CN112601991B - 光学装置 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及光学装置。本申请提供了能够改变透射率的光学装置，并且这样的光学装置可以用于各种应用，例如眼部佩戴物如太阳镜或者AR(增强现实)或VR(虚拟现实)眼部佩戴物，建筑物的外墙，或者车辆的天窗。

Description

光学装置
技术领域
本申请要求基于于2018年9月4日提交的韩国专利申请第10-2018-0105602号的优先权的权益，其公开内容通过引用整体并入本文。
本申请涉及光学装置。
背景技术
已知被设计成使得可以使用液晶化合物来改变透射率的各种透射率可变膜。例如，已知使用所谓GH单元(guest host cell，宾主单元)的透射率可变膜，所述GH单元应用了主体材料和二色性染料客体的混合物。这样的透射率可变膜应用于各种应用，包括眼部佩戴物例如太阳镜和眼镜、建筑物的外墙、或车辆的天窗等。
鉴于提高透射率可变膜对各种应用的适用性，可以考虑其中封装有透射率可变装置等的结构。作为封装方法，可以考虑使用热熔材料或其他粘合剂材料以高压釜方式等将透射率可变装置封装在诸如玻璃基底的刚性外基底之间的方法。
高压釜过程是高温高压过程，其中通常应用100℃或更高的高温和2巴或更大的高压。
当使用该技术将透射率可变膜封装在两个外基底之间时，向透射率可变膜施加压力，并且这样的压力在高温、或高温高湿度条件、或低温条件等下可能引起气泡。另外，应用于封装的热熔材料或其他粘合剂材料等在诸如低温条件的条件下收缩，并且由于收缩和外基底的恢复力等而可能对经封装的透射率可变膜上产生负压，从而引起气泡。此外，在高温条件下在粘合剂材料的弹性模量降低的同时玻璃基底可能发生变形，并且在常温条件下残余应力可能传递至透射率可变膜而产生负压，从而再次引起气泡。根据这样封装在诸如玻璃基底的刚性基底之间的结构的温度变化可能发生许多缺陷，并且当应用弯曲基底等作为刚性基底时该问题更加突出。
发明内容
技术问题
本申请提供了光学装置。本申请的目的是提供这样的光学装置，所述光学装置在包括被封装在至少两个外基底之间的有源液晶膜的结构中，在包括温度变化条件的各种耐久性条件下，具有优异的耐久性而不会发生诸如气泡或外观变化的缺陷。
技术方案
在本说明书中提及的物理特性中，当测量温度或压力影响结果时，除非另有说明，否则相关物理特性在常温和常压下测量。
术语常温为没有升温或冷却的自然温度，其通常可以为在约10℃至30℃范围内的任一温度，或者约23℃或约25℃左右的温度。此外，除非另有说明，否则本文中温度的单位为℃。
术语常压为没有特别被降低或升高的自然压力，其通常意指约1个大气的压力，例如大气压。
通过本申请制造的光学装置是能够调节透射率的光学装置，例如能够至少在透明模式与黑暗模式之间转换的光学装置。
透明模式是其中光学装置表现出相对高的透射率的状态，黑暗模式是其中光学装置具有相对低的透射率的状态。
在一个实施方案中，光学装置在透明模式下的透射率可以为约30％或更大、约35％或更大、约40％或更大、约45％或更大、或者约50％或更大。此外，光学装置在黑暗模式下的透射率可以为约20％或更小、约15％或更小、或者约10％或更小。
在透明模式下的透射率越高越有利，在黑暗模式下的透射率越低越有利，使得上限和下限各自没有特别限制。在一个实施方案中，在透明模式下的透射率的上限可以为约100％、约95％、约90％、约85％、约80％、约75％、约70％、约65％、或约60％。在黑暗模式下的透射率的下限可以为约0％、约1％、约2％、约3％、约4％、约5％、约6％、约7％、约8％、约9％、或约10％。
透射率可以为线性光透射率。术语线性光透射率可以为在与入射方向相同的方向上透过光学装置的光(线性光)相对于在预定方向上入射在光学装置上的光的比率。在一个实施方案中，透射率可以为相对于在与光学装置的表面法线平行的方向上入射的光的测量结果(法线光透射率)。
在本申请的光学装置中，其透射率被控制的光可以为UV-A区域紫外光、可见光或近红外光。根据常用的定义，UV-A区域紫外光用于意指波长在320nm至380nm的范围内的辐射，可见光用于意指波长在380nm至780nm的范围内的辐射，以及近红外光用于意指波长在780nm至2000nm的范围内的辐射。
本申请的光学装置被设计为能够至少在透明模式与黑暗模式之间转换。如有必要，光学装置也可以被设计为能够实现除透明模式和黑暗模式之外的其他模式，例如各种第三模式，如可以表现出透明模式的透射率与黑暗模式的透射率之间的任何透射率的模式或者其中每个位点的透射率不同的图案模式。
由于光学装置包括有源液晶膜，因此可以实现在这样的模式之间的转换。在此，有源液晶膜为能够在光轴的至少两个或更多个取向状态例如第一取向状态和第二取向状态之间转换的液晶元件膜。在此，光轴可以意指当包含在有源液晶膜中的液晶化合物为棒型时的长轴方向，以及可以意指当包含在有源液晶膜中的液晶化合物为盘型时的盘平面的法线方向。此外，例如，在有源液晶膜包含其光轴的方向在任何取向状态下彼此不同的复数种液晶化合物的情况下，有源液晶膜的光轴可以定义为平均光轴，并且在这种情况下，平均光轴可以意指液晶化合物的光轴的矢量和。
可以通过施加外部能量来控制有源液晶膜的取向状态。在此，外部能量可以呈各种形式，并且在一个实施方案中，可以为电压。例如，有源液晶膜可以在没有施加电压的状态下具有第一取向状态和第二取向状态中的任一者，并且可以在施加电压时转换至另一取向状态。
可以在第一取向状态和第二取向状态中的任一者下实现黑暗模式，并且可以在另一取向状态下实现透明模式。为方便起见，本文中描述为在第一状态下实现黑暗模式。
有源液晶膜可以至少包括包含液晶化合物液晶层。在一个实施方案中，液晶层为所谓的宾主液晶层，其可以为包含液晶化合物和各向异性染料的液晶层。这样的液晶层是利用所谓的宾主效应的液晶层，其为其中各向异性染料根据液晶化合物(下文中，可以称为液晶主体)的配向方向而配向的液晶层。液晶主体的配向方向可以根据是否施加外部能量来调节。
用于液晶层中的液晶主体的类型没有特别限制，并且可以使用应用于实现宾主效应的一般类型的液晶化合物。
例如，作为液晶主体，可以使用近晶型液晶化合物、向列型液晶化合物、或胆甾型液晶化合物。通常，可以使用向列型液晶化合物。术语向列型液晶化合物意指相对于液晶分子的位置不具有规则性但是能够使液晶分子全部在分子轴方向上排列的液晶化合物，并且这样的液晶化合物可以呈棒形式或者可以呈盘形式。
