的至少一锡球。其中,所述非电路基板具有多个开口以及分别连通于多个所述开口的多个抽气通道。
更进一步来说,至少一所述芯片通过至少一所述锡球,以固接在一电路基板上而脱离所述非电路基板的承载。
更进一步来说,所述非电路基板为单一基板或是复合式基板;其中,至少一所述芯片对应地设置在至少一所述微加热器的下方,且至少一所述芯片为IC芯片或者LED芯片;其中,至少一所述微加热器对至少一所述芯片进行加热,以使得至少一所述芯片通过至少一所述锡球而固接在一电路基板上。
更进一步来说,所述非电路基板包括一第一基板以及一连接于所述第一基板的第二基板,所述第一基板的硬度大于、等于或者小于所述第二基板的硬度,多个所述开口设置在所述第一基板上,且每一所述抽气通道贯穿所述第一基板与所述第二基板;其中,所述第一基板的外表面上具有一接触至少一所述芯片的环形凸部,且多个所述抽气通道彼此连通。
更进一步来说,所述非电路基板的外表面上具有一接触至少一所述芯片的环形凸部,且多个所述抽气通道彼此连通。
更进一步来说,所述芯片承载结构还进一步包括:一雷射加热模块,其设置在所述非电路基板的上方,以对至少一所述锡球投射雷射光源。
本发明的其中一有益效果在于,本发明所提供的一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其能通过“所述非电路基板具有多个开口以及分别连通于多个所述开口的多个抽气通道”以及“所述微加热器被所述非电路基板所承载”的技术方案,以让所述非电路基板的每一所述开口能接触且吸住一芯片,并且能利用所述微加热器加热至少一所述芯片所接触的至少一锡球。
为使能更进一步了解本发明的特征及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而所提供的附图仅用于提供参考与说明,并非用来对本发明加以限制。
附图说明
图1为本发明第一实施例所提供具有芯片吸附功能的芯片承载结构的示意图(芯片接触锡球B前)。
图2为本发明第一实施例所提供具有芯片吸附功能的芯片承载结构的示意图(芯片接触锡球B后)。
图3为芯片通过锡球B而固接在电路基板P上的示意图。
图4为本发明第二实施例所提供具有芯片吸附功能的芯片承载结构的示意图。
图5为本发明第三实施例所提供具有芯片吸附功能的芯片承载结构的示意图。
图6为本发明第四实施例所提供具有芯片吸附功能的芯片承载结构的示意图。
图7为本发明第五实施例所提供具有芯片吸附功能的芯片承载结构的示意图。
图8为本发明第六实施例所提供具有芯片吸附功能的芯片承载结构的示意图。
图9为本发明第七实施例所提供具有芯片吸附功能的芯片承载结构的示意图。
具体实施方式
以下是通过特定的具体实施例来说明本发明所公开有关“具有芯片吸附功能的芯片承载结构”的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本发明的优点与效果。本发明可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用,本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用,在不悖离本发明的构思下进行各种修改与变更。另外,本发明的附图仅为简单示意说明,并非依实际尺寸的描绘,事先声明。以下的实施方式将进一步详细说明本发明的相关技术内容,但所公开的内容并非用以限制本发明的保护范围。
应当可以理解的是,虽然本文中可能会使用到“第一”、“第二”等术语来描述各种组件,但这些组件不应受这些术语的限制。这些术语主要是用以区分一组件与另一组件。另外,本文中所使用的术语“或”,应视实际情况可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。
参阅图1至图9所示,本发明提供一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构Z,其包括:一非电路基板1以及至少一微加热器2。更进一步来说,非电路基板1能用来承载至少一芯片C,并且非电路基板1具有多个开口101以及分别连通于多个开口101的多个抽气通道102。至少一微加热器2能被非电路基板1所承载,以用于加热至少一芯片C所接触的至少一锡球B。另外,至少一芯片C能对应地设置在至少一微加热器2的下方的任一位置(也就是说,至少一芯片C会非常靠近至少一微加热器2)。借此,当至少一芯片C接触至少一锡球B时,至少一微加热器2会对至少一芯片C进行加热,以使得至少一芯片C能通过至少一锡球B而固接在一电路基板P上,此时至少一芯片C就能脱离非电路基板1的承载(也就是说,微加热器2所产生的热能会穿过芯片C而对锡球B进行加热,所以芯片C就能通过锡球B而固接在电路基板P上,而不用再被非电路基板1所承载)。
第一实施例
参阅图1至图3所示,本发明第一实施例提供一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构Z,其包括:一非电路基板1以及多个微加热器2。
