CN112307878A - 显示装置 - Google Patents

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CN112307878A
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李宗炫
柳志勳
金一南
白种仁
成银眞
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Abstract

提供了一种显示装置。所述显示装置包括：显示面板，包括基体基底、在基体基底上的薄膜晶体管层以及在薄膜晶体管层上的包括发光元件的发光元件层；覆盖窗，在显示面板的发光元件层上；以及指纹识别传感器层，在显示面板下面。基体基底包括第一基体、在第一基体上的第二基体以及在第一基体与第二基体之间的光阻挡层，并且光阻挡层包括孔，被触摸覆盖窗的手指反射的光穿过孔。

Description

显示装置
本申请要求于2019年7月29日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0091658号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。
技术领域
本公开的实施例涉及一种显示装置。
背景技术
随着多媒体的发展，显示装置正在变得越来越重要。因此，正在使用诸如液晶显示装置和有机发光显示装置的各种类型的显示装置。
在这些显示装置中，有机发光显示装置使用通过电子和空穴的复合产生光的有机发光二极管来显示图像。有机发光显示装置具有快响应速度、高亮度、宽视角和低功耗的特征。
近来，已经对用于将指纹识别传感器集成到显示面板中的技术进行了研究和开发，显示面板是便携式信息通信装置中占据最大区域的组件。
发明内容
本公开的实施例的方面提供了一种显示装置，该显示装置可以在没有单独的或外部的光源的情况下实现指纹识别。
本公开的实施例的方面还提供了一种具有改善的指纹识别特性的显示装置。
然而，本公开的方面不限于在此所阐述的方面。通过参照下面给出的本公开的详细描述，本公开的实施例的以上和其他方面对于本公开所属领域的普通技术人员将变得更加明显。
显示装置的实施例包括：显示面板，包括基体基底、在基体基底上的薄膜晶体管层以及在薄膜晶体管层上的包括发光元件的发光元件层；覆盖窗，在显示面板的发光元件层上；以及指纹识别传感器层，在显示面板下面，其中，基体基底包括第一基体、在第一基体上的第二基体以及在第一基体与第二基体之间的光阻挡层，并且其中，光阻挡层包括孔，被触摸覆盖窗的手指反射的光穿过孔。
附图说明
通过下面结合附图的实施例的描述，本公开的实施例的这些和/或其他方面将变得明显和更容易理解，在附图中：
图1和图2是根据实施例的显示装置的示意性平面图；
图3是根据实施例的显示装置的示意性剖视图；
图4示意性地示出了根据实施例的反射光的行进方向；
图5是根据实施例的光阻挡层的一部分的平面图；
图6是根据实施例的光阻挡层的一部分的平面图；
图7是根据实施例的孔、图像收集区域和光接收区域的平面图；
图8是根据实施例的指纹识别传感器层的示意性平面图；
图9是根据实施例的指纹识别传感器的等效电路图；
图10是根据实施例的显示装置的框图；
图11是沿着图2的线I-I’截取的剖视图；
图12示意性地示出了根据实施例的指纹识别过程；
图13是根据实施例的光阻挡层的一部分的平面图；
图14示意性地示出了根据实施例的反射光的行进方向；
图15是根据实施例的孔、图像收集区域和光接收区域的平面图；
图16是根据实施例的光阻挡层的一部分的平面图；
图17是根据实施例的孔、图像收集区域和光接收区域的平面图；以及
图18至图23中的每幅图是图3中所示的显示装置的修改示例的剖视图。
具体实施方式
现在将在下文中参照附图更充分地描述本公开的主题，在附图中示出了本公开的实施例。然而，本公开的主题可以以不同的形式实施，并且不应被解释为限于在此所阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是彻底和完整的，并且将向本领域技术人员充分地传达本公开的主题的范围。在整个说明书中，相同的附图标记指示相同的组件。在附图中，为了清楚起见，可以夸大层和区域的厚度。
还将理解的是，当层被称为“在”另一层或基底“上”时，该层可以直接在所述另一层或基底上，或者也可以存在中间层。相反，当元件被称为“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。
将理解的是，尽管在此可以使用术语第一、第二等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应被这些术语所限制。这些术语仅用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区分开。因此，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可以被命名为第二元件、组件、区域、层或部分，而不脱离本公开的精神和范围。
在下文中，将参照附图描述本公开的实施例。
图1和图2是根据实施例的显示装置10的示意性平面图。
参照图1，根据实施例的显示装置10可以被划分为显示区域DA和非显示区域NDA。
显示区域DA被限定为显示图像的区域，并且多个子像素SP在显示区域DA中。另外，显示区域DA可以被用作用于检测外部环境的检测构件。在实施例中，显示区域DA的至少一部分可以是用于识别用户的指纹的指纹识别区域FPA。在一些实施例中，指纹识别区域FPA可以包括多个子像素SP和多个指纹识别传感器FPS。例如，指纹识别区域FPA可以显示图像，并且可以在需要识别用户的指纹时用作用于识别用户的指纹的区域。在一些实施例中，子像素SP和指纹识别传感器FPS可以在第三方向(Z轴方向)上叠置。在一些实施例中，子像素SP和指纹识别传感器FPS可以在第三方向(Z轴方向)上不叠置，或者子像素SP中的仅一些可以在第三方向(Z轴方向)上与指纹识别传感器FPS叠置。
非显示区域NDA在显示区域DA外侧并且被限定为不显示图像的区域。扬声器模块14、相机模块15和传感器模块16可以在非显示区域NDA中。在实施例中，传感器模块16可以包括照度传感器、接近传感器、红外传感器和超声波传感器中的至少一种。在实施例中，传感器模块16还可以执行识别用户的虹膜的功能。扬声器模块14、相机模块15和传感器模块16的布置不限于图1中所示的布置。在一些实施例中，扬声器模块14、相机模块15和传感器模块16中的至少一个可以在显示区域DA中。在这种情况下，因为显示区域DA被加宽，所以可以向用户提供沉浸在图像中的感觉。
在实施例中，显示区域DA可以具有平坦的形状。然而，显示区域DA的至少一部分也可以弯曲。另外，显示区域DA可以在显示装置10的边缘区域中。
参照图2，指纹识别区域FPA可以形成在与显示区域DA基本上相同的区域中。例如，显示区域DA与指纹识别区域FPA可以重合。在这种情况下，可以在整个(例如，基本上整个)显示区域DA中提供指纹识别功能。
指纹识别传感器FPS中的每个可以使用包括在至少一个附近的子像素SP中的发光元件作为用于指纹识别的光源。为此，指纹识别传感器FPS中的每个可以与至少一个子像素SP相邻。然而，实施例不限于这种情况，并且指纹识别传感器FPS中的每个的至少一部分也可以与一个子像素SP叠置。
在根据实施例的显示装置10中，因为包括多个指纹识别传感器FPS的指纹识别区域FPA设置在显示区域DA中，所以可以在显示区域DA中提供指纹识别功能。另外，因为根据实施例的显示装置10使用从子像素SP发射的光来识别用户的指纹，所以可以在没有单独的或外部的光源(例如，与子像素分离的光源)的情况下实现指纹识别功能。因此，可以减小具有指纹识别功能的显示装置10的厚度，并且可以降低制造成本。
虽然在下文中描述了指纹识别区域FPA在整个(例如，基本上整个)显示区域DA中的情况，但是实施例不限于这种情况。
图3是根据实施例的显示装置10的示意性剖视图。
参照图3，显示装置10可以包括显示面板100、覆盖窗CW和指纹识别传感器层FPSL。
显示面板100可以包括基体基底SUB、在基体基底SUB上的薄膜晶体管层TFTL、在薄膜晶体管层TFTL上的发光元件层EML以及薄膜封装层TFEL。
基体基底SUB可以包括第一基体B1、在第一基体B1上的第二基体B2以及在第一基体B1与第二基体B2之间的光阻挡层SLL。
第一基体B1和第二基体B2中的每个可以由诸如聚合物树脂的绝缘材料制成。聚合物材料(例如，聚合物树脂)可以是例如聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PA)、聚芳酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙基化物、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、三乙酸纤维素(CAT)、乙酸丙酸纤维素(CAP)或它们的组合。
第一基体B1和第二基体B2中的每个可以是刚性基底或者是可以弯曲的、折叠的和/或卷曲的柔性基底。当基体基底SUB或者第一基体B1和第二基体B2中的每个是柔性基底时，基体基底SUB或者第一基体B1和第二基体B2中的每个可以由但不限于聚酰亚胺(PI)制成。
光阻挡层SLL可以是由从钼(Mo)、铝(Al)、铬(Cr)、金(Au)、钛(Ti)、镍(Ni)、钕(Nd)、铜(Cu)及其合金中选择的任何一种或更多种制成的单层或多层。然而，实施例不限于这种情况，并且在一些实施例中，光阻挡层SLL可以由黑矩阵制成或者可以由具有光阻挡性质的各种合适的材料或吸收光的光吸收材料制成。
光阻挡层SLL可以包括孔H。孔H可以是物理孔或穿透光阻挡层SLL的两个表面的通孔。孔H可以是光学通道，从发光元件层EML输出(光L1)之后被用户的指纹反射的反射光L2通过该光学通道朝向指纹识别传感器层FPSL行进。在一些实施例中，孔H可以不填充有形成第一基体B1的材料或形成第二基体B2的材料。例如，孔H内侧的空间可以是空的。在一些实施例中，孔H可以填充有光学透明材料(例如，透射可见光的材料)。例如，形成第二基体B2的材料的一部分可以于在光阻挡层SLL上形成第二基体B2的工艺中填充孔H。即使在这种情况下，如果形成第二基体B2的材料是光学透明材料，那么孔H也可以用作光学通道，从发光元件层EML输出(光L1)之后被用户的指纹反射的反射光L2通过该光学通道朝向指纹识别传感器层FPSL行进。
孔H在光阻挡层SLL中可以是多个。例如，孔H可以包括在第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上彼此间隔开的多个孔。在下文中将更详细地描述孔H的尺寸和布置。
薄膜晶体管层TFTL可以在第二基体B2上。子像素SP的各个薄膜晶体管可以在薄膜晶体管层TFTL中。薄膜晶体管中的每个可以包括栅电极、半导体层、源电极和漏电极。
发光元件层EML可以在薄膜晶体管层TFTL上。发光元件层EML可以包括发光元件，每个发光元件包括第一电极、发光层和第二电极。另外，发光元件层EML可以包括用于限定子像素SP的像素限定层。发光层可以是但不限于包括有机材料的有机发光层。在其中发光层是有机发光层的示例中，当设定(例如，预定)电压被施加到第二电极并且阴极电压通过薄膜晶体管层TFTL的薄膜晶体管被施加到第一电极时，空穴和电子分别通过空穴传输层和电子传输层移动到有机发光层，并且在有机发光层中结合在一起以发光。
薄膜封装层TFEL可以在发光元件层EML上。薄膜封装层TFEL防止或者减少氧和/或湿气渗透到发光元件层EML中。
覆盖窗CW可以在显示面板100上。例如，覆盖窗CW可以在显示面板100的薄膜封装层TFEL上。在这种情况下，覆盖窗CW可以通过诸如光学透明粘合剂(OCA)膜的透明粘合构件附着到薄膜封装层TFEL。覆盖窗CW可以被用户的手指F直接触摸。
在一些实施例中，触摸传感器可以在薄膜封装层TFEL与覆盖窗CW之间。在一些实施例中，触摸传感器可以包括触摸电极以及结合到触摸电极的触摸布线。
指纹识别传感器层FPSL可以在显示面板100下面。例如，指纹识别传感器层FPSL可以在第一基体B1下面。这里，如在此所使用的，术语“第一基体B1下面”指与第一基体B1的其上定位有光阻挡层SLL的一侧相对的一侧。
指纹识别传感器层FPSL可以包括图2中所示的指纹识别传感器FPS。另外，指纹识别传感器层FPSL可以呈指纹识别传感器FPS的阵列的形式。包括在指纹识别传感器层FPSL中的指纹识别传感器FPS可以是光学传感器。例如，指纹识别传感器FPS可以是光电二极管、互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器或电荷耦合器件(CCD)图像传感器。
当用户的手指F触摸覆盖窗CW时，从发光元件层EML输出的光L1被用户的手指F的脊FR或谷FV反射。在反射光L2中，穿过孔H的分量被提供到在基体基底SUB下面的指纹识别传感器层FPSL的指纹识别传感器FPS。作为光学传感器的指纹识别传感器FPS可以将反射光L2转换成电信号，并且可以从电信号识别用户的指纹图案。在反射光L2中，未穿过孔H的分量被光阻挡层SLL阻挡。例如，孔H可以仅向指纹识别传感器FPS提供指纹识别所需的分量。虽然显示面板100和指纹识别传感器层FPSL在图3中被示出为单独的元件，但是这仅是示例，并且指纹识别传感器层FPSL也可以是显示面板100的元件。
当指纹识别传感器层FPSL如上文中所述地在显示面板100下面时，可以简化制造的工艺，并且可以容易地将指纹识别传感器FPS和指纹识别区域FPA对准。另外，因为指纹识别传感器FPS不在光输出所沿的路径上方(不在发光元件层EML上方)，所以可以防止或减少分辨率的降低。
图4示意性地示出了根据实施例的反射光的行进方向。为了易于描述，仅示出了显示面板100的光阻挡层SLL，并且从覆盖窗CW朝向指纹识别传感器层FPSL行进的光指被用户的手指反射的光。
参照图4，覆盖窗CW在显示面板100上，并且指纹识别传感器层FPSL在显示面板100下面。指纹识别传感器层FPSL可以接触(例如，物理接触或直接接触)显示面板100的下表面，指纹识别传感器层FPSL和显示面板100可以彼此紧密地附着并且在它们之间没有气隙。因为在指纹识别传感器层FPSL与显示面板100之间没有(或基本上没有)形成气隙，所以可以简化工艺，可以改善显示装置10的可靠性，并且可以实现薄的显示装置10。然而，这并不排除在制造的工艺期间产生的意外的气隙。
光阻挡层SLL可以在显示面板100中并且包括第一孔H1和第二孔H2。第一孔H1和第二孔H2可以彼此间隔开，并且被用户的指纹反射的光可以通过第一孔H1和第二孔H2到达指纹识别传感器层FPSL。为了易于描述，穿过第一孔H1的光被限定为第一光，穿过第二孔H2的光被限定为第二光。
在一些实施例中，覆盖窗CW可以包括图像感测区域IPA。例如，覆盖窗CW可以包括第一图像感测区域IPA1和第二图像感测区域IPA2。第一图像感测区域IPA1可以是覆盖窗CW的通过第一光识别指纹图案的区域，并且第二图像感测区域IPA2可以是覆盖窗CW的通过第二光识别指纹图案的区域。另外，在一些实施例中，可以形成其中第一图像感测区域IPA1和第二图像感测区域IPA2叠置的叠置区域OA。在这种情况下，覆盖窗CW上的手指的指纹图案可以全部被扫描。
覆盖窗CW的第一图像感测区域IPA1在第一方向(X轴方向)上的宽度可以取决于入射角θ，入射角θ是第一光以其入射在第一孔H1上的角度。入射角θ可以基于垂直于(例如，基本上垂直于)第一方向(X轴方向)的第三方向(Z轴方向)而被限定。例如，当光平行于(例如，基本上平行于)第三方向(Z轴方向)入射时，入射角θ可以为0度。另外，当光以图4中沿顺时针方向与第三方向(Z轴方向)成的锐角入射时，入射角θ可以被限定为正角度。此外，当光以图4中沿逆时针方向与第三方向(Z轴方向)成的锐角入射时，入射角θ可以被限定为负角度。
在一些实施例中，第一光的入射角θ可以为约-33度至约33度。另外，覆盖窗CW的第二图像感测区域IPA2在第一方向(X轴方向)上的宽度可以取决于作为第二光以其入射在第二孔H2上的角度的入射角。所述入射角可以与第一光以其入射在第一孔H1上的入射角θ相同(例如，基本上相同)。
在一些实施例中，指纹识别传感器层FPSL可以包括光接收区域LRA。例如，指纹识别传感器层FPSL可以包括第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2。第一光接收区域LRA1可以是已经扫描指纹图案的第一光输入到指纹识别传感器层FPSL的区域，并且第二光接收区域LRA2可以是已经扫描指纹图案的第二光输入到指纹识别传感器层FPSL的区域。
第一光接收区域LRA1在第一方向(X轴方向)上的宽度可以小于第一图像感测区域IPA1在第一方向(X轴方向)上的宽度，并且第二光接收区域LRA2在第一方向(X轴方向)上的宽度可以小于第二图像感测区域IPA2在第一方向(X轴方向)上的宽度。第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2与第一图像感测区域IPA1和第二图像感测区域IPA2之间的在第一方向(X轴方向)上的这种宽度差取决于光阻挡层SLL的位置。例如，随着光阻挡层SLL靠近覆盖窗CW，第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2在第一方向(X轴方向)上的宽度增大，但是第一图像感测区域IPA1和第二图像感测区域IPA2在第一方向(X轴方向)上的宽度减小。相反，随着光阻挡层SLL靠近指纹识别传感器层FPSL，第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2在第一方向(X轴方向)上的宽度减小，但是第一图像感测区域IPA1和第二图像感测区域IPA2在第一方向(X轴方向)上的宽度增大。
在当前的实施例中，光阻挡层SLL距指纹识别传感器层FPSL比距覆盖窗CW近。然而，光阻挡层SLL的位置可以各种地改变。
在一些实施例中，第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2可以彼此接触(例如，可以彼此物理接触或直接接触)。例如，第一光接收区域LRA1的一侧和第二光接收区域LRA2的一侧可以彼此接触(例如，可以彼此物理接触或直接接触)。然而，这不排除在工艺期间在第一光接收区域LRA1的所述一侧与第二光接收区域LRA2的所述一侧之间产生的意外的微小(例如，小)间隙或叠置。
在一些实施例中，第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2中的每个可以包括图像收集区域IAA。例如，第一光接收区域LRA1可以包括第一图像收集区域IAA1，并且第二光接收区域LRA2可以包括第二图像收集区域IAA2。
第一图像收集区域IAA1可以是输入到第一光接收区域LRA1的指纹图案之中的有效指纹图案信息输入到其的区域，并且第二图像收集区域IAA2可以是输入到第二光接收区域LRA2的指纹图案之中的有效指纹图案信息输入到其的区域。在输入到第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2的指纹图案中，仅输入到第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2中的每个的指纹图案可以用于形成指纹图像。
第一图像收集区域IAA1可以是去除第一光接收区域LRA1的外边缘之后剩余的核心区域。第二图像收集区域IAA2可以是去除第二光接收区域LRA2的外边缘之后剩余的核心区域。
指纹识别传感器层FPSL可以缝合(stitch，也被称为接合)输入到第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2的指纹图案，并且执行图像增强处理，以获得并识别最终的指纹图像。
第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2可以在第一方向(X轴方向)上彼此间隔开。例如，第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2可以彼此不叠置。因此，可以防止或减少输入到第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2的有效指纹图案的叠置，否则所述有效指纹图案的叠置将导致指纹识别的错误。
因为第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2如上文中所述地彼此间隔开，同时第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2彼此接触(例如，可以彼此物理接触或直接接触)，所以更准确的指纹识别是可能的。
第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2中的每个的位置以及第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2中的每个的位置取决于第一孔H1与第二孔H2之间的间距P。第一孔H1与第二孔H2之间的间距P被限定为第一孔H1的中心点CP与第二孔H2的中心点CP之间的在第一方向(X轴方向)上的距离。在一些实施例中，第一孔H1与第二孔H2之间的间距P可以与指纹识别传感器层FPSL与光阻挡层SLL之间的距离成比例。例如，第一孔H1与第二孔H2之间的间距P可以被限定为孔H的中心点CP(例如，第一孔H1的中心点CP)与指纹识别传感器层FPSL的上表面之间的距离或最小间隙。在一些实施例中，指纹识别传感器层FPSL的上表面可以指指纹识别传感器层FPSL的光接收区域LRA的上表面、指纹识别传感器FPS的上表面或指纹识别传感器FPS的光接收区域LRA的上表面。为了易于描述，孔H的中心点CP与指纹识别传感器层FPSL的上表面之间的距离在下文中将被称为孔-传感器距离ID。
在一些实施例中，第一孔H1与第二孔H2之间的间距P可以是孔-传感器距离ID的约1.3至约1.5倍，例如，可以是孔-传感器距离ID的约1.3倍。例如，当入射在第一孔H1和第二孔H2中的每个上的反射光的入射角θ为约-33度至约33度时，第一孔H1与第二孔H2之间的间距P可以被设定为孔-传感器距离ID的约1.3倍，使得第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2可以彼此间隔开，同时第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2彼此接触(例如，可以彼此物理接触或直接接触)。因此，可以有效地改善显示装置10的指纹识别特性。
图5是根据实施例的光阻挡层SLL的一部分的平面图。图6是根据实施例的光阻挡层SLL_1的一部分的平面图。图7是根据实施例的孔H、图像收集区域IAA和光接收区域LRA的平面图。
参照图5，在一些实施例中，光阻挡层SLL可以包括多个孔H，并且孔H在平面图中可以是圆形的。
