CN112010676A - 一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺及其产品 - Google Patents

一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺及其产品 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺及其产品,包括以下步骤:A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;B、数码打印面釉;C、在陶瓷砖坯表面打印胶水墨水图案;D、在打印有胶水墨水图案的位置定位布施干粒;E、对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆;F、烧成,得到立体定位干粒的陶瓷砖。所述立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,通过定位布施干粒后再喷施悬浮釉浆,在入窑烧成前可不需要进行干燥处理,工艺简单,解决了单纯布施干粒及保护釉需要长时间干燥或砖体开裂的问题,制备得到的陶瓷砖的耐磨度、硬度以及平整度好,且图案清晰,立体感强,兼具美观性和实用性,解决了单纯布施干粒及保护釉的陶瓷砖使用性能差的问题。

Description

一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺及其产品
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷技术领域,尤其涉及一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺及其产品。
背景技术
建筑陶瓷产品竞争日益激烈,消费者对陶瓷表面性能的要求越来越高,特别是针对陶瓷表面硬度、表面装饰手段、表面防滑以及表面功能化方面,其中一个重要的竞争方向则是花色品种的竞争,竞争的焦点则是产品设计和装饰材料的水平,使用干粒作为装饰的陶瓷产品应运而生。目前,针对使用干粒装饰陶瓷产品,主要采用直接铺洒干粒并且施加保护釉的组合,由于保护釉对干粒没有粘性,不能够将干粒固定,导致干粒容易脱落,且釉料中的水分很容易下渗到砖坯里面,需要单独进行干燥后才可以进行烧成,否则如果在入窑时砖坯中的水分过多,则在入窑烧成后将导致砖体开裂,制得的陶瓷砖的废品率高,使用性能差。
发明内容
针对背景技术提出的问题,本发明的目的在于提出一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,通过定位布施干粒后再喷施悬浮釉浆,在入窑烧成前可不需要进行干燥处理,工艺简单,解决了单纯布施干粒及保护釉需要长时间干燥或砖体开裂的问题。
本发明的另一个目的在于提出一种使用立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺制备得到的陶瓷砖,该产品的耐磨度、硬度以及平整度好,且图案清晰,立体感强,兼具美观性和实用性,解决了单纯布施干粒及保护釉的陶瓷砖使用性能差的问题。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、数码打印面釉;
C、在陶瓷砖坯表面打印胶水墨水图案;
D、在打印有胶水墨水图案的位置定位布施干粒;
E、对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆;
F、烧成,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
优选的,所述悬浮釉浆包括悬浮剂和透明釉,所述悬浮剂和透明釉的质量比为50~90:50~10。
优选的,所述悬浮釉浆的流速为15~25s,比重为1.25~1.3g/cm3
优选的,按照质量份数计算,所述面釉的原料组分包括釉粉25~55份和有机溶剂45~75份;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料组分包括二氧化硅50~65份、三氧化二铝10~30份、氧化钙5~12份、氧化钡1~2份、氧化锶0.1~2份、氧化锌1~4份、氧化锆4~8份和氧化钛0.1~1.5份。
优选的,所述步骤F烧成前还包括快速干燥处理,所述快速干燥处理的干燥时间为15~60s。
优选的,所述步骤D中,所述定位布施干粒的干粒布施量为450~550g/m2
优选的,所述步骤E中,所述喷施悬浮釉浆的喷施量为250~350 g/m2
优选的,所述步骤F中的烧成温度为1210~1230℃,烧成时间为60~90min。
优选的,所述步骤F进行烧成后,还包括抛光处理。
一种立体定位干粒的陶瓷砖,使用所述立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺制备得到。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
1、通过定位布施干粒后再喷施悬浮釉浆,在入窑烧成前可不需要进行干燥处理,工艺简单,且由于所述干粒与所述悬浮釉浆的成分在烧成过程中相互熔合,在烧成后流平效果好,有效提高了陶瓷砖的耐磨度、硬度以及平整度,减少了后期的抛削量,定位布施的所述干粒与所述胶水墨水打印的图案相对应,陶瓷砖的图案清晰,立体感强;
2、所述悬浮釉浆的流速和比重适中,能够使得喷施所述悬浮釉浆时的喷雾效果好,且更容易渗透于所述干粒之间的缝隙中,将所述干粒包裹住,在烧成后的砖面熔融效果好,陶瓷砖的耐磨度、硬度以及平整度好;