作为这样的向列型液晶化合物，可以选择具有例如约40℃或更高、约50℃或更高、约60℃或更高、约70℃或更高、约80℃或更高、约90℃或更高、约100℃或更高、或者约110℃或更高的清亮点或者具有在上述范围内的相变点(即从向列相到各向同性相的相变点)的液晶化合物。在一个实施方案中，清亮点或相变点可以为约160℃或更低、约150℃或更低、或者约140℃或更低。
液晶化合物的介电常数各向异性可以为负数或正数。可以考虑目的来适当地选择介电常数各向异性的绝对值。例如，介电常数各向异性可以大于3或大于7，或者可以小于-2或小于-3。
液晶化合物的光学各向异性(βn)还可以为约0.01或更大、或者约0.04或更大。在另一个实例中，液晶化合物的光学各向异性可以为约0.3或更小、或者约0.27或更小。
可以用作宾主液晶层的液晶主体的液晶化合物是本领域技术人员公知的，由此液晶化合物可以从其中自由选择。
当液晶层为宾主液晶层时，其包含各向异性染料以及液晶主体。术语“染料”可以意指能够强烈吸收和/或改变可见光区域例如380nm至780nm的波长范围中的至少一部分或整个范围内的光的材料，以及术语“各向异性染料”可以意指能够对可见光区域的至少一部分或整个范围内的光进行各向异性吸收的材料。
作为各向异性染料，例如，可以选择和使用已知具有可以根据液晶主体的配向状态而配向的特性的已知染料。例如，可以使用偶氮染料或蒽醌染料等作为各向异性染料，并且液晶层也可以包含一种或两种或更多种染料以实现宽波长范围内的光吸收。
可以考虑目的来适当地选择各向异性染料的二色性比。例如，各向异性染料的二色性比可以为5或更大至20或更小。例如，在p型染料的情况下，术语“二色性比”可以意指通过将平行于染料的长轴方向的偏振光的吸收除以平行于与该长轴方向垂直的方向的偏振光的吸收而获得的值。各向异性染料可以至少在可见光区域的波长范围内例如在约380nm至780nm或约400nm至700nm的波长范围内的一些波长处或任一波长处或整个范围内具有二色性比。
可以考虑目的来适当地选择液晶层中的各向异性染料的含量。例如，基于液晶主体和各向异性染料的总重量，各向异性染料的含量可以在0.1重量％至10重量％的范围内选择。可以考虑期望的透射率和各向异性染料在液晶主体中的溶解度等来改变各向异性染料的比率。
液晶层基本上包含液晶主体和各向异性染料，并且如有必要，还可以根据已知形式包含其他任选的添加剂。作为添加剂的实例，可以例示手性掺杂剂或稳定剂，但不限于此。
可以考虑目的例如期望透射率的可变程度等来适当地选择液晶层的厚度。在一个实施方案中，液晶层的厚度可以为约0.01μm或更大、0.05μm或更大、0.1μm或更大、0.5μm或更大、1μm或更大、1.5μm或更大、2μm或更大、2.5μm或更大、3μm或更大、3.5μm或更大、4μm或更大、4.5μm或更大、5μm或更大、5.5μm或更大、6μm或更大、6.5μm或更大、7μm或更大、7.5μm或更大、8μm或更大、8.5μm或更大、9μm或更大、或者9.5μm或更大。通过以这种方式控制厚度，可以实现在透明状态与黑暗状态之间具有大的透射率差的光学装置，即具有大的对比度的装置。厚度越厚，可以实现的对比度越高，因此厚度没有特别限制，但其通常可以为约30μm或更小、25μm或更小、20μm或更小、或者15μm或更小。
这样的有源液晶层或包括其的有源液晶膜可以在第一取向状态与不同于第一取向状态的第二取向状态之间转换。转换可以例如通过施加外部能量例如电压来控制。例如，可以在不施加电压的状态下保持第一取向状态和第二取向状态中的任一者，然后通过施加电压而转换至另一取向状态。
在一个实施方案中，第一取向状态和第二取向状态各自可以选自水平取向、垂直取向、扭曲向列取向、或胆甾取向状态。例如，在黑暗模式下，有源液晶膜或液晶层可以至少处于水平取向、扭曲向列取向或胆甾取向，并且在透明模式下，有源液晶膜或液晶层可以处于垂直取向状态、或具有不同于黑暗模式的水平取向的方向的光轴的水平取向状态。有源液晶膜可以为其中黑暗模式在不施加电压的状态下实现的常黑模式(normally blackmode)的元件，或者可以实现其中透明模式在不施加电压的状态下实现的常透明模式(normally transparent mode)。
已知确定液晶层的光轴在液晶层的取向状态下形成的方向的方法。例如，液晶层的吸收轴或透射轴的方向可以通过使用其光轴方向已知的另外的偏光板来测量，其可以使用已知的测量仪器例如偏光计如来自Jascp的Pascal 2000测量。
已知通过调节液晶主体的介电常数各向异性、用于使液晶主体取向的配向膜的配向方向等来实现常透明模式或常黑模式的有源液晶膜的方法。
有源液晶膜可以包括彼此相对设置的两个基础膜和存在于两个基础膜之间的有源液晶层。
有源液晶膜还可以包括用于在两个基础膜之间保持两个基础膜的间距的间隔件和/或用于在保持彼此相对设置的两个基础膜的间距的状态下将基础膜附接的密封剂。作为间隔件和/或密封剂，可以没有任何特别限制地使用已知材料。
作为基础膜，例如，可以使用由玻璃等制成的无机膜、或塑料膜。作为塑料膜，可以使用TAC(三乙酰纤维素)膜；COP(环烯烃共聚物)膜，例如降冰片烯衍生物；丙烯酸类膜，例如PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯))；PC(聚碳酸酯)膜；PE(聚乙烯)膜；PP(聚丙烯)膜；PVA(聚乙烯醇)膜；DAC(二乙酰纤维素)膜；Pac(聚丙烯酸酯)膜；PES(聚醚砜)膜；PEEK(聚醚醚酮)膜；PPS(聚苯砜)膜；PEI(聚醚酰亚胺)膜；PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)膜；PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜；PI(聚酰亚胺)膜；PSF(聚砜)膜；PAR(聚芳酯)膜；或氟树脂膜；等等，但不限于此。如有必要，在基础膜上也可以存在金、银、或硅化合物(例如二氧化硅或一氧化硅)的涂层，或者诸如抗反射层的涂层。
作为基础膜，可以使用具有在预定范围内的相位差的膜。在一个实施方案中，基础膜的前相位差可以为100nm或更小。在另一个实例中，前相位差可以为约95nm或更小、约90nm或更小、约85nm或更小、约80nm或更小、约75nm或更小、约70nm或更小、约65nm或更小、约60nm或更小、约55nm或更小、约50nm或更小、约45nm或更小、约40nm或更小、约35nm或更小、约30nm或更小、约25nm或更小、约20nm或更小、约15nm或更小、约10nm或更小、约5nm或更小、约4nm或更小、约3nm或更小、约2nm或更小、约1nm或更小、或者约0.5nm或更小。在另一个实例中，前相位差可以为约0nm或更大、约1nm或更大、约2nm或更大、约3nm或更大、约4nm或更大、约5nm或更大、约6nm或更大、约7nm或更大、约8nm或更大、约9nm或更大、或者约9.5nm或更大。
基础膜的厚度方向相位差的绝对值可以为例如200nm或更小。厚度方向相位差的绝对值可以为190nm或更小、180nm或更小、170nm或更小、160nm或更小、150nm或更小、140nm或更小、130nm或更小、120nm或更小、110nm或更小、100nm或更小、90nm或更小、85nm或更小、80nm或更小、70nm或更小、60nm或更小、50nm或更小、40nm或更小、30nm或更小、20nm或更小、10nm或更小、5nm或更小、4nm或更小、3nm或更小、2nm或更小、1nm或更小、或者0.5nm或更小，并且可以为0nm或更大、10nm或更大、20nm或更大、30nm或更大、40nm或更大、50nm或更大、60nm或更大、70nm或更大、或者75nm或更大。如果绝对值在上述范围内，则厚度方向相位差可以为负的，或者可以为正的，例如，可以为负的。
在本说明书中，前相位差(Rin)是通过以下方程式1计算的数值，厚度方向相位差(Rth)是通过以下方程式2计算的数值。除非另有说明，否则本文所提及的前相位差和厚度方向相位差或折射率的参考波长为约550nm。
[方程式1]
前相位差(Rin)＝d×(nx-ny)
[方程式2]
厚度方向相位差(Rth)＝d×(nz-ny)
在方程式1和2中，d为基础膜的厚度，nx为基础膜的慢轴方向上的折射率，ny为基础膜的快轴方向上的折射率，以及nz为基础膜的厚度方向上的折射率。
当基础膜为光学各向异性的时，由彼此相对设置的基础膜的慢轴形成的角度可以例如在约-10度至10度的范围内、在-7度至7度的范围内、在-5度至5度的范围内或在-3度至3度的范围内，或者可以为大致平行的。
由基础膜的慢轴和下面将描述的偏振器的光吸收轴形成的角度可以例如在约-10度至10度的范围内、在-7度至7度的范围内、在-5度至5度的范围内或在-3度至3度的范围内，或者可以为大致平行的，或者可以在约80度至100度的范围内、在约83度至97度的范围内、在约85度至95度的范围内或在约87度至92度的范围内，或者可以为大致垂直的。
可以通过相位差调节或慢轴的布置来实现光学上优异且均匀的透明模式和黑暗模式。
基础膜的热膨胀系数可以为100ppm/K或更小。在另一个实例中，热膨胀系数可以为95ppm/K或更小、90ppm/K或更小、85ppm/K或更小、80ppm/K或更小、75ppm/K或更小、70ppm/K或更小、或者65ppm/K或更小，或者可以为10ppm/K或更大、20ppm/K或更大、30ppm/K或更大、40ppm/K或更大、50ppm/K或更大、或者55ppm/K或更大。例如，基础膜的热膨胀系数可以根据ASTM D696的规定测量，可以通过以相关标准中提供的形式裁剪膜并测量每单位温度的长度变化来计算，或者可以通过已知方法例如TMA(热机械分析)来测量。
作为基础膜，可以使用断裂伸长率为90％或更大的基础膜。断裂伸长率可以为95％或更大、100％或更大、105％或更大、110％或更大、115％或更大、120％或更大、125％或更大、130％或更大、135％或更大、140％或更大、145％或更大、150％或更大、155％或更大、160％或更大、165％或更大、170％或更大、或者175％或更大，并且可以为1,000％或更小、900％或更小、800％或更小、700％或更小、600％或更小、500％或更小、400％或更小、300％或更小、或者200％或更小。基础膜的断裂伸长率可以根据ASTM D882标准测量，以及可以通过以由相应标准提供的形式裁剪膜并使用能够测量应力-应变曲线(能够同时测量力和长度)的仪器来测量。
通过选择基础膜以具有所述热膨胀系数和/或断裂伸长率，可以提供具有优异耐久性的光学装置。
基础膜的厚度没有特别限制，例如，可以在约50μm至200μm左右的范围内。
在有源液晶膜中，可以在基础膜的一侧上例如在面向有源液晶层的一侧上存在导电层和/或配向膜。
存在于基础膜的所述侧上的导电层是用于向有源液晶层施加电压的构成，可以没有任何特别限制地向所述有源液晶层应用已知的导电层。作为导电层，例如，可以应用导电聚合物、导电金属、导电纳米线、或金属氧化物如ITO(氧化铟锡)。可以应用于本申请中的导电层的实例不限于以上，并且可以使用本领域中已知可应用于有源液晶膜的所有种类的导电层。
在一个实施方案中，配向膜存在于基础膜的所述侧上。例如，可以首先在基础膜的一侧上形成导电层，并且可以在导电层的上部上形成配向膜。
配向膜是用于控制包含在有源液晶层中的液晶主体的取向的构成，并且可以没有特别限制地应用已知的配向膜。作为工业中已知的配向膜，存在摩擦配向膜或光配向膜等，并且可以用于本申请中的配向膜是已知的配向膜，其没有特别限制。
可以控制配向膜的配向方向以实现上述光轴的取向。例如，形成在彼此相对设置的两个基础膜的各侧上的两个配向膜的配向方向可以彼此形成在约-10度至10度范围内的角度、在-7度至7度范围内的角度、在-5度至5度范围内的角度或在-3度至3度范围内的角度，或者可以为彼此大致平行的。在另一个实例中，两个配向层的配向方向可以形成在约80度至100度范围内的角度、在约83度至97度范围内的角度、在约85度至95度范围内的角度或在约87度至92度范围内的角度，或者可以为彼此大致垂直的。
由于有源液晶层的光轴的方向是根据这样的配向方向确定的，因此配向方向可以通过检查有源液晶层的光轴的方向来确定。
具有这样的结构的有源液晶膜的形状没有特别限制，其可以根据光学装置的应用来确定，并且通常呈膜或片的形式。
光学装置可以包括偏振器。偏振器可以代替有源液晶膜包括在内，或者可以与有源液晶膜一起包括在内。作为偏振器，例如，可以使用吸收型线偏振器，即具有在一个方向上形成的光吸收轴和与其大致垂直而形成的光透射轴的偏振器。
假设在有源液晶层的第一取向状态下实现阻挡状态，偏振器可以在光学装置中设置成使得由第一取向状态的平均光轴(光轴的矢量和)和偏振器的光吸收轴形成的角度为80度至100度或85度至95度，或者其为大致垂直的，或者可以在光学装置中设置成使得其为35度至55度或约40度至50度或约45度。
当将配向膜的配向方向用作参考时，如上所述形成在彼此相对设置的有源液晶膜的两个基础膜的各侧上的配向膜的配向方向可以彼此形成在约-10度至10度范围内的角度、-7度至7度范围内的角度、-5度至5度范围内的角度或-3度至3度范围内的角度，或者在彼此大致平行的情况下，由两个配向膜中的任一者的配向方向和偏振器的光吸收轴形成的角度可以为80度至100度或85度至95度，或者可以为大致垂直的。
在另一个实例中，两个配向膜的配向方向可以形成在约80度至100度范围内的角度、在约83度至97度范围内的角度、在约85度至95度范围内的角度、或在约87度至92度范围内的角度，或者在彼此大致垂直的情况下，由两个配向膜中的更靠近偏振器设置的配向膜的配向方向和偏振器的光吸收轴形成的角度可以为80度至100度或85度至95度，或者可以为大致垂直的。
例如，如图1所示，有源液晶膜10和偏振器20可以以这样的状态设置：层合在彼此之上使得有源液晶膜10中第一配向方向的光轴(平均光轴)和偏振器20的光吸收轴变为上述关系。
在一个实施方案中，当偏振器20为下面将描述的偏振涂层时，可以实现其中偏振涂层存在于有源液晶膜内部的结构。例如，如图2所示，可以实现其中偏振涂层201存在于有源液晶膜的基础膜110中的任一基础膜110与有源液晶层120之间的结构。例如，如上所述的导电层、偏振涂层201和配向膜可以顺序地形成在基础膜110上。
可以应用于本申请的光学装置中的偏振器的种类没有特别限制。例如，作为偏振器，可以使用用于常规LCD等中的常规材料，例如PVA(聚(乙烯醇))偏振器；或者通过涂覆法实现的偏振器，例如包含溶致液晶(lyotropic liquid crystal，LLC)或反应性液晶元(reactive mesogen，RM)以及二色性染料的偏振涂层。在本说明书中，通过如上所述的涂覆法实现的偏振器可以称为偏振涂层。作为溶致液晶，可以没有任何特别限制地使用已知的液晶，例如，可以使用能够形成二色性比为30至40左右的溶致液晶层的溶致液晶。另一方面，当偏振涂层包含反应性液晶元(RM)和二色性染料时，作为二色性染料，可以使用线性染料，或者也可以使用盘形染料。
本申请的光学装置可以仅包括如上所述的有源液晶膜和偏振器中的每一者。因此，光学装置可以包括仅一个有源液晶膜以及可以包括仅一个偏振器。
光学装置还可以包括彼此相对设置的两个外基底。在本说明书中，为了方便起见，两个外基底中的一者可以称为第一外基底并且另一者可以称为第二外基底，但是表述第一和第二不限定外基底的顺序或垂直关系。在一个实施方案中，可以将与有源液晶膜一起包括在内的偏振器封装在两个外基底之间。这样的封装可以使用粘合膜来进行。例如，如图3所示，有源液晶膜10和偏振器20可以存在于彼此相对设置的两个基底30之间。
作为外基底，例如，可以使用由玻璃等制成的无机基底、或塑料基底。作为塑料基底，可以使用TAC(三乙酰纤维素)膜；COP(环烯烃共聚物)膜，例如降冰片烯衍生物；丙烯酸类膜，例如PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯))；PC(聚碳酸酯)膜；PE(聚乙烯)膜；PP(聚丙烯)膜；PVA(聚乙烯醇)膜；DAC(二乙酰纤维素)膜；Pac(聚丙烯酸酯)膜；PES(聚醚砜)膜；PEEK(聚醚醚酮)膜；PPS(聚苯砜)膜；PEI(聚醚酰亚胺)膜；PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)膜；PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜；PI(聚酰亚胺)膜；PSF(聚砜)膜；PAR(聚芳酯)膜；或氟树脂膜；等等，但不限于此。如有必要，在外基底上也可以存在金、银、或硅化合物(例如二氧化硅或一氧化硅)的涂层，或者诸如抗反射层的涂层。
作为外基底，可以使用热膨胀系数为100ppm/K或更小的基底。在另一个实例中，热膨胀系数可以为95ppm/K或更小、90ppm/K或更小、85ppm/K或更小、80ppm/K或更小、75ppm/K或更小、70ppm/K或更小、65ppm/K或更小、60ppm/K或更小、50ppm/K或更小、40ppm/K或更小、30ppm/K或更小、20ppm/K或更小、或者15ppm/K或更小，或者可以为1ppm/K或更大、2ppm/K或更大、3ppm/K或更大、4ppm/K或更大、5ppm/K或更大、6ppm/K或更大、7ppm/K或更大、8ppm/K或更大、9ppm/K或更大、或者10ppm/K或更大。
测量外基底的热膨胀系数和断裂伸长率的方法与如上所述的测量基础膜的热膨胀系数和断裂伸长率的方法相同。
通过选择外基底以具有这样的热膨胀系数和/或断裂伸长率，可以提供具有优异耐久性的光学装置。
如上的外基底的厚度没有特别限制，例如，可以为约0.3mm或更大。在另一个实例中，厚度可以为约0.5mm或更大、约1mm或更大、约1.5mm或更大、或者约2mm或更大左右，并且也可以为10mm或更小、9mm或更小、8mm或更小、7mm或更小、6mm或更小、5mm或更小、4mm或更小、或者3mm或更小左右。
外基底可以为平坦基底，或者可以为具有弯曲表面形状的弯曲基底。例如，两个外基底可以同时为平坦基底，同时具有弯曲表面形状，或者任一者可以为平坦基底并且另一者可以为具有弯曲表面形状的基底。
此外，在此，在同时具有弯曲表面形状的情况下，各曲率或曲率半径可以相同或不同。
在本说明书中，曲率或曲率半径可以以工业中已知的方式测量，例如，可以使用非接触式设备如2D轮廓激光传感器、彩色共焦线传感器或3D测量共焦显微镜来测量。使用这样的设备测量曲率或曲率半径的方法是已知的。
另外，对于基底，例如，当前表面和后表面处的曲率或曲率半径彼此不同时，本说明书中所提及的外基底的曲率或曲率半径可以意指光学装置中设置的两个外基底面向彼此的表面的曲率或曲率半径。因此，在第一外基底的情况下的面向第二外基底的表面的曲率或曲率半径以及在第二外基底的情况下的面向第一外基底的表面的曲率或曲率半径可以作为参考。此外，当相关表面具有曲率或曲率半径不恒定且不同的部分时，最大曲率或曲率半径、或者最小曲率或曲率半径、或者平均曲率或平均曲率半径可以作为参考。
两个基底的曲率或曲率半径的差可以在10％以内、在9％以内、在8％以内、在7％以内、在6％以内、在5％以内、在4％以内、在3％以内、在2％以内或在1％以内。当大的曲率或曲率半径为CL以及小的曲率或曲率半径为CS时，曲率或曲率半径的差为通过100％×(CL-CS)/CS计算的值。此外，曲率或曲率半径的差的下限没有特别限制。由于两个外基底的曲率或曲率半径的差可以相同，因此曲率或曲率半径的差可以为0％或更大、或者大于0％。
这样的曲率或曲率半径的控制在其中如本申请的光学装置中通过粘合膜来封装有源液晶膜和/或偏振器的结构中是有用的。
当第一外基底和第二外基底两者均为弯曲表面时，光学装置中的两个曲率可以具有相同的符号。换言之，两个外基底可以沿着相同的方向弯曲。即，在以上情况下，第一外基底的曲率中心和第二外基底的曲率中心两者均存在于第一外基底和第二外基底的上部和下部的相同部分中。图4是包括有源液晶膜的封装部400存在于第一外基底30与第二外基底30之间的侧面图示，其中第一外基底30和第二外基底30两者中的曲率中心存在于图中的下部。
第一外基底和第二外基底的各曲率或曲率半径的具体范围没有特别限制。在一个实施方案中，各基底的曲率半径可以为100R或更大、200R或更大、300R或更大、400R或更大、500R或更大、600R或更大、700R或更大、800R或更大、或者900R或更大，或者可以为10,000R或更小、9,000R或更小、8,000R或更小、7,000R或更小、6,000R或更小、5,000R或更小、4,000R或更小、3,000R或更小、2,000R或更小、1,900R或更小、1,800R或更小、1,700R或更小、1,600R或更小、1,500R或更小、1,400R或更小、1,300R或更小、1,200R或更小、1,100R或更小、或者1,050R或更小。在此，R表示半径为1mm的圆的弯曲梯度。因此，在此，例如，100R是半径为100mm的圆的曲度或者这样的圆的曲率半径。当然，在平坦表面的情况下，曲率为零以及曲率半径为无穷大。
第一外基底和第二外基底可以具有在上述范围内的相同或不同的曲率半径。在一个实施方案中，当第一外基底和第二外基底的曲率彼此不同时，其中具有大曲率的基底的曲率半径可以在上述范围内。
在一个实施方案中，当第一外基底和第二外基底的曲率彼此不同时，其中具有大曲率的基底可以为在使用光学装置时在重力方向上设置的基底。在本申请中，两个外基底中在使用光学装置的状态下在重力方向上设置的基底可以称为下基底，另一个基底可以称为上基底。
即，对于封装，可以进行使用粘合膜的高压釜过程，如下所述，在该过程中，通常应用高温和高压。然而，在一些情况下，例如当在这样的高压釜过程之后将应用于封装的粘合膜在高温下长时间储存时，发生一些重熔等，使得可能存在外基底变宽的问题。如果发生这样的现象，则力可能作用在经封装的有源液晶膜和/或偏振器上，并且在内部可能形成气泡。
然而，当如上所述控制基底之间的曲率或曲率半径时，即使降低由粘合膜引起的粘合力，作为恢复力和重力之和的净力可以用以防止变宽以及也可以用以承受与高压釜相同的过程压力。
光学装置还可以包括将有源液晶膜和/或偏振器封装在外基底中的粘合膜。在本说明书中，粘合膜也可以称为封装剂。例如，如图5所示，粘合膜40可以存在于外基底30与有源液晶膜10之间、有源液晶膜10与偏振器20之间、和/或偏振器20与外基底30之间。
此外，粘合膜可以存在于有源液晶膜10和偏振器20的侧面上，并且可以适当地存在于所有侧面上。
即，粘合膜可以存在于有源液晶膜和/或偏振器的上部和下部、以及所有侧面上。
粘合膜可以在将外基底30与有源液晶膜10、有源液晶膜10与偏振器20、以及偏振器20与外基底30彼此附接的同时封装有源液晶膜10和偏振器20。
例如，在根据期望的结构将外基底、有源液晶膜、偏振器和粘合膜层合之后，可以通过在真空状态下压制它们的方法来实现上述结构。
作为粘合膜，可以没有任何特别限制地使用已知的材料，其可以选自例如已知的聚氨酯粘合膜例如热塑性聚氨酯粘合膜(TPU：热塑性聚氨酯)、TPS(热塑性淀粉)、聚酰胺粘合膜、丙烯酸类粘合膜、聚酯粘合膜、EVA(乙烯乙酸乙烯酯)粘合膜、聚烯烃粘合膜例如聚乙烯或聚丙烯、或者聚烯烃弹性体膜(POE膜)等中。
作为粘合膜，可以使用具有在预定范围内的相位差的膜。在一个实施方案中，粘合膜的前相位差可以为100nm或更小。在另一个实例中，前相位差可以为约95nm或更小、约90nm或更小、约85nm或更小、约80nm或更小、约75nm或更小、约70nm或更小、约65nm或更小、约60nm或更小、约55nm或更小、约50nm或更小、约45nm或更小、约40nm或更小、约35nm或更小、约30nm或更小、约25nm或更小、约20nm或更小、约15nm或更小、约10nm或更小、约9nm或更小、约8nm或更小、约7nm或更小、约6nm或更小、约5nm或更小、约4nm或更小、约3nm或更小、约2nm或更小、或者约1nm或更小。前相位差可以为约0nm或更大、约1nm或更大、约2nm或更大、约3nm或更大、约4nm或更大、约5nm或更大、约6nm或更大、约7nm或更大、约8nm或更大、约9nm或更大、或者约9.5nm或更大。
粘合膜的厚度方向相位差的绝对值可以为例如200nm或更小。在另一个实例中，绝对值可以为约190nm或更小、180nm或更小、170nm或更小、160nm或更小、150nm或更小、140nm或更小、130nm或更小、120nm或更小、或者115nm或更小，或者可以为0nm或更大、10nm或更大、20nm或更大、30nm或更大、40nm或更大、50nm或更大、60nm或更大、70nm或更大、80nm或更大、或者90nm或更大。厚度方向相位差可以为负的，或者可以为正的，只要其具有所述范围内的绝对值即可。
可以以相同的方式计算粘合膜的前相位差(Rin)和厚度方向相位差(Rth)，不同之处在于在以上方程式1和2中，用粘合膜的厚度(d)、慢轴方向上的折射率(nx)、快轴方向上的折射率(ny)和厚度方向上的折射率(nz)分别代替厚度(d)、慢轴方向上的折射率(nx)、快轴方向上的折射率(ny)和厚度方向上的折射率(nz)来计算前相位差(Rin)和厚度方向相位差(Rth)。
在此，粘合膜的厚度可以为外基底30与有源液晶膜10之间的粘合膜的厚度(例如两者之间的间距)、有源液晶膜10与偏振器20之间的粘合膜的厚度(例如两者之间的间距)、和偏振器20与外基底30之间的粘合膜的厚度(例如两者之间的间距)。
作为粘合膜，可以使用杨氏模量在0.1MPa至100MPa范围内的粘合膜。杨氏模量可以根据ASTM D882标准来测量，并且可以通过以由相应标准提供的形式裁剪膜并使用能够测量应力-应变曲线(能够同时测量力和长度)的仪器来测量。
通过选择粘合膜以具有这样的杨氏模量，可以提供具有优异耐久性的光学装置。
如上的粘合膜的厚度没有特别限制，其可以为例如在约200μm至600μm左右的范围内。在此，粘合膜的厚度可以为外基底30与有源液晶膜10之间的粘合膜的厚度(例如两者之间的间距)、有源液晶膜10与偏振器20之间的粘合膜的厚度(例如两者之间的间距)、和偏振器20与外基底30之间的粘合膜的厚度(例如两者之间的间距)。
光学装置还可以包括缓冲层。这样的缓冲层可以存在于有源液晶膜的一侧或两侧上。图6示出了其中缓冲层50存在于有源液晶膜10的两侧上的结构，但是缓冲层50也可以仅存在于有源液晶膜10的一侧上。
这样的缓冲层可以减轻由其中有源液晶膜被粘合膜封装的结构中的层之间的热膨胀系数的差异引起的负压，并且能够使得可以实现更耐久的装置。
在一个实施方案中，作为缓冲层，可以使用杨氏模量为1MPa或更小的层。在另一个实例中，缓冲层的杨氏模量可以为0.9MPa或更小、0.8MPa或更小、0.7MPa或更小、0.6MPa或更小、0.6MPa或更小、0.1MPa或更小、0.09MPa或更小、0.08MPa或更小、0.07MPa或更小、或者0.06MPa或更小。在另一个实例中，杨氏模量为约0.001MPa或更大、0.002MPa或更大、0.003MPa或更大、0.004MPa或更大、0.005MPa或更大、0.006MPa或更大、0.007MPa或更大、0.008MPa或更大、0.009MPa或更大、0.01MPa或更大、0.02MPa或更大、0.03MPa或更大、0.04MPa或更大、或者0.045MPa或更大。在此，杨氏模量的测量方法与上述粘合膜的测量方法相同。
作为缓冲层，可以没有特别限制地使用表现出上述杨氏模量的透明材料，例如，可以使用基于丙烯酸酯、基于氨基甲酸酯、基于橡胶或基于硅的低聚物或聚合物材料等。
缓冲层的厚度没有特别限制，其可以在可以通过表现出上述范围内的杨氏模量而有效地降低装置内部产生的负压的范围内选择。
本申请的光学装置还可以包括可收缩膜。即，本申请的光学装置可以包括通过封装剂封装在第一外基底与第二外基底之间的有源液晶膜和/或偏振器，如上所述，其中本申请的光学装置还可以包括与第一外基底和第二外基底中的任一者相邻存在的可收缩膜。
也可以与第一外基底和第二外基底中的至少一者相邻存在可收缩膜，以及也可以与两个基底相邻存在两个或更多个可收缩膜。当存在一个可收缩膜时，所述一个可收缩膜可以与如上所述的下外基底相邻存在。
可收缩膜可以存在于第一外基底或第二外基底的内侧或外侧。在此，外基底的内侧可以意指外基底的两个主要表面中的在光学装置中面向有源液晶膜的表面，外侧可以意指相反的主要表面。
在一个实施方案中，光学装置还可以包括在可收缩膜与外基底之间的粘合膜。在这种情况下，可收缩膜可以通过粘合膜附接至前述外基底的内侧表面和/或外侧表面。在这种情况下，可以应用的粘合膜的种类没有特别限制，例如，可以使用与用作封装剂的粘合膜相同种类的粘合膜。因此，例如，粘合膜可以为前述的聚氨酯粘合膜(TPU：热塑性聚氨酯)、TPS(热塑性淀粉)、聚酰胺粘合膜、丙烯酸类粘合膜、聚酯粘合膜、EVA(乙烯乙酸乙烯酯)粘合膜、聚烯烃粘合膜例如聚乙烯或聚丙烯、或者聚烯烃弹性体膜等。
图7至10分别为其中可收缩膜100与作为下基底的第二外基底302相邻存在的实例。
图7和8为包括用封装剂40封装在第一外基底301(其为上基底)与第二外基底302之间的有源液晶膜10和/或偏振器20的结构，在以上结构中，可收缩膜通过形成封装剂40的粘合膜附接至第二外基底302的内侧；图9和10为包括用封装剂40封装在第一外基底301(其为上基底)与第二外基底302之间的有源液晶膜10和/或偏振器20的结构，在以上结构中，可收缩膜通过粘合膜401附接至第二外基底302的外侧。
在本申请中，通过引入如上所述的可收缩膜，可以使即使因用于制造光学装置的高压釜过程或制造之后的环境变化例如温度变化而可能在经封装的元件(有源液晶膜和/或偏振器)中发生的负压最小化，并且可以防止由气泡引起的缺陷例如白点等。
在本申请中，术语可收缩膜可以意指在至少任一方向上表现出期望的低温和/或高温收缩率的膜。
在一个实施方案中，可收缩膜在-40℃下的收缩率可以在0.001％至10％的范围内。收缩率可以为0.005％或更大、0.01％或更大、0.02％或更大、0.03％或更大、0.04％或更大、0.05％或更大、0.06％或更大、0.07％或更大、0.08％或更大、0.09％或更大、0.1％或更大、0.15％或更大、0.2％或更大、0.25％或更大、0.3％或更大、0.35％或更大、0.4％或更大、0.45％或更大、0.5％或更大、0.55％或更大、0.6％或更大、0.65％或更大、0.7％或更大、0.75％或更大、0.8％或更大、0.85％或更大、0.9％或更大、0.95％或更大、1％或更大、1.05％或更大、1.1％或更大、1.15％或更大、1.2％或更大、1.25％或更大、或者1.3％或更大。此外，收缩率也可以为9.5％或更小、9％或更小、8.5％或更小、8％或更小、7.5％或更小、7％或更小、6.5％或更小、6％或更小、5.5％或更小、5％或更小、4.5％或更小、4％或更小、3.5％或更小、3％或更小、2.5、2％或更小、或者1.5％或更小。
在一个实施方案中，可收缩膜在90℃下的收缩率可以在0.001％至10％的范围内。收缩率可以为0.005％或更大、0.01％或更大、0.02％或更大、0.03％或更大、0.04％或更大、0.05％或更大、0.06％或更大、0.07％或更大、0.08％或更大、0.09％或更大、0.1％或更大、0.15％或更大、0.2％或更大、0.25％或更大、0.3％或更大、0.35％或更大、0.4％或更大、0.45％或更大、0.5％或更大、0.55％或更大、0.6％或更大、0.65％或更大、0.7％或更大、0.75％或更大、0.8％或更大、0.85％或更大、0.9％或更大、0.95％或更大、1％或更大、1.05％或更大、1.1％或更大、1.15％或更大、1.2％或更大、1.25％或更大、或者1.3％或更大。此外，收缩率也可以为9.5％或更小、9％或更小、8.5％或更小、8％或更小、7.5％或更小、7％或更小、6.5％或更小、6％或更小、5.5％或更小、5％或更小、4.5％或更小、4％或更小、3.5％或更小、3％或更小、2.5、2％或更小、或者1.5％或更小。
在-40℃下的收缩率和在90℃下的收缩率是以下面将要描述的实施例中描述的方式评估的结果。
此外，收缩率可以各自为在可收缩膜的任一方向上的收缩率，并且在一个实施方案中，其可以为在可收缩膜的所有方向上发现的收缩率中的最大收缩率或最小收缩率、或者在所有方向上的收缩率的平均值。例如，当可收缩膜为下述拉伸聚合物膜时，收缩率可以为所谓的MD(机械方向)方向上的收缩率或TD(横向方向)方向上的收缩率。
可以包括可收缩膜使得表明收缩率的方向为预定方向。例如，可收缩膜可以包括在光学装置中使得上述配向膜的配向方向或表现出可收缩膜的所述收缩率的方向与光学装置中包括的偏振器的光吸收轴形成在-30度至30度的范围内、在-25度至25度的范围内、在-20度至20度的范围内、在-15度至15度的范围内、在-10度至10的范围内、或在-5度至5度的范围内的角度，或者大致平行；或者可以包括在光学装置中使得上述配向膜的配向方向或表现出可收缩膜的所述收缩率的方向与光学装置中包括的偏振器的光吸收轴形成在60度至120度的范围内、在65度至115度的范围内、在70度至110度的范围内、在75度至105度的范围内、在80度至100度的范围内、或在85度至95度的范围内的角度，或者大致垂直。
