CN112649903B - 复合膜组及其制备方法、采光装置和显示装置 - Google Patents
复合膜组及其制备方法、采光装置和显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112649903B CN112649903B CN202011575248.2A CN202011575248A CN112649903B CN 112649903 B CN112649903 B CN 112649903B CN 202011575248 A CN202011575248 A CN 202011575248A CN 112649903 B CN112649903 B CN 112649903B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- refractive index
- film
- composite
- composite film
- composite membrane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 736
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 95
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 1055
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 48
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 20
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 claims description 7
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 230000003669 anti-smudge Effects 0.000 claims 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 76
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 20
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 19
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 17
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004352 SiO0.2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminium flouride Chemical compound F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910004662 SiO0.4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910010888 LiIn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004686 SiO0.3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004674 SiO0.5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004756 SiO0.7 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910009815 Ti3O5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910009520 YbF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 229910001610 cryolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 230000003534 oscillatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/023—Optical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/418—Refractive
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/73—Hydrophobic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F1/00—Details not covered by groups G06F3/00 - G06F13/00 and G06F21/00
- G06F1/16—Constructional details or arrangements
- G06F1/1613—Constructional details or arrangements for portable computers
- G06F1/1633—Constructional details or arrangements of portable computers not specific to the type of enclosures covered by groups G06F1/1615 - G06F1/1626
- G06F1/1637—Details related to the display arrangement, including those related to the mounting of the display in the housing
- G06F1/1652—Details related to the display arrangement, including those related to the mounting of the display in the housing the display being flexible, e.g. mimicking a sheet of paper, or rollable
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本发明提供了一种复合膜组及其制备方法、采光及显示装置,涉及光学领域,用于降低复合膜组的反射率。复合膜包括层叠设置的第一折射率膜和第二折射率膜,在同一复合膜中,第一折射率膜的折射率大于第二折射率膜的折射率;任意相邻两个第二折射率膜之间设置有一个第一折射率膜,任意相邻两个第一折射率膜之间设置有一个第二折射率膜;且,在复合膜组的同一厚度方向上,存在相邻的两个复合膜:前一个复合膜中的第一折射率膜的折射率大于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率,前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率大于后一个复合膜中的第二折射率膜的折射率。
Description
【技术领域】
本发明涉及光学技术领域,尤其涉及一种复合膜组及其制备方法、采光装置和显示装置。
【背景技术】
目前,很多光学设备上都有减少反射光和/或提高透射光光强的需求。例如,在显示技术领域,为提高显示画面的对比度,需要在显示装置的出光侧设置减少反射光的减反膜。以及,在光学透镜领域,为提高入射至镜头内的光强,减少镜头表面的反射光的强度,也需要在光学透镜表面设置减少反射光光强提高透射光光强的减反增透膜。另外,在光伏发电领域,为提高入射至光伏组件的光强,提高光伏组件的光电转化效率,需要在光伏组件的表面设置减反增透膜。但是,目前已有的减反膜依然存在反射率较高的问题。
【发明内容】
有鉴于此,本发明实施例提供了一种复合膜组及其制备方法、采光装置和显示装置,用以降低复合膜组的反射率。
一方面,本发明实施例提供了一种复合膜组,包括至少两层复合膜;所述复合膜包括层叠设置的第一折射率膜和第二折射率膜,在同一所述复合膜中,所述第一折射率膜的折射率大于所述第二折射率膜的折射率;任意相邻两个所述第二折射率膜之间设置有一个所述第一折射率膜,任意相邻两个所述第一折射率膜之间设置有一个所述第二折射率膜;
且,在所述复合膜组的同一厚度方向上,存在相邻的两个所述复合膜:
前一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率大于后一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,前一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率大于后一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率;
或者,
前一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率大于后一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,前一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率等于后一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率;
或者,