首先,如图1所示,非电路基板1具有多个开口101以及分别连通于多个开口101的多个抽气通道102,并且多个抽气通道102能彼此连通。借此,当使用者针对连通于多个抽气通道102的一连通通道103进行抽气时(如箭头所示),非电路基板1的每一开口101能接触且吸住一芯片C,以使得多个芯片C能分别对应地设置在多个微加热器2的下方。值得注意的是,非电路基板1与芯片C之间并无设置任何的黏着层,而且非电路基板1并不需要额外的黏着层来黏附芯片C(也就是说,当用户针对连通通道103进行抽气时,本发明仅使用开口101即能吸附芯片C,所以芯片C不需要使用任何的黏着层的黏附,就能直接被附着在非电路基板1上)。
举例来说,非电路基板1可以是单一基板或是复合式基板。另外,非电路基板1可为玻璃、石英、蓝宝石、陶瓷或者晶圆,或者非电路基板1也可以是聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane,PDMS)。聚二甲基硅氧烷是一种高分子有机硅化合物,通常被称为有机硅。液态时的二甲基硅氧烷为一黏稠液体,称做「二甲硅油(dimethicone)」,其属于硅油之类,是一种具有不同聚合度链状结构的有机硅氧烷混合物,其端基和侧基全为烃基(如甲基、乙基、苯基等)。一般的硅油为无色、无味、无毒、不易挥发的液体。固态的二甲基硅氧烷为一种硅胶,无毒、疏水性(hydrophobic)的惰性物质,且为非易燃性且透明的弹性体。二甲基硅氧烷的制程简便且快速,材料成本远低于硅晶圆,且其透光性良好、生物兼容性佳、易与多种材质室温接合,以及因为低杨氏模量(Young's modulus)所导致的结构高弹性(structural flexibility)等。然而,本发明所提供的非电路基板1不以上述所举的例子为限。
举例来说,芯片C可以是IC芯片、LED芯片或者任何种类的半导体芯片,或者任何种类的电子组件。另外,芯片C可为微型半导体发光组件(MicroLED),其包括呈堆栈状设置的一n型导电层、可被雷射光源穿过的一发光层以及一p型导电层。n型导电层可为n型氮化镓材料层或者n型砷化镓材料层,发光层可为多量子井结构层,并且p型导电层可为p型氮化镓材料层或者p型砷化镓材料层。另外,芯片C也可为次毫米发光二极管(Mini LED),其包括呈堆栈状设置的一基底层、一n型导电层、一被雷射光源穿过的发光层以及一p型导电层。基底层可为蓝宝石(sapphire)材料层,n型导电层可为n型氮化镓材料层或n型砷化镓材料层,发光层可为多量子井结构层,并且p型导电层可为p型氮化镓材料层或者p型砷化镓材料层。此外,基底层还可以是石英基底层、玻璃基底层、硅基底层或者任何材料的基底层。然而,本发明所提供的芯片C不以上述所举的例子为限。
再者,配合图1与图2所示,多个微加热器2设置在非电路基板1上,以被非电路基板1所承载,并且锡球B能被预先设置在电路基板P上。当每一个微加热器2对多个芯片C之中的至少一个进行加热时,芯片C能通过锡球B而固接在一电路基板P上。当芯片C通过锡球B而固接在一电路基板P上时,芯片C就能脱离非电路基板1的承载。举例来说,多个微加热器2可以采用串联或者并联的方式设置,并与一供电端(例如市电或主机,但不以此为限)电性连接,并且微加热器2可设置于非电路基板1的表面或者嵌设于非电路基板1的内部。举例来说,当每一个芯片C设置在两个锡球B上时,供给电能后的每一个微加热器2能对所对应的芯片C进行加热,锡球B通过芯片C被间接加热而产生软化,进而与芯片C产生连接。接着,在锡球B固化后,会使得芯片C被固接在电路基板P,并通过锡球B而与电路基板P电性连接,此时芯片C就能脱离非电路基板1的承载(如图3所示)。值得一提的是,本发明的非电路基板1可设有一回授电路单元,其主要包括驱动电路、讯号读取电路以及温度控制电路,可用以控制微加热器2的加热温度。然而,本发明所提供的微加热器2不以上述所举的例子为限。
第二实施例
参阅图4所示,本发明第二实施例提供一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构Z,其包括:一非电路基板1以及多个微加热器2。由图4与图1的比较可知,本发明第二实施例与第一实施例最大的差别在于:在第一实施例中,多个锡球B是预先设置在电路基板P上(如图1所示),而在第二实施例中,多个锡球B则是预先设置在芯片C的底端上(如图4所示)。也就是说,随着不同的使用需求,本发明的多个锡球B可以预先排列设置在电路基板P的相对应基板焊垫上(如图1所示的第一实施例),或者是本发明的多个锡球B可以预先排列设置在芯片C的相对应芯片焊垫上(如图4所示的第二实施例)。然而,本发明不以上述所举的实施例为限。
第三实施例