只要可收缩膜表现出这样的收缩率，就可以没有任何特别限制地使用各种膜作为可收缩膜。在一个实施方案中，可收缩膜可以为已知的拉伸聚合物膜。由于这种拉伸聚合物膜通过拉伸过程而产生，因此其具有在高温条件和/或低温条件下收缩的特性。在这种情况下，收缩率通过制造过程中的拉伸比等确定。在本申请中，表现出如上收缩率的膜可以选自已知的可收缩膜并使用。
作为适用的拉伸聚合物膜的可收缩膜的实例可以例示为纤维素聚合物膜，例如DAC(二乙酰纤维素)膜或TAC(三乙酰纤维素)膜；COP(环烯烃共聚物)膜，例如降冰片烯衍生物膜；或者聚烯烃膜，例如PE(聚乙烯)膜；或者PP(聚丙烯)膜；丙烯酸类聚合物膜，例如PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯))膜或Pac(聚丙烯酸酯)膜；聚酯膜，例如PC(聚碳酸酯)膜或PET(聚(对苯二甲酸乙二醇酯))膜；聚乙烯醇系列膜，例如PVA(聚乙烯醇)膜；PES(聚(醚砜))膜；PEEK(聚醚醚酮)膜；PPS(聚苯砜)膜；PEI(聚醚酰亚胺)膜；PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)膜；PI(聚酰亚胺)膜；PSF(聚砜)膜；PAR(聚芳酯)膜；或者氟树脂膜，但不限于此。
可收缩膜的厚度没有特别限制，并且可以考虑期望的光学装置的厚度在表现出上述收缩率的膜中选择适当的种类并使用。
除以上配置之外，光学装置还可以包括任何必需的配置，例如，在适当的位置包括已知的配置，例如延迟层、光学补偿层、抗反射层或硬涂层。
用于制造这样的在本申请中应用的光学装置的方法没有特别限制。
例如，光学装置可以经由层合体来制造，所述层合体通过根据期望的结构将上述第一外基底、与第一外基底相对设置的第二外基底、通过封装剂(粘合膜)封装在第一外基底与第二外基底之间的有源液晶膜和/或偏振器、形成封装剂的粘合膜或将可收缩膜附接至外基底的粘合膜、以及可收缩膜层合来制备。
即，可以通过将所述层合体应用于适合的粘结过程例如高压釜过程来完成封装，并且可以制造装置。
高压釜过程的条件没有特别限制，并且其可以例如根据所应用的粘合膜的类型在适当的温度和压力下进行。典型的高压釜过程的温度为约80℃或更高、90℃或更高、100℃或更高，压力为2个大气压或更大，但不限于此。过程温度的上限可以为约200℃或更低、190℃或更低、180℃或更低、或者170℃或更低左右，过程压力的上限可以为约10个大气压或更小、9个大气压或更小、8个大气压或更小、7个大气压或更小、或者6个大气压或更小左右。
这样的光学装置可以用于各种应用，例如，可以用于眼部佩戴物如太阳镜或AR(增强现实)或VR(虚拟现实)眼部佩戴物，建筑物的外墙，或车辆的天窗等。
在一个实施方案中，光学装置本身可以为车辆的天窗。
例如，在包括其中形成有至少一个开口的车体的汽车中，可以安装和使用附接至所述开口的光学装置或车辆天窗。
此时，当外基底的曲率或曲率半径彼此不同时，可以在重力方向上布置具有较小曲率半径的基底，即具有较大曲率的基底。
有益效果
本申请提供了能够改变透射率的光学装置，并且这样的光学装置可以用于各种应用，例如，眼部佩戴物如太阳镜或AR(增强现实)或VR(虚拟现实)眼部佩戴物，建筑物的外墙，或车辆的天窗。
附图说明
图1至6是用于说明本申请的光学装置的示例性图。
图7至10是用于说明应用可收缩膜的光学装置的结构的示例性图。
图11是示例性地示出了用于对实施例和比较例的性能进行比较的状态的图。
具体实施方式
在下文中，将通过实施例和比较例详细描述本申请，但是本申请的范围不限于以下实施例。
1.收缩率的测量
本文中提及的可收缩膜的收缩率使用来自TA的DMA仪器(Q800)以以下方式进行测量。将试样制造成宽度为约5.3mm且长度为约10mm，并在将试样的两端在纵向方向上固定至测量仪器的夹具之后，测量收缩率。在此，试样中的10mm的长度是除了固定至夹具的部分之外的长度。在如上所述将试样固定至夹具之后，在控制力模式下，在0.01N的预载力以及3.00℃/分钟的升温速率或-3.00℃/分钟的降温速率的条件下进行测量。-40℃收缩率(100％×(L-40-LO)/LO)通过在-40℃下保持30分钟之后的试样的长度(L-40)和初始长度(LO＝10mm)测量，以及90℃收缩率(100％×(L90-LO)/LO)通过在90℃下保持30分钟之后的试样的长度(L90)和初始长度(LO＝10mm)获得。
<测量温度条件和时间>
温度：25℃开始→90℃(保持30分钟)→25℃(保持30分钟)→40℃(保持30分钟)→25℃(保持30分钟)
实施例1.
使用以下配置制造光学装置。
有源液晶膜：宾主有源液晶膜(单元间隙：约12μm，基础膜类型：PET(聚(对苯二甲酸乙二醇酯)膜)，液晶/染料混合物类型：来自Merck的MAT-16-969液晶和各向异性染料(BASF，X12)的混合物，
偏振器：基于PVA(聚乙烯醇)的线性吸收偏振器，
第一外基底：3.85mm厚的曲率为2400R的玻璃基底
第二外基底：0.55mm厚的曲率为2400R的玻璃基底
封装剂(粘合膜)：TPU(热塑性聚氨酯)粘合膜(厚度：约0.38mm，制造商：Argotec，产品名：ArgoFlex)
封装剂(OCA)：3M，8146-5
可收缩膜：拉伸的基于PVA的偏振膜(MD(机械方向)高温(90℃)收缩率：1.32％，MD(机械方向)低温(-40℃)收缩率：1.32％，TD(横向方向)高温(90℃)收缩率：0.17％，TD(横向方向)低温(-40℃)收缩率：0.31％)
将可收缩膜、TPU粘合膜、第二外基底、OCA封装剂、有源液晶膜、TPU粘合膜和第一外基底顺序地层合以制备层合体。在制造层合体时，第一外基底和第二外基底的两个凸部都面向上。
此外，制造层合体使得在结构中，可收缩膜(拉伸的基于PVA的偏振膜)的MD方向垂直于液晶配向膜的配向方向。
其后，将层合体在约100℃的温度和2个大气压左右的压力下进行高压釜过程以制备光学装置。
实施例2.
将实施例1的可收缩膜、实施例1的TPU粘合膜、实施例1的第二外基底、实施例1的OCA封装剂、实施例1的有源液晶膜、实施例1的OCA封装剂、实施例1的基于PVA的线性吸收偏振器、实施例1的TPU粘合膜和实施例1的第一外基底顺序地层合以制备层合体。在制造层合体时，第一外基底和第二外基底的两个凸部都面向上。此外，制造层合体使得在结构中，可收缩膜(拉伸的基于PVA的偏振膜)的MD方向垂直于基于PVA的线性吸收偏振器的光吸收轴方向。其后，将层合体在约100℃的温度和2个大气压左右的压力下进行高压釜过程以制备光学装置。
实施例3.