前一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率等于后一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,前一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率大于后一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率。
另一方面,本发明实施例提供了一种复合膜组的制备方法,包括:
提供衬底;
通过薄膜沉积工艺或喷涂工艺在所述衬底的一侧形成覆盖所述衬底的在所述衬底的一侧形成至少两层复合膜;所述复合膜包括层叠设置的第一折射率膜和第二折射率膜,所述第一折射率膜的折射率大于所述第二折射率膜的折射率;任意相邻两个所述第二折射率膜之间设置有一个所述第一折射率膜,任意相邻两个所述第一折射率膜之间设置有一个所述第二折射率膜;
且,在所述复合膜组的同一厚度方向上,存在相邻的两个所述复合膜:
前一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率大于后一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,前一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率大于后一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率;
或者,
前一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率大于后一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,前一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率等于后一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率;
或者,
前一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率等于后一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,前一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率大于后一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率。
再一方面,本发明实施例提供了一种采光装置,包括:
采光模块,用于采集光线;
如上所述的复合膜组,所述复合膜组位于所述采光模块的采光侧;
在所述复合膜组中,最靠近所述采光模块的所述第一折射率膜的折射率大于等于其他所述第一折射率膜的折射率。
还一方面,本发明实施例提供了一种显示装置,包括:
显示面板;
如上所述的复合膜组,所述复合膜组位于所述显示面板的出光侧;
在所述复合膜组中,最靠近所述显示面板的所述第一折射率膜的折射率大于等于其他所述第一折射率膜的折射率。
本发明实施例提供的复合膜组及其制备方法、采光及显示装置,在将该复合膜组应用于光学设备上时,调整复合膜组的设置方位,使复合膜组中等效折射率相对较小的复合膜位于复合膜组靠近入射光的一侧,在光线经空气射入该复合膜组时,可以使光线经折射率最小的空气,经等效折射率相对较小的复合膜,然后经等效折射率相对较大的复合膜出射,即,可以使光线在经空气射入复合膜组以及在复合模组内部的传播过程中,经过折射率逐渐增大的介质,能够弱化空气和复合膜组之间,以及复合模组内部不同折射率的介质之间的界面对光线的影响,达到降低被复合模组反射的反射光的光强,提高透过复合膜组的透射光的光强的目的。
而且,从微观角度来看,在光线经过复合膜或复合膜时,由于这两个复合膜中均包括两个折射率不同的单层膜层,结合薄膜干涉原理,入射光线在经过任一复合膜时产生的反射光可以发生干涉相消。因此,光线经过该复合膜组的反射率可以得到进一步降低。并且,在设置每一复合膜中,将其中折射率相对较小的第二折射率膜设置于该复合膜靠近入射光的一侧,使入射至相应复合膜的光线在在复合膜内的传播过程中所经过的介质之间的界面能够弱化,减弱光线在传播过程中的反射程度。
【附图说明】
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本发明实施例提供的一种复合膜组的截面示意图;
图2为本发明实施例提供的一种复合模组中相邻两个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图;
图3为本发明实施例提供的另一种复合模组中相邻两个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图;
图4为本发明实施例提供的又一种复合模组中相邻两个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图;
图5为本发明实施例提供的又一种复合模组中相邻三个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图;
图6为本发明实施例提供的另一种复合膜组的截面示意图;
图7为本发明实施例提供的又一种复合模组中相邻六个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图;
图8为本发明实施例提供的又一种复合模组中相邻六个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图;
图9为本发明实施例提供的一种复合膜组的制备方法的流程示意图;
图10为本发明实施例提供的一种复合膜组的制备结构流程示意图;
图11为本发明实施例提供的另一种复合膜组的制备结构流程示意图;
图12为本发明实施例提供的一种采光装置的截面示意图;
图13为本发明实施例提供的一种显示装置的俯视示意图;
图14为本发明实施例提供的一种显示装置的截面示意图;
图15为本发明实施例提供的另一种显示装置的截面示意图;
图16为本发明实施例提供的又一种显示装置的截面示意图;
图17为本发明实施例提供的又一种显示装置的截面示意图;
图18为本发明实施例提供的一种复合膜组的透射率和反射率的模拟结果示意图;
图19为本发明实施例提供的另一种复合膜组的透射率和反射率的模拟结果示意图;
图20为三种具有相同层数的不同复合膜组的反射率的模拟结果示意图;
图21为三种具有另一层数的复合膜组的反射率的模拟结果示意图;
图22为本发明实施例提供的一种显示装置的色相模拟结果示意图;
图23为本发明实施例提供的另一种显示装置的色相模拟结果示意图;
图24为相关技术中一种显示装置的色相模拟结果示意图;
图25为相关技术中另一种显示装置的色相模拟结果示意图;
图26为本发明实施例提供的一种复合模组的透过率波动模拟结果示意图;
图27为相关技术中一种复合模组的透过率波动模拟结果示意图;
图28为相关技术中另一种复合模组的透过率波动模拟结果示意图;
图29为本发明实施例提供的又一种显示装置的截面示意图;
图30为本发明实施例提供的又一种显示装置的截面示意图。
【具体实施方式】
为了更好的理解本发明的技术方案,下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。
应当明确,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的,而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式,除非上下文清楚地表示其他含义。
应当理解,本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系,表示可以存在三种关系,例如,A和/或B,可以表示:单独存在A,同时存在A和B,单独存在B这三种情况。另外,本文中字符“/”,一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
应当理解,尽管在本发明实施例中可能采用术语第一、第二等来描述具有不同折射率的膜层,但这些膜层不应限于这些术语。这些术语仅用来将具有不同折射率的膜层彼此区分开。例如,在不脱离本发明实施例范围的情况下,第一折射率膜也可以被称为第二折射率膜,类似地,第二折射率膜也可以被称为第一折射率膜。
本发明实施例提供了一种复合膜组,该复合膜组包括至少两层复合膜F。如图1所示,图1为本发明实施例提供的一种复合膜组的截面示意图,复合膜组100包括N层复合膜,N大于等于2。为示区分,在图1中对不同的复合膜以下标i进行区分。例如,复合膜Fi代表复合膜组100中沿复合膜组100的厚度方向上的第i层复合膜,复合膜Fi+1代表复合膜组100中沿复合膜组100的同一厚度方向上的第i+1层复合膜。在本发明实施例中,每层复合膜Fi包括层叠设置的第一折射率膜Hi和第二折射率膜Li,在同一复合膜Fi中,第一折射率膜Hi的折射率大于第二折射率膜Li的折射率。
并且,在本发明实施例中,在任意相邻两个第二折射率膜之间设置有一个第一折射率膜,任意相邻两个第一折射率膜之间设置有一个第二折射率膜。如图1所示,在第二折射率膜Li-1和第二折射率膜Li之间设置有一个第一折射率膜Hi;在第一折射率膜Hi-1和第一折射率膜Hi之间设置有一个第二折射率膜Li-1。也就是说,在复合膜组100中,沿复合膜组100的厚度方向,第一折射率膜和第二折射率膜交替设置。
除此之外,在复合膜组100的同一厚度方向上,存在相邻的两个复合膜:前一个复合膜的等效折射率大于后一个复合膜的等效折射率。其中,复合膜的等效折射率表示的是:将复合膜等效为一单层膜层,光线经过该等效的单层膜层与光线经过复合膜发生相同程度的折射,该单层膜层的折射率即为复合膜的等效折射率。复合膜的等效折射率的计算可以根据如下过程进行计算:
对于单一膜层来说,其特征矩阵表示为:
以复合膜中设置有两层单层膜层,将靠近入射介质的膜层序号用1表示,远离入射介质的膜层序号用2表示,对于包括两层单层膜层的复合膜而言,作用矩阵能够简化为一单层膜层的特征矩阵形式,具体可表示为:
令其与一般特征矩阵相等,即,令:
以光线垂直复合膜入射,即,θ=0°为例,此时满足:
将其代入公式(2)可得:
因此,在由多个单层膜层形成的复合膜中,如果已知单层膜层的折射率n,色散系数k,以及厚度d,根据公式(3)即可求得该复合膜的等效折射率。
以图1所示方位为例,在本发明实施例中,复合膜组100的厚度方向,可以为从LN指向H1的方向,或者,也可以为自H1指向LN的方向,本发明实施例对此不做限定。
以复合膜组100的厚度方向为自LN指向H1的方向为例,上述相邻的两个复合膜可以分别为复合膜Fi-1和复合膜Fi,在这两个复合膜中前一个复合膜为复合膜Fi,后一个复合膜为复合膜Fi-1,即,本发明实施例可以令复合膜Fi的等效折射率ni大于复合膜Fi-1的等效折射率ni-1。
以复合膜组100的厚度方向为自H1指向LN的方向为例,上述相邻的两个复合膜可以分别为复合膜Fi-1和复合膜Fi,在这两个复合膜中前一个复合膜为复合膜Fi-1,后一个复合膜为复合膜Fi,即,本发明实施例可以令复合膜Fi-1的等效折射率ni-1的折射率大于复合膜Fi的等效折射率ni。
以下如无特殊说明,均以自H1指向LN的方向为例来说明复合膜组的厚度方向。
在将该复合膜组100应用于光学设备上时,调整复合膜组100的设置方位,使该复合膜组100中等效折射率相对较小的复合膜位于复合膜组100靠近入射光的一侧,在光线经空气射入该复合膜组100时,可以使光线经折射率最小的空气,经等效折射率相对较小的复合膜Fi,然后经等效折射率相对较大的复合膜Fi-1出射,即,可以使光线在经空气射入复合膜组100以及在复合模组100内部的传播过程中,经过折射率逐渐增大的介质,能够弱化空气和复合膜组100之间,以及复合模组100内部不同折射率的介质之间的界面对光线的影响,达到降低被复合模组100反射的反射光的光强,提高透过复合膜组100的透射光的光强的目的。
而且,从微观角度来看,在光线经过复合膜Fi或复合膜Fi-1时,由于这两个复合膜中均包括两个折射率不同的单层膜层,结合薄膜干涉原理,入射光线在经过任一复合膜时产生的反射光可以发生干涉相消。因此,光线经过该复合膜组的反射率可以得到进一步降低。并且,在设置每一复合膜中,将其中折射率相对较小的第二折射率膜设置于该复合膜靠近入射光的一侧,使入射至相应复合膜的光线在在复合膜内的传播过程中所经过的介质之间的界面能够弱化,减弱光线在传播过程中的反射程度。
具体的,为实现使前一个复合膜的等效折射率大于后一个复合膜的等效折射率,本发明实施例提供了多种方式。
例如,在一种实施方式中,如图2所示,图2为本发明实施例提供的一种复合模组中相邻两个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图,本发明实施例可以使前一个复合膜中的第一折射率膜Hi-1的折射率大于后一个复合膜中的第一折射率膜Hi的折射率,前一个复合膜中的第二折射率膜Li-1的折射率大于后一个复合膜中的第二折射率膜Li的折射率。
或者,如图3所示,图3为本发明实施例提供的另一种复合模组中相邻两个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图,本发明实施例也可以令前一个复合膜中的第一折射率膜Hi-1的折射率大于后一个复合膜中的第一折射率膜Hi的折射率,令前一个复合膜中的第二折射率膜Li-1的折射率等于后一个复合膜中的第二折射率膜Li的折射率。
或者,如图4所示,图4为本发明实施例提供的又一种复合模组中相邻两个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图,本发明实施例也可以令前一个复合膜中的第一折射率膜Hi-1的折射率等于后一个复合膜中的第一折射率膜Hi的折射率,前一个复合膜中的第二折射率膜Li-1的折射率大于后一个复合膜中的第二折射率膜Li的折射率。
通过采用上述方式,对于这两个相邻的复合膜Fi和Fi-1来说,均可以使前一个复合膜Fi-1的等效折射率大于后一个复合膜Fi的等效折射率。
示例性的,在本发明实施例中,在上述相邻的两个复合膜中,在将前一个复合膜的等效折射率设置为大于后一个复合膜的等效折射率的基础上,本发明实施例可以令前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率小于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率。例如,如图2、图3和图4所示,令复合膜Fi-1的第二折射率膜Li-1的折射率小于复合膜Fi中的第一折射率膜Hi的折射率。也就是说,使这相邻的两个复合膜形成具有振荡式下降的折射率变化趋势。由于目前具有相对较低的折射率的材料有限,因此,采用该设置方式,在形成复合膜组时,能够增多其中可选择的膜层的种类数,便于在目前已有的光学材料中进行选择。而且,在相邻两个复合膜的等效折射率的差值一定的情况下,相对于将前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率设置为大于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率的方案来说,使复合膜组100的折射率形具有振荡式下降变化趋势,无需在复合膜中设置过多数量的膜层。换句话说,在复合膜中的膜层数量及各个膜层的折射率相同的情况下,采用本发明实施例所提供的方式,可以使两个复合膜的等效折射率之间的差值较小,即,能够使两个复合膜之间的折射率变化更加平缓,更有利于通过弱化二者之间的界面来实现减反的目的。因此,采用本发明实施例的设置方式,在保证复合膜组的减反效果的同时,还有利于减小复合模组的厚度,简化复合模组的制备工艺。
特别地,在将复合膜组100应用于诸如手机、电脑、摄像机等一些光学设备时,这些光学设备的表面通常会设置有玻璃、亚克力等透光膜层,由于诸如玻璃和亚克力等透光膜层在内的材料的折射率一般在1.5左右。因此,为实现减反,需要使复合膜的等效折射率小于1.5。目前来说,折射率小于1.5的光学膜层的种类非常有限。因此,采用本发明实施例提供的方式,沿复合膜组的厚度方向,通过使复合膜组形成具有振荡式下降变化规律的折射率,可选择的材料种类很多。
或者,本发明实施例也可以将前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率设置为大于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率,即,在复合膜组100中,沿厚度方向,令各个单一膜层的折射率逐渐减小。如此设置,可以将该复合膜组应用于诸如太阳能电池等表面为具有相对较大折射率材料构成的设备。在太阳能电池中,其表面一般为由Si构成的反应层,其折射率在3~4之间。折射率小于Si的材料的选择较多,因此,也很容易利用已有材料形成反射率较低的复合膜组。
示例性的,在复合膜组100的同一厚度方向上,本发明实施例可以将其中任意相邻两个复合膜中的膜层均按上述折射率变化趋势进行设置,以进一步降低复合膜组100的反射率。具体的,本发明实施例可以在任意相邻的两个复合膜中:使前一个复合膜中的第一折射率膜的折射率大于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率,使前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率大于后一个复合膜中的第二折射率膜的折射率。或者,使前一个复合膜中的第一折射率膜的折射率大于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率,使前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率等于后一个复合膜中的第二折射率膜的折射率。或者,使前一个复合膜中的第一折射率膜的折射率等于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率,使前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率大于后一个复合膜中的第二折射率膜的折射率。即,令:nH1≥nH2≥nH3≥……≥nH(i-1)≥nHi≥nH(i+1)≥……≥nHN;nL1≥nL2≥nL3≥……≥nL(i-1)≥nLi≥nL(i+1)≥……≥nLN。其中,nHi为复合膜组100中沿其厚度方向的第i个复合膜中的第一折射率膜的折射率,nLi为复合膜组100中沿其厚度方向的第i个复合膜中的第二折射率膜的折射率。
而且,也可以使任意相邻的两个复合膜中,本发明实施例可以令前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率小于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率,即,令nLi<nH(i+1),以在降低复合膜组100的反射率的基础上,减小复合膜组100的厚度,增多其中可选择的膜层种类数。
示例性的,在使前一个复合膜的等效折射率大于后一个复合膜的等效折射率的基础上,在复合膜组100的同一厚度方向上,在设置其中相邻的三个复合膜中,本发明实施例可以令第一个复合膜和第二个复合膜中的折射率分布,与第二个复合膜和第三个复合膜中的折射率设置规律不同。例如,在第一个复合膜和第二个复合膜中的膜层的折射率按照图2所示规律设置时,第二个复合膜和第三个复合膜中的膜层的折射率可以按照图3或图4所示规律设置。或者,在第一个复合膜和第二个复合膜中的膜层的折射率按照图3或图4所示规律设置时,第二个复合膜和第三个复合膜中的膜层的折射率可以按照图2所示规律分布,本发明实施例对此不做限定。