3、通过先数码打印面釉,再使用胶水墨水打印图案,然后在打印有胶水墨水图案的位置定位布施干粒,在烧成后所述面釉与所述干粒相配合,使得所述干粒呈现的颜色鲜明有质感,饱和度高,制得的陶瓷砖长期使用暴露在空气中,表面不会发蓝,且不易氧化,提高了陶瓷砖的使用效果。
具体实施方式
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、数码打印面釉;
C、在陶瓷砖坯表面打印胶水墨水图案;
D、在打印有胶水墨水图案的位置定位布施干粒;
E、对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆;
F、烧成,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
通过在陶瓷砖坯表面淋底釉,然后数码打印面釉,所述面釉与干粒配合,烧成后所述干粒呈现的颜色鲜明有质感,然后在陶瓷砖坯表面使用胶水墨水打印图案,在打印有胶水墨水图案的位置定位布施干粒,干粒在所述胶水墨水的作用下粘附于所述陶瓷砖坯表面,再对陶瓷砖坯表面进行整面喷施悬浮釉浆,所述悬浮釉浆可以将所述陶瓷砖坯表面的液体水分以及干粒包裹住,从而在所述干粒的表面对所述干粒进行固定,避免所述干粒在后续烧成工艺步骤中脱落,且由于所述悬浮釉浆可以将所述陶瓷砖坯表面的液体水分包裹住,以及所述悬浮釉浆的水分不容易下渗到所述陶瓷砖坯内部,避免了单纯布施干粒及保护釉导致水分容易下渗到陶瓷砖坯内部,需要单独通过长时间干燥排干水分再入窑烧成,如果单纯布施干粒后布施保护釉而不经过干燥,则在陶瓷砖坯入窑烧成时由于水分过大,在入窑前水分未排干净,导致砖体开裂。
本发明通过定位布施干粒后再喷施悬浮釉浆,在入窑烧成前可不需要进行干燥处理,工艺简单,且由于所述干粒与所述悬浮釉浆的成分在烧成过程中相互熔合,在烧成后流平效果好,有效提高了陶瓷砖的耐磨度、硬度以及平整度,减少了后期的抛削量,定位布施的所述干粒与所述胶水墨水打印的图案相对应,陶瓷砖的图案清晰,立体感强。
优选的,所述悬浮釉浆包括悬浮剂和透明釉,所述悬浮剂和透明釉的质量比为50~90:50~10。
需要说明的是,所述悬浮剂采用常规的悬浮剂。
所述悬浮釉浆包括悬浮剂和透明釉,所述悬浮剂使得所述悬浮釉浆喷施在所述陶瓷砖坯表面后,水分不容易渗透到所述陶瓷砖坯内部,且能够将所述陶瓷砖坯表面的干粒包裹住,所述悬浮剂和透明釉的质量比为50~90:50~10,如果所述悬浮剂的量过少,则所述悬浮釉浆对所述陶瓷砖坯表面的液体水分以及所述干粒的包裹效果变差,水分渗透到所述陶瓷砖坯的速度加快,容易影响制得的陶瓷砖的性能,如果所述悬浮剂的量过大,则所述干粒与所述悬浮釉浆的透明釉在烧成过程中的熔合效果差,容易影响陶瓷砖的耐磨度、硬度。
优选的,所述悬浮釉浆的流速为15~25s,比重为1.25~1.3g/cm3
优选的,所述悬浮釉浆的制备方法为采用高速搅拌的方式将所述悬浮剂和透明釉混合均匀,然后加水调整所述悬浮釉浆的流速为15~25s,比重为1.25~1.3g/cm3
所述悬浮釉浆的流速和比重适中,能够使得喷施所述悬浮釉浆时的喷雾效果好,且更容易渗透于所述干粒之间的缝隙中,将所述干粒包裹住,在烧成后的砖面熔融效果好,陶瓷砖的耐磨度、硬度以及平整度好;如比重过大,流速过大,则容易导致所述悬浮釉浆在布施时不均匀,易产生结皮,如比重过小,流速过小,则所述悬浮釉浆在布施时容易受外界影响,导致淋釉不平整,生产效率低,砖面平整度差。
优选的,按照质量份数计算,所述面釉的原料组分包括釉粉25~55份和有机溶剂45~75份;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料组分包括二氧化硅50~65份、三氧化二铝10~30份、氧化钙5~12份、氧化钡1~2份、氧化锶0.1~2份、氧化锌1~4份、氧化锆4~8份和氧化钛0.1~1.5份。
优选的,所述有机溶剂采用陶瓷墨水用的常规有机溶剂。
优选的,所述干粒采用彩色干粒。
由于添加了氧化锶,使得所述面釉的发色好,通过先数码打印面釉,再使用胶水墨水打印图案,然后在打印有胶水墨水图案的位置定位布施干粒,在烧成后所述面釉与所述干粒相配合,使得所述干粒呈现的颜色鲜明有质感,饱和度高,制得的陶瓷砖长期使用暴露在空气中,表面不会发蓝,且不易氧化,提高了陶瓷砖的使用效果。
优选的,所述步骤F烧成前还包括快速干燥处理,所述快速干燥处理的干燥时间为15~60s。
优选的,所述快速干燥处理的干燥时间为30s。
对所述陶瓷砖坯表面喷施所述悬浮釉浆后,陶瓷砖坯进入釉线小干燥窑进行快速干燥,再进行烧成,可以避免水分渗透到陶瓷砖坯里面,然后再进行烧成,提高了所述陶瓷砖坯的烧成效果,且由于在定位布施干粒后喷施了所述悬浮釉浆,通过快速干燥可以使得所述悬浮釉浆带入的水分包裹在所述干粒表面,以及所述悬浮釉浆的水分不容易下渗到所述陶瓷砖坯内部,大大节省了干燥时间,在保证制得的陶瓷砖的使用性能的情况下,有效提高了生产效率,降低生产成本。如果单纯布施干粒后布施保护釉,而不进行干燥或者进行短时间的干燥,则由于陶瓷砖坯入窑烧成时由于水分过大,在入窑前水分未排干净,则会导致砖体开裂,直接影响制得的陶瓷砖的使用性能。
优选的,所述步骤D中,所述定位布施干粒的干粒布施量为450~550g/m2
优选的,所述步骤D中,采用丝网印刷或干粒布料机在施有胶水墨水图案的位置进行定位布施干粒。
采用丝网印刷或干粒布料机在施有胶水墨水图案的位置进行定位布施干粒,避免了直接大面积铺洒干粒,所述定位布施干粒的干粒布施量限定在此范围,如果干粒布施量过大,则在喷施所述悬浮釉浆后烧成,气泡排出困难,容易导致砖面出现毛孔,影响制得的陶瓷砖的使用效果。
优选的,所述步骤E中,所述喷施悬浮釉浆的喷施量为250~350 g/m2
优选的,所述步骤E中,采用喷枪将所述悬浮釉浆雾化并喷施到所述陶瓷砖坯表面。
通过喷施所述悬浮釉浆,由于所述悬浮釉浆经过雾化后喷施到所述陶瓷砖坯表面,雾化后的所述悬浮釉浆浸润且包裹在所述干粒的表面,使得不同的所述干粒的颗粒之间的气体容易排出,避免砖坯表面气泡难以排除导致砖坯表面产生气孔缺陷,且如果所述喷施悬浮釉浆的喷施量过小,则无法将全部所述干粒包裹住,导致流平效果较差,陶瓷砖的平整度较差,如果所述喷施悬浮釉浆的喷施量过大,则使得气泡较难排出,且增大了后期的抛削量。
优选的,所述步骤F中的烧成温度为1210~1230℃,烧成时间为60~90min。
所述陶瓷砖坯经过高温烧成后,所述干粒与所述悬浮釉浆的成分在烧成过程中相互熔合,经过烧成后制得的陶瓷砖的耐磨度、硬度以及平整度好,使用性能好。
优选的,所述步骤F进行烧成后,还包括抛光处理。
所述陶瓷砖坯在经过烧成后进行抛光处理,得到立体定位干粒的抛釉砖,有效提高了砖面的平整度,且抛光后的砖面美观性强,在实现美观效果的同时达到较强的实用效果。
一种立体定位干粒的陶瓷砖,使用所述立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺制备得到。
通过所述立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺制备得到的立体定位干粒的陶瓷砖的耐磨度、硬度以及平整度,且图案清晰,立体感强,兼具美观性和实用性。
下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例1
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锶2份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为500g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆,喷施量为300g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为50:50,悬浮釉浆的流速为25s,比重为1.3g/cm3
F、将陶瓷砖坯入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
实施例2
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锶2份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为500g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆,喷施量为300g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为70:30,悬浮釉浆的流速为20s,比重为1.27g/cm3
F、将陶瓷砖坯入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
实施例3
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锶2份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为500g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆,喷施量为300g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为90:10,悬浮釉浆的流速为15s,比重为1.25g/cm3
F、将陶瓷砖坯入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
实施例4
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锶2份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为500g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆,喷施量为300g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为50:50,悬浮釉浆的流速为25s,比重为1.3g/cm3
F、对陶瓷砖坯进行快速干燥处理,干燥时间为30s,然后入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
实施例5
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锶2份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为500g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆,喷施量为300g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为40:60,悬浮釉浆的流速为28s,比重为1.35g/cm3
F、将陶瓷砖坯入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
实施例6
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锶2份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为500g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆,喷施量为300g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为95:5,悬浮釉浆的流速为10s,比重为1.2g/cm3
F、将陶瓷砖坯入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
实施例7
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为500g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆,喷施量为300g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为70:30,悬浮釉浆的流速为20s,比重为1.27g/cm3
F、将陶瓷砖坯入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
实施例8
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锶2份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为600g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆,喷施量为300g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为70:30,悬浮釉浆的流速为20s,比重为1.27g/cm3
F、将陶瓷砖坯入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
实施例9
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锶2份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为500g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆,喷施量为200g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为70:30,悬浮釉浆的流速为20s,比重为1.27g/cm3
F、将陶瓷砖坯入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
实施例10
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锶2份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为500g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆,喷施量为400g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为70:30,悬浮釉浆的流速为20s,比重为1.27g/cm3
F、将陶瓷砖坯入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
对比例1
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锶2份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为500g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施保护釉(保护釉采用现有常规的保护釉),喷施量为300g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为70:30,悬浮釉浆的流速为20s,比重为1.27g/cm3
F、将陶瓷砖坯入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
对比例2
一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、使用数码喷釉机打印面釉(其中,面釉由釉粉50份和有机溶剂50份组成;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料由以下组分组成:二氧化硅55份、三氧化二铝25份、氧化钙10份、氧化钡1份、氧化锶2份、氧化锌3份、氧化锆5份和氧化钛1份);
C、在陶瓷砖坯表面喷墨打印胶水墨水图案;
D、使用干粒布料机在打印有胶水墨水图案的位置定位布施彩色干粒,干粒布施量为500g/m2
E、采用喷枪对陶瓷砖坯表面喷施保护釉(保护釉采用现有常规的保护釉),喷施量为300g/m2,其中悬浮釉浆由悬浮剂和透明釉组成,悬浮剂和透明釉的质量比为70:30,悬浮釉浆的流速为20s,比重为1.27g/cm3
F、对陶瓷砖坯进行干燥处理,干燥时间为30s,然后入窑烧成,烧成温度为1220℃,烧成时间为70min,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
性能测试:
1、莫氏硬度测定:将试样平稳的放在坚硬的支撑物上,饰面朝上。从小到大选用不同莫氏值的标准矿石划试样表面,用矿石新刃口施力均匀垂直地对试样表面进行刻划,注意施力要适度,标准矿石的刃口不应因施力过大破碎而形成双线状或多线状刻划痕迹。以刚好能产生明显划痕的最低硬度值做为检验结果,以试样所有测试值中的最低值作为试验结果。
2、耐磨度测定:使用GB/T3810.7-2016《陶瓷砖试验方法 第7部分:有釉砖表面耐磨性的测定》中的测试方法对制品釉面的耐磨性能进行测试,通过在砖面上放置研磨介质并旋转,对已磨损的试样与未磨损的试样的观察对比,以评价陶瓷砖耐磨性。
3、表面平整度测定:根据GB-T 3810.2-2016陶瓷砖试验方法《第2部分:尺寸和表面质量的检验》对陶瓷砖表面平整度进行测量,使用陶瓷砖平整度、直角度、边角度综合测定仪测定其尺寸及形状特性,所测参数包括面砖的边直度、直角度、平整度(中心弯曲度、边弯曲度、翘曲度)指标。
4、表面缺陷(毛孔)测定:根据GB-T 3810.2-2016陶瓷砖试验方法《第2部分:尺寸和表面质量的检验》对陶瓷大板表面平整度进行测量,在色温为6000K~6500K的荧光灯,照度为300lx的灯光均匀照射下,检测被检瓷砖表面的中心部分和每个角上的照度,在垂直距离为1m处用肉眼观察被检瓷砖表面的可见缺陷。
Figure 787832DEST_PATH_IMAGE001
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由实施例1至实施例3可知,通过定位布施干粒后再喷施悬浮釉浆,在入窑烧成前可不需要进行干燥处理,且制得的陶瓷砖的耐磨度、硬度以及平整度好,表面光滑均匀,无明显毛孔,且干粒呈现的颜色鲜明有质感,饱和度高;
实施例4由于对陶瓷砖坯在烧成前进行了干燥处理,提高了所述陶瓷砖坯的烧成效果,制得的陶瓷砖的硬度高,使用性能好;
实施例5由于悬浮釉浆中的悬浮剂的量过少,则悬浮釉浆对所陶瓷砖坯表面的液体水分以及干粒的包裹效果变差,水分渗透到陶瓷砖坯的速度加快,容易影响制得的陶瓷砖的性能,制得的瓷砖的耐磨度变差;实施例6由于悬浮釉浆中的悬浮剂的量过大,干粒与悬浮釉浆的透明釉在烧成过程中的熔合效果差,陶瓷砖的硬度和耐磨度变差;实施例7中面釉的原料组分中,釉粉的原料组分不含有氧化锶,面釉的发色差,制得的陶瓷砖肉眼观察干粒颜色饱和度差,美观度变差;实施例8由于干粒的布施量太大,使得干粒之间的气体难以排出,烧成后砖面出现分散毛孔,影响制得的陶瓷砖的使用效果;实施例9由于悬浮釉浆的喷施量太小,无法将全部干粒包裹住,导致流平效果较差,陶瓷砖的平整度较差,实施例10由于悬浮釉浆的喷施量过大,导致气泡较难排出,烧成后砖面出现分散毛孔。
对比例1为单独施加干粒后淋保护釉,由于保护釉中的水分很容易下渗到砖坯里面,在不进行干燥的情况下,砖坯由于入窑烧成时的水分过大,导致砖体开裂,陶瓷砖无法正常使用,对比例2为单独施加干粒后淋保护釉,即使进行了干燥,但是由于干燥时间过短,砖坯中的水分没有充分排出,砖坯在入窑烧成时的水分仍然过大,最终砖体开裂,陶瓷砖无法正常使用,而实施例1至实施例3由于使用悬浮釉浆,悬浮釉浆可以将陶瓷砖坯表面的液体水分包裹住,以及悬浮釉浆的水分不容易下渗到陶瓷砖坯内部,在入窑烧成前可不需要进行干燥处理,工艺简单,生产成本低,且制得的陶瓷砖的使用性能好。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理,而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释,本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式,这些方式都将落入本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,其特征在于,包括以下步骤:
A、在陶瓷砖坯表面淋底釉;
B、数码打印面釉;
C、在陶瓷砖坯表面打印胶水墨水图案;
D、在打印有胶水墨水图案的位置定位布施干粒;
E、对陶瓷砖坯表面喷施悬浮釉浆;
F、烧成,得到立体定位干粒的陶瓷砖。
2.据权利要求1所述的立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,其特征在于,所述悬浮釉浆包括悬浮剂和透明釉,所述悬浮剂和透明釉的质量比为50~90:50~10。
3.根据权利要求1所述的立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,其特征在于,所述悬浮釉浆的流速为15~25s,比重为1.25~1.3g/cm3
4.根据权利要求1所述的立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,其特征在于,按照质量份数计算,所述面釉的原料组分包括釉粉25~55份和有机溶剂45~75份;
按照质量份数计算,所述釉粉的原料组分包括二氧化硅50~65份、三氧化二铝10~30份、氧化钙5~12份、氧化钡1~2份、氧化锶0.1~2份、氧化锌1~4份、氧化锆4~8份和氧化钛0.1~1.5份。
5.根据权利要求1所述的立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,其特征在于,所述步骤D中,所述定位布施干粒的干粒布施量为450~550g/m2
6.根据权利要求1所述的立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,其特征在于,所述步骤E中,所述喷施悬浮釉浆的喷施量为250~350 g/m2
7.根据权利要求1所述的立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,其特征在于,所述步骤F中的烧成温度为1210~1230℃,烧成时间为60~90min。
8.根据权利要求1所述的立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺,其特征在于,所述步骤F进行烧成后,还包括抛光处理。
9.一种立体定位干粒的陶瓷砖,其特征在于,使用权利要求1~8任意一项所述立体定位干粒的陶瓷砖的生产工艺制备得到。
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