参阅图5所示,本发明第三实施例提供一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构Z,其包括:一非电路基板1以及多个微加热器2。由图5与图1的比较可知,本发明第三实施例与第一实施例最大的差别在于:在第三实施例中,非电路基板1的外表面上具有一接触芯片C的环形凸部13。借此,通过环形凸部13的使用,能够降低芯片C与非电路基板1之间的接触面积(也就是说,能够降低在芯片C与非电路基板1之间产生空隙的机会),以使得芯片C更能够轻易且稳固地被非电路基板1所吸附。
第四实施例
参阅图6所示,本发明第四实施例提供一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构Z,其包括:一非电路基板1以及多个微加热器2。由图6与图2的比较可知,本发明第四实施例与第一实施例最大的差别在于:第四实施例的芯片承载结构Z还进一步包括:一雷射加热模块3,其设置在非电路基板1的上方,以对多个锡球B投射雷射光源。更进一步来说,在每一个微加热器2对所对应的芯片C进行加热之前,还可先通过一雷射加热模块3对锡球B投射一雷射光源L。举例来说,雷射加热模块3所产生的雷射光源L会先穿过芯片C的n型导电层、发光层及p型导电层,然后再投射在位于电路基板P上的锡球B。先通过雷射加热模块3预先对锡球B进行第一次加热(预热),然后再利用微加热器2对锡球B进行第二次加热,将可大幅降低供给微加热器2的电压(也就是说,通过雷射光源L先对锡球B进行预热,将使得微加热器2原先瞬间所要提升的温度默认值可大幅降低)。举例来说,如果仅利用微加热器2对锡球B进行加热,微加热器2瞬间所要提升到的温度默认值可能为700度,而在雷射光源L先对锡球B进行预热的情况下,微加热器2瞬间所要提升到的温度默认值可能就只需要400度或者更低。然而,本发明所提供的雷射加热模块3不以上述所举的例子为限。
第五实施例
参阅图7所示,本发明第五实施例提供一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构Z,其包括:一非电路基板1以及多个微加热器2。由图7与图2的比较可知,本发明第五实施例与第一实施例最大的差别在于:在第五实施例中,非电路基板1包括一第一基板11以及一连接于第一基板11的第二基板12。另外,多个开口101设置在第一基板11上,并且每一抽气通道102贯穿第一基板11与第二基板12。举例来说,第一基板11的硬度可以大于、等于或者小于第二基板12的硬度。然而,本发明所提供的非电路基板1不以上述所举的例子为限。
第六实施例
参阅图8所示,本发明第六实施例提供一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构Z,其包括:一非电路基板1以及多个微加热器2。由图8与图7的比较可知,本发明第六实施例与第五实施例最大的差别在于:在第六实施例中,非电路基板1的第一基板11的外表面上具有一接触芯片C的环形凸部13。借此,通过环形凸部13的使用,能够降低芯片C与非电路基板1之间的接触面积(也就是说,能够降低在芯片C与非电路基板1之间产生空隙的机会),以使得芯片C更能够轻易且稳固地被非电路基板1所吸附。
第七实施例
参阅图9所示,本发明第七实施例提供一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构Z,其包括:一非电路基板1以及多个微加热器2。由图9与图7的比较可知,本发明第七实施例与第五实施例最大的差别在于:第七实施例的芯片承载结构Z还进一步包括:一雷射加热模块3,其设置在非电路基板1的上方,以对多个锡球B投射雷射光源。更进一步来说,在每一个微加热器2对所对应的芯片C进行加热之前,还可先通过一雷射加热模块3对锡球B投射一雷射光源L。举例来说,雷射加热模块3所产生的雷射光源L会先穿过芯片C的n型导电层、发光层及p型导电层,然后再投射在位于电路基板P上的锡球B。先通过雷射加热模块3预先对锡球B进行第一次加热(预热),然后再利用微加热器2对锡球B进行第二次加热,将可大幅降低供给微加热器2的电压(也就是说,通过雷射光源L先对锡球B进行预热,将使得微加热器2原先瞬间所要提升的温度默认值可大幅降低)。举例来说,如果仅利用微加热器2对锡球B进行加热,微加热器2瞬间所要提升到的温度默认值可能为700度,而在雷射光源L先对锡球B进行预热的情况下,微加热器2瞬间所要提升到的温度默认值可能就只需要400度或者更低。然而,本发明所提供的雷射加热模块3不以上述所举的例子为限。
实施例的有益效果
本发明的其中一有益效果在于,本发明所提供的一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构Z,其能通过“非电路基板1具有多个开口101以及分别连通于多个开口101的多个抽气通道102”以及“微加热器2被非电路基板1所承载”的技术方案,以让非电路基板1的每一开口101能接触且吸住一芯片C,并且能利用微加热器2加热至少一芯片C所接触的至少一锡球B。
以上所公开的内容仅为本发明的优选可行实施例,并非因此局限本发明的权利要求书的保护范围,所以凡是运用本发明说明书及附图内容所做的等效技术变化,均包含于本发明的权利要求书的保护范围内。