可选的,在相邻的三个复合膜中,本发明实施例可以令:第二个复合膜中的第一折射率膜的折射率等于第一个复合膜中的第一折射率膜的折射率,即,令第一个复合膜和第二个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率按照图4所示规律分布。以及,令第二个复合膜中的第二折射率膜的折射率等于第三个复合膜中的第二折射率膜的折射率,即,令第二个复合膜和第三个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率按照图3所示规律分布。此时,可以令第一个复合膜中的第二折射率膜的折射率大于等于第三个复合膜中的第一折射率膜的折射率。例如,可以使第一个复合膜中的第二折射率膜的折射率等于第三个复合膜中的第一折射率膜的折射率。如此设置,可以采用相同的材料来形成第一个复合膜中的第二折射率膜和第三个复合膜中的第一折射率膜。
具体的,如图5所示,图5为本发明实施例提供的又一种复合模组中相邻三个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图,其中,第一个复合膜中的第一折射率膜Hi-1的折射率等于第二个复合膜中的第一折射率膜Hi的折射率,即nH(i-1)=nHi;第一个复合膜中的第二折射率膜Li-1的折射率大于第二个复合膜中的第二折射率膜Li的折射率,即nL(i-1)>nLi;第二个复合膜中的第二折射率膜Li的折射率等于第三个复合膜中的第二折射率膜Li+1的折射率,即nLi=nL(i+1);第二个复合膜中的第一折射率膜Hi的折射率大于第三个复合膜中的第一折射率膜Hi+1的折射率,即nHi>nH(i+1);第一个复合膜中的第二折射率膜Li-1的折射率等于第三个复合膜中的第一折射率膜Hi+1的折射率,即nL(i-1)=nH(i+1)。
可以看出,采用图5的设置方式,在使相邻的三个复合膜形成等效折射率逐渐变小的等效折射率变化趋势的基础上,仅需三种材料即可实现其中六层膜层的制备:其中,第一个复合膜中的第一折射率膜Hi-1与第二个复合膜中的第一折射率膜Hi可以选择相同的材料形成,第一个复合膜中的第二折射率膜Li-1和第三个复合膜中的第一折射率膜Hi+1可以选择相同的材料形成,第一个复合膜中的第二折射率膜Li-1与第二个复合膜中的第二折射率膜Li可以选择相同的材料形成,这样一来便极大地增多了该复合膜组中可选择的膜层的种类数,使该复合膜组具有很强的可实施性。
可选的,在本发明实施例中,复合膜组100中的复合膜的数量N满足2≤N≤50。在保证复合膜组具有较低反射率的同时,避免过度增多其中复合膜的数量,以保证复合膜组的厚度不致过大,以及简化复合膜组的制备工艺。例如,综合考虑复合膜组的减反效果以及膜层数量,可以将复合膜组100中复合膜的数量N设置为小于等于10。如图6所示,图6为本发明实施例提供的一种复合膜组的截面示意图,其中,在复合膜组100中设置8层复合膜,即,令N=8。
示例性的,在复合膜组中相邻三个复合膜按照图5所示方式进行设置时,本发明实施例可以以三个复合膜作为一个单元,在相邻两个单元中,令前一个单元内的第三个复合膜的等效折射率大于等于后一个单元内的第一个复合膜的等效折射率。
如图7所示,图7为本发明实施例提供的又一种复合模组中相邻六个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图,本发明实施例可以将前一个单元内的第三个复合膜的等效折射率设置为大于后一个单元内的第一个复合膜的等效折射率的示意图,其中,前一个单元内的第三个复合膜包括第一折射率膜H3和第二折射率膜L3,后一个单元内的第一个复合膜包括第一折射率膜H4和第二折射率膜L4。第一折射率膜H3的折射率大于等于第一折射率膜H4的折射率,第二折射率膜L3的折射率大于等于第二折射率膜L4的折射率。
或者,本发明实施例也可以令相邻两个单元中的复合膜具有同样的折射率分布,如图8所示,图8为为本发明实施例提供的又一种复合模组中相邻六个复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜的折射率大小示意图,其中,第四个复合膜的第一折射率膜H4的折射率与第一个复合膜的第一折射率膜H1的折射率相等,第四个复合膜的第二折射率膜L4的折射率与第一个复合膜的第二折射率膜L1的折射率相等。第五个复合膜的第一折射率膜H5的折射率与第二个复合膜的第一折射率膜H2的折射率相等,第五个复合膜的第二折射率膜L5的折射率与第二个复合膜的第二折射率膜L2的折射率相等。第六个复合膜的第一折射率膜H6的折射率与第三个复合膜的第一折射率膜H3的折射率相等,第六个复合膜的第二折射率膜L6的折射率与第三个复合膜的第二折射率膜L3的折射率相等。如此设置,光线在经过该复合膜组时,发生干涉相消的比例会进一步加大,有利于进一步降低复合膜组的反射率。
可选的,在本发明实施例中,第一折射率膜的材料包括金属、金属的氮化物、金属的氧化物、金属的氮氧化物、硅的氮化物、硅的氧化物、硅的氮氧化物中的至少一种。例如,可以选用TiO2、Ta2O5、Ti3O5、ZrO2、HfO2、Ge、SiOxNy、Nb2O5中的至少一种来形成第一折射率膜。
第二折射率膜的材料包括金属的氟化物、硅的氧化物、硅的氮化物、硅的氮氧化物中的至少一种。例如,可以选用MgF2、SiO2、SiOxNy、AlF3、YbF3、YF3、BaF2、CeF2、Na3AlF6和BaYF3中的至少一种来形成第二折射率膜。
示例性的,上述第一折射率膜和第二折射率膜的制备可以采用薄膜沉积工艺或喷涂工艺进行。可选的,上述薄膜沉积工艺包括化学气相沉积,物理沉积,磁控溅射等工艺。
可选的,本发明实施例可以选择硅的氮氧化物来形成复合膜组100中的多个膜层,通过控制其中的氮含量和氧含量来使不同的膜层具有相应的折射率。其中,氮含量为氮元素的质量占比,氧含量为氧元素的质量占比。例如,在相邻的两个复合膜中,可以将前一个复合膜中的第一折射率膜设置为SiO0.2N0.8,将前一个复合膜中的第二折射率膜设置为SiO0.4N0.6,将后一个复合膜中的第一折射率膜设置为SiO0.3N0.7,将后一个复合膜中的第二折射率膜设置为SiO0.5N0.5。如此设置,在制备复合膜组100时,可以采用化学气相沉积法来制备其中的膜层。在制备时,可以通过在制备腔室中控制不同气体的流量比,以实现具有不同的折射率的多个膜层的制备,能够简化工艺,降低制备成本。
以采用化学气相沉积法,且,选用SiH4、NH3和N2O作为反应气体,以及选用N2作为维持腔体压力用气体制备如上所述的复合膜为例,在制备折射率不同的上述膜层时,本发明实施例可以通过使上述多种气体的总流量不变,改变NH3和N2O的流量比来使形成的膜层具有所需的折射率。例如,在制备SiO0.2N0.8时,可以在制备腔室中以一定流量分别通入SiH4、NH3、N2O和N2。反应一段时间,待形成SiO0.2N0.8后,保持SiH4、NH3、N2O和N2的总流量不变,减少NH3和N2O的流量比,经过一段反应时间待形成SiO0.3N0.7后,继续保持SiH4、NH3、N2O和N2的总流量不变,减少NH3和N2O的流量比,以生成SiO0.4N0.6。
在相关技术中,通常是将复合膜设置为包括重复交替设置的高折射率膜和低折射率膜,基于这种设置方式,由于高折射率膜和低折射率膜的材料不同,在制备过程中需要不同材料的腔室甚至不同成膜机台来回切换,导致制备成本较高。可以看出,采用本发明实施例的设置方式,在制备层叠设置的多个膜层时,具有不同的折射率的膜层的制备可以采用同一套设备连续进行,在此过程中无需切换设备,能够有效降低生产成本,提高生产效率。
或者,在设置复合膜组100时,本发明实施例可以使其中相邻的两个复合膜满足:前一个复合膜中的第一折射率膜的折射率等于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率,前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率大于后一个复合膜中的第二折射率膜的折射率。如此设置,可以使相邻的两个复合膜中的第一折射率膜的材料相同,并使第二折射率膜的材料为硅的氮氧化物。其中,不同的第二折射率膜中的氮含量和氧含量根据折射率的要求进行调整,使前一个复合膜中的第二折射率膜中的氮含量大于后一个复合膜中的第二折射率膜中的氮含量。其中,氮含量为氮元素的质量占比。如此设置,在制备不同的复合膜中的第一折射率膜时,可以采用相同的工艺条件来形成相同材料的膜层,以简化工艺。在制备第二折射率膜时,可以通过控制制备腔室中的气体的流量来实现不同的第二折射率膜的制备。例如,两个复合膜中的第一折射率膜可以均为Nb2O5,前一个复合膜中的第二折射率膜的材料可以为SiO0.2N0.8,后一个复合膜中的第二折射率膜的材料可以为SiO0.7N0.3。
示例性的,在本发明实施例中,第一折射率膜的折射率nH满足:1.8≤nH≤4。例如,可以设置为2≤nH≤3。本发明实施例通过使第一折射率膜的折射率小于等于4,避免选择折射率过高的材料来制作第一折射率膜,能够减小第一折射率膜和相邻的第二折射率膜之间的折射率差异,有利于减弱光线在二者之间的界面发生反射的程度。而且,本发明实施例通过使第一折射率膜的折射率大于等于1.8,可以增多第一折射率膜的可选择材料的种类数,增强本方案的可实施性。
第二折射率膜的折射率nL满足:1.35≤nL≤2。例如,可以设置为1.45≤nL≤1.8。本发明实施例通过使第二折射率膜的折射率大于等于1.35,可以增多第二折射率膜的可选择材料的种类数,增强本方案的可实施性。而且,本发明实施例通过使第二折射率膜的折射率小于等于2,避免选择折射率过低的材料来制作第二折射率膜,能够减小第二折射率膜和相邻的第一折射率膜之间的折射率差异,有利于减弱光线在二者之间的界面发生反射的程度。第一折射率膜的厚度TH满足:1nm≤TH≤1000nm。例如,可以将第一折射率膜的厚度设置为1nm≤TH≤500nm。进一步的,可以将第一折射率膜的厚度设置为1nm≤TH≤200nm,本发明实施例通过使第一折射率膜的厚度大于等于1nm,在采用例如化学气相沉积等工艺来制备第一折射率膜时,通过增大第一折射率膜的厚度,有利于保证第一折射率膜在不同位置处的膜厚均一性。而且,本发明实施例通过使第一折射率膜的厚度小于等于1000nm,能够减薄复合膜组的厚度。
