CN112387974B - 一种pvt法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,它属于晶体生长技术领域。本发明要解决的技术问题为氮化铝晶体生长用坩埚材料的使用寿命短的问题。本发明称量一定质量的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉加入三维振动混合器中,混合均匀后得到的混合粉体加入聚氯乙烯坩埚模具,通过冷等静压,压制成型,置于热压烧结炉内抽真空后,在20~30MPa的压力下,进行烧结处理,得到烧结后的坩埚材料用车床或线切割进行加工成型,然后置于真空烧结炉内,抽真空后,进行烧结处理,得到所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料。本发明生长用坩埚材料晶体缺陷密度降低,消除高温下TaC晶粒的异常长大现象,增加了坩埚使用寿命。
Description
技术领域
本发明属于晶体生长技术领域;具体涉及一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法。
背景技术
目前物理气相传输法(Physical vapor phase transport,PVT)氮化铝晶体生长技术所需要的生长温度在1850~2200℃,所以需要耐热和耐化学腐蚀坩埚材料。
目前使用的材料是碳化钽和钨坩埚材料,但是钨坩埚在石墨加热器和保温的环境下,会形成碳化钨,由于碳化钨坩埚在AlN蒸气环境中很不稳定,会急剧降低钨坩埚的使用寿命;TaC坩埚由于TaC晶粒再长大的现象,导致TaC坩埚在2200℃以上的使用环境中会出现裂纹,坩埚使用寿命急剧下降。
发明内容
本发明目的是提供了使用寿命高的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法。
本发明通过以下技术方案实现:
一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,包括如下步骤:
步骤1、按照重量份数分别称量一定质量的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉,待用;
步骤2、将称量好的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉加入三维振动混合器中,混合均匀后,得到混合粉体,待用;
步骤3、将步骤2得到的混合粉体加入聚氯乙烯坩埚模具,通过冷等静压,压制成型,得到成型后的坩埚材料,待用;
步骤4、将步骤3得到的成型后的坩埚材料,置于热压烧结炉内抽真空后,在20~30MPa的压力下,进行烧结处理,得到烧结后的坩埚材料,待用;
步骤5、将步骤4得到的烧结后的坩埚材料用车床或线切割进行加工成型,得到加工成型的坩埚材料,待用;
步骤6、将步骤5加工成型的坩埚材料置于真空烧结炉内,抽真空后,进行烧结处理,得到所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料。
本发明所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤1中碳化钽粉的重量份数为100份、钨粉的重量份数为1~5份、氧化钇粉的重量份数为0.1~0.5份。
本发明所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤1中所述的碳化钽粉的粒径为0.9~1.0μm,纯度为99.999~99.9999%,所述的钨粉的粒径为0.5~1.0μm,纯度为99.999~99.9999%。
本发明所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤2中混合时间为10~15h。
本发明所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤3中冷等静压的平均压力为200~300MPa,压制时间10~20min。
本发明所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤4中烧结处理为分步烧结处理,首先以3℃/min的升温速率将温度升至1100~1200℃,然后以1℃/min的升温速率加热至1800~1950℃,然后保温2~8h,然后以0.5℃/min的降温速率降至1250℃,保持2h后,再以2.5℃/min的降温速率降至室温。
本发明所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤6中烧结处理以1℃/min的升温速率将温度升至2000℃,然后保温3~8h,然后以0.5℃/min的降温速率降至室温。
本发明所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,制备的所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料晶体缺陷密度降低,消除高温下TaC晶粒的异常长大现象,增加了坩埚使用寿命、降低衬底与晶体之间的热失配问题。
本发明所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,制备的所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料使用寿命增加为400h,相比于现有材料只能使用100-200h,使用寿命提高1-4倍。
附图说明
图1为具体实施方式一方法制备的所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料使用50小时后的SEM照片;
图2为具体实施方式一方法制备的所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料使用300小时后的SEM照片;
图3为对比例碳化钽坩埚材料使用50小时后的SEM照片;
图4为对比例碳化钽坩埚材料使用300小时后的SEM照片。
具体实施方式
具体实施方式一:
一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,包括如下步骤:
步骤1、按照重量份数分别称量一定质量的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉,待用;
步骤2、将称量好的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉加入三维振动混合器中,混合均匀后,得到混合粉体,待用;
步骤3、将步骤2得到的混合粉体加入聚氯乙烯坩埚模具,通过冷等静压,压制成型,得到成型后的坩埚材料,待用;
步骤4、将步骤3得到的成型后的坩埚材料,置于热压烧结炉内抽真空后,在20~30MPa的压力下,进行烧结处理,得到烧结后的坩埚材料,待用;
步骤5、将步骤4得到的烧结后的坩埚材料用车床或线切割进行加工成型,得到加工成型的坩埚材料,待用;
步骤6、将步骤5加工成型的坩埚材料置于真空烧结炉内,抽真空后,进行烧结处理,得到所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤1中碳化钽粉的重量份数为100份、钨粉的重量份数为2份、氧化钇粉的重量份数为0.2份。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤1中所述的碳化钽粉的粒径为0.9μm,纯度为99.999%,所述的钨粉的粒径为0.5μm,纯度为99.999%。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤2中混合时间为10h。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤3中冷等静压的平均压力为200MPa,压制时间10min。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤4中烧结处理为分步烧结处理,首先以3℃/min的升温速率将温度升至1100℃,然后以1℃/min的升温速率加热至1800℃,然后保温4h,然后以0.5℃/min的降温速率降至1250℃,保持2h后,再以2.5℃/min的降温速率降至室温。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤6中烧结处理以1℃/min的升温速率将温度升至2000℃,然后保温5h,然后以0.5℃/min的降温速率降至室温。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,制备的所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的SEM图,如图1和图2所示,图1为所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料在2100℃下使用50小时后的SEM照片,图2为所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料在2100℃下使用300小时后的SEM照片,图3和图4为对比例纯碳化钽坩埚材料的SEM图片,图3为碳化钽坩埚材料在2100℃下使用50小时后的SEM照片,图4为碳化钽坩埚材料在2100℃下使用300小时后的SEM照片,从SEM图中能够看出,从图3和图4能看出,纯TaC材料晶粒在2100℃下使用一段时间后晶粒明显发生了增大,晶粒发生二次生长,能够导致坩埚在加热长时间后开裂;从图1和图2能够看出所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料在2100℃下使用一段时间后的晶粒大小变化较小,几乎未发生变化。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,制备的所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的使用寿命为400h。
具体实施方式二:
一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,包括如下步骤:
步骤1、按照重量份数分别称量一定质量的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉,待用;
步骤2、将称量好的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉加入三维振动混合器中,混合均匀后,得到混合粉体,待用;
步骤3、将步骤2得到的混合粉体加入聚氯乙烯坩埚模具,通过冷等静压,压制成型,得到成型后的坩埚材料,待用;
步骤4、将步骤3得到的成型后的坩埚材料,置于热压烧结炉内抽真空后,在25MPa的压力下,进行烧结处理,得到烧结后的坩埚材料,待用;
步骤5、将步骤4得到的烧结后的坩埚材料用车床或线切割进行加工成型,得到加工成型的坩埚材料,待用;
步骤6、将步骤5加工成型的坩埚材料置于真空烧结炉内,抽真空后,进行烧结处理,得到所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤1中碳化钽粉的重量份数为100份、钨粉的重量份数为1份、氧化钇粉的重量份数为0.5份。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤1中所述的碳化钽粉的粒径为1.0μm,纯度为99.999%,所述的钨粉的粒径为0.5μm,纯度为99.999%。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤2中混合时间为12h。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤3中冷等静压的平均压力为300MPa,压制时间10min。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤4中烧结处理为分步烧结处理,首先以3℃/min的升温速率将温度升至1200℃,然后以1℃/min的升温速率加热至1950℃,然后保温2h,然后以0.5℃/min的降温速率降至1250℃,保持2h后,再以2.5℃/min的降温速率降至室温。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤6中烧结处理以1℃/min的升温速率将温度升至2000℃,然后保温3h,然后以0.5℃/min的降温速率降至室温。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,制备的所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的使用寿命为390h。
具体实施方式三:
一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,包括如下步骤:
步骤1、按照重量份数分别称量一定质量的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉,待用;
步骤2、将称量好的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉加入三维振动混合器中,混合均匀后,得到混合粉体,待用;
步骤3、将步骤2得到的混合粉体加入聚氯乙烯坩埚模具,通过冷等静压,压制成型,得到成型后的坩埚材料,待用;
步骤4、将步骤3得到的成型后的坩埚材料,置于热压烧结炉内抽真空后,在30MPa的压力下,进行烧结处理,得到烧结后的坩埚材料,待用;
步骤5、将步骤4得到的烧结后的坩埚材料用车床或线切割进行加工成型,得到加工成型的坩埚材料,待用;
步骤6、将步骤5加工成型的坩埚材料置于真空烧结炉内,抽真空后,进行烧结处理,得到所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤1中碳化钽粉的重量份数为100份、钨粉的重量份数为5份、氧化钇粉的重量份数为0.5份。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤1中所述的碳化钽粉的粒径为1.0μm,纯度为99.9999%,所述的钨粉的粒径为1.0μm,纯度为99.9999%。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤2中混合时间为15h。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤3中冷等静压的平均压力为200MPa,压制时间20min。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤4中烧结处理为分步烧结处理,首先以3℃/min的升温速率将温度升至1100℃,然后以1℃/min的升温速率加热至1900℃,然后保温8h,然后以0.5℃/min的降温速率降至1250℃,保持2h后,再以2.5℃/min的降温速率降至室温。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤6中烧结处理以1℃/min的升温速率将温度升至2000℃,然后保温8h,然后以0.5℃/min的降温速率降至室温。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,制备的所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的使用寿命为400h。
具体实施方式四:
一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,包括如下步骤:
步骤1、按照重量份数分别称量一定质量的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉,待用;
步骤2、将称量好的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉加入三维振动混合器中,混合均匀后,得到混合粉体,待用;
步骤3、将步骤2得到的混合粉体加入聚氯乙烯坩埚模具,通过冷等静压,压制成型,得到成型后的坩埚材料,待用;
步骤4、将步骤3得到的成型后的坩埚材料,置于热压烧结炉内抽真空后,在20MPa的压力下,进行烧结处理,得到烧结后的坩埚材料,待用;
步骤5、将步骤4得到的烧结后的坩埚材料用车床或线切割进行加工成型,得到加工成型的坩埚材料,待用;
步骤6、将步骤5加工成型的坩埚材料置于真空烧结炉内,抽真空后,进行烧结处理,得到所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤1中碳化钽粉的重量份数为100份、钨粉的重量份数为1份、氧化钇粉的重量份数为0.1份。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤1中所述的碳化钽粉的粒径为0.9μm,纯度为99.999%,所述的钨粉的粒径为0.5μm,纯度为99.999%。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤2中混合时间为10h。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤3中冷等静压的平均压力为200MPa,压制时间10min。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤4中烧结处理为分步烧结处理,首先以3℃/min的升温速率将温度升至1100℃,然后以1℃/min的升温速率加热至1950℃,然后保温2h,然后以0.5℃/min的降温速率降至1250℃,保持2h后,再以2.5℃/min的降温速率降至室温。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,步骤6中烧结处理以1℃/min的升温速率将温度升至2000℃,然后保温3h,然后以0.5℃/min的降温速率降至室温。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,制备的所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的使用寿命为400h。
本实施方式所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,制备的所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料晶体缺陷密度降低,消除高温下TaC晶粒的异常长大现象,增加了坩埚使用寿命、降低衬底与晶体之间的热失配问题。
Claims (4)
1.一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:
步骤1、按照重量份数分别称量一定质量的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉,待用;
步骤2、将称量好的碳化钽粉、钨粉、氧化钇粉加入三维振动混合器中,混合均匀后,得到混合粉体,待用;
步骤3、将步骤2得到的混合粉体加入聚氯乙烯坩埚模具,通过冷等静压,压制成型,得到成型后的坩埚材料,待用;
步骤4、将步骤3得到的成型后的坩埚材料,置于热压烧结炉内抽真空后,在20~30MPa的压力下,进行烧结处理,得到烧结后的坩埚材料,待用;
步骤5、将步骤4得到的烧结后的坩埚材料用车床或线切割进行加工成型,得到加工成型的坩埚材料,待用;
步骤6、将步骤5加工成型的坩埚材料置于真空烧结炉内,抽真空后,进行烧结处理,得到所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料;
其中步骤1中碳化钽粉的重量份数为100份、钨粉的重量份数为1~5份、氧化钇粉的重量份数为0.1~0.5份;
步骤4中烧结处理为分步烧结处理,首先以3℃/min的升温速率将温度升至1100~1200℃,然后以1℃/min的升温速率加热至1800~1950℃,然后保温2~8h,然后以0.5℃/min的降温速率降至1250℃,保持2h后,再以2.5℃/min的降温速率降至室温;
步骤6中烧结处理以1℃/min的升温速率将温度升至2000℃,然后保温3~8h,然后以0.5℃/min的降温速率降至室温。
2.根据权利要求1所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,其特征在于:步骤1中所述的碳化钽粉的粒径为0.9~1.0μm,纯度为99.999~99.9999%,所述的钨粉的粒径为0.5~1.0μm,纯度为99.999~99.9999%。
3.根据权利要求1所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,其特征在于:步骤2中混合时间为10~15h。
4.根据权利要求1所述的一种PVT法氮化铝晶体生长用坩埚材料的制备方法,其特征在于:步骤3中冷等静压的平均压力为200~300MPa,压制时间10~20min。
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