CN112563104B - 一种xy运动装置及电子束检测设备 - Google Patents
一种xy运动装置及电子束检测设备 Download PDFInfo
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Abstract
本发明涉及集成电路装备制造领域,公开一种XY运动装置及电子束检测设备。XY运动装置包括底座、Y向运动机构、X向运动机构和支撑座,Y向运动机构包括至少两组沿Y向设置的第一导轨、两组沿Y向设置的第一电机和一组沿X向设置的第一横梁,两组第一电机的定子固定在底座沿X向的两侧,两组第一电机的动子固定在第一横梁的两端;X向运动机构包括两组沿X向设置的第二导轨、两组沿X向设置的第二电机和一组沿Y向设置的第二横梁,两组第二电机的定子固定在底座沿Y向的两侧,两组第二电机的动子固定在第二横梁的两端;支撑座可移动地安装于第一横梁和第二横梁。本发明结构简单,高度尺寸小,控制容易,各电机在中心区域漏磁少,能达nT量级。
Description
技术领域
本发明涉及集成电路装备制造领域,尤其涉及一种XY运动装置及电子束检测设备。
背景技术
随着半导体技术的发展和加工技术的进步,器件的尺寸不断缩小,晶圆上致命缺陷的尺寸也变的越来越小,缺陷的检测变得更加困难。电子束检测设备克服了光学波长的限制,且由于其优异的分辨率和检测精度,成为下一代制程(7nm/5nm)的检测不可或缺的手段。
XY运动装置是电子束检测设备的核心部件之一,为晶圆提供水平向的精密定位功能。在电子束检测装备中,电子束对磁场非常敏感,所以对其运动装置,尤其是驱动电机,必须做磁屏蔽,以降低电机磁场对电子束的干扰。
对于XY运动装置,常规的技术基本分为两种,一种为堆叠式XY台,如专利CN207942325所示,其上层采用单电机+导轨,下层采用单电机或者多电机+多导轨,为晶圆提供XY两个方向的定位。这种XY运动装置在电子束检测领域也较为常用,且高度较高,可以有效降低下层电机磁场对电子束的干扰。但由于上层的电机处于中间位置,仍然无法避开电子束的检测区域,虽然上层的电机做了磁屏蔽,但在电子束检测区域的漏磁仍可达uT量级,难以满足nT量级的要求;另外这种XY运动装置的高度尺寸偏大,占用的空间较大。
另一种为H型布局的XY装置方案,如专利JP2010219389所示,其轻轴采用单电机或者双电机+导轨,重轴采用双电机+导轨的方案。该方案可以有效降低XY运动装置的高度,且重轴的两个电机远离电子束检测区域,但轻轴的电机依旧在电子束检测区域周围,很难满足nT量级的漏磁要求。
为了解决电机漏磁对电子束检测设备的影响,日本住友重工在专利JP2020027311提供了一种新的解决思路。其通过采用气动执行器+真空环境下的气浮导轨,取消了常规设计用的驱动电机,从而从根源上消除了电机漏磁对电子束检测的干扰。但该装置设计非常复杂,气动控制难度更是非常大。
发明内容
基于以上所述,本发明的目的在于提供一种XY运动装置及电子束检测设备,以解决相关技术中XY运动装置在电子束检测区域的漏磁偏大,影响检测精度,高度尺寸偏大,结构复杂及控制难度大等问题。
为达上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种XY运动装置,包括:
底座;
Y向运动机构,包括至少两组沿Y向设置的第一导轨、两组沿Y向设置的第一电机和一组沿X向设置的第一横梁,其中所述第一导轨固定在所述底座上,所述第一横梁可移动地安装于所述第一导轨上,两组所述第一电机的定子固定在所述底座沿X向的两侧,两组所述第一电机的动子固定在所述第一横梁的两端;
X向运动机构,包括两组沿X向设置的第二导轨、两组沿X向设置的第二电机和一组沿Y向设置的第二横梁,其中两组所述第二导轨固定在所述底座沿Y向的两侧,所述第二横梁的两端可移动地安装于两组所述第二导轨上,所述第二横梁和所述第一横梁在XY平面上呈十字交叉,且所述第二横梁位于所述第一横梁沿Z向的上方;两组所述第二电机的定子固定在所述底座沿Y向的两侧,两组所述第二电机的动子固定在所述第二横梁的两端;
支撑座,可移动地安装于所述第一横梁和所述第二横梁上,所述第一横梁能带动所述支撑座沿Y向移动,所述第二横梁能带动所述支撑座沿X向移动。
作为一种XY运动装置的优选方案,所述第一横梁的底部设置有第一滑块,所述第一横梁通过所述第一滑块与所述第一导轨滑动连接;所述第二横梁的底部设置有第二滑块,所述第二横梁通过所述第二滑块与所述第二导轨滑动连接。
作为一种XY运动装置的优选方案,所述第一横梁的两侧面分别设有沿X向延伸的第三导轨,所述支撑座设置有第三滑块,所述支撑座通过所述第三滑块与所述第三导轨滑动连接;所述第二横梁的两侧面分别设有沿Y向延伸第四导轨,所述支撑座设置有第四滑块,所述支撑座通过所述第四滑块与所述第四导轨滑动连接。
作为一种XY运动装置的优选方案,所述支撑座包括:
顶板,用于承载待测试的晶圆;
四组支撑架,固定于所述顶板的四角,每组所述支撑架均包括顶板支撑面、第一连接面和第二连接面,所述顶板支撑面与所述顶板固定连接,所述第一连接面与所述第三滑块固定连接,所述第二连接面与所述第四滑块固定连接。
作为一种XY运动装置的优选方案,所述支撑座包括:
支撑座本体,所述支撑座本体的顶部设有用于承载待测试的晶圆的承载面;所述支撑座本体上部沿Y向设置有第二横梁腔,使得所述第二横梁能从中穿过;所述支撑座本体下部沿X向设置有第一横梁腔,使得所述第一横梁能从中穿过;所述第一横梁腔的两侧壁设有第三连接面,所述第三连接面与所述第三滑块固定连接;所述第二横梁腔的两侧壁设有第四连接面,所述第四连接面与所述第四滑块固定连接。
作为一种XY运动装置的优选方案,所述第一导轨的数量为三组,其中两组所述第一导轨固定在所述底座沿X向的两端,一组所述第一导轨固定在所述底座沿X向的中间位置。
作为一种XY运动装置的优选方案,每组所述第一电机的定子和每组所述第二电机的定子均在其***包裹有磁屏蔽材料。
作为一种XY运动装置的优选方案,还包括位置检测装置,用于检测所述支撑座的位置。
作为一种XY运动装置的优选方案,所述位置检测装置通过光栅尺提供位置反馈信号,或通过激光干涉仪提供位置反馈信号。
作为一种XY运动装置的优选方案,所述第一导轨、所述第二导轨、所述第三导轨和所述第四导轨均为机械导轨。
一种电子束检测设备,包括以上任一方案所述的XY运动装置。
本发明的有益效果为:
本发明提供的XY运动装置,通过将两组第一电机的定子固定在底座沿X向的两侧,两组第二电机的定子固定在底座沿Y向的两侧,使得四组电机布置在底座的四周,远离中心区域(即电子束检测区域),使得各组电机的定子磁钢在中心区域的漏磁非常少,能够达nT量级,从而大大提高了晶圆的检测精度。本发明通过将第二横梁和第一横梁在XY平面上呈十字交叉布置,将第二横梁设于第一横梁沿Z向的上方,并将支撑座可移动地安装于第一横梁和第二横梁上,实现了支撑座沿X和Y两个方向的移动,同时使得该运动装置较为扁平,有效减小了整个运动装置的高度尺寸,节省了空间。本发明通过沿Y向设置的第一导轨,保证了第一横梁沿Y向运动的精确性,通过沿X向设置的第二导轨,保证了第二横梁沿X向运动的精确性,如此使得本发明能提供高精度的X向和Y向运动。同时,本发明结构简单,操作方便,电机控制较为容易,避免了采用气动执行器和真空环境下的气浮导轨带来的结构复杂、气动控制难度大等问题。
附图说明
图1是本发明实施例一提供的XY运动装置的结构示意图;
图2是本发明实施例一提供的XY运动装置的部分结构示意图;
图3是本发明实施例一所涉及的第一横梁和第一滑块的结构示意图;
图4是本发明实施例一所涉及的第二横梁和第二滑块的结构示意图;
图5是本发明实施例一所涉及的支撑架的结构示意图;
图6是本发明实施例一所涉及的支撑架与第三滑块、第四滑块的结构示意图;
图7是本发明实施例二提供的XY运动装置的结构示意图;
图8是本发明实施例二所涉及的支撑座本体的结构示意图;
图9是本发明实施例提供的XY运动装置的磁场仿真图。
图中:
1-底座;
2-Y向运动机构;21-第一导轨;22-第一电机;221-第一电机的定子;222-第一电机的动子;23-第一横梁;24-第四导轨;25-第一滑块;
3-X向运动机构;31-第二导轨;32-第二电机;321-第二电机的定子;322-第二电机的动子;33-第二横梁;34-第三导轨;35-第二滑块;
4-支撑座;41-顶板;42-支撑架;421-支撑面;422-第一连接面;423-第二连接面;43-支撑座本体;431-承载面;432-第二横梁腔;4321-第四连接面;433-第一横梁腔;4331-第三连接面;44-第三滑块;45-第四滑块;
5-位置检测装置。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
在本发明的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本实施例的描述中,术语“上”、“下”、“左”“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述和简化操作,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分,并没有特殊的含义。
实施例一
图1是本发明实施例一提供的XY运动装置的结构示意图;图2是本发明实施例一提供的XY运动装置的部分结构示意图;图3是本发明实施例一所涉及的第一横梁和第一滑块的结构示意图;图4是本发明实施例一所涉及的第二横梁和第二滑块的结构示意图;图5是本发明实施例一所涉及的支撑架的结构示意图;图6是本发明实施例一所涉及的支撑架与第三滑块、第四滑块的结构示意图。如图1-图6所示,本实施方式提供一种XY运动装置,可应用于电子束晶圆检测领域,用于为晶圆提供沿X向和沿Y向的精确运动。该XY运动装置包括底座1、Y向运动机构2、X向运动机构3和支撑座4。底座1用于支撑X向运动机构3和Y向运动机构2,底座1优选采用方形结构,以便将X向运动机构3和Y向运动机构2沿底座1的四周进行布置,减小该XY运动装置所占用的空间。
Y向运动机构2包括至少两组沿Y向设置的第一导轨21、两组沿Y向设置的第一电机22和一组沿X向设置的第一横梁23,其中各第一导轨21均匀间隔固定在底座1上,用于为第一横梁23沿Y向的运动提供导向;第一横梁23可滑动地安装于第一导轨21上,且第一横梁23的长度方向垂直于第一导轨21的长度方向;本实施例的电机均采用直线电机,每组第一电机22包括一组第一电机的定子221和一组第一电机的动子222,且两组第一电机的定子221分别固定在底座1沿X向的两侧,两组第一电机的动子222分别固定在第一横梁23的两端,且两组第一电机的定子221与第一横梁23三者在X方向上呈H型布局,通过上述两组第一电机22能够驱动第一横梁23沿第一导轨21往复运动。具体而言,本实施例在底座1沿X向的两侧分别设置有第一台阶,第一台阶的长度沿Y方向延伸,第一电机的定子221固定于第一台阶上。进一步地,本实施例中两组第一电机的定子221的***均包裹有磁屏蔽材料,从而有效降低了第一电机的定子221的磁钢对中心区域(即电子束测量区域)的干扰。
X向运动机构3包括两组沿X向设置的第二导轨31、两组沿X向设置的第二电机32和一组沿Y向设置的第二横梁33,其中两组第二导轨31固定在底座1沿Y向的两侧,用于为第二横梁33沿X向的运动提供导向;优选地,本实施例第二导轨31在底座1上的安装位置高于第一导轨21在底座1上的安装位置。第二横梁33可滑动地安装于两组第二导轨31上,第二横梁33和第一横梁23在XY平面上呈十字交叉,且第二横梁33位于第一横梁23沿Z向的上方;每组第二电机包括一组第二电机的定子321和一组第二电机的动子322,且两组第二电机的定子321分别固定在底座1沿Y向的两侧,两组第二电机的动子322分别固定在第二横梁33的两端,且两组第二电机的定子321与第二横梁33三者在Y方向上呈H型布局,通过上述两组第二电机32能驱动第二横梁33沿第二导轨31往复运动。具体而言,本实施例在底座1沿Y向的两侧分别设置有第二台阶,第二台阶的长度沿X方向延伸,第二电机的定子321固定于第二台阶上,且第二台阶高于第一台阶。进一步地,本实施例中两组第二电机的定子321***均包裹有磁屏蔽材料,从而有效降低了第二电机的定子321的磁钢对中心区域(即电子束测量区域)的干扰。进一步地,本实施例中各第一导轨21和各第二导轨31均为机械导轨。
支撑座4可滑动地安装于第一横梁23以及第二横梁33上,其中第一横梁23能带动支撑座4沿第二横梁33(即Y向)移动,第二横梁33能带动支撑座4沿第一横梁23(即X向)移动;支撑座4的顶部用于放置待测试的晶圆,从而能够带动晶圆沿X向和沿Y向精确运动。
本发明提供的XY运动装置,通过将两组第一电机的定子221间隔固定在底座1沿X向的两侧,两组第二电机的定子321间隔固定在底座1沿Y向的两侧,使得四组电机布置在底座1的四周,远离中心区域(即电子束检测区域),使得各组电机的定子磁钢在中心区域的漏磁非常少,能够达nT量级,从而大大提高了晶圆的检测精度。本发明通过将第二横梁33和第一横梁23在XY平面上呈十字交叉布置,将第二横梁33设于第一横梁23沿Z向的上方,并将支撑座4可移动地安装于第一横梁23和第二横梁33上,实现了支撑座4沿X和Y两个方向的移动,同时使得该运动装置较为扁平,有效减小了整个运动装置的高度尺寸,节省了空间。本发明通过沿Y向设置的第一导轨21,保证了第一横梁23沿Y向运动的精确性,通过沿X向设置的第二导轨31,保证了第二横梁33沿X向运动的精确性,如此使得本发明能提供高精度的X向和Y向运动。同时,本发明结构简单,操作方便,电机控制较为容易,避免了采用气动执行器和真空环境下的气浮导轨带来的结构复杂、气动控制难度大等问题。
需要说明的是,本实施例中示例性地给出了将X向运动机构设置于Y向运动机构的上方的方案,然而在其它可选实施例中,也可以将X向运动机构设置于Y向运动机构的下方,即第二横梁33可位于第一横梁23的下方,其它的结构可根据需要进行适应性地调整,并不以本实施例为限。同时,在其他可选实施例中,也可以使第一电机的定子221的固定位置高于第二电机的定子321的固定位置,其它的结构可根据需要进行适应性地调整,并不以本实施例为限。
可选地,如图2所示,本实施例第一导轨21的数量为三组,其中两组第一导轨21固定在底座1沿X向的两端,一组第一导轨21固定在底座1沿X向的中间位置。通过设置三组第一导轨21,进一步增加了对第一横梁23的导向精度,并能有效防止导轨发生变形,提高导轨的支撑稳定性和导轨的使用寿命。当然,在其它实施例中,第一导轨21的数量也可以设置为四组、五组或其它组数量,并不以本实施例为限。进一步地,如图3所示,本实施例中第一横梁23的底部设置有第一滑块25,第一滑块25的位置与第一导轨21的位置一一相对,第一横梁23通过第一滑块25与第一导轨21滑动连接。同样地,如图4所示,第二横梁33的底部设置有第二滑块35,第二滑块35的位置与第二导轨31的位置一一相对,第二横梁33通过第二滑块35与第二导轨31滑动连接。如此设置,结构简单,连接可靠,保证了第一横梁23和第二横梁33的运动精确度和运行平稳性。
可选地,如图1和图6所示,本实施例第一横梁23的两侧面还分别设有沿X向延伸的第三导轨34,支撑座4上设置有第三滑块44,支撑座4通过第三滑块44与第三导轨34滑动连接;同样地,第二横梁33的两侧面分别设有沿Y向延伸第四导轨24,支撑座4上还设置有第四滑块45,支撑座4通过第四滑块45与第四导轨24滑动连接。如此设置,结构简单,连接可靠,进一步保证了支撑座4沿X向和Y向运动的精确度和平稳性。优选地,本实施例中各第三导轨34和各第四导轨24均为机械导轨。
可选地,本实施例的支撑座4为分体式结构。如图1、图5和图6所示,支撑座4包括一顶板41和四组支撑架42,顶板41连接于支撑架42的顶部,顶板41的上表面用于承载待测试的晶圆;四组支撑架42分别固定于顶板41下方的四角,用于支撑顶板41,并实现支撑座4与第一横梁23及第二横梁33的滑动连接。具体地,如图5所示,每组支撑架42均包括顶板支撑面421、第一连接面422和第二连接面423,其中顶板支撑面421与顶板41固定连接,第一连接面422垂直固定于第二连接面423的下方,第一连接面422用于与第三滑块44固定连接,第三滑块44与第三导轨34滑动连接,以实现支撑座4沿X向的可靠滑动;第二连接面423用于与第四滑块45固定连接,第四滑块45与第四导轨24滑动连接,以实现支撑座4沿Y向的可靠滑动。本实施例的支撑座4结构简单,加工容易,安装方便,有效节约了制作成本。
进一步地,本实施例的XY运动装置还包括位置检测装置5,用于检测支撑座4的位置,以便实时获得待测晶圆所在的位置,从而能对晶圆的运动进行精确调节。本实施例的位置检测装置5分别安装于第一横梁23和第二横梁33的两端,具体可以通过光栅尺提供位置反馈信号,或通过激光干涉仪提供位置反馈信号。当然,在其它实施例中,位置检测装置5也可采用其它方式进行设置,并不以本实施例为限。
实施例二
图7是本发明实施例二提供的XY运动装置的结构示意图;图8是本发明实施例二所涉及的支撑座本体的结构示意图。如图7-图8所示,本实施例提供一种XY运动装置,与实施例一的结构基本相同,为简便起见,本实施例仅描述与实施例一的不同之处。
在本实施例中,支撑座4采用一体式结构。如图7-图8所示,支撑座4包括支撑座本体43,支撑座本体43呈壳状结构,其顶部设有用于承载待测试的晶圆的承载面431;支撑座本体43的上部沿Y向设置有第二横梁腔432,用于使第二横梁33从中穿过;支撑座本体43的下部沿X向设置有第一横梁腔433,用于使第一横梁23从中穿过;第一横梁腔433的两内侧壁设有第三连接面4331,第三连接面4331用于与第三滑块44固定连接,第三滑块44与第三导轨34滑动连接,以实现支撑座4沿X向的可靠滑动;第二横梁腔432的两侧壁设有第四连接面4321,第四连接面4321与第四滑块45固定连接,第四滑块45与第四导轨24滑动连接,以实现支撑座4沿Y向的可靠滑动。本实施例的支撑座4采用一体式结构,进一步简化了加工工艺,提高了支撑座4的结构稳定性。
实施例三
本实施例提供一种电子束检测设备,包括实施例一或实施例二中的XY运动装置。本实施例的电子束检测设备,通过将四组电机布置在底座1的四周,远离中心区域(即电子束检测区域),并在电机定子***包裹磁屏蔽材料,使得各组电机的定子磁钢在中心区域的漏磁非常少。
图9是本发明实施例提供的XY运动装置的磁场仿真图,如图9所示,经检测,各组电机在中心区域的漏磁能够达nT量级,磁场屏蔽效果明显,从而大大提高了晶圆的检测精度。同时本实施例结构简单,高度尺寸小,控制容易,能为待测试的晶圆提供高精度的X向和Y向运动。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (9)
1.一种XY运动装置,其特征在于,包括:
底座(1);
Y向运动机构(2),包括至少两组沿Y向设置的第一导轨(21)、两组沿Y向设置的第一电机(22)和一组沿X向设置的第一横梁(23),其中所述第一导轨(21)固定在所述底座(1)上,所述第一横梁(23)可移动地安装于所述第一导轨(21)上,两组第一电机的定子(221)固定在所述底座(1)沿X向的两侧,两组第一电机的动子(222)固定在所述第一横梁(23)的两端;
X向运动机构(3),包括两组沿X向设置的第二导轨(31)、两组沿X向设置的第二电机(32)和一组沿Y向设置的第二横梁(33),其中两组所述第二导轨(31)固定在所述底座(1)沿Y向的两侧,所述第二横梁(33)的两端可移动地安装于两组所述第二导轨(31)上,所述第二横梁(33)和所述第一横梁(23)在XY平面上呈十字交叉,且所述第二横梁(33)位于所述第一横梁(23)沿Z向的上方;两组第二电机的定子(321)固定在所述底座(1)沿Y向的两侧,两组第二电机的动子(322)固定在所述第二横梁(33)的两端;
支撑座(4),可移动地安装于所述第一横梁(23)和所述第二横梁(33)上,所述第一横梁(23)能带动所述支撑座(4)沿Y向移动,所述第二横梁(33)能带动所述支撑座(4)沿X向移动;
所述第一横梁(23)的两侧面分别设有沿X向延伸的第三导轨(34),所述支撑座(4)设置有第三滑块(44),所述支撑座(4)通过所述第三滑块(44)与所述第三导轨(34)滑动连接;所述第二横梁(33)的两侧面分别设有沿Y向延伸第四导轨(24),所述支撑座(4)设置有第四滑块(45),所述支撑座(4)通过所述第四滑块(45)与所述第四导轨(24)滑动连接;
所述第一导轨(21)、所述第二导轨(31)、所述第三导轨(34)和所述第四导轨(24)均为机械导轨。
2.根据权利要求1所述的XY运动装置,其特征在于,所述第一横梁(23)的底部设置有第一滑块(25),所述第一横梁(23)通过所述第一滑块(25)与所述第一导轨(21)滑动连接;所述第二横梁(33)的底部设置有第二滑块(35),所述第二横梁(33)通过所述第二滑块(35)与所述第二导轨(31)滑动连接。
3.根据权利要求1所述的XY运动装置,其特征在于,所述支撑座(4)包括:
顶板(41),用于承载待测试的晶圆;
四组支撑架(42),固定于所述顶板(41)的四角,每组所述支撑架(42)均包括顶板支撑面(421)、第一连接面(422)和第二连接面(423),所述顶板支撑面(421)与所述顶板(41)固定连接,所述第一连接面(422)与所述第三滑块(44)固定连接,所述第二连接面(423)与所述第四滑块(45)固定连接。
4.根据权利要求1所述的XY运动装置,其特征在于,所述支撑座(4)包括:
支撑座本体(43),所述支撑座本体(43)的顶部设有用于承载待测试的晶圆的承载面(431);所述支撑座本体(43)上部沿Y向设置有第二横梁腔(432),使得所述第二横梁(33)能从中穿过;所述支撑座本体(43)下部沿X向设置有第一横梁腔(433),使得所述第一横梁(23)能从中穿过;所述第一横梁腔(433)的两侧壁设有第三连接面(4331),所述第三连接面(4331)与所述第三滑块(44)固定连接;所述第二横梁腔(432)的两侧壁设有第四连接面(4321),所述第四连接面(4321)与所述第四滑块(45)固定连接。
5.根据权利要求1所述的XY运动装置,其特征在于,所述第一导轨(21)的数量为三组,其中两组所述第一导轨(21)固定在所述底座(1)沿X向的两端,一组所述第一导轨(21)固定在所述底座(1)沿X向的中间位置。
6.根据权利要求1所述的XY运动装置,其特征在于,每组所述第一电机的定子(221)和每组所述第二电机的定子(321)均在其***包裹有磁屏蔽材料。
7.根据权利要求1所述的XY运动装置,其特征在于,还包括位置检测装置(5),用于检测所述支撑座(4)的位置。
8.根据权利要求7所述的XY运动装置,其特征在于,所述位置检测装置(5)通过光栅尺提供位置反馈信号,或通过激光干涉仪提供位置反馈信号。
9.一种电子束检测设备,其特征在于,包括如权利要求1-8任一项所述的XY运动装置。
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