第二折射率膜的折射率TL满足:1nm≤TL≤1000nm。例如,可以将第二折射率膜的厚度可以设置为1nm≤TL≤500nm。进一步的,可以将第二折射率膜的厚度设置为1nm≤TL≤200nm,本发明实施例通过使第二折射率膜的厚度大于等于1nm,在采用例如化学气相沉积等工艺来制备第二折射率膜时,通过增大第二折射率膜的厚度,有利于保证第二折射率膜在不同位置处的膜厚均一性。而且,本发明实施例通过使第二折射率膜的厚度小于等于1000nm,能够减薄复合膜组的厚度。
本发明实施例还提供了一种复合膜组的制备方法,结合图1、图9和图10所示,图9为本发明实施例提供的一种复合膜组的制备方法的流程示意图,图10为本发明实施例提供的一种复合膜组的制备结构流程示意图,该制备方法包括:
步骤S1:提供衬底200;
步骤S2:通过薄膜沉积工艺或喷涂工艺在衬底200的一侧形成覆盖衬底200的复合膜组100。复合膜组100包括至少两层复合膜。每层复合膜包括层叠设置的第一折射率膜和第二折射率膜。其中,第一折射率膜和第二折射率膜的制备均可以采用薄膜沉积工艺或喷涂工艺。在制备时,如图10所示,步骤S2包括多个子步骤,在子步骤S21中,通过成膜工艺,形成第一个复合膜F1中的第一折射率膜H1。之后,在子步骤S22中,通过成膜工艺,形成第一个复合膜F1中的第二折射率膜L1。第二折射率膜L1覆盖第一折射率膜H1。之后,根据所需形成的复合膜组100的反射率,可以继续形成包括多个复合膜的复合膜组100。每层复合膜均包括层叠设置的第一折射率膜和第二折射率膜。图10中以形成包括N层复合膜的复合模组100作为示意,其中,步骤S2包括子步骤S21~子步骤S22N。
复合膜组100中的第一折射率膜和第二折射率膜均为整层材料,可以用一次工艺形成。
在本发明实施例中,第一折射率膜的折射率大于第二折射率膜的折射率;任意相邻两个第二折射率膜之间设置有一个第一折射率膜,任意相邻两个第一折射率膜之间设置有一个第二折射率膜;
且,在复合膜组100的同一厚度方向上,存在相邻的两个复合膜:
前一个复合膜中的第一折射率膜的折射率大于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率,前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率大于后一个复合膜中的第二折射率膜的折射率;
或者,前一个复合膜中的第一折射率膜的折射率大于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率,前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率等于后一个复合膜中的第二折射率膜的折射率;
或者,前一个复合膜中的第一折射率膜的折射率等于后一个复合膜中的第一折射率膜的折射率,前一个复合膜中的第二折射率膜的折射率大于后一个复合膜中的第二折射率膜的折射率。
在复合膜组100制备完成投入使用时,例如需要将复合膜组100应用于需要减反的光学设备时,本发明实施例可以将上述衬底200与复合膜组100剥离,然后将复合膜组100贴合至光学设备的表面。
示例性的,上述薄膜沉积工艺包括化学气相沉积,物理沉积,磁控溅射等工艺。
可选的,本发明实施例可以选择硅的氮氧化物来形成复合膜组中的多个膜层,通过控制其中的氮含量和氧含量来使不同的膜层具有相应的折射率。在制备过程中,具有不同的折射率的膜层的制备可以采用同一套设备连续进行,在此过程中无需切换设备,能够有效降低生产成本,提高生产效率。
可选的,上述衬底200可以是玻璃。
或者,如图11所示,图11为本发明实施例提供的另一种复合膜组的制备结构流程示意图,衬底200也可以包括层叠设置的玻璃2001和柔性基底2002,如聚酰亚胺。柔性基底2002位于玻璃2001和复合膜组100之间。
如图11所示,上述步骤S1,提供衬底200包括:
步骤S11:提供玻璃2001;
步骤S12:在玻璃2001的一侧形成柔性基底2002。
在柔性基底202形成之后,复合膜组100形成在柔性基底2002远离玻璃2001的一侧。柔性基底2002的设置便于复合膜组100制备完成后与玻璃2001的分离。在制备完成后,可以通过采用加热或激光照射的方式使复合膜组100通过柔性基底2002与玻璃2001分离。在后续将复合膜组100与光学设备贴合时,柔性基底2002位于复合模组100和光学设备之间。
本发明实施例还提供了一种采光装置,如图12所示,图12为本发明实施例提供的一种采光装置的截面示意图,该采光装置300包括采光模块400和如前所述的复合膜组100。其中,复合膜组100位于采光模块200的采光侧。采光模块400用于采集光线。复合膜组100的具体结构已经在上述实施例中进行了详细说明,此处不再赘述。
在将复合膜组100应用于采光装置300时,令复合膜组100中,最靠近采光模块400的第一折射率膜的折射率大于等于其他第一折射率膜的折射率。如图12所示,在复合膜组100中,沿自复合膜F1指向复合膜LN的方向,存在相邻两个复合膜:前一个复合膜的等效折射率大于后一个复合膜的等效折射率。例如,可以将任意相邻两个复合膜设置为前一个复合膜的等效折射率大于后一个复合膜的等效折射率。此时,将复合膜F1设置在复合膜FN靠近采光模块400的一侧。
在该采光模块300工作时,环境光从空气经复合膜组100射向采光模块400,且,在光线的传播过程中,能够经过折射率逐渐增大的复合膜,降低了光线在传播过程中发生反射的光的强度,提高了入射至采光模块400的光强。
示例性的,该采光装置300可以为太阳能电池,或者,也可以为用于拍摄的镜头等。复合膜组100在太阳能电池中的应用,可以减少太阳光在太阳能电池表面的反射,能够最大限度地提高太阳光的透过率,保证太阳能电池的光电转化率。复合膜组100在摄像镜头中的应用,可以减少光线在镜头表面的反射,提高入射至镜头内的光强,改善拍摄效果。
本发明实施例还提供了一种显示装置,如图13、图14和图15所示,图13为本发明实施例提供的一种显示装置的俯视示意图,图14为本发明实施例提供的一种显示装置的截面示意图,图15为本发明实施例提供的另一种显示装置的截面示意图,该显示装置500包括显示面板600,以及如前所述的复合膜组100。复合膜组100位于显示面板200的出光侧。
如图14所示,上述显示面板600可以为液晶显示面板(Liquid Crystal Display,简称LCD)显示面板。显示面板600包括相对设置的阵列基板602和彩膜基板604,位于阵列基板602和彩膜基板604之间的液晶层603,以及位于阵列基板602远离彩膜基板604的一侧的背光模组601。阵列基板602中设置有像素电极6021和公共电极6022,在像素电极6021和公共电极6022之间的电场的作用下,液晶发生偏转,对背光模组601发出的光线进行调制,并经彩膜基板604的滤光作用实现显示面板的全彩显示。
或者,如图15所示,该显示面板600也可以为采用自发光技术的显示面板,如有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,简称OLED)显示面板、微型发光二极管(Micro Light Emitting Diode,简称Micro-LED)显示面板或量子点发光二极管(QuantumLight Emitting Diode,简称QLED)显示面板等。如图15所示,其中,显示面板600包括有机发光单元6000。
复合膜组100的具体结构已经在上述实施例中进行了详细说明,此处不再赘述。当然,图13、图14和图15所示的显示装置仅仅为示意说明,该显示装置可以是例如手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视机等任何具有显示功能的电子设备。
在将复合膜组100应用于显示装置时,令复合膜组100中最靠近显示面板600的第一折射率膜的折射率大于等于其他第一折射率膜的折射率。如图14和图15所示,在复合膜组100中,沿自复合膜F1指向复合膜LN的方向,存在相邻两个复合膜:前一个复合膜的等效折射率大于后一个复合膜的等效折射率。例如,可以将任意相邻两个复合膜设置为前一个复合膜的等效折射率大于后一个复合膜的等效折射率。此时,将复合膜F1设置在复合膜FN靠近显示面板600的一侧。
在该显示装置500工作时,环境光从空气经复合膜组100射向显示面板600,且,在光线的传播过程中,能够经过折射率逐渐增大的复合膜,降低了光线在传播过程中发生反射的光的强度。如此一来,能够提高显示面板发出的光强的比例,从而有利于增大显示画面的对比度,改善显示装置的显示效果。特别地,在将该显示装置500置于环境光较强的环境中时,也可以使其具有较好的显示效果。
而且,在显示装置500中设置上述复合膜组100后,还能改善显示装置500的色相,使显示装置500的出光具有较小的色相波动。
在本发明实施例中,复合复合膜组100和显示面板600之间的贴合方式可以有多种。例如,如图14和图15所示的为将复合膜组100与显示面板600整面贴合的全贴合方式,此时,复合膜组100和显示面板600之间没有缝隙。
或者,本发明实施例也可以采用框贴合,即,将复合膜组100与显示面板600的边框贴合的方式,在这种情况下,复合膜组100与显示面板600的中心区域的表面之间会存在空隙。此时,本发明实施例可以在显示面板600的出光侧设置两组复合膜组,如图16和图17所示,图16和图17为本发明实施例提供的另外两种显示装置的截面示意图,为对两组复合膜组进行区分,在图16和图17中将两组复合膜组中靠近显示面板600的复合膜组标记为第一复合膜组1001,将远离显示面板600的复合膜组标记为第二复合膜组1002。第二复合膜组1002通过胶材900与显示面板600的边框贴合,在复合膜组100与显示面板600的中心区域的表面之间存在空气901。