孔H中的每个可以具有但不限于约3μm至约20μm的直径r。在一些实施例中，孔H可以在第一方向(X轴方向)上设置有第一间距P1。例如，第一间距P1可以是孔-传感器距离ID(见图4)的约1.3至约1.5倍，例如，可以是孔-传感器距离ID的约1.3倍。在一些实施例中，孔H可以在第二方向(Y轴方向)上设置有第二间距P2。第二间距P2可以与第一间距P1相同(例如，基本上相同)，但是实施例不限于这种情况。在一些实施例中，第一间距P1和第二间距P2可以彼此不同。另外，虽然在图5中孔H在第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上彼此平行(例如，基本上平行)对准，但是这仅是示例，并且实施例不限于该示例。孔H也可以设置有第一间距P1和第二间距P2，但是可以不在第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上对准。
参照图6，在一些实施例中，光阻挡层SLL_1可以包括多个方形的孔H。孔H中的每个可以具有在第一方向(X轴方向)上的第一长度d1以及在第二方向(Y轴方向)上的第二长度d2。第一长度d1可以为但不限于约3μm至约20μm。另外，孔H中的每个的第二长度d2可以与第一长度d1相同(例如，基本上相同)。然而，实施例不限于这种情况，并且第一长度d1和第二长度d2也可以彼此不同。图6的光阻挡层SLL_1中的孔H的第一间距P1和第二间距P2与图5中描述的第一间距P1和第二间距P2相同(例如，基本上相同)，因此，这里不重复其冗余描述。孔H中的每个的形状不限于图5和图6中所示的圆形形状和方形形状。例如，孔H中的每个可以具有诸如椭圆形形状和多边形形状的各种合适的形状。另外，在一些实施例中，光阻挡层SLL和SLL_1中的孔H可以由具有不同形状的孔H组成。
参照图7，在一些实施例中，多个孔H、多个图像收集区域IAA和多个光接收区域LRA可以在厚度方向上叠置。例如，在平面图中，图像收集区域IAA可以定位在光接收区域LRA内，并且孔H可以定位在图像收集区域IAA内。另外，一个孔H、一个图像收集区域IAA和一个光接收区域LRA可以形成一个单元。
光接收区域LRA可以与相邻的光接收区域LRA接触(例如，物理接触或直接接触)。例如，光接收区域LRA可以在第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上与相邻的光接收区域LRA接触(例如，物理接触或直接接触)。在一些实施例中，一个光接收区域LRA可以与四个相邻的光接收区域LRA接触(例如，物理接触或直接接触)，但是可以不与四个相邻的光接收区域LRA叠置。然而，这不排除在工艺期间产生的意外的微小(例如，小)间隙或叠置。
在一些实施例中，图像收集区域IAA可以彼此间隔开。另外，孔H可以彼此间隔开。图像收集区域IAA之间的距离可以小于孔H之间的距离。
图8是根据实施例的指纹识别传感器层FPSL的示意性平面图。图9是根据实施例的指纹识别传感器FPS的等效电路图。图10是根据实施例的显示装置10的框图。
参照图8，指纹识别传感器层FPSL可以包括多条扫描线SCL、多条读出线RCL和多个指纹识别传感器FPS。定位有指纹识别传感器FPS的区域可以被限定为指纹识别区域FPA。在一些实施例中，指纹识别传感器FPS之间的距离可以为约5μm至约50μm，并且二十个至三十个指纹识别传感器FPS可以定位在一个图像收集区域IAA中(见图7)。
扫描线SCL可以分别结合到指纹识别传感器FPS之中的对应的指纹识别传感器FPS，并且读出线RCL可以分别结合到指纹识别传感器FPS之中的对应的指纹识别传感器FPS。
非指纹识别区域NFPA可以定位在指纹识别区域FPA外侧。扫描线SCL结合到其的扫描驱动电路SCV可以在非指纹识别区域NFPA的一侧上。
读出线RCL结合到其的读出电路RCV可以在非指纹识别区域NFPA的一侧上。然而，实施例不限于这种情况，并且从外部集成电路传输的信号也可以在没有读出电路RCV的情况下传输到读出线RCL。
扫描线SCL和读出线RCL中的每条可以包括结合到其端部的指纹识别传感器垫(pad，或称为“焊盘”或“焊垫”)PD-FPS。
指纹识别传感器垫PD-FPS可以与用于驱动指纹识别传感器FPS的晶体管在同一工艺中形成。
扫描信号可以被顺序地供应到扫描线SCL，读出线RCL可以接收从指纹识别传感器FPS输出的信号并且将接收到的信号传送到读出电路RCV。然而，实施例不限于这种情况，并且从指纹识别传感器FPS输出的信号还可以被传输到用于处理信号的另一电路(未示出)。
在图9中，结合到任意一条扫描线SCL和任意一条读出线RCL的指纹识别传感器FPS被示出为示例。指纹识别传感器FPS的构造不限于该示例并且可以改变。
指纹识别传感器FPS可以包括第一晶体管TFT1、第二晶体管TFT2和感测电容器CP-FPS。第一晶体管TFT1与第二晶体管TFT2之间存在电压V1。
第一晶体管TFT1是开关元件并且具有结合到扫描线SCL的控制电极、结合到读出线RCL的输出电极以及结合到感测电容器CP-FPS的输入电极。第二晶体管TFT2具有连接到输入电压线VDD的输入电极、连接到感测电容器CP-FPS的输出电极以及连接到共电压线VSS的控制电极。
当从外部物体反射的光被供应到第二晶体管TFT2时，由非晶硅或多晶硅制成的沟道部分的半导体形成电流，并且通过输入到输入电压线VDD的输入电压使电流朝向感测电容器CP-FPS和第一晶体管TFT1流动。在一些实施例中，第二晶体管TFT2是光电晶体管。光电晶体管是一类(或一种)将光能转换成电能并且使用光伏效应的光学传感器，在光伏效应中流动的电流根据光的强度而变化。通过使用晶体管放大光电流的器件是光电晶体管。当选择信号被输入到扫描线SCL时，电流流过读出线RCL。
参照图10，根据实施例的显示装置10还可以包括传感器控制器SC和显示驱动器PC。
传感器控制器SC可以控制指纹识别传感器层FPSL的操作，并且通过感测指纹识别传感器层FPSL中的光的量的变化来识别用户的指纹。
显示驱动器PC可以通过向显示面板100供应图像驱动信号来控制显示面板100的图像显示操作。显示驱动器PC可以通过使用从外部源接收的图像数据和控制信号来产生图像驱动信号。例如，显示驱动器PC可以从主机接收图像数据和控制信号，并且控制信号可以包括垂直同步信号、水平同步信号和主时钟信号。另外，图像驱动信号可以包括使用图像数据而产生的扫描信号和数据信号。
传感器控制器SC和显示驱动器PC可以集成到单个元件中。例如，传感器控制器SC和显示驱动器PC可以被实现为单个集成电路。
以上结构仅是用于描述用于识别指纹的指纹识别传感器FPS的驱动的示例，并且实施例不限于该结构。能够识别光的各种合适的传感器可应用为本公开的指纹识别传感器FPS。
图11是沿着图2的线I-I’截取的剖视图。图12示意性地示出了根据实施例的指纹识别过程。
参照图11，在一些实施例中，显示装置10(见图2)可以包括指纹识别传感器层FPSL、基体基底SUB、薄膜晶体管层TFTL、发光元件层EML、薄膜封装层TFEL和覆盖窗CW。因为已经参照图3以及图8至图10更详细地描述了指纹识别传感器层FPSL和基体基底SUB的构造，所以这里不重复其冗余描述。
薄膜晶体管层TFTL可以在基体基底SUB上。薄膜晶体管层TFTL可以包括薄膜晶体管120、栅极绝缘层130、层间绝缘层140、保护层150和平坦化层160。
缓冲层BF可以在基体基底SUB的表面上。缓冲层BF可以形成在基体基底SUB的表面上，以保护薄膜晶体管120和发光元件层EML的有机发光层172免受通过基体基底SUB引入的湿气的影响，基体基底SUB易受湿气渗透的影响。缓冲层BF可以由交替堆叠的多个无机层组成。例如，缓冲层BF可以是其中从氮化硅层、氮氧化硅层、氧化硅层、氧化钛层和氧化铝层中选择的一个或更多个无机层交替堆叠的多层。
薄膜晶体管120可以在缓冲层BF上。薄膜晶体管120中的每个可以包括有源层121、栅电极122、源电极124和漏电极123。在图11中，薄膜晶体管120中的每个形成为其中栅电极122定位在有源层121上方的顶栅类型(或种类)。然而，实施例不限于这种情况。例如，薄膜晶体管120中的每个也可以形成为其中栅电极122定位在有源层121下方的底栅类型(或种类)或者其中栅电极122定位在有源层121上方和下方两者的双栅类型(或种类)。
在一些实施例中，薄膜晶体管120可以不与光阻挡层SLL中的孔H在第三方向(Z轴方向)上叠置。因此，可以防止或减少被用户的手指反射之后朝向孔H行进的光被薄膜晶体管120反射。另外，考虑到被用户的手指反射之后朝向孔H行进的光的入射角，薄膜晶体管120可以在第一方向(X轴方向)上以设定(例如，预定)距离与光阻挡层SLL中的孔H间隔开。
有源层121可以在缓冲层BF上。有源层121可以包括多晶硅、单晶硅、低温多晶硅、非晶硅或氧化物半导体。氧化物半导体的示例可以包括包含铟、锌、镓、锡、钛、铝、铪(Hf)、锆(Zr)、镁(Mg)等的二元化合物(ABx)、三元化合物(ABxCy)和四元化合物(ABxCyDz)。例如，有源层121可以包括ITZO(包括铟、锡和钛的氧化物)或IGZO(包括铟、镓和锡的氧化物)。额外的光阻挡层可以形成在缓冲层BF与有源层121之间，以阻挡外部光进入有源层121。
栅极绝缘层130可以在有源层121上。栅极绝缘层130可以由诸如氮化硅层、氮氧化硅层、氧化硅层、氧化钛层或氧化铝层的无机层制成。
栅电极122和栅极线可以在栅极绝缘层130上。栅电极122和栅极线中的每者可以是由从钼(Mo)、铝(Al)、铬(Cr)、金(Au)、钛(Ti)、镍(Ni)、钕(Nd)、铜(Cu)及其合金中选择的任何一种或更多种制成的单层或多层。
层间绝缘层140可以在栅电极122和栅极线上。层间绝缘层140可以由诸如氮化硅层、氮氧化硅层、氧化硅层、氧化钛层或氧化铝层的无机层制成。
源电极124和漏电极123可以在层间绝缘层140上。源电极124和漏电极123中的每个可以通过穿透栅极绝缘层130和层间绝缘层140的接触孔结合到有源层121。源电极124和漏电极123中的每个可以是由从钼(Mo)、铝(Al)、铬(Cr)、金(Au)、钛(Ti)、镍(Ni)、钕(Nd)、铜(Cu)及其合金中选择的任何一种或更多种制成的单层或多层。
用于隔离薄膜晶体管120的保护层150可以在源电极124和漏电极123上。保护层150可以由诸如氮化硅层、氮氧化硅层、氧化硅层、氧化钛层或氧化铝层的无机层制成。
平坦化层160可以在保护层150上，以使由薄膜晶体管120形成的台阶平坦化。平坦化层160可以由诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂或聚酰亚胺树脂的有机层制成。
发光元件层EML在薄膜晶体管层TFTL上。发光元件层EML包括发光元件170和像素限定层180。
发光元件170和像素限定层180在平坦化层160上。发光元件170中的每个可以包括第一电极171、有机发光层172和第二电极173。
第一电极171可以在平坦化层160上。第一电极171通过穿透保护层150和平坦化层160的接触孔结合到薄膜晶体管120的源电极124。然而，实施例不限于这种情况。第一电极171还可以通过穿透保护层150和平坦化层160的接触孔结合到薄膜晶体管120的漏电极123。
在其中光从有机发光层172朝向第二电极173发射的顶发射结构中，第一电极171可以由具有高反射率的金属材料(诸如铝和钛的堆叠结构(Ti/Al/Ti)、铝和氧化铟锡的堆叠结构(ITO/Al/ITO)、APC合金或者APC合金和氧化铟锡的堆叠结构(ITO/APC/ITO))制成。APC合金是银(Ag)、钯(Pd)和铜(Cu)的合金。然而，实施例不限于该结构。在其中光从有机发光层172朝向第一电极171发射的底发射结构中，第一电极171可以由能够透射光的透明导电材料(TCO)(诸如ITO或IZO)或半透射导电材料(诸如镁(Mg)、银(Ag)或者Mg和Ag的合金)制成。在这种情况下，当第一电极171由半透射导电材料制成时，可以通过微腔来提高光输出效率。下面将描述其中光从有机发光层172朝向第二电极173发射的顶发射结构作为示例。
像素限定层180可以在平坦化层160上以使第一电极171分离，以用作用于限定子像素SP的像素限定层。像素限定层180可以覆盖第一电极171的边缘。像素限定层180可以由诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂或聚酰亚胺树脂的有机层制成。
子像素SP中的每个是第一电极171、有机发光层172和第二电极173顺序堆叠使得来自第一电极171的空穴和来自第二电极173的电子在有机发光层172中结合在一起以发光的区域。
有机发光层172形成在第一电极171上。有机发光层172中的每个可以包括有机材料并且发射设定(例如，预定)颜色的光。例如，有机发光层172中的每个可以包括空穴传输层、有机材料层和电子传输层。在这种情况下，红色子像素的有机发光层172可以发射红光，绿色子像素的有机发光层172可以发射绿光，并且蓝色子像素的有机发光层172可以发射蓝光。在一些实施例中，子像素SP的有机发光层172可以发射白光。在这种情况下，红色子像素还可以包括红色滤色器层，绿色子像素还可以包括绿色滤色器层，并且蓝色子像素还可以包括蓝色滤色器层。
第二电极173在有机发光层172和像素限定层180上。第二电极173可以是所有子像素SP共用的公共层。盖层可以在第二电极173上。
在顶发射结构中，第二电极173可以由能够透射光的透明导电材料(TCO)(诸如ITO或IZO)或半透射导电材料(诸如镁(Mg)、银(Ag)或者Mg和Ag的合金)制成。当第二电极173由半透射导电材料制成时，可以通过微腔来提高光输出效率。
薄膜封装层TFEL在发光元件层EML上。薄膜封装层TFEL可以包括至少一个无机层以防止或减少氧和/或湿气渗透到有机发光层172和第二电极173中。另外，薄膜封装层TFEL可以包括至少一个有机层以保护发光元件层EML免受诸如灰尘的外来物质的影响。例如，薄膜封装层TFEL可以包括在第二电极173上的第一无机层、在第一无机层上的有机层以及在有机层上的第二无机层。第一无机层和第二无机层可以由但不限于氮化硅层、氮氧化硅层、氧化硅层、氧化钛层或氧化铝层制成。有机层可以由但不限于丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂或聚酰亚胺树脂制成。
覆盖窗CW可以在薄膜封装层TFEL上。在薄膜封装层TFEL上的覆盖窗CW可以保护显示装置10的元件，同时透射从发光元件层EML输出的光。
覆盖窗CW可以包括透明玻璃或诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯树脂、聚酯等的透明材料。然而，实施例不限于这种情况。覆盖窗CW的类型(或种类)不受限制，只要覆盖窗CW具有合适或足够的透射率以透射从发光元件层EML输出的光即可。在一些实施例中，偏振器可以在覆盖窗CW与薄膜封装层TFEL之间。
参照图12，当用户的手指F触摸覆盖窗CW时，从有机发光层172输出的光L1被用户的手指F的脊FR或谷FV反射，并且反射光L2被指纹识别传感器层FPSL接收。因此，用户的指纹图案可以被传输到指纹识别传感器层FPSL。
图13是根据实施例的光阻挡层SLL_2的一部分的平面图。图14示意性地示出了根据实施例的反射光的行进方向。图15是根据实施例的孔H、图像收集区域IAA和光接收区域LRA的平面图。图13至图15的实施例与图4、图5和图7的实施例的不同之处在于包括在光阻挡层SLL_2中的孔H的间距。这里将不重复与图4、图5和图7的实施例的元件和特征相同的元件和特征的冗余描述，并且下面将主要描述不同之处。
参照图13，在一些实施例中，光阻挡层SLL_2可以包括多个孔H。孔H中的每个可以具有但不限于约3μm至约20μm的直径r。
在一些实施例中，孔H可以在第一方向(X轴方向)上设置有第一间距P1_1。例如，第一间距P1_1可以是孔-传感器距离ID(见图4)的约0.5至约1.2倍。在一些实施例中，孔H可以在第二方向(Y轴方向)上设置有第二间距P2_1。第二间距P2_1可以与第一间距P1_1相同(例如，基本上相同)，但是实施例不限于这种情况。在一些实施例中，第一间距P1_1和第二间距P2_1可以彼此不同。另外，虽然在图13中孔H在第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上彼此平行(例如，基本上平行)对准，但是这仅是示例，并且实施例不限于该示例。孔H也可以设置有第一间距P1_1和第二间距P2_1，但是可以不在第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上对准。
参照图14，覆盖窗CW在显示面板100_1上，并且指纹识别传感器层FPSL在显示面板100_1下面。
在一些实施例中，光阻挡层SLL_2可以在显示面板100_1中并且可以包括第一孔H1和第二孔H2。第一孔H1和第二孔H2可以彼此间隔开。被限定为第一孔H1的中心点CP与第二孔H2的中心点CP之间的距离的第一间距P1_1可以是孔-传感器距离ID的约0.5倍至约1.2倍。因为与图4、图5和图7的实施例相比第一间距P1_1的宽度减小，所以输入到指纹识别传感器层FPSL的光的量增多，从而改善指纹识别特性。
在一些实施例中，覆盖窗CW可以包括第一图像感测区域IPA1和第二图像感测区域IPA2，可以形成其中第一图像感测区域IPA1和第二图像感测区域IPA2叠置的第一叠置区域OA1。
在一些实施例中，指纹识别传感器层FPSL可以包括光接收区域LRA。例如，指纹识别传感器层FPSL可以包括第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2。第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2可以彼此叠置。例如，第一光接收区域LRA1的一侧和第二光接收区域LRA2的一侧可以彼此叠置以形成第二叠置区域OA2。第二叠置区域OA2在第一方向(X轴方向)上的宽度可以小于第一叠置区域OA1在第一方向(X轴方向)上的宽度。
在一些实施例中，第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2中的每个可以包括图像收集区域IAA。例如，第一光接收区域LRA1可以包括第一图像收集区域IAA1，并且第二光接收区域LRA2可以包括第二图像收集区域IAA2。
第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2可以在第一方向(X轴方向)上彼此间隔开。在一些实施例中，第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2可以彼此叠置，但是第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2可以彼此不叠置。因为光的量由于第一光接收区域LRA1和第二光接收区域LRA2的叠置而增多，所以更精确的指纹识别是可能的。另外，可以防止或减少输入到第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2的有效指纹图案的叠置，否则所述有效指纹图案的叠置将导致指纹识别的错误。
在一些实施例中，第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2可以不与第二叠置区域OA2叠置。例如，第一图像收集区域IAA1可以不与第二光接收区域LRA2叠置，并且第二图像收集区域IAA2可以不与第一光接收区域LRA1叠置。在一些实施例中，第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2可以与第二叠置区域OA2部分地叠置。即使在这种情况下，第一图像收集区域IAA1和第二图像收集区域IAA2也可以彼此不叠置。
参照图15，在一些实施例中，多个孔H、多个图像收集区域IAA和多个光接收区域LRA可以在厚度方向上叠置。例如，在平面图中，图像收集区域IAA可以定位在光接收区域LRA内，并且孔H可以定位在图像收集区域IAA内。另外，一个孔H、一个图像收集区域IAA和一个光接收区域LRA可以形成一个单元。
光接收区域LRA可以与相邻的光接收区域LRA叠置。例如，光接收区域LRA可以在第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上与相邻的光接收区域LRA叠置。在一些实施例中，一个光接收区域LRA可以与四个相邻的光接收区域LRA叠置，可以形成四个第二叠置区域OA2。因此，一个图像收集区域IAA可以被四个第二叠置区域OA2围绕。
在一些实施例中，图像收集区域IAA可以彼此间隔开并且第二叠置区域OA2介于图像收集区域IAA之间。
图16是根据实施例的光阻挡层SLL_3的一部分的平面图。图17是根据实施例的孔H、图像收集区域IAA和光接收区域LRA的平面图。图16和图17的实施例与图4、图5和图7的实施例的不同之处在于，光阻挡层SLL_3的第一区域A1中的孔H的间距不同于第二区域A2中的孔H的间距。这里将不重复与图4、图5和图7的实施例的元件和特征相同的元件和特征的冗余描述，并且下面将主要描述不同之处。
参照图16和图17，光阻挡层SLL_3可以包括第一区域A1和第二区域A2。第一区域A1和第二区域A2中的每个可以包括孔H。第一区域A1和第二区域A2中的每个中的孔H可以具有约3μm至约20μm的直径r。虽然第一区域A1和第二区域A2中的每个中的孔H在图16和图17中具有相同(例如，基本上相同)的直径r，但是实施例不限于这种情况。第一区域A1和第二区域A2中的每个中的孔H也可以具有在约3μm至约20μm的范围内的不同直径r。
在一些实施例中，定位在第一区域A1中的孔H可以在第一方向(X轴方向)上设置有第一间距P1。例如，第一间距P1可以是孔-传感器距离ID(见图4)的约1.3倍。另外，定位在第一区域A1中的孔H可以在第二方向(Y轴方向)上设置有第二间距P2，并且第二间距P2可以与第一间距P1相同(例如，基本上相同)。
在一些实施例中，定位在第二区域A2中的孔H可以在第一方向(X轴方向)上设置有第一间距P1_1。例如，第一间距P1_1可以是孔-传感器距离ID的约0.5倍至约1.2倍。另外，定位在第二区域A2中的孔H可以在第二方向(Y轴方向)上设置有第二间距P2_1。第二间距P2_1可以与第一间距P1_1相同(例如，基本上相同)。
定位在第一区域A1中的多个孔H、多个图像收集区域IAA和多个光接收区域LRA可以在厚度方向上叠置。例如，在平面图中，图像收集区域IAA可以定位在光接收区域LRA内，并且孔H可以定位在图像收集区域IAA内。另外，一个孔H、一个图像收集区域IAA和一个光接收区域LRA可以形成一个单元。
定位在第一区域A1中的光接收区域LRA可以与相邻的光接收区域LRA接触(例如，物理接触或直接接触)。例如，光接收区域LRA可以在第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上与相邻的光接收区域LRA接触(例如，物理接触或直接接触)。在一些实施例中，定位在第一区域A1中的一个光接收区域LRA可以与四个相邻的光接收区域LRA接触(例如，直接接触或物理接触)，但是可以不与四个相邻的光接收区域LRA叠置。然而，这不排除在工艺期间产生的意外的微小(例如，小)间隙或叠置。
在一些实施例中，定位在第一区域A1中的图像收集区域IAA可以彼此间隔开。另外，定位在第一区域A1中的孔H可以彼此间隔开。图像收集区域IAA之间的距离可以小于孔H之间的距离。
在一些实施例中，定位在第二区域A2中的多个光接收区域LRA可以与相邻的光接收区域LRA叠置。例如，光接收区域LRA可以在第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上与相邻的光接收区域LRA叠置。在一些实施例中，定位在第二区域A2中的一个光接收区域LRA可以与四个相邻的光接收区域LRA叠置，可以形成四个第二叠置区域OA2。因此，一个图像收集区域IAA可以被四个第二叠置区域OA2围绕。
在一些实施例中，定位在第二区域A2中的多个图像收集区域IAA可以通过介于它们之间的第二叠置区域OA彼此间隔开。
在一些实施例中，第一区域A1的光接收区域LRA中的一些和第二区域A2的光接收区域LRA中的一些可以在第一区域A1和第二区域A2彼此接触(例如，直接接触或物理接触)的区域中叠置。然而，第一区域A1的光接收区域LRA和第二区域A2的光接收区域LRA也可以在第一区域A1和第二区域A2彼此接触(例如，直接接触或物理接触)的区域中不叠置。如上文中所述，通过将光阻挡层SLL_3划分为第一区域A1和第二区域A2并且将第一区域A1中的孔H的间距P1和P2设定为与第二区域A2中的孔H的间距P1_1和P2_1不同，能够调整期望区域的指纹识别特性。
图18至图23中的每幅图是图3中所示的显示装置10的修改示例的剖视图。
参照图18，除了在指纹识别传感器层FPSL与显示面板100之间还定位有结合层AD并且指纹识别传感器层FPSL和显示面板100通过结合层AD结合在一起之外，根据当前的实施例的显示装置10a与根据图3的实施例的显示装置10基本上相同。因此，这里将不重复其冗余描述。
结合层AD可以直接接触(例如，物理接触)显示面板100的下表面和指纹识别传感器层FPSL的上表面。在一些实施例中，结合层AD可以包括光学透明粘合剂材料。例如，结合层AD可以由压敏粘合剂制成并且可以是光学透明的。
指纹识别传感器层FPSL和显示面板100可以通过结合层AD结合在一起。在一些实施例中，在指纹识别传感器层FPSL与显示面板100之间不会形成气隙。
参照图19，除了在结合层AD与指纹识别传感器层FPSL之间还定位有红外阻挡滤光器层IRC之外，根据当前的实施例的显示装置10b可以与根据图18的实施例的显示装置10a基本上相同。
红外阻挡滤光器层IRC可以使入射在指纹识别传感器层FPSL上的光之中的比设定(例如，预定)波段短的波段的光通过。例如，红外阻挡滤光器层IRC可以阻挡或减少红外波段的光的透射，并且透射可见波段的光以及紫外波段的光。在一些实施例中，红外阻挡滤光器层IRC还可以阻挡红色波段的光以及近红外波段的光。例如，红外阻挡滤光器层IRC可以阻挡具有约600纳米或更大的波长的光。因为穿过红外阻挡滤光器层IRC的光透射到指纹识别传感器层FPSL，所以指纹识别传感器层FPSL不会接收红外波段的光或者红色和近红外波段的光。
在一些实施例中，红外阻挡滤光器层IRC可以通过结合构件附着到指纹识别传感器层FPSL上。在一些实施例中，可以通过将红外阻挡材料直接涂覆在指纹识别传感器层FPSL上来形成红外阻挡滤光器层IRC。
根据当前的实施例，因为可以使用红外阻挡滤光器层IRC来阻挡或减少红外波段的光，所以可以防止或减少由于诸如太阳光的外部光之中的红外波段的光而引起的指纹识别传感器层FPSL的识别错误的发生。
另外，能够防止或减少由于红外波段的光而引起的包括在指纹识别传感器层FPSL中的指纹识别传感器FPS中的泄漏电流的产生。
结合层AD可以直接接触(例如，物理接触)显示面板100的下表面和红外阻挡滤光器层IRC的上表面。
在一些实施例中，结合层AD和红外阻挡滤光器层IRC可以定位在指纹识别传感器层FPSL与显示面板100之间，但是不会(或基本上不会)形成气隙。
参照图20，除了红外阻挡滤光器层IRC定位在结合层AD与显示面板100之间之外，根据当前的实施例的显示装置10c可以与根据图19的实施例的显示装置10b基本上相同。
在当前的实施例中，红外阻挡滤光器层IRC可以通过结合构件附着到显示面板100的下表面。在一些实施例中，可以通过将红外阻挡材料直接涂覆在显示面板100的下表面上来形成红外阻挡滤光器层IRC。
结合层AD可以直接接触(例如，物理接触)红外阻挡滤光器层IRC的下表面和指纹识别传感器层FPSL的上表面。
在一些实施例中，结合层AD和红外阻挡滤光器层IRC可以定位在指纹识别传感器层FPSL与显示面板100之间，但是不会(或基本上不会)形成气隙。
参照图21，除了在显示面板100与指纹识别传感器层FPSL之间还定位有保护构件PF，在保护构件PF与显示面板100之间还定位有第一结合层AD1，并且在指纹识别传感器层FPSL与保护构件PF之间还定位有第二结合层AD2之外，根据当前的实施例的显示装置10d与根据图3的实施例的显示装置10基本上相同。
保护构件PF可以保护显示面板100。保护构件PF可以通过第一结合层AD1结合到显示面板100的下表面。
在一些实施例中，当显示面板100具有柔性时或者当基体基底SUB具有柔性时，保护构件PF可以抑制或减少显示面板100的下垂或基体基底SUB的下垂。
在一些实施例中，保护构件PF可以具有一定的刚性以支撑显示面板100并且可以具有一定的柔性以允许显示面板100的折叠或弯曲。保护构件PF可以由具有一定的柔性和透光性质的塑料材料制成。例如，保护构件PF可以由聚氨酯(PU)、聚酰亚胺(PI)和/或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)制成。
指纹识别传感器层FPSL可以通过第二结合层AD2结合到保护构件PF。
第一结合层AD1和第二结合层AD2可以包括光学透明粘合剂材料。例如，第一结合层AD1和第二结合层AD2可以由压敏粘合剂制成并且可以是光学透明的。
第一结合层AD1可以直接接触(例如，物理接触)显示面板100的下表面和保护构件PF的上表面，并且第二结合层AD2可以直接接触(例如，物理接触)保护构件PF的下表面和指纹识别传感器层FPSL的上表面。
在一些实施例中，第一结合层AD1、保护构件PF和第二结合层AD2可以定位在指纹识别传感器层FPSL与显示面板100之间，但是不会(或基本上不会)形成气隙。
参照图22，除了第二结合层AD2与指纹识别传感器层FPSL之间还定位有红外阻挡滤光器层IRC之外，根据当前的实施例的显示装置10e与根据图21的实施例的显示装置10d基本上相同。红外阻挡滤光器层IRC的其他细节与上文中在图19的实施例中描述的红外阻挡滤光器层IRC的其他细节基本上相同或相似，因此，这里不重复其冗余描述。
第一结合层AD1可以直接接触(例如，物理接触)显示面板100的下表面和保护构件PF的上表面，并且第二结合层AD2可以直接接触(例如，物理接触)保护构件PF的下表面和红外阻挡滤光器层IRC的上表面。
在一些实施例中，第一结合层AD1、保护构件PF、第二结合层AD2和红外阻挡滤光器层IRC可以定位在指纹识别传感器层FPSL与显示面板100之间，但是不会(或基本上不会)形成气隙。
参照图23，除了在第一结合层AD1与显示面板100之间还定位有红外阻挡滤光器层IRC之外，根据当前的实施例的显示装置10f与根据图21的实施例的显示装置10d基本上相同。红外阻挡滤光器层IRC的其他细节与上文中在图20的实施例中描述的红外阻挡滤光器层IRC的其他细节基本上相同或相似，因此，这里不重复其冗余描述。
第一结合层AD1可以直接接触(例如，物理接触)红外阻挡滤光器层IRC的下表面和保护构件PF的上表面，并且第二结合层AD2可以直接接触(例如，物理接触)保护构件PF的下表面和指纹识别传感器层FPSL的上表面。
在一些实施例中，红外阻挡滤光器层IRC、第一结合层AD1、保护构件PF和第二结合层AD2可以定位在指纹识别传感器层FPSL与显示面板100之间，但是不会(或基本上不会)形成气隙。
根据实施例的显示装置使用从显示面板输出的光来识别指纹。因此，可以在没有单独的光源的情况下识别指纹。
另外，在基底中的光阻挡层中形成孔以形成光通道，并且调节孔的间距，从而改善指纹识别特性。
然而，实施例的效果不限于在此所阐述的效果。通过参照权利要求及其等同物，实施例的以上和其他效果对于实施例所属领域的普通技术人员将变得更加明显。
在上文中已经参照附图描述了本公开的实施例，但是本公开所属领域的普通技术人员应理解的是，在不改变本公开的精神或范围的情况下，可以以其他具体形式来实践本公开的主题。因此，在上文中描述的实施例应被理解为在所有方面中是说明性的而不是限制性的。

Claims (24)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：
显示面板，包括基体基底、在所述基体基底上的薄膜晶体管层以及在所述薄膜晶体管层上的包括发光元件的发光元件层；
覆盖窗，在所述发光元件层上；以及
指纹识别传感器层，在所述显示面板下面，
其中，所述基体基底包括第一基体、在所述第一基体上的第二基体以及在所述第一基体与所述第二基体之间的光阻挡层，并且
其中，所述光阻挡层包括孔，被触摸所述覆盖窗的手指反射的光穿过所述孔。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述孔的间距是孔-传感器距离的1.3至1.5倍，并且
其中，所述孔-传感器距离为从所述孔中的任意一个的中心点到所述指纹识别传感器层的上表面的距离。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述孔包括第一孔和第二孔，
其中，所述指纹识别传感器层包括第一光接收区域和第二光接收区域，所述第一光接收区域接收由通过所述第一孔的反射光扫描的指纹图案，所述第二光接收区域接收由通过所述第二孔的反射光扫描的指纹图案，并且
其中，所述第一光接收区域和所述第二光接收区域彼此不叠置。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述第一光接收区域和所述第二光接收区域彼此接触。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述第一光接收区域包括第一图像收集区域，并且所述第二光接收区域包括第二图像收集区域，并且
其中，所述第一图像收集区域和所述第二图像收集区域彼此间隔开。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述第一孔、所述第一图像收集区域和所述第一光接收区域在厚度方向上叠置。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，所述第二孔、所述第二图像收集区域和所述第二光接收区域在所述厚度方向上叠置。
8.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述孔中的每个具有3μm至20μm的直径。
9.根据权利要求2所述的显示装置，其中，反射光以其入射在所述孔上的角度为-33度至33度。
10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述孔的间距是孔-传感器距离的0.5倍至1.2倍，并且
其中，所述孔-传感器距离为从所述孔中的任意一个的中心点到所述指纹识别传感器层的上表面的距离。
11.根据权利要求10所述的显示装置，其中，所述孔包括第一孔和第二孔，
其中，所述指纹识别传感器层包括第一光接收区域和第二光接收区域，所述第一光接收区域接收由通过所述第一孔的反射光扫描的指纹图案，所述第二光接收区域接收由通过所述第二孔的反射光扫描的指纹图案，并且
其中，所述第一光接收区域和所述第二光接收区域彼此叠置。
12.根据权利要求11所述的显示装置，其中，所述第一光接收区域包括第一图像收集区域，并且所述第二光接收区域包括第二图像收集区域，并且
其中，所述第一图像收集区域和所述第二图像收集区域彼此间隔开。
13.根据权利要求12所述的显示装置，其中，所述第一孔、所述第一图像收集区域和所述第一光接收区域在厚度方向上叠置。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其中，所述第二孔、所述第二图像收集区域和所述第二光接收区域在所述厚度方向上叠置。
15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述第一图像收集区域和所述第二光接收区域彼此不叠置。
16.根据权利要求15所述的显示装置，其中，所述第二图像收集区域和所述第一光接收区域彼此不叠置。
17.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述光阻挡层包括第一区域和第二区域，
其中，定位在所述第一区域中的所述孔的间距为孔-传感器距离的1.3倍，并且定位在所述第二区域中的所述孔的间距为所述孔-传感器距离的0.5至1.2倍，并且
其中，所述孔-传感器距离为从所述孔中的任意一个的中心点到所述指纹识别传感器层的上表面的距离。
18.根据权利要求17所述的显示装置，其中，定位在所述第一区域和所述第二区域中的每个中的所述孔包括第一孔和第二孔，
其中，所述第一区域和所述第二区域中的每个包括第一光接收区域和第二光接收区域，所述第一光接收区域接收由通过所述第一孔的反射光扫描的指纹图案，所述第二光接收区域接收由通过所述第二孔的反射光扫描的指纹图案，并且
其中，包括在所述第一区域中的所述第一光接收区域和所述第二光接收区域彼此不叠置，并且包括在所述第二区域中的所述第一光接收区域和所述第二光接收区域彼此叠置。
19.根据权利要求18所述的显示装置，其中，包括在所述第一区域和所述第二区域中的每个中的所述第一光接收区域包括第一图像收集区域，
其中，包括在所述第一区域和所述第二区域中的每个中的所述第二光接收区域包括第二图像收集区域，并且
其中，所述第一图像收集区域和所述第二图像收集区域彼此间隔开。
20.根据权利要求17所述的显示装置，其中，定位在所述第一区域和所述第二区域中的所述孔中的每个具有3μm至20μm的直径。
21.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括结合层，所述结合层定位在所述显示面板与所述指纹识别传感器层之间，
其中，所述指纹识别传感器层通过所述结合层结合到所述显示面板。
22.根据权利要求21所述的显示装置，所述显示装置还包括红外阻挡滤光器层，所述红外阻挡滤光器层定位在所述显示面板与所述结合层之间或者在所述指纹识别传感器层与所述结合层之间。
23.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括：
保护构件，定位在所述显示面板与所述指纹识别传感器层之间；
第一结合层，定位在所述显示面板与所述保护构件之间；以及
第二结合层，定位在所述指纹识别传感器层与所述保护构件之间，
其中，所述保护构件通过所述第一结合层结合到所述显示面板，并且所述指纹识别传感器层通过所述第二结合层结合到所述保护构件。
24.根据权利要求23所述的显示装置，所述显示装置还包括红外阻挡滤光器层，所述红外阻挡滤光器层定位在所述显示面板与所述第一结合层之间或者在所述指纹识别传感器层与所述第二结合层之间。
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