将可收缩膜、实施例1的TPU粘合膜、实施例1的第二外基底、实施例1的OCA封装剂、实施例1的有源液晶膜、实施例1的OCA封装剂、实施例1的基于PVA的线性吸收偏振器、实施例1的TPU粘合膜和实施例1的第一外基底顺序地层合以制备层合体。在制造层合体时，第一外基底和第二外基底的两个凸部都面向上。
此外，在制造层合体时，作为可收缩膜，使用MD(机械方向)方向高温(90℃)收缩率为0.51％、MD(机械方向)方向低温(-40℃)收缩率为0.97％、TD(横向方向)高温(90℃)收缩率为0.51％且TD(横向方向)低温(-40℃)收缩率为0.97％的双轴拉伸PET(聚(对苯二甲酸乙二醇酯))膜。此外，制造层合体使得在结构中，可收缩膜(拉伸PET膜)的MD方向垂直于基于PVA的线性吸收偏振器的光吸收轴方向。其后，将层合体在约100℃的温度和2个大气压左右的压力下进行高压釜过程以制备光学装置。
实施例4.
将可收缩膜、实施例1的TPU粘合膜、实施例1的第二外基底、实施例1的OCA封装剂、实施例1的有源液晶膜、实施例1的OCA封装剂、实施例1的基于PVA的线性吸收偏振器、实施例1的TPU粘合膜和实施例1的第一外基底顺序地层合以制备层合体。在制造层合体时，第一外基底和第二外基底的两个凸部都面向上。
此外，在制造层合体时，作为可收缩膜，使用MD(机械方向)方向高温(90℃)收缩率为0.51％、MD(机械方向)方向低温(-40℃)收缩率为0.97％、TD(横向方向)高温(90℃)收缩率为0.01％且TD(横向方向)低温(-40℃)收缩率为0.01％的单轴拉伸PET(聚(对苯二甲酸乙二醇酯))膜。此外，制造层合体使得在结构中，可收缩膜(拉伸PET膜)的MD方向垂直于基于PVA的线性吸收偏振器的光吸收轴方向。其后，将层合体在约100℃的温度和2个大气压左右的压力下进行高压釜过程以制备光学装置。
比较例1.
以与实施例1中相同的方式制备光学装置，不同之处在于不应用可收缩膜。
比较例2.
以与实施例2中相同的方式制备光学装置，不同之处在于不应用可收缩膜。
比较例3.
以与实施例3中相同的方式制备光学装置，不同之处在于不应用可收缩膜。
气泡出现的评估
在如图11中所示将实施例或比较例中制造的各光学装置的凹形位置的中心支撑之后，使其经受热测试，然后是循环测试，然后在室温下储存35天左右以确定是否由气泡引起白点。
在此，热测试通过将光学装置在100℃下保持168小时来进行，循环测试条件如下。
<循环测试条件>
1次循环＝25℃→90℃(保持4小时)→-40℃(保持4小时)→25℃
温度变化速率：升温1℃/分钟，降温-1℃/分钟
测量湿度(相对湿度)：90％
重复次数：重复1次循环10次(10次循环)
在各情况下，确定白点的出现并且结果描述于下表1中。
在下表1中，P意指没有出现白点，F意指出现白点。
[表1]
热测试 循环测试
实施例1 P P
实施例2 P P
实施例3 P P
实施例4 P P
比较例1 F F
比较例2 F F
比较例3 F F

Claims (17)

1.一种光学装置，包括：
第一外基底；
与所述第一外基底相对设置的第二外基底；以及
有源液晶膜和/或偏振器，
其中所述有源液晶膜和/或所述偏振器通过封装剂封装在所述第一外基底与所述第二外基底之间，
其中所述有源液晶膜包括彼此相对设置的两个基础膜和在所述两个基础膜之间的有源液晶层，
其中还包括与所述第一外基底和所述第二外基底中的任一者相邻的可收缩膜；以及
其中所述可收缩膜存在于所述第一外基底或所述第二外基底的内侧或外侧；以及
其中所述第一外基底和所述第二外基底中的至少一者为弯曲基底，以及所述第一外基底与所述第二外基底的曲率差在10％之内。
2.根据权利要求1所述的光学装置，其中包括通过所述封装剂封装在所述第一外基底与所述第二外基底之间的所述有源液晶膜和所述偏振器。
3.根据权利要求1所述的光学装置，还包括在所述可收缩膜与所述外基底之间的粘合膜。
4.根据权利要求3所述的光学装置，其中所述粘合膜为聚氨酯粘合膜、热塑性淀粉、聚酰胺粘合膜、丙烯酸类粘合膜、聚酯粘合膜、乙烯乙酸乙烯酯粘合膜、或聚烯烃粘合膜。
5.根据权利要求3所述的光学装置，其中所述粘合膜为热塑性聚氨酯粘合膜、热塑性淀粉、聚酰胺粘合膜、丙烯酸类粘合膜、聚酯粘合膜、乙烯乙酸乙烯酯粘合膜、聚乙烯或聚丙烯粘合膜、或者聚烯烃弹性体膜。
6.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述可收缩膜在-40℃下的收缩率在0.001％至10％的范围内。
7.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述可收缩膜在90℃下的收缩率在0.001％至10％的范围内。
8.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述可收缩膜为拉伸聚合物膜。
9.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述可收缩膜为纤维素聚合物膜；聚烯烃膜；丙烯酸类聚合物膜；聚酯膜；聚乙烯醇系列膜；聚醚砜膜；聚醚醚酮膜；聚苯砜膜；聚醚酰亚胺膜；聚酰亚胺膜；聚砜膜；或氟树脂膜。
10.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述可收缩膜为纤维素聚合物膜；聚烯烃膜；丙烯酸类聚合物膜；聚乙烯醇系列膜；聚醚砜膜；聚醚醚酮膜；聚苯砜膜；聚醚酰亚胺膜；聚萘二甲酸乙二醇酯膜；聚酰亚胺膜；聚砜膜；聚芳酯膜；或氟树脂膜。
11.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述第一外基底和所述第二外基底两者均为弯曲基底。
12.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述第一外基底与所述第二外基底的曲率差在9％之内。
13.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述第一外基底和所述第二外基底沿着相同方向弯曲。
14.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述第一外基底和所述第二外基底的曲率半径各自为100R或更大。
15.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述封装剂存在于所述有源液晶膜或所述偏振器的上部和下部、以及所有侧面上。
16.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述封装剂为聚氨酯粘合膜、热塑性淀粉、聚酰胺粘合膜、丙烯酸类粘合膜、聚酯粘合膜、乙烯乙酸乙烯酯粘合膜、聚烯烃粘合膜、或者聚烯烃弹性体膜。
17.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述封装剂为热塑性聚氨酯粘合膜、热塑性淀粉、聚酰胺粘合膜、丙烯酸类粘合膜、聚酯粘合膜、乙烯乙酸乙烯酯粘合膜、聚乙烯或聚丙烯粘合膜、或者聚烯烃弹性体膜。
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