如图16和图17所示,第一复合膜组1001和第二复合膜组1002之间设置有衬底200。第一复合膜组1001和第二复合膜组1002可以形成于同一衬底200的相对两侧。第一复合膜组1001和第二复合膜组1002均包括多个层叠设置的复合膜。第一复合膜组1001包括层叠设置的P个复合膜,第二复合膜组1002包括层叠设置的Q个复合膜。P和Q为大于等于2的正整数。
在第一复合膜组1001中,沿自衬底200指向复合膜F1P的方向,P个复合膜中存在相邻的两个复合膜,前一个复合膜的等效折射率大于后一个复合膜的等效折射率。在第二复合膜组1002中,沿自衬底200指向复合膜F2Q的方向,Q个复合膜中存在相邻的两个复合膜,前一个复合膜的等效折射率大于后一个复合膜的等效折射率。即,沿衬底200指向第一复合膜组1001,以及,沿衬底200指向第二复合模组1002的方向,在第一复合模组1001和第二复合模组1002中,存在等效折射率变化趋势相同的相邻的两个复合膜。
如此设置,在环境光射向显示面板600的过程中,光线将依次经过空气、第二复合膜组1002、衬底200、第一复合膜组1001和空气,在光线从空气经第二复合膜组1002射向衬底200的过程中,光线能够经过折射率逐渐增大的复合膜,在此过程中的反射光的强度将被降低。在光线从衬底200经第一复合膜组1001射向空气的过程中,光线能够经过折射率逐渐减小的复合膜,在此过程中的反射光的强度也能够被降低。可以看出,在采用框贴的方式贴合复合模组和显示面板600时,第一复合膜组1001和第二复合膜组1002的搭配设计,可以起到降低环境光的反射率,提高从显示面板600出射的光强的比例,增大显示画面的对比度的作用。特别地,在将该显示装置500置于环境光较强的环境中时,也可以使其具有较好的显示效果。
可选的,本发明实施例可以使第一复合膜组1001和第二复合膜组1002所包括的复合膜的层数相同。并且令第一复合膜组1001和第二复合膜组1002中的复合膜的等效折射率的分布一致,即,在第一复合膜组1001中,沿自衬底200指向复合膜F1P的方向的第i个复合膜F1i的等效折射率,与第二复合膜组1002中,沿自衬底200指向复合膜F2Q的方向的第i个复合膜F2i的等效折射率相同。如此设置,在制备第一复合膜组1001和第二复合膜组1002时,可以在衬底200的两侧采用相同的成膜工艺以在盖板800两侧形成对称性分布的膜层架构。
示例性的,如图14、图15、图16和图17所示,该显示装置500还包括防污膜700,防污膜700位于复合膜组100远离显示面板600的一侧。防污膜700的设置可以防止指纹等异物落在显示装置500的表面。
在本发明实施例中,防污膜700可以选用疏水疏油材料制成。并且,防污膜300的折射率小于复合膜组100中与防污膜距离最近的第二折射率膜的折射率。以图14和图15所示方位为例,防污膜700的折射率小于复合膜FN中第二折射率膜LN的折射率。以图16和图17所示方位为例,防污膜700的折射率小于复合膜F2Q中第二折射率膜L2Q的折射率。如此设置,能够减小光线从空气经防污膜700射向复合膜组的过程中的反射率。
如图18所示,图18为本发明实施例提供的一种复合膜组的透射率和反射率的模拟结果示意图,其中,实线表示反射率,虚线表示透射率,该复合模组包括七层复合膜和位于复合膜F7远离复合膜F6一侧的防污膜。七层复合膜中,第一折射率膜的折射率相同。第一层复合膜F1中的第二折射率膜的折射率大于第二层复合膜F2中的第二折射率膜的折射率。第二层复合膜F2中的第二折射率膜的折射率大于第三层复合膜F3中的第二折射率膜的折射率。第三层复合膜F3中的第二折射率膜的折射率大于第四层复合膜F4的第二折射率膜的折射率。第四层复合膜F4的第二折射率膜的折射率大于第五层复合膜F5中的第二折射率膜的折射率。第五层复合膜F5中的第二折射率膜的折射率大于第六层复合膜F6中的第二折射率膜的折射率。第六层复合膜F6中的第二折射率膜的折射率大于第七层复合膜F7中的第二折射率膜的折射率。第七层复合膜F7中的第二折射率膜的折射率大于防污膜的折射率。试验证明,本实施例提供的复合膜组在可见光波段(波长在400nm-800nm范围内)的反射率小于等于0.1416%,远小于现有技术中的0.28%~0.37%的范围。并且,本实施例提供的复合膜组在可见光波段的透过率大于或等于97%。
如图19所示,图19为本发明实施例提供的另一种复合膜组的透射率和反射率的模拟结果示意图,其中,实线表示反射率,虚线表示透射率,该复合模组包括三层复合膜。这三层复合膜中的第一折射率膜和第二折射率膜按照图5所示规律设置,即,在第一层复合膜F1和第二层复合膜F2中,第一折射率膜的折射率相同。第一层复合膜F1中的第二折射率膜的折射率与第三层复合膜F3中的第一折射率膜的折射率相同。第二层复合膜F2中的第二折射率膜的折射率与第三层复合膜F3中的第二折射率膜的折射率相同。试验证明,该复合膜组在可见光波段(波长在400nm-800nm范围内)的反射率小于等于0.3%,透过率大于或等于97%。
另外,本发明实施例对三种具有相同层数但架构不同的复合膜组的反射率进行模拟,对比图如图20和图21所示,图20和图21分别为三种具有相同层数的不同复合膜组的反射率的模拟结果示意图,在图20中,曲线p表示相关技术中包括交替设置的Nb2O5和SiO2的复合膜组的反射率,曲线q表示本发明实施例所提供的一种复合膜组的反射率,其中,相邻两个复合膜之间的折射率分布具有图4所示规律,曲线m表示相关技术中包括交替设置的氮化硅和SiO2的复合膜组的反射率。且,曲线p、曲线q和曲线m所测试的三组复合膜组包括相同数量的膜层。在图21中,曲线e表示相关技术中包括交替设置的氮化硅和SiO2的复合膜组的反射率,曲线f表示相关技术中包括交替设置的Nb2O5和SiO2的复合膜组的反射率,曲线g表示本发明实施例所提供的另一种复合模组的反射率,其中,相邻三个复合膜之间的折射率分布具有图5所示规律,且,曲线e、曲线f和曲线g所测试的三组复合膜组包括相同数量的膜层。图20和图21中的复合模组所包括的膜层数量不同。
可以看出,在复合膜组中设置相同层数的膜层时,在可见光波段,以曲线q和曲线g所表示的本发明实施例所提供的复合膜组的反射率明显更低。
如图22所示,图22为本发明实施例提供的一种显示装置的色相模拟结果示意图,该显示装置包括复合模组和防污膜,其中,复合膜组的结构与图18中进行测试的结构相同。试验证明,本发明实施例所提供的显示装置具有较小的色相波动。其中,a*的最小值在-4,最大值在1,b*的最小值在-3.5,最大值在2.5。
如图23所示,图23为本发明实施例提供的另一种显示装置的色相模拟结果示意图,该显示装置包括复合模组和防污膜,其中,复合膜组的结构与图19中进行测试的结构相同。试验证明,本发明实施例所提供的显示装置具有较小的色相波动。其中,a*的最小值在-5.2,最大值在0.2,b*的最小值在-7,最大值在0.2。
对比图24和图25,图24和图25分别为相关技术中两种显示装置的色相模拟结果示意图,这两种显示装置的出光侧均设置有复合模组和防污膜。其中,复合模组包括七层复合膜。在图24所测试的七层复合膜中,第一折射率膜均为氮化硅,其折射率为1.84,第二折射率膜均为SiO2,其折射率为1.46。防污膜的折射率为1.31。即,第一折射率膜均为高折射率膜,第二折射率膜均为低折射率膜,在图24所测试的七层复合膜中,第一折射率膜和第二折射率膜二者重复交替排列。在图25所测试的七层复合膜中,第一折射率膜均为Nb2O5,其折射率为2.32,第二折射率膜均为SiO2,其折射率为1.46。防污膜的折射率为1.31。即,第一折射率膜均为高折射率膜,第二折射率膜均为低折射率膜,在图25所测试的七层复合膜中,第一折射率膜和第二折射率膜二者重复交替排列。可以看出,图24和图25所测试的显示装置均具有较大的色相波动。在图24所测试的显示装置中,a*的最小值在-15,最大值在12,b*的最小值在-11,最大值在9。在图25所测试的显示装置中,a*的最小值在-20,最大值在30,b*的最小值在-30,最大值在25,其色相波动程度最大。
如图26所示,图26为本发明实施例提供的一种复合模组的透过率波动模拟结果示意图,复合膜组的结构与图19中进行测试的结构相同,在可见光波段,试验证明,本实施例提供的复合膜组在可见光波段(波长在400nm-800nm范围内)的透过率在95.1%上下波动,最低为94.6%。
对比图27和图28可以看出,图27和图28分别为相关技术中两种复合模组的透过率经相同次数波动模拟结果示意图,图27和图28所测试的复合膜组的结构分别与图24和图25中进行测试的结构相同,对比可以看出,本实施例提供的复合膜组在可见光波段(波长在400nm-800nm范围内)的透过率波动幅度较小。
对比可以看出,在相关技术中,在显示面板的出光侧设置重复交替设置的高折射率层和低折射率层,不仅存在制备时需要不同材料的腔室甚至在不同成膜机台之间来回切换,导致工艺复杂,成本较高的问题,而且还存在反射率偏高,以及,各膜层的折射率固定,在应用于显示装置时,无法调节显示装置的色相的问题。而在将本发明实施例所提供的复合膜组100应用于显示装置500时,其中的第一折射率膜和第二折射率膜均为整层材料,可以用一次工艺形成,有利于降低显示装置500的制备工艺难度,降低制备成本。而且,还可以保证应用该复合膜组100的显示装置的对比度高,色相波动小,方便的设计出符合客户要求的色相值。
示例性的,如图14、图15、图16和图17所示,在本发明实施例中,显示装置500还包括盖板800。如图14和图15所示,盖板800位于复合膜组100和显示面板600之间。如图16和图17所示,盖板800位于第一复合模组1001和显示面板600之间。盖板800用于对显示面板600进行保护。示例性的,该盖板800可以为玻璃。
示例性的,在制作如图14、图15、图16和图17所示的显示装置时,显示面板600和复合膜组可以分别制作,在显示面板600和复合膜组均制备完成之后,将二者贴合以形成上述显示装置。本发明实施例通过将显示面板600和复合膜组分开制作,能够避免显示面板600和复合膜组中不同膜层的制备彼此影响。其中,盖板800可以集成在显示面板600的制作工序中。例如,盖板800的制备可以在显示面板600的封装层制备之后进行。
在采用全贴合工艺贴合复合膜组与显示面板时,复合膜组的制备可以按照图10所示方法进行。在复合膜组的制备完成之后,可以将复合膜组100和衬底200进行分离;然后,将复合膜组100贴附于显示面板600的出光侧。其中,复合膜组100与位于显示面板600的出光侧的盖板800贴合。或者,在复合膜组制备完成之后,结合图10所示,也可以无需对复合膜组100和衬底200进行分离。这样在显示面板的制作工艺中,可以省去盖板800的制作工艺。在将复合膜组100贴附于显示面板600的出光侧时,形成复合膜组100的衬底200可以复用为显示面板600出光侧的用于对显示面板600进行保护的盖板800,降低制作成本。
在采用框贴合工艺贴合复合膜组与显示面板时,在复合膜组的制备过程中,可以采用图10所示方法,在衬底200的两侧分别形成第一复合膜组1001和第二复合膜组1002。在第一复合膜组1001和第二复合膜组1002的制备完成之后,将第一复合膜组1001贴附于显示面板600的出光侧。具体的,第一复合膜组1001通过胶材900与位于显示面板600出光侧的盖板800的边缘贴合。在这个过程中,无需将第一复合膜组1001、第二复合膜组1002和衬底200进行分离。
或者,如图29和图30所示,图29和图30分别为本发明实施例提供的另外两种显示装置的截面示意图,盖板800包括层叠设置的玻璃8001和柔性基底2002,如聚酰亚胺。柔性基底2002位于玻璃8001和复合膜组100之间。
示例性的,在制作如图29和图30所示的显示装置时,显示面板600和复合膜组100可以分别制作。其中,复合膜组100的制备可以按照图11所示方法进行。显示面板600的出光侧可以设置有图29和图30所示的玻璃8001。其中,玻璃8001可以集成在显示面板600的制作工序中。例如,盖板800的制备可以在显示面板600的封装层制备之后进行。在复合膜组100制备完成之后,结合图11所示,可以采用加热或激光照射的方式使复合膜组100通过柔性基底2002与玻璃2001分离。在后续将复合膜组100与显示面板600贴合时,复合膜组100与柔性基底2002接触的一侧靠近显示面板600设置,即,将柔性基底2002置于复合模组100和玻璃8001之间。结合图11所示,柔性基底2002的设置便于复合膜组100制备完成后与制备过程中的作为承载基板的玻璃2001的分离。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明保护的范围之内。
Claims (18)
1.一种复合膜组,其特征在于,包括至少两层复合膜;所述复合膜包括层叠设置的第一折射率膜和第二折射率膜,在同一所述复合膜中,所述第一折射率膜的折射率大于所述第二折射率膜的折射率;任意相邻两个所述第二折射率膜之间设置有一个所述第一折射率膜,任意相邻两个所述第一折射率膜之间设置有一个所述第二折射率膜;
且,在所述复合膜组的厚度方向上,存在相邻的两个所述复合膜,其中一个所述复合膜为第一复合膜,另一个所述复合膜为第二复合膜;所述第一复合膜中的所述第一折射率膜的折射率大于所述第二复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,所述第一复合膜中的所述第二折射率膜的折射率大于所述第二复合膜中的所述第二折射率膜的折射率。
2.根据权利要求1所述的复合膜组,其特征在于,
所述第一复合膜中的所述第二折射率膜的折射率小于所述第二复合膜中的所述第一折射率膜的折射率。
3.根据权利要求1所述的复合膜组,其特征在于,
在所述复合膜组的同一厚度方向上,在任意相邻的两个所述复合膜中:前一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率大于后一个所述复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,前一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率大于后一个所述复合膜中的所述第二折射率膜的折射率;
或者,
所述复合膜组还包括第三复合膜,所述第三复合膜与所述第二复合膜相邻,且,所述第三复合膜位于所述第二复合膜远离所述第一复合膜的一侧;
所述第二复合膜中的所述第一折射率膜的折射率大于所述第三复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,所述第二复合膜中的所述第二折射率膜的折射率等于所述第三复合膜中的所述第二折射率膜的折射率;或者,所述第二复合膜中的所述第一折射率膜的折射率等于所述第三复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,所述第二复合膜中的所述第二折射率膜的折射率大于所述第三复合膜中的所述第二折射率膜的折射率。
4.根据权利要求1所述的复合膜组,其特征在于,
所述复合膜的数量小于等于10。
5.根据权利要求1所述的复合膜组,其特征在于,
所述第一折射率膜的材料包括金属、金属的氮化物、金属的氧化物、金属的氮氧化物、硅的氮化物、硅的氧化物、硅的氮氧化物中的至少一种;
所述第二折射率膜的材料包括金属的氟化物、硅的氧化物、硅的氮化物、硅的氮氧化物中的至少一种。
6.根据权利要求5所述的复合膜组,其特征在于,
所述复合膜组还包括第三复合膜,所述第三复合膜与所述第二复合膜相邻,且,所述第三复合膜位于所述第二复合膜远离所述第一复合膜的一侧;
所述第二复合膜中的所述第一折射率膜的折射率等于所述第三复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,所述第二复合膜中的所述第二折射率膜的折射率大于所述第三复合膜中的所述第二折射率膜的折射率;
所述第二复合膜和所述第三复合膜中的所述第二折射率膜的材料为硅的氮氧化物,其中,所述第二复合膜中的所述第二折射率膜中的氮含量大于所述第三复合膜中的所述第二折射率膜中的氮含量。
7.根据权利要求6所述的复合膜组,其特征在于,
所述第二复合膜和所述第三复合膜中的所述第一折射率膜的材料相同。
8.根据权利要求1所述的复合膜组,其特征在于,
所述第一折射率膜的折射率nH满足:1.8≤nH≤4。
9.根据权利要求1所述的复合膜组,其特征在于,
所述第二折射率膜的折射率nL满足:1.35≤nL≤2。
10.根据权利要求1所述的复合膜组,其特征在于,
所述第一折射率膜的厚度TH满足:1nm≤TH≤1000nm。
11.根据权利要求1所述的复合膜组,其特征在于,
所述第二折射率膜的厚度TL满足:1nm≤TL≤1000nm。
12.根据权利要求2所述的复合膜组,其特征在于,还包括第三复合膜和第四复合膜;所述第三复合膜与所述第二复合膜相邻,所述第四复合膜与所述第三复合膜相邻,且,所述第三复合膜位于所述第二复合膜远离所述第一复合膜的一侧;所述第四复合膜位于所述第三复合膜远离所述第二复合膜的一侧;
所述第二复合膜中的所述第一折射率膜的折射率等于所述第三复合膜中的所述第一折射率膜的折射率;所述第二复合膜中的所述第二折射率膜的折射率大于所述第三复合膜中的所述第二折射率膜的折射率;
所述第二复合膜中的所述第二折射率膜的折射率等于所述第四复合膜中的所述第一折射率膜的折射率;
所述第三复合膜中的所述第二折射率膜的折射率等于所述第四复合膜中的所述第二折射率膜的折射率。
13.一种复合膜组的制备方法,其特征在于,包括:
提供衬底;
通过薄膜沉积工艺或喷涂工艺在形成在所述衬底的一侧形成覆盖所述衬底的至少两层复合膜;所述复合膜包括层叠设置的第一折射率膜和第二折射率膜,所述第一折射率膜的折射率大于所述第二折射率膜的折射率;任意相邻两个所述第二折射率膜之间设置有一个所述第一折射率膜,任意相邻两个所述第一折射率膜之间设置有一个所述第二折射率膜;
且,在所述复合膜组的厚度方向上,存在相邻的两个所述复合膜,前一个所述复合膜为第一复合膜,后一个所述复合膜为第二复合膜,
所述第一复合膜中的所述第一折射率膜的折射率大于所述第二复合膜中的所述第一折射率膜的折射率,所述第一复合膜中的所述第二折射率膜的折射率大于所述第二复合膜中的所述第二折射率膜的折射率。
14.一种采光装置,其特征在于,包括:
采光模块,用于采集光线;
如权利要求1-12任一项所述的复合膜组,所述复合膜组位于所述采光模块的采光侧;
在所述复合膜组中,最靠近所述采光模块的所述第一折射率膜的折射率大于等于其他所述第一折射率膜的折射率。
15.一种显示装置,其特征在于,包括:
显示面板;
如权利要求1-12任一项所述的复合膜组,所述复合膜组位于所述显示面板的出光侧;
在所述复合膜组中,最靠近所述显示面板的所述第一折射率膜的折射率大于等于其他所述第一折射率膜的折射率。
16.根据权利要求15所述的显示装置,其特征在于,还包括防污膜,所述防污膜位于所述复合膜组远离所述显示面板的一侧,所述防污膜的折射率小于所述复合膜组中与所述防污膜距离最近的所述第二折射率膜的折射率。
17.根据权利要求15所述的显示装置,其特征在于,还包括盖板,所述盖板位于所述复合膜组和所述显示面板之间。
18.根据权利要求17所述的显示装置,其特征在于,所述盖板包括层叠设置的玻璃和柔性基底,所述柔性基底位于所述玻璃和所述复合膜组之间。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011575248.2A CN112649903B (zh) | 2020-12-28 | 2020-12-28 | 复合膜组及其制备方法、采光装置和显示装置 |
US17/205,464 US11845256B2 (en) | 2020-12-28 | 2021-03-18 | Composite film module, method for manufacturing the same, light collecting device and display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011575248.2A CN112649903B (zh) | 2020-12-28 | 2020-12-28 | 复合膜组及其制备方法、采光装置和显示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112649903A CN112649903A (zh) | 2021-04-13 |
CN112649903B true CN112649903B (zh) | 2022-07-01 |
Family
ID=75363261
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011575248.2A Active CN112649903B (zh) | 2020-12-28 | 2020-12-28 | 复合膜组及其制备方法、采光装置和显示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11845256B2 (zh) |
CN (1) | CN112649903B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112526647B (zh) * | 2020-12-28 | 2022-04-29 | 上海中航光电子有限公司 | 镀膜衬底及显示*** |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1584635A (zh) * | 2003-08-22 | 2005-02-23 | 奥林巴斯株式会社 | 滤光片和光学仪器 |
CN1821653A (zh) * | 2006-03-23 | 2006-08-23 | 宁波新亚机电有限公司 | 多镜头光纤束的太阳光照明用采集传输*** |
WO2014041743A1 (en) * | 2012-09-11 | 2014-03-20 | Sony Corporation | Display unit, method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
CN109103219A (zh) * | 2018-08-10 | 2018-12-28 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 复合膜层及其制作方法、oled显示面板的制作方法 |
CN111244145A (zh) * | 2020-01-22 | 2020-06-05 | 绵阳京东方光电科技有限公司 | 透明基板、显示面板和显示装置 |
CN111580697A (zh) * | 2020-05-09 | 2020-08-25 | 上海天马微电子有限公司 | 一种复合膜、触控板及显示装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6888305B2 (en) * | 2001-11-06 | 2005-05-03 | Universal Display Corporation | Encapsulation structure that acts as a multilayer mirror |
JP2008060322A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び光通信システム |
CN104755967B (zh) * | 2012-10-25 | 2016-08-24 | 富士胶片株式会社 | 防反射多层膜 |
US9341751B2 (en) * | 2012-12-13 | 2016-05-17 | Intermolecular, Inc. | Antireflective coatings with gradation and methods for forming the same |
US9411105B2 (en) | 2014-07-14 | 2016-08-09 | Cisco Technology, Inc. | Multi-axis graded-index photonic coupling |
WO2017056598A1 (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 親水性多層膜及びその製造方法、並びに、撮像システム |
JP2018058738A (ja) | 2016-10-07 | 2018-04-12 | 旭硝子株式会社 | 表示装置用カバーガラスおよび電子機器 |
CN209690550U (zh) * | 2017-05-08 | 2019-11-26 | 康宁股份有限公司 | 制品以及包含该制品的玻璃和消费者电子产品 |
JP6911828B2 (ja) | 2018-10-01 | 2021-07-28 | Agc株式会社 | ガラス積層体、ディスプレイ用前面板および表示装置 |
CN210401939U (zh) | 2019-07-16 | 2020-04-24 | 宜昌南玻显示器件有限公司 | 调整框贴显示屏可视区与边框熄屏时反射率的结构 |
-
2020
- 2020-12-28 CN CN202011575248.2A patent/CN112649903B/zh active Active
-
2021
- 2021-03-18 US US17/205,464 patent/US11845256B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1584635A (zh) * | 2003-08-22 | 2005-02-23 | 奥林巴斯株式会社 | 滤光片和光学仪器 |
CN1821653A (zh) * | 2006-03-23 | 2006-08-23 | 宁波新亚机电有限公司 | 多镜头光纤束的太阳光照明用采集传输*** |
WO2014041743A1 (en) * | 2012-09-11 | 2014-03-20 | Sony Corporation | Display unit, method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
CN109103219A (zh) * | 2018-08-10 | 2018-12-28 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 复合膜层及其制作方法、oled显示面板的制作方法 |
CN111244145A (zh) * | 2020-01-22 | 2020-06-05 | 绵阳京东方光电科技有限公司 | 透明基板、显示面板和显示装置 |
CN111580697A (zh) * | 2020-05-09 | 2020-08-25 | 上海天马微电子有限公司 | 一种复合膜、触控板及显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20210206142A1 (en) | 2021-07-08 |
US11845256B2 (en) | 2023-12-19 |
CN112649903A (zh) | 2021-04-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN209785979U (zh) | 一种oled显示装置及电子设备 | |
CN111162110B (zh) | 有机发光显示面板、其制作方法及显示装置 | |
US20230152493A1 (en) | Transparent covering having anti-reflective coatings | |
US8867320B2 (en) | Timepiece cover glass and timepiece | |
CN214672621U (zh) | 显示面板和显示装置 | |
JP2019197202A (ja) | 曲面コーティングパネル及びその製造方法、ソーラーモジュール | |
KR102384800B1 (ko) | 컬러 태양광용 유리 및 이를 이용한 태양광용 패널 | |
CN112649903B (zh) | 复合膜组及其制备方法、采光装置和显示装置 | |
KR20190028142A (ko) | 멀티캐비티 공명을 이용한 구조 색 필터 | |
WO2021004086A1 (zh) | 色彩转化组件、显示面板及显示装置 | |
CN112150937A (zh) | 色彩转化组件及显示面板 | |
US20120140305A1 (en) | Reflection type display device | |
CN106707621A (zh) | 背光模组及含有其的显示面板和电子设备 | |
JPH04154647A (ja) | 透明導電性積層体 | |
CN114628439A (zh) | 显示面板及其制备方法和显示装置 | |
JP2019197880A (ja) | ソーラーモジュール | |
JP2000111702A (ja) | 反射防止膜 | |
KR101982589B1 (ko) | 태양광 발전모듈 | |
KR20130047634A (ko) | 반사 방지막 및 광학 소자 | |
CN115036342A (zh) | 一种显示基板、显示面板 | |
JP2006509240A (ja) | 高屈折率の被覆調光フィルム | |
TWI805221B (zh) | 光學組件及顯示裝置 | |
JPH03215803A (ja) | 帯域フィルター | |
CN215070006U (zh) | 基于聚合物多层膜的轻质光伏组件 | |
CN215220742U (zh) | 新型光伏组件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |