CN112192716B - 一种永磁铁氧体磁瓦湿压成型模具的吸水下凸模 - Google Patents
一种永磁铁氧体磁瓦湿压成型模具的吸水下凸模 Download PDFInfo
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Abstract
本发明涉及磁瓦成型模具技术领域,公开了一种永磁铁氧体磁瓦湿压成型模具的吸水下凸模,包括上端面和若干吸水孔;所述上端面包括凸起的弧面和分别设于弧面两端的两个平台面;所述吸水孔的上端开口于上端面;所述吸水孔与上端面垂直。在本发明的吸水下凸模中,吸水孔垂直于上端面,有利于挤出浆料的水分,能缩短压制时间,并防止排水不畅导致成品率低,同时还能使产品密度更加均匀,从而提高磁瓦性能。
Description
技术领域
本发明涉及磁瓦成型模具技术领域,尤其涉及一种永磁铁氧体磁瓦湿压成型模具的吸水下凸模。
背景技术
永磁铁氧体磁瓦因其性价比优势,广泛应用于各种直流电机,用以代替励磁线圈,产生恒定磁势源。湿压成型是一种常用的磁瓦成型方法,料浆的含水量一般在35%~40%,成型时,料浆注入型腔,大部分水分通过挤压经吸水孔排出,形成生坯,再经高温烧结,磨加工制成成品。相较于干压成型而言,湿压成型因成型料浆含有水分,在磁场中成型时颗粒容易转向,所以能获得更高的取向度,获得的磁瓦性能也更好。
湿压成型模具的排水方式一般为单面吸水,即通过上模吸水板中的吸水孔将浆料中的水抽出。单面吸水适合生产厚度小的磁瓦,对毛坯厚度大于15mm的产品,单面吸水会拉长压制时间,且吸水不畅也会造成产品烧结后有暗开、圈裂等问题,影响成品率。对于厚度大的产品,采用双面吸水可很好地解决以上问题,即上模吸水板中设有吸水孔,下凸模中也设有吸水孔,压制成型时通过两处的吸水孔同时将浆料中的水抽出。
公开号为CN201941073U的中国专利文献公开了一种永磁铁氧体磁瓦湿压磁场成型吸水凸模,包括有凸模,凸模的下基体为纯铁,凸模与下基体纯铁之间开有矩形槽,矩形槽内有多个水平吸水通道,下基体纯铁内开有主吸水通道,水平吸水通道与主吸水通道相连通;所述凸模顶部呈圆弧状,所述凸模的上端开有竖直吸水孔,在垂直于弧形方向开有流水槽,所述流水槽与竖直吸水孔相连通,竖直吸水孔与水平吸水通道相连通。利用该吸水凸模能实现双面吸水,但吸水孔竖直设置,不利于排水,并且会造成磁瓦各处密度不均匀。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种永磁铁氧体磁瓦湿压成型模具的吸水下凸模。该吸水下凸模中的吸水孔垂直于上端面,有利于挤出浆料的水分,能缩短压制时间,并防止排水不畅导致成品率低,同时还能使产品密度更加均匀,从而提高磁瓦性能。
本发明的具体技术方案为:
一种永磁铁氧体磁瓦湿压成型模具的吸水下凸模,包括上端面和若干吸水孔;所述上端面包括凸起的弧面和分别设于弧面两端的两个平台面;所述吸水孔的上端开口于上端面;所述吸水孔与上端面垂直。
本发明的吸水下凸模将吸水孔设置成垂直于上端面(包括弧面和平台面)的结构,使抽水方向与磁瓦的磁力线方向一致,有利于挤出浆料的水分,能缩短压制时间,并防止排水不畅导致产品烧结后有暗开、圈裂等问题;此外,这种结构也能使产品在垂直于磁力线的曲面上的密度分布更加均匀,使获得的磁瓦具有更好的性能。
作为优选,还包括流水槽、排水沉孔和排水口;所述吸水孔的下端开口于流水槽;所述排水沉孔的上端开口于流水槽的槽底,下端与排水口贯通;所述排水口开口于吸水下凸模外。
在压制成型时,浆料中的水经由吸水孔进入流水槽内,再从流水槽通过排水口排出,与湿压成型模具中的上模吸水板共同实现双面吸水,从而缩短压制时间,并防止排水不畅导致产品烧结后有暗开、圈裂等问题。排水口可与气泵相连,使流水槽和吸水孔内形成低压,加快排水。
作为优选,所述吸水孔包括相互贯通的进水段和出水段;所述进水段的上端开口于上端面,所述出水段的下端开口于流水槽;所述进水段的内径小于出水段。
将吸水孔设计成内径较小的进水段和内径较大的出水段,能在保证吸水孔内水快速流动的前提下,使生坯脱模时吸水孔痕迹不明显。
作为优选,所述进水段的内径为1.0~1.5mm,长度为6~12mm;所述出水段的内径为3.0~3.5mm。
作为优选,所述吸水孔的密度从弧面顶部到最低点逐渐增大。
在压制成型时,磁瓦生坯内从弧面最高点到最低点的压缩比逐渐减小,由此造成的密度差异易导致烧结后出现开裂现象。本发明通过吸水孔密度的差异化设计,能使产品密度更加均匀,从而防止烧结时开裂。
作为优选,从上到下依次包括头部和基体;所述头部与基体之间可拆卸连接;所述流水槽设于头部与基体之间。
将吸水下凸模设计成可拆卸的头部与基体,有利于流水槽的设置,便于加工和维修。
作为优选,所述头部与基体之间通过螺栓可拆卸连接。
作为优选,所述头部从上到下依次包括由不导磁材料制成的上镶块和由导磁材料制成的下镶块。
作为优选,所述上端面上设有疏水涂层;所述疏水涂层的疏水性从远离吸水孔的位置向吸水孔梯度减小。
疏水表面具有较大的静态接触角和较小的滚动角,故疏水涂层能加快水在弧面上的移动;同时,在疏水性梯度变化的疏水涂层上,水会趋向于从接触角较大(疏水性较大)处向接触角较小(疏水性较小)处流动,因此,本发明通过在上端面上涂覆疏水性梯度变化的疏水涂层,有助于引导浆料中的水从远离吸水孔的位置向吸水孔流动,能缩短压制时间,并使产品密度更加均匀。
现有技术(如专利CN201941073U)中通过在弧面上设置吸水槽来连通吸水孔,促进水在弧面上流动,并使产品密度均匀,相较于这种现有技术而言,本发明的方法不会在磁瓦成品表面留下吸水槽痕迹。
作为优选,所述疏水涂层的制备方法如下:
(1)金刚石表面羧基化:将质量比为1.5~2.5:1的纳米金刚石和微米金刚石分散到浓硝酸和浓硫酸的混合溶液中,所述浓硝酸与浓硫酸的体积比为1:3~4,超声分散均匀后,在75~80℃下回流反应40~45h;反应结束后,将金刚石水洗至中性,干燥,获得羧基化改性金刚石。
步骤(1)中,通过混合酸氧化,在金刚石表面形成大量羧基,未后续的疏水改性提供接枝位点。
(2)金刚石疏水改性:将羧基化改性金刚石分散到烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液中,所述烯丙基三甲氧基硅烷与水的质量比为1:8~10,加入浓硫酸,在90~95℃下反应2~3h;反应结束后,过滤,用丙酮洗涤后干燥,获得疏水改性金刚石。
步骤(2)中,烯丙基三甲氧基硅烷中的甲氧基水解后转变成硅羟基,后者与金刚石表面的羧基反应后接枝到金刚石上,使金刚石具有较好的疏水性。
(3)制备涂料A:将疏水改性金刚石均匀分散到挥发性溶剂中,所述疏水改性金刚石与挥发性溶剂的质量体积比为1g:15~20mL,制得涂料A。
(4)制备涂料B:将3-巯丙基三乙氧基硅烷和光引发剂均匀分散到挥发性溶剂中,所述3-巯丙基三乙氧基硅烷、光引发剂、挥发性溶剂的质量体积比为8~10g:1g:100~130mL,制得涂料B。
(5)涂覆:将涂料B均匀喷涂到上端面上,干燥;用挥发性溶剂将涂料A稀释至1.5~2.5倍和3~4倍体积,在紫外光照射下,分别将稀释至1.5~2.5倍和3~4倍的涂料A喷涂到距离最近的吸水孔边缘1~2mm、0~1mm处,将未稀释的涂料A喷涂到其余位置;喷涂结束后,继续用紫外光照射5~8min后,干燥,获得疏水涂层。
步骤(5)中,将涂料B喷涂到上端面上后,3-巯丙基三乙氧基硅烷中的烷氧基与上端面表面结合;在紫外光照射下,疏水改性金刚石表面的烯基(来自烯丙基三甲氧基硅烷)与3-巯丙基三乙氧基硅烷中的巯基发生光引发接枝反应,使疏水改性金刚石接枝到上端面上,形成凸起的微纳点阵结构,疏水改性金刚石和微纳点阵结构均能提高上端面的疏水性;通过在离吸水孔边缘不同距离处喷涂不同浓度的涂料A,可控制微纳点阵结构中的凸起(疏水改性金刚石)分布密度从远离吸水孔的位置向吸水孔方向呈梯度下降趋势,从而使疏水性呈梯度减小趋势。
这种疏水性的梯度变化能促进浆料中的水向吸水孔流动;同时,在永磁铁氧体磁瓦湿压成型过程中,浆料中的粉末颗粒细微且硬度高,会对上端面造成表面磨损,而金刚石具有较大的硬度,能提高上端面的耐磨性;此外,疏水改性金刚石通过光引发接枝反应共价连接到上端面上,能提高疏水涂层的结合强度,避免长期水流作用对其造成损伤。
作为优选,步骤(1)中,所述纳米金刚石的粒径为30~50nm,所述微米金刚石的粒径为10~30μm。
作为优选,步骤(3)~(5)中,所述挥发性溶剂为甲醇、丙酮、乙醇中的至少一种。
作为优选,步骤(1)中,超声温度为25~30℃,功率为70~80kHz,时间为3~4h。
作为优选,步骤(1)中,所述浓硝酸的质量分数为65%~68%;步骤(1)和步骤(2)中,所述浓硫酸的质量分数为95%~98%。
作为优选,步骤(1)中,所述金刚石与浓硝酸和浓硫酸的混合溶液的质量体积比为1g:120~150mL。
作为优选,步骤(2)中,所述浓硫酸与烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液的体积比为1:70~80。
作为优选,步骤(2)中,所述羧基化改性金刚石与烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液的质量体积比为1g:70~90mL。
作为优选,步骤(4)中,所述光引发剂为TPO。
与现有技术相比,本发明具有以下优点:
(1)吸水孔垂直于上端面,有利于挤出浆料的水分,能缩短压制时间,并防止排水不畅导致成品率低,同时还能使产品密度更加均匀,从而提高磁瓦性能;
(2)上端面上设有疏水性梯度变化的疏水涂层,能促进浆料中的水向吸水孔流动,从而缩短压制时间,并使产品密度更加均匀,同时还能提高上端面的耐磨性。
附图说明
图1是本发明的一种结构示意图。
附图标记为:上端面1,弧面1-1,平台面1-2,吸水孔2,进水段2-1,出水段2-2,流水槽3,排水沉孔4,排水口5,头部6,上镶块6-1,下镶块6-2,基体7,螺栓8。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步的描述。在本发明中所涉及的装置、连接结构和方法,若无特指,均为本领域公知的装置、连接结构和方法。
实施例1
如图1所示,一种永磁铁氧体磁瓦湿压成型模具的吸水下凸模,从上到下依次包括头部6和基体7;所述头部6从上到下依次包括由不导磁材料制成的上镶块6-1和由导磁材料制成的下镶块6-2;所述下镶块6-2与基体7之间通过螺栓8可拆卸连接。
所述上镶块6-1的上端面1包括凸起的弧面1-1和分别设于弧面1-1两端的两个平台面1-2。
所述基体7的顶部设有流水槽3;所述基体7中设有排水沉孔4和排水口;所述排水沉孔4的上端开口于流水槽3的槽底,下端与排水口5贯通;所述排水口5开口于吸水下凸模外。
所述头部6中设有若干垂直于上端面1并贯穿头部6的吸水孔2;所述吸水孔2包括相互贯通的进水段2-1和出水段2-2;所述进水段2-1的内径为1.0~1.5mm,长度h为6~12mm,所述出水段2-2的内径为3.0~3.5mm;所述进水段2-1的上端开口于上端面1,所述出水段2-2的下端开口于流水槽3;所述吸水孔2的密度从弧面1-1顶部到最低点逐渐增大。
上述吸水下凸模结构具有以下优点:
(1)在压制成型时,浆料中的水经由吸水孔2进入流水槽3内,再从流水槽3通过排水口5排出,与湿压成型模具中的上模吸水板共同实现双面吸水,从而缩短压制时间,并防止排水不畅导致产品烧结后有暗开、圈裂等问题,能满足较大厚度磁瓦压制成型时的排水需求。排水口5可与气泵相连,使流水槽3和吸水孔2内形成低压,加快排水。
(2)通过将吸水孔设置成垂直于上端面1(包括弧面1-1和平台面1-2)的结构,使抽水方向与磁瓦的磁力线方向一致,有利于挤出浆料的水分,能缩短压制时间,并防止排水不畅导致产品烧结后有暗开、圈裂等问题;此外,这种结构也能使产品在垂直于磁力线的曲面上的密度分布更加均匀,使获得的磁瓦具有更好的性能。
(3)通过吸水孔2密度的差异化设计(从弧面1-1顶部到最低点逐渐增大),能使产品密度更加均匀,从而防止烧结时开裂。
(4)将吸水孔2设计成内径较小的进水段2-1和内径较大的出水段2-2,能在保证吸水孔2内水快速流动的前提下,使生坯脱模时吸水孔2痕迹不明显。
(5)将吸水下凸模设计成可拆卸的头部6与基体7,有利于流水槽3的设置,便于加工和维修。
实施例2
本实施例与实施例1的区别在于,所述上端面1上设有疏水涂层,所述疏水涂层的制备方法如下:
(1)金刚石表面羧基化:将质量比为2:1的纳米金刚石(粒径为约40nm)和微米金刚石(粒径约为20μm)分散到质量分数为65%的浓硝酸和质量分数为98%的浓硫酸的混合溶液中,所述浓硝酸与浓硫酸的体积比为1:3.5,所述金刚石与浓硝酸和浓硫酸的混合溶液的质量体积比为1g:130mL,在30℃下,用75kHz的超声分散3.5h后,在80℃下回流反应40h;反应结束后,将金刚石水洗至中性,干燥,获得羧基化改性金刚石;
(2)金刚石疏水改性:将羧基化改性金刚石分散到烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液中,所述烯丙基三甲氧基硅烷与水的质量比为1:9,加入质量分数为98%的浓硫酸,所述浓硫酸与烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液的体积比为1:75,在90℃下反应3h;反应结束后,过滤,用丙酮洗涤后干燥,获得疏水改性金刚石;
(3)制备涂料A:将疏水改性金刚石均匀分散到甲醇中,所述疏水改性金刚石与甲醇的质量体积比为1g:20mL,制得涂料A;
(4)制备涂料B:将3-巯丙基三乙氧基硅烷和TPO均匀分散到甲醇中,所述3-巯丙基三乙氧基硅烷、TPO、甲醇的质量体积比为9g:1g:110mL,制得涂料B;
(5)涂覆:将涂料B均匀喷涂到上端面上,干燥;用挥发性溶剂将涂料A稀释至2倍和3.5倍体积,在紫外光照射下,分别将稀释至2倍和3.5倍的涂料A喷涂到距离最近的吸水孔边缘1~2mm、0~1mm处,将未稀释的涂料A喷涂到其余位置;喷涂结束后,继续用紫外光照射6min后,干燥,获得疏水涂层。
在实施例1和实施例2的上模吸水板中,在上端面上选取距离吸水孔0.5mm、1.5mm、2.5mm处的点,测试静态接触角。结果如下:实施例1中,在距离吸水孔0.5mm、1.5mm、2.5mm处的静态接触角分别为53°、49°、54°;实施例2中,在距离吸水孔0.5mm、1.5mm、2.5mm处的静态接触角分别为145°、158°、168°。以上结果表明,通过本发明的方法能在上端面上形成疏水表面,且从远离吸水孔的位置到吸水孔,疏水性梯度增大。
实施例3
本实施例与实施例1的区别在于,所述上端面1上设有疏水涂层,所述疏水涂层的制备方法如下:
(1)金刚石表面羧基化:将质量比为1.5:1的纳米金刚石(粒径为约30nm)和微米金刚石(粒径约为10μm)分散到质量分数为65%的浓硝酸和质量分数为95%的浓硫酸的混合溶液中,所述浓硝酸与浓硫酸的体积比为1:3,所述金刚石与浓硝酸和浓硫酸的混合溶液的质量体积比为1g:120mL,在28℃下,用70kHz的超声分散4h后,在80℃下回流反应40h;反应结束后,将金刚石水洗至中性,干燥,获得羧基化改性金刚石;
(2)金刚石疏水改性:将羧基化改性金刚石分散到烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液中,所述烯丙基三甲氧基硅烷与水的质量比为1:8,所述羧基化改性金刚石与烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液的质量体积比为1g:70mL,加入质量分数为95%的浓硫酸,所述浓硫酸与烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液的体积比为1:70,在93℃下反应2.5h;反应结束后,过滤,用丙酮洗涤后干燥,获得疏水改性金刚石;
(3)制备涂料A:将疏水改性金刚石均匀分散到甲醇中,所述疏水改性金刚石与甲醇的质量体积比为1g:15mL,制得涂料A;
(4)制备涂料B:将3-巯丙基三乙氧基硅烷和TPO均匀分散到甲醇中,所述3-巯丙基三乙氧基硅烷、TPO、甲醇的质量体积比为8g:1g:100mL,制得涂料B;
(5)涂覆:将涂料B均匀喷涂到上端面上,干燥;用挥发性溶剂将涂料A稀释至1.5倍和3倍体积,在紫外光照射下,分别将稀释至1.5倍和3倍的涂料A喷涂到距离最近的吸水孔边缘1~2mm、0~1mm处,将未稀释的涂料A喷涂到其余位置;喷涂结束后,继续用紫外光照射5min后,干燥,获得疏水涂层。
实施例4
本实施例与实施例1的区别在于,所述上端面1上设有疏水涂层,所述疏水涂层的制备方法如下:
(1)金刚石表面羧基化:将质量比为2.5:1的纳米金刚石(粒径为约50nm)和微米金刚石(粒径约为30μm)分散到质量分数为68%的浓硝酸和质量分数为98%的浓硫酸的混合溶液中,所述浓硝酸与浓硫酸的体积比为1:4,所述金刚石与浓硝酸和浓硫酸的混合溶液的质量体积比为1g:150mL,在25℃下,用80kHz的超声分散3h后,在80℃下回流反应40h;反应结束后,将金刚石水洗至中性,干燥,获得羧基化改性金刚石;
(2)金刚石疏水改性:将羧基化改性金刚石分散到烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液中,所述烯丙基三甲氧基硅烷与水的质量比为1:10,所述羧基化改性金刚石与烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液的质量体积比为1g:90mL,加入质量分数为98%的浓硫酸,所述浓硫酸与烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液的体积比为1:80,在95℃下反应2h;反应结束后,过滤,用丙酮洗涤后干燥,获得疏水改性金刚石;
(3)制备涂料A:将疏水改性金刚石均匀分散到甲醇中,所述疏水改性金刚石与甲醇的质量体积比为1g:18mL,制得涂料A;
(4)制备涂料B:将3-巯丙基三乙氧基硅烷和TPO均匀分散到甲醇中,所述3-巯丙基三乙氧基硅烷、TPO、甲醇的质量体积比为10g:1g:130mL,制得涂料B;
(5)涂覆:将涂料B均匀喷涂到上端面上,干燥;用挥发性溶剂将涂料A稀释至2.5倍和4倍体积,在紫外光照射下,分别将稀释至2.5倍和4倍的涂料A喷涂到距离最近的吸水孔边缘1~2mm、0~1mm处,将未稀释的涂料A喷涂到其余位置;喷涂结束后,继续用紫外光照射8min后,干燥,获得疏水涂层。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例,并非对本发明作任何限制,凡是根据本发明技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效结构变换,均仍属于本发明技术方案的保护范围。
Claims (8)
1.一种永磁铁氧体磁瓦湿压成型模具的吸水下凸模,其特征在于,包括上端面(1)和若干吸水孔(2);所述上端面(1)包括凸起的弧面(1-1)和分别设于弧面(1-1)两端的两个平台面(1-2);所述吸水孔(2)的上端开口于上端面(1);所述吸水孔(2)与上端面(1)垂直;所述上端面(1)上设有疏水涂层;所述疏水涂层的疏水性从远离吸水孔(2)的位置向吸水孔(2)梯度减小;
所述疏水涂层的制备方法如下:
(1)金刚石表面羧基化:将质量比为1.5~2.5:1的纳米金刚石和微米金刚石分散到浓硝酸和浓硫酸的混合溶液中,所述浓硝酸与浓硫酸的体积比为1:3~4,超声分散均匀后,在75~80℃下回流反应40~45h;反应结束后,将金刚石水洗至中性,干燥,获得羧基化改性金刚石;
(2)金刚石疏水改性:将羧基化改性金刚石分散到烯丙基三甲氧基硅烷和水的混合溶液中,所述烯丙基三甲氧基硅烷与水的质量比为1:8~10,加入浓硫酸,在90~95℃下反应2~3h;反应结束后,过滤,用丙酮洗涤后干燥,获得疏水改性金刚石;
(3)制备涂料A:将疏水改性金刚石均匀分散到挥发性溶剂中,所述疏水改性金刚石与挥发性溶剂的质量体积比为1g:15~20mL,制得涂料A;
(4)制备涂料B:将3-巯丙基三乙氧基硅烷和光引发剂均匀分散到挥发性溶剂中,所述3-巯丙基三乙氧基硅烷、光引发剂、挥发性溶剂的质量体积比为8~10g:1g:100~130mL,制得涂料B;
(5)涂覆:将涂料B均匀喷涂到上端面上,干燥;用挥发性溶剂将涂料A稀释至1.5~2.5倍和3~4倍体积,在紫外光照射下,分别将稀释至1.5~2.5倍和3~4倍的涂料A喷涂到距离最近的吸水孔边缘1~2mm、0~1mm处,将未稀释的涂料A喷涂到其余位置;喷涂结束后,继续用紫外光照射5~8min后,干燥,获得疏水涂层。
2.如权利要求1所述的吸水下凸模,其特征在于,还包括流水槽(3)、排水沉孔(4)和排水口(5);所述吸水孔(2)的下端开口于流水槽(3);所述排水沉孔(4)的上端开口于流水槽(3)的槽底,下端与排水口(5)贯通;所述排水口(5)开口于吸水下凸模外。
3.如权利要求2所述的吸水下凸模,其特征在于,所述吸水孔(2)包括相互贯通的进水段(2-1)和出水段(2-2);所述进水段(2-1)的上端开口于上端面(1),所述出水段(2-2)的下端开口于流水槽(3);所述进水段(2-1)的内径小于出水段(2-2)。
4.如权利要求3所述的吸水下凸模,其特征在于,所述进水段(2-1)的内径为1.0~1.5mm,长度为6~12mm;所述出水段(2-2)的内径为3.0~3.5mm。
5.如权利要求1所述的吸水下凸模,其特征在于,所述吸水孔(2)的密度从弧面(1-1)顶部到最低点逐渐增大。
6.如权利要求2所述的吸水下凸模,其特征在于,从上到下依次包括头部(6)和基体(7);所述头部(6)与基体(7)之间可拆卸连接;所述流水槽(3)设于头部(6)与基体(7)之间。
7.如权利要求1所述的吸水下凸模,其特征在于,步骤(1)中,所述纳米金刚石的粒径为30~50nm,所述微米金刚石的粒径为10~30μm。
8.如权利要求1所述的吸水下凸模,其特征在于,步骤(3)~(5)中,所述挥发性溶剂为甲醇、丙酮、乙醇中的至少一种。
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Denomination of invention: A water absorbing lower punch of the wet pressing mold for permanent magnet ferrite magnetic tile Effective date of registration: 20220622 Granted publication date: 20210713 Pledgee: Dongyang Branch of China Construction Bank Co.,Ltd. Pledgor: HENGDIAN GROUP DMEGC MAGNETICS Co.,Ltd. Registration number: Y2022330001028 |
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