Claims (10)

1.一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其特征在于,所述芯片承载结构包括:
一非电路基板,其具有多个开口以及分别连通于多个所述开口的多个抽气通道;以及
多个微加热器,其设置在所述非电路基板上,以被所述非电路基板所承载;
其中,所述非电路基板的每一所述开口接触且吸住一芯片,且所述非电路基板与所述芯片之间并无黏着层。
2.根据权利要求1所述的具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其特征在于,所述非电路基板为单一基板或是复合式基板;其中,多个所述芯片分别对应地设置在多个所述微加热器的下方,且所述芯片为IC芯片或者LED芯片;其中,每一所述微加热器对多个所述芯片之中的至少一个进行加热,以使得所述芯片通过锡球而固接在一电路基板上。
3.根据权利要求2所述的具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其特征在于,所述非电路基板包括一第一基板以及一连接于所述第一基板的第二基板,所述第一基板的硬度大于、等于或者小于所述第二基板的硬度,多个所述开口设置在所述第一基板上,且每一所述抽气通道贯穿所述第一基板与所述第二基板;其中,所述第一基板的外表面上具有一接触所述芯片的环形凸部,且多个所述抽气通道彼此连通。
4.根据权利要求1所述的具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其特征在于,所述非电路基板的外表面上具有一接触所述芯片的环形凸部,且多个所述抽气通道彼此连通。
5.一种具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其特征在于,所述芯片承载结构包括:
一非电路基板,其承载至少一芯片;以及
至少一微加热器,其被所述非电路基板所承载,以加热至少一所述芯片所接触的至少一锡球;
其中,所述非电路基板具有多个开口以及分别连通于多个所述开口的多个抽气通道。
6.根据权利要求5所述的具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其特征在于,至少一所述芯片通过至少一所述锡球,以固接在一电路基板上而脱离所述非电路基板的承载。
7.根据权利要求5所述的具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其特征在于,所述非电路基板为单一基板或是复合式基板;其中,至少一所述芯片对应地设置在至少一所述微加热器的下方,且至少一所述芯片为IC芯片或者LED芯片;其中,至少一所述微加热器对至少一所述芯片进行加热,以使得至少一所述芯片通过至少一所述锡球而固接在一电路基板上。
8.根据权利要求7所述的具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其特征在于,所述非电路基板包括一第一基板以及一连接于所述第一基板的第二基板,所述第一基板的硬度大于、等于或者小于所述第二基板的硬度,多个所述开口设置在所述第一基板上,且每一所述抽气通道贯穿所述第一基板与所述第二基板;其中,所述第一基板的外表面上具有一接触至少一所述芯片的环形凸部,且多个所述抽气通道彼此连通。
9.根据权利要求5所述的具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其特征在于,所述非电路基板的外表面上具有一接触至少一所述芯片的环形凸部,且多个所述抽气通道彼此连通。
10.根据权利要求5所述的具有芯片吸附功能的芯片承载结构,其特征在于,所述芯片承载结构还进一步包括:一雷射加热模块,其设置在所述非电路基板的上方,以对至少一所述锡球投射雷射光源。
CN201911390065.0A 2019-11-04 2019-12-30 具有芯片吸附功能的芯片承载结构 Pending CN112786516A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW108139915 2019-11-04
TW108139915A TW202119533A (zh) 2019-11-04 2019-11-04 具有晶片吸附功能的晶片承載結構

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN112786516A true CN112786516A (zh) 2021-05-11

Family

ID=75687947

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911390065.0A Pending CN112786516A (zh) 2019-11-04 2019-12-30 具有芯片吸附功能的芯片承载结构

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20210134613A1 (zh)
CN (1) CN112786516A (zh)
TW (1) TW202119533A (zh)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1265226A (zh) * 1997-07-23 2000-08-30 因芬尼昂技术股份公司 用于建立芯片一衬底-连接的设备和方法
CN1913115A (zh) * 2005-08-11 2007-02-14 三星Techwin株式会社 用于倒装芯片接合的方法和装置
TW200719426A (en) * 2005-11-03 2007-05-16 Advanced Semiconductor Eng Vacuum sucker and alignment apparatus using the same
JP2010192773A (ja) * 2009-02-19 2010-09-02 Nec Corp 吸着ヘッド、ワーク搬送装置及びワーク搬送方法、並びに、半導体チップ実装装置及び半導体チップ実装方法
JP2012174861A (ja) * 2011-02-21 2012-09-10 Sekisui Chem Co Ltd フリップチップ実装方法
US20130292455A1 (en) * 2012-05-03 2013-11-07 International Business Machines Corporation Flip chip assembly apparatus employing a warpage-suppressor assembly
CN207320071U (zh) * 2017-10-02 2018-05-04 盟立自动化股份有限公司 激光辅助接合装置
CN109003969A (zh) * 2018-08-21 2018-12-14 佛山市国星光电股份有限公司 一种基于高密度显示的cob封装方法、***及cob器件
CN109196629A (zh) * 2016-03-24 2019-01-11 株式会社新川 接合装置
US20190027388A1 (en) * 2016-01-06 2019-01-24 Shinkawa Ltd. Electronic component mounting apparatus
CN109690758A (zh) * 2016-07-26 2019-04-26 荷兰应用自然科学研究组织Tno 用于将芯片接合至基底的方法和***

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5317803A (en) * 1991-05-30 1994-06-07 Sierra Research And Technology, Inc. Method of soldering an integrated circuit
JP3397051B2 (ja) * 1996-08-20 2003-04-14 松下電器産業株式会社 導電性ボールの搭載装置および搭載方法
US6196439B1 (en) * 1998-05-29 2001-03-06 International Business Machines Corporation Method and apparatus for μBGA removal and reattach
JP2002158257A (ja) * 2000-11-16 2002-05-31 Mitsubishi Electric Corp フリップチップボンディング方法
US7650688B2 (en) * 2003-12-31 2010-01-26 Chippac, Inc. Bonding tool for mounting semiconductor chips
JP4372605B2 (ja) * 2004-04-15 2009-11-25 パナソニック株式会社 電子部品搭載装置および電子部品搭載方法
JP4242442B2 (ja) * 2005-10-20 2009-03-25 パナソニック株式会社 電子部品実装方法
US7506792B1 (en) * 2007-05-04 2009-03-24 Manfroy John V Solder sphere placement apparatus
JP2010021445A (ja) * 2008-07-11 2010-01-28 Nippon Steel Materials Co Ltd 微細ボール除去方法及び除去装置、並びに微細ボール一括搭載方法及び一括搭載装置
JP2011061073A (ja) * 2009-09-11 2011-03-24 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置
KR20120108229A (ko) * 2011-03-23 2012-10-05 삼성디스플레이 주식회사 레이저 가공용 워크 테이블
US20130175324A1 (en) * 2012-01-11 2013-07-11 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Thermal compression head for flip chip bonding
US9881896B2 (en) * 2015-12-17 2018-01-30 International Business Machines Corporation Advanced chip to wafer stacking
WO2018038153A1 (ja) * 2016-08-24 2018-03-01 東レエンジニアリング株式会社 実装方法および実装装置
CN107887293B (zh) * 2016-09-30 2020-06-16 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种批处理键合装置及键合方法
US10217729B2 (en) * 2016-09-30 2019-02-26 Intel Corporation Apparatus for micro pick and bond
CN110178457B (zh) * 2016-11-17 2020-10-30 株式会社新川 安装头
US10734259B2 (en) * 2016-11-21 2020-08-04 Shinkawa Ltd. Electronic component mounting apparatus
US10615063B2 (en) * 2017-11-08 2020-04-07 Facebook Technologies, Llc Vacuum pick-up head for semiconductor chips
US10832933B1 (en) * 2018-04-02 2020-11-10 Facebook Technologies, Llc Dry-etching of carrier substrate for microLED microassembly
KR20200008246A (ko) * 2018-07-16 2020-01-28 삼성전자주식회사 기판 본딩용 진공척, 이를 포함하는 기판 본딩 장치 및 이를 이용한 기판 본딩 방법
KR20200109852A (ko) * 2019-03-15 2020-09-23 주식회사 루멘스 마이크로 엘이디 디스플레이 모듈 제조 방법
US10818643B1 (en) * 2019-09-23 2020-10-27 Facebook Technologies, Llc Rigid pickup head with conformable layer
US11362485B1 (en) * 2021-10-15 2022-06-14 Aeva, Inc. Techniques for bonding multiple semiconductor lasers

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1265226A (zh) * 1997-07-23 2000-08-30 因芬尼昂技术股份公司 用于建立芯片一衬底-连接的设备和方法
CN1913115A (zh) * 2005-08-11 2007-02-14 三星Techwin株式会社 用于倒装芯片接合的方法和装置
TW200719426A (en) * 2005-11-03 2007-05-16 Advanced Semiconductor Eng Vacuum sucker and alignment apparatus using the same
JP2010192773A (ja) * 2009-02-19 2010-09-02 Nec Corp 吸着ヘッド、ワーク搬送装置及びワーク搬送方法、並びに、半導体チップ実装装置及び半導体チップ実装方法
JP2012174861A (ja) * 2011-02-21 2012-09-10 Sekisui Chem Co Ltd フリップチップ実装方法
US20130292455A1 (en) * 2012-05-03 2013-11-07 International Business Machines Corporation Flip chip assembly apparatus employing a warpage-suppressor assembly
US20190027388A1 (en) * 2016-01-06 2019-01-24 Shinkawa Ltd. Electronic component mounting apparatus
CN109196629A (zh) * 2016-03-24 2019-01-11 株式会社新川 接合装置
CN109690758A (zh) * 2016-07-26 2019-04-26 荷兰应用自然科学研究组织Tno 用于将芯片接合至基底的方法和***
CN207320071U (zh) * 2017-10-02 2018-05-04 盟立自动化股份有限公司 激光辅助接合装置
CN109003969A (zh) * 2018-08-21 2018-12-14 佛山市国星光电股份有限公司 一种基于高密度显示的cob封装方法、***及cob器件

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
刘斌: "《金属焊接技术基础》", 国防工业出版社, pages: 170 - 171 *

Also Published As

Publication number Publication date
US20210134613A1 (en) 2021-05-06
TW202119533A (zh) 2021-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101926014B (zh) 半导体器件封装
TWI666263B (zh) 可固化聚矽氧組合物,其固化產品及光學半導體裝置
JP5202822B2 (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および半導体装置
EP2287927B1 (en) Power light emitting die package with lens
JP5972512B2 (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置
EP1756880B1 (en) Composite optical lens with an integrated reflector
EP0209265B1 (en) Lead frame for semiconductor devices
EP3045499A1 (en) Curable silicone composition, cured product thereof, and optical semiconductor device
KR20110089164A (ko) 경화성 오가노폴리실록산 조성물, 광 반도체 소자 밀봉제 및 광 반도체 장치
ATE377843T1 (de) Multichip-schaltungsmodul und verfahren zur herstellung hierzu
KR20190023046A (ko) 반도체 패키지 구조물
US20080273340A1 (en) Solid State Light Source Having a Variable Number of Dies
WO2014014008A1 (ja) 封止層被覆半導体素子および半導体装置の製造方法
CN106469776B (zh) 电子装置与其制造方法
US11222833B2 (en) Micro-heaters in a film structure mounted on a substrate between a plurality of electronic components
JP2010245477A (ja) 光デバイス及びその製造方法
US11222829B2 (en) Electronic device mounting structure and mounting device to mount such electronic device
JP2014090157A (ja) 封止シート被覆半導体素子、その製造方法、半導体装置およびその製造方法
CN112786516A (zh) 具有芯片吸附功能的芯片承载结构
CN111668171B (zh) 芯片承载结构及芯片承载设备
JP3561147B2 (ja) 発光ダイオード素子アレイの実装構造
US9806245B2 (en) Light emitting device package, backlight unit, and method of manufacturing light emitting device package
JP5913538B2 (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置
KR20110013607A (ko) 광학소자의 투광부 패키지 방법 및 장치
CN113808988B (zh) 发光芯片承载结构及其制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20